KR101280110B1 - 클린 룸 내에서 스퍼터 코팅 시스템의 피딩을 역전시키기 위한 방법 및 장치 - Google Patents

클린 룸 내에서 스퍼터 코팅 시스템의 피딩을 역전시키기 위한 방법 및 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101280110B1
KR101280110B1 KR1020117014528A KR20117014528A KR101280110B1 KR 101280110 B1 KR101280110 B1 KR 101280110B1 KR 1020117014528 A KR1020117014528 A KR 1020117014528A KR 20117014528 A KR20117014528 A KR 20117014528A KR 101280110 B1 KR101280110 B1 KR 101280110B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
feeding
transport frame
sputter
transport
unit
Prior art date
Application number
KR1020117014528A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20110098924A (ko
Inventor
롤란트 프란츠
Original Assignee
그렌체바흐 마쉬넨바우 게엠베하
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 그렌체바흐 마쉬넨바우 게엠베하 filed Critical 그렌체바흐 마쉬넨바우 게엠베하
Publication of KR20110098924A publication Critical patent/KR20110098924A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101280110B1 publication Critical patent/KR101280110B1/ko

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/061Lifting, gripping, or carrying means, for one or more sheets forming independent means of transport, e.g. suction cups, transport frames
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B35/00Transporting of glass products during their manufacture, e.g. hot glass lenses, prisms
    • C03B35/14Transporting hot glass sheets or ribbons, e.g. by heat-resistant conveyor belts or bands
    • C03B35/20Transporting hot glass sheets or ribbons, e.g. by heat-resistant conveyor belts or bands by gripping tongs or supporting frames
    • C03B35/202Transporting hot glass sheets or ribbons, e.g. by heat-resistant conveyor belts or bands by gripping tongs or supporting frames by supporting frames
    • C03B35/205Transporting hot glass sheets or ribbons, e.g. by heat-resistant conveyor belts or bands by gripping tongs or supporting frames by supporting frames the glass sheets being in a vertical position
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders
    • C23C14/505Substrate holders for rotation of the substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/542Controlling the film thickness or evaporation rate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/542Controlling the film thickness or evaporation rate
    • C23C14/545Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material
    • C23C14/547Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material using optical methods
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/568Transferring the substrates through a series of coating stations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67207Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process
    • H01L21/6723Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process comprising at least one plating chamber
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67715Changing the direction of the conveying path
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G2249/00Aspects relating to conveying systems for the manufacture of fragile sheets
    • B65G2249/02Controlled or contamination-free environments or clean space conditions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 발명은 특히 광기전성 모듈을 코팅할 때 클린 룸 내에서 스퍼터 코팅 시스템의 피딩을 역전시키기 위한 방법 및 장치로서, 이하의 특징을 갖는 것에 관한 것이다: (a) 광기전성 모듈의 기판 웨이퍼(19)를 수용하기 위한 운송 프레임(11), (b) 운송 프레임(11)을 장착하기 위한 수단과, 운송 프레임(11)을 회전시키기 위한 수단 및 운송 프레임(11)을 운송하기 위한 수단을 갖는 회전 장치, (c) 회전 장치를 스퍼터 코팅 시스템에 대해 정확히 정렬하기 위한 수단, (d) 스퍼터 공정을 체크하기 위한 검출 장치(18), 및 공정 단계를 수행하기 위한 프로그램 코드를 갖는 컴퓨터 프로그램.

Description

클린 룸 내에서 스퍼터 코팅 시스템의 피딩을 역전시키기 위한 방법 및 장치{METHOD AND DEVICE FOR REVERSING THE FEEDING OF SPUTTER COATING SYSTEMS IN CLEAN ROOMS}
본 발명은 스퍼터 코팅 시스템의 피딩을 역전시키기 위한 장치 및 방법에 관한 것이다.
우리가 매일 필요로 하는 기술 장치의 다수는 생산 중에 스퍼터 코팅을 요구한다. 우리는 이들 층을 컴퓨터의 하드 디스크, CD 저장 매체와 LCD 평탄 화면, 스퍼터 베어링, 현대 내열 유리, 미러, 할로겐 방출기 또는 자동차 헤드라이트에서 발견한다. 이들 모든 유용한 것들은 스퍼터링에 의한 코팅없이는 실현될 수 없다.
"스퍼터링", "스퍼터링한다"는 표현은 음극 스퍼터링 공정을 지칭한다. 이 경우, 통상 500 볼트의 전기 전압이 존재하는 음극(소위 타겟)에 아르곤 이온이 충돌한다. 이온이 충돌하면, 음극으로부터 원자가 방출되어 주위에 응집되며, 이는 층 성장을 초래한다. 스퍼터 코팅에 중요한 성분은 소위 마그네트론(통합 자기 시스템을 갖는 음극)과 진공 챔버(수용 챔버)이다.
많은 경우에, 코팅될 재료는 대형 유리 시트이다.
비교적 큰 설계의 평탄 화면의 대량 생산에는 충격에 민감한 이러한 대형 시트의 생산 및 추가 처리 또한 요구된다.
오늘날의 평탄 화면은 구형 튜브 모니터를 점차 대체하고 있으며, 또한 점점 저렴해지고 있다.
이들은 TFT/LCD 기술에 기초하고 있다. 이에 관하여, LCD(액정 디스플레이)는 화면의 개별 픽셀에서의 액정 사용을 나타내며, TFT는 박막 트랜지스터를 대표한다. TFT는 액정의 배향을 제어하고 따라서 그 광 투과율을 제어하는 초소형 트랜지스터 소자이다.
평탄 화면 디스플레이는 수많은 픽셀로 구성된다. 각각의 픽셀은 적색, 녹색, 청색에 대응하는 3개의 LCD 셀(서브픽셀)로 구성된다. 15-인치 화면(대각선으로 측정됨)은 약 800,000개의 픽셀 또는 대략 240만개의 LCD 셀을 포함한다.
그러나, 광기전 요소도 그 생산을 위한 스퍼터 시스템을 요구한다. 현대의 유리 외관은 현대 아키텍처의 확실한 사인이다. 그러나, 많은 경우에 이들은 구조의 기능적 요소는 아니지만, 실제로는 태양열 발전을 위해 점점 작용하고 있다. 맞춤형 태양전지 모듈은 빌딩 그리드 및 프로파일에 대한 정확한 통합을 가능하게 만든다. 반투명 태양 전지 및 투명한 영역을 갖는 불투명 태양 전지는 광기전성 유리에 빛이 가득하게 보이도록 만든다. 여기에서, 태양 전지는 보통 햇빛과 눈부심에 대한 소정의 보호 효과를 가져온다.
이러한 광기전성 시스템의 생산은, 주로 반도체 및 집적 전자 회로의 생산에서 일반적인 것과 같은 작동 조건을 요구한다. 그러나, 광기전성 시스템의 생산에서, 이들 소위 클린 룸 조건은 추가로, 큰 표면적을 갖는 충격-민감성 유리판의 취급을 필요로 한다.
광기전성 요소 및 TFT 화면의 생산은 소위 클린 룸을 요구한다.
클린 룸 또는 고도 클린 룸은 공기중 입자의 농도가 제어되는 룸이다. 이는 룸에 도입되거나 룸에 생성 및 적층되는 입자의 개수가 가능한 한 작도록 그리고 온도, 습도 또는 공기압과 같은 다른 파라미터가 필요에 따라 제어되도록 구성 및 사용된다.
그러나, 큰 화면의 생산은 고도 클린 룸 내에서도 이 경우에 요구되는 큰 표면적, 얇은 유리판을 취급하기 위한 특수 기계를 요구한다.
이를 위해서, 주로 다축 산업용 로봇을 사용할 수 있다. 각종 제품을 생산하기 위한 기술에서 다축 산업용 로봇의 각종 실시예의 사용은 종래 기술로부터 수집될 수 있다.
이 형태의 산업용 로봇은 일반적으로 다루기 어렵고 무거운 하중을 운송하기 위한 큰 홀에서 사용되지만, 소형 기계 부품의 생산에 있어서 유익하게 사용될 수도 있다. 모든 경우에 중요한 것은 개별 파지 작업, 운송 이동, 및 내려놓기 작동의 이동 시퀀스의 재현가능한 정밀성이다.
여기에서, 이들 이동 시퀀스가 발생하는 환경은 많은 경우에 중요하지 않다. 예를 들어, 이러한 이동 시퀀스가 어떤 소음을 초래하는지 또는 이러한 작동이 먼지의 이동 또는 윤활유의 다소의 누설과 연관되는지는 대개 중요하지 않다. 마찰을 초래하는 이동 기계 부품의 피할 수 없는 마모도 대개는 상관이 없다.
대조적으로, 이 형태의 고유한 부대상황은 오염 위험이 있는 환경, 예를 들면 식품-처리 산업, 제약 산업 또는 심지어 클린 룸 내의 반도체 생산과 같은 환경에서 작업할 때 고려되어야 한다.
따라서, EP 1 541 296 A1호는 오염 위험이 있는 환경에서 사용하기 위한 산업용 로봇과 같은 조작 장치로서, 청소 수단이 채워질 수 있는 다수의 청소 챔버를 그 구동 유닛 구역에 갖는 조작 장치를 개시하고 있다. 이러한 장치의 경우에 해결되어야 할 과제는 조작 장치가 오염 위험이 있는 환경에서 구조적으로 안전하게 그리고 특히 저렴한 비용으로 사용될 수 있을 정도로 장치를 더 발전시키는 것이다. 이 과제는 구동 유닛의 복수 그룹의 각각과 연관되는 전용 청소 챔버에 의해 해결된다(청구항 1).
이러한 산업용 로봇이 사용되어야 하는 환경이 오염에 대해 보다 민감하고 따라서 정상 환경에 비해서 설계 구조에 대한 요구사항이 많지만, 이 형태의 특수 요구사항이 클린 룸에 규정된 조건에 비견될 수는 없다.
DE 10 2007 009 924 A1호는 또한, 연속 코팅 시스템, 결정성 박막과 태양 전지 생산 방법, 및 태양 전지를 개시하고 있다.
이 공지된 연속 코팅 시스템은, 고품위 결정성 박막의 증착에 적합하고 고품위 결정성 실리콘 층의 대량 생산에 적합하며 필요 프로세스 단계의 개수가 그리 많지 않은 연속 코팅 시스템을 제공하는 과제를 해결하고 있다.
이 과제는 연속 코팅 시스템으로서,
a) 코팅될 기판을 공급하기 위한 공급구 및 코팅될 기판을 배출하기 위한 배출구를 갖는 진공 챔버,
b) 기판의 표면을 코팅하기 위한 물리 기상 증착 유닛,
c) 기판 표면의 현재 코팅된 부분 영역의 적어도 하나의 소부분 영역을 적어도 하나의 레이저빔으로 동시에 조사하기 위한 레이저 결정화 시스템,
d) 기판을 공급구로부터 배출구로 관통 방향으로 운송하고 기판을 그 코팅 중에 관통 방향으로 연속적으로 또는 불연속적으로 이동시키기 위한 운송 유닛을 포함하는 연속 코팅 시스템에 의해 해결된다.
그러나, 일부 스퍼터 공정은 상이하거나 동일한 조성을 갖는 스퍼터 재료를 반복적으로 도포하는 것을 필요로 한다. 이를 위해, 직렬로 배치된 다수의 상이한 스퍼터 시스템이 필요하지만, 공간적 관점에서 이들 스퍼터 시스템은 상당한 공간을 요구한다. 대조적으로, 상이한 스퍼터 시스템들이 공간적으로 밀착하여 채워지는 방식으로 배치되면, 공간뿐 아니라 에너지도 절감된다. 그러나, 이 경우, 코팅될 기판은 추가 스퍼터 시스템의 구역에 다시 들어가려면 회전되어야 한다.
DE 10 2007 009 924 A1호의 이 공지된 시스템으로부터는 동일 기판을 동일 스퍼터 시스템에서 갱신 코팅하기 위한 운송 장치를 유추할 수 없다.
DE 695 04 716 T2호는, 고진공에 적합하고 회전 유닛을 갖는 기판 취급 장치를 기재하고 있다. 기판 캐리어가 회전 유닛에 삽입되고, 예를 들어 롤러와 같은 이송 수단에 의해 개별 처리 챔버로 운송된다. 회전 유닛과 스퍼터 공정 체크용 검출 유닛을 정렬시키는 수단은 여기에서 명시하지 않는다. 추가로, 상기 문서는 또한 상이하거나 동일한 조성을 갖는 스퍼터 재료를 반복적으로 도포하는 문제와 관련이 없다. 따라서, DE 695 04 716 T2호는 본 발명에 의해 처리되는 과제를 해결하기 위한 어떤 방안도 제시하지 못하고 있다.
DE 197 15 151 A1호도 마찬가지로, 기판 캐리어를 회전/스러스트 기구에 의해 처리 챔버 내로 운송하기 위해 사용되는 장치를 기재하고 있다.
상기 문서도 마찬가지로 스퍼터 재료의 반복 도포와 관련이 없다.
본 출원인으로부터 유래하는 DE 20 2008 004 228 U1호는 클린 룸 내에서 롤러 위로 운송되는 기판 캐리어를 개시하고 있다.
반복되는 스퍼터 공정을 겪는 기판을 위치설정하는 특정한 문제는 여기에서 논의하지 않는다.
따라서, 본 발명에 따른 장치, 및 본 발명에 따른 방법은, 커다란 얇은 유리판을 클린 룸 조건 하에서 스퍼터 시스템에 대해 반입 및 반출할 때, 쉽게 수행될 수 있는 회전, 제 1 스퍼터 공정의 체크, 및 스퍼터 재료를 반복 도포하기 위한 동일 스퍼터 시스템 또는 생산 시스템의 다른 부분에 대한 갱신 공급을 가능하게 하는 과제를 해결한다.
이 과제는 청구항 1에 따른 장치와 청구항 6에 따른 방법에 의해 해결된다.
본 발명에 따른 장치는 이하에서 보다 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 장치의 사시도이다.
도 2는 본 발명에 따른 장치의 측면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 장치의 단면도이다.
도 4는 저면도이다.
도 5는 다른 가이드웨이의 조립에서의 본 발명에 따른 장치의 도시도이다.
도 1은 기판 웨이퍼의 검출 가능성이 있는 측에서 바라본 본 발명에 따른 장치의 사시도이다. 이 장치는 실질적으로 프레임 구조로 구성되며, 그 회전 유닛용 회전 베이스(1)와 회전 유닛의 프레임(2)이 도 1에 도시되어 있다.
도 2는 좁은 측부 영역에서 바라본 본 발명에 따른 장치의 도시도이다. 도 1에 도시된 회전 유닛용 회전 베이스(1)로부터, 회전 유닛 내에 배치되는 턴테이블(4)이 중심에서 식별될 수 있으며, 회전 유닛의 수직 지지체(3)는 이 도면에서 턴테이블(4)의 좌우에 각각 배치되고, 우측 수직 지지체는 대응 참조부호를 갖는다. 회전 유닛의 기어 기구(5)는 턴테이블(4) 아래에 도시되어 있다.
턴테이블(4)의 중심선에 대해 대칭적으로, 운송 롤러 드라이브(9), 단면 도시된 운송 롤러 캐리어(8), 및 그 안에 장착된 운송 롤러(7)가 각각의 경우에 두 개의 수직 지지체(3) 상에서 식별될 수 있다. 도 4의 도시로부터 추측 가능하듯이, 각 측부의 단 하나의 롤러(7)에는 운송 롤러 드라이브(9)가 각각 제공된다. 그러나, 네 개의 운송 롤러(7) 각각이 전용 운송 롤러 드라이브(9)(서보드라이브)를 갖는 것이 바람직하다.
도 2의 좌측은 기판 웨이퍼(19)가 내장된 운송 프레임(11)을 단면 도시한다. 이 경우에, 운송 프레임(11)은 여기에서 명시되지 않은 좌측 운송 롤러(7) 상의 하부 구역에서 연장되며, 그 가이드 레일(12)에 의해 상부 구역에서 안내된다. 운송 롤러 드라이브(9)는 운송 프레임(11)을 상이한 가이드웨이(25, 27) 상으로 운송하기 위한 수단으로서 기능한다. 운송 롤러(7)의 구역에서 운송 프레임(11)의 위치를 검출하기 위해, 도 2의 좌측에서는 후방 위치 센서(10)가 사용되고 우측에서는 전방 위치 센서(6)가 사용된다. 도 2에서 각각의 위치 센서는 앞뒤로 배치되므로, 여기에서는 각각의 경우에 하나의 센서만 도시할 수 있었다. 도 2의 우측에는, 안내 및 고정 장치의 헤드 프레임(15)에 고정되는 후방 고정 실린더(13) 및 전방 고정 실린더(14)가 도시되어 있으며, 이들 고정 실린더는 운송 롤러(7) 상의 마운트와 함께 장착 수단을 구성할 수 있다. 상부 구역에서 일정 간격으로 설치되는 이들 고정 실린더(14, 15)는 여기에서 운송 프레임을 고정하지 않으며, 운송 롤러(7)에 의한 안내를 보충한다. 상기 고정 실린더는 도 2의 좌측에서 명료함을 이유로 명시되지 않는다. 검출 유닛(18)은 수직 지지체(3)의 각 측에 배치되며, 이는 도 2의 좌측에서 알 수 있듯이, 기판 웨이퍼(19)를 파지하고 있는 장방형의 운송 프레임(11)과 대면한다. 검출 유닛(18)은 기판 웨이퍼(19)와 동일한 면적을 가지며(이는 도 2의 도시에서 그 높이를 통해서만 알 수 있음), 이전 스퍼터 공정의 결과를 체크할 수 있는 스캐닝 요소를 갖는다. 스캐닝 요소는 스캐너 방식으로 작동할 수 있거나 또는 기판 웨이퍼(19)의 전체 면적을 광학적으로 체크할 수 있다. 턴테이블(4) 아래에 도시되어 있는 접촉-연결부(22)는 한편으로는 회전 유닛의 방해받지 않는 회전을 가능하게 하고, 다른 한편으로는 검출 유닛(18)과 센서에 의해 공급되는 데이터, 및 일반적인 제어 데이터의 간섭없는 전송을 보장한다. 또한, 기판 웨이퍼의 위치 설정은 레이저 및/또는 대응 센서에 의해 모니터링 된다.
도 3은 본 발명에 따른 장치의 종방향 단면도이다. 전술한 턴테이블(4), 전체 영역으로서의 기판 웨이퍼(19), 접촉-연결부(22) 외에, 도 3은 회전 프레임 캐리어(20) 및 운송 프레임(11)을 회전시키기 위한 수단으로서 회전 유닛용 드라이브(17)를 도시한다. 회전 유닛의 확실한 제어는 회전 각도 검출용 회전 센서(16)를 필요로 한다.
도 4는 전체 회전 유닛의 저면도이다. 이 도면은 주로, 제어 케이블 및 급전 케이블이 구비된 공급 튜브(21)를 도시한다.
도 5는 각각의 기판 웨이퍼(19)를 갖는 운송 프레임(11)이 스퍼터 시스템(26)의 피딩을 역전시키기 위한 회전 유닛을 거쳐서 운송되는 가이드웨이의 조립에서의 본 발명에 따른 장치를 도시한다. 이 경우에 2-트랙 송출 가이드웨이(27)는 먼저 기판 웨이퍼(19)를 스퍼터 시스템으로 안내하고, 이후 스퍼터 공정이 최종 완료된 기판 웨이퍼(19)를 추가 생산 공정으로 다시 안내한다. 2-트랙 가이드웨이(25)는 기판 웨이퍼를 스퍼터 시스템(26)에 대해 근접 및 이격 안내한다. 모든 가이드웨이는 운송 롤러(7)를 일정 간격으로 가지며, 이들 운송 롤러는 그룹으로 구동되거나 아니면 개별적으로 구동될 수 있다. 명료함을 이유로, 상기 운송 롤러(7)는 도 5에 도시되어 있지 않다. 스퍼터 시스템(26) 및 가이드웨이(25)와 회전 유닛 사이의 온도 차이가 매우 클 수 있기 때문에, 이 지점에 센서(23, 24)가 제공된다. 이 경우에, 센서(23)는 가이드웨이(25)와 회전 유닛의 각 가이드웨이의 정렬을 검출한다. 센서(24)는 또한 가이드웨이(25)의 두 경로의 열 변형을 검출한다. 이렇게 정렬하기 위한 수단으로서 회전 유닛용 드라이브(17)는 센서(23, 24)로부터 결정되는 측정값에 기초하여 미세 조절되어, 회전 유닛을 가령 스퍼터 코팅 시스템, 보다 정밀하게는 각각의 가이드웨이(25, 27)에 대해 정확히 정렬할 수 있다. 대응적으로 각 운송 프레임(11)의 가이드 레일(12)의 안내에도 동일하게 적용된다. 여기에서 요구되는 대책의 별도 도시는 당업자에게 명백하기 때문에 생략되었다. 필요한 보정은 회전 유닛의 드라이브(17)에 의한 미세 조절에 의해 이루어진다.
추가 가이드웨이(27)가 도 5의 좌하 코너에 예시적으로 도시되어 있다. 이 구역에 도시된 양방향 화살표는, 전술한 가이드웨이(25, 26)에 추가적으로, 추가 가이드웨이(27)도 본 발명에 따른 장치에 의해 작동될 수 있다는 사실을 도시한다. 이는 주로 클린 룸 조건을 얻기 위한 고비용이 클린 룸에서 초래되고 따라서 이러한 룸에서 공간 부족이 항상 지배적이기 때문에 중요하다. 따라서, 대형 시스템의 일부로 도시된 회전 유닛은 추가로, 수많은 추가 공정 시퀀스를 위한 연동 스테이션으로서 작용할 수 있다. 따라서 운송 프레임(11)용 가이드웨이를 다양한 방향으로 대형 기판 시트(19)와 정확하고 신속하게 정렬할 가능성은 본 발명에 따른 장치의 중요한 이용 분야이다.
상이하거나 동일한 조성을 갖는 스퍼터 재료를 반복적으로 도포하기 위해 클린 룸 내에서 스퍼터 코팅 시스템의 피딩을 역전시키기 위한 방법은 구체적으로 (a) 코팅될 기판 웨이퍼(19)가 이송 장치에 의해 운송 프레임(11)으로 이송되고 이후 회전 유닛으로 이송되는 단계, (b) 장방형 운송 프레임(11)이 각각의 경우에 상부 구역의 좌우에 있는 두 개의 고정 실린더(13, 14)에 의해서 또한 하부 구역의 좌우에 있는 운송 롤러(7) 상의 마운트에 의해서 회전 유닛에 장착되는 단계, (c) 상기 운송 프레임(11)이 회전 유닛의 프레임에 통합된 드라이브(17)에 의해 회전되는 단계, (d) 상기 운송 프레임(11)이 가이드웨이(25, 27) 상에서 상이한 방향으로 안내될 수 있는 운송 롤러 드라이브(9)에 의해 운송되는 단계, (e) 상기 회전 유닛이 회전 유닛의 드라이브(17)를 거쳐서 센서(23, 24)에 의해 가이드웨이(25, 27)에 대해 정확히 정렬되는 단계, (f) 스퍼터 공정이 검출 유닛(18)에 의해 체크되는 단계를 포함하며, 이 검출 유닛은 적어도 운송 프레임(11)의 각 리셉터클의 회전 유닛 내에 존재하고, 스페이서 요소는 스캐너 방식으로 작동할 수 있거나 또는 기판 웨이퍼(19)의 전체 면적을 광학적으로 체크할 수 있다.
이러한 피딩 역전 방법의 각 단계를 수행하기 위한 컴퓨터 프로그램의 프로그램 코드는 기계-판독 가능한 캐리어에 수용될 수 있다.
이 장치에서, 기계적으로 이동되는 부분은 무방출 방식으로 봉입되며, 내마모성 재료로 제조된다.
전체적으로, 상기 조치는 운송 프레임(11)이 이러한 프레임의 뒤틀림 및 기판 웨이퍼(19)에 대한 손상 위험이 없이 스퍼터 시스템(26)에 대해 근접 및 이격 운송되도록 보장한다.
상기 이동 시퀀스의 복합 제어는 특수 제어 프로그램을 요구한다.
1: 회전 유닛용 회전 베이스
2: 회전 유닛의 프레임
3: 회전 유닛의 수직 지지체
4: 턴테이블
5: 회전 유닛의 기어 기구
6: 전방 위치 센서(롤러)
7: 운송 롤러
8: 운송 롤러 캐리어
9: 운송 롤러 드라이브(서보모터)
10: 후방 위치 센서(롤러)
11: 운송 프레임
12: 가이드 레일
13: 후방 고정 실린더
14: 전방 고정 실린더
15: 안내 및 고정 유닛의 헤드 프레임
16: 회전 및 비상 정지부의 각도 센서
17: 회전 유닛의 드라이브(서보모터)
18: 기판 웨이퍼용 검출 유닛
19: 기판 웨이퍼
20: 회전 프레임 캐리어
21: 공급 튜브
22: 접촉-연결부
23: 가이드웨이 정렬 검출용 센서
24: 열 변형 검출용 센서
25: 가이드웨이
26: 스퍼터 시스템
27: 송출 가이드웨이

Claims (11)

  1. 상이하거나 동일한 조성을 갖는 스퍼터 재료를 반복적으로 도포하기 위해 클린 룸 내에서 스퍼터 코팅 시스템의 피딩을 역전시키기 위한 장치에 있어서,
    (a) 기판 웨이퍼(19)를 수용하기 위한 운송 프레임(11),
    (b) 상기 운송 프레임(11)을 회전시키기 위한 수단과 상기 운송 프레임(11)을 상이한 가이드웨이(25, 27) 상으로 운송하기 위한 수단을 갖는 회전 유닛,
    (c) 회전 유닛을 스퍼터 코팅 시스템에 대해 정확히 정렬하기 위한 수단,
    (d) 스퍼터 공정을 체크하기 위한 검출 유닛(18),
    (e) 장방형 운송 프레임(11)을 장착하기 위한 장착 수단으로서, 좌우 상부 구역에 있는 후방 고정 실린더(13)와 전방 고정 실린더(14), 및 좌우 하부 구역에 있는 두 개의 운송 롤러(7) 상의 마운트로 구성되는 장착 수단을 포함하며,
    상기 롤러(7)의 각각에는 전용 서보드라이브가 제공되고,
    기계적으로 이동되는 부분은 무방출 방식으로 봉입되며 내마모성 재료로 제조되는 것을 특징으로 하는
    피딩 역전 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 운송 프레임(11)을 회전시키기 위한 수단은 회전 각도 검출용 센서(16)와 함께 서보모터(17)로 구성되는 것을 특징으로 하는
    피딩 역전 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 운송 프레임(11)을 운송하기 위한 수단은 하부 구역에 일정 간격으로 운송 롤러(7)를 구비하는 가이드웨이(25, 27)로 구성되며, 상부 구역에 일정 간격으로 설치되는 고정 실린더(13, 14)는 운송 롤러(7)에 의한 안내를 보충하는 것을 특징으로 하는
    피딩 역전 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 회전 유닛을 각각의 가이드웨이(25, 27)에 대해 정확히 정렬하기 위한 수단은 센서(23, 24)로부터 결정되는 측정값에 기초하여 회전 유닛의 드라이브(17)를 미세 조절함으로써 제어되며, 센서(23, 24)는 추가로 가이드웨이(25)의 경로의 열 변형을 검출하는 것을 특징으로 하는
    피딩 역전 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    기판 웨이퍼(19)의 위치설정은 추가로 레이저 및/또는 대응 센서에 의해 모니터링되는 것을 특징으로 하는
    피딩 역전 장치.
  6. 상이하거나 동일한 조성을 갖는 스퍼터 재료를 반복적으로 도포하기 위해 클린 룸 내에서 스퍼터 코팅 시스템의 피딩을 역전시키기 위한 방법에 있어서,
    (a) 코팅될 기판 웨이퍼(19)가 이송 장치에 의해 운송 프레임(11)으로 이송되고 이후 회전 유닛으로 이송되는 단계,
    (b) 장방형 운송 프레임(11)이 각각의 경우에 상부 구역의 좌우에 있는 두 개의 고정 실린더(13, 14)에 의해서 또한 하부 구역의 좌우에 있는 운송 롤러(7) 상의 마운트에 의해서 회전 유닛에 장착되는 단계,
    (c) 상기 운송 프레임(11)이 회전 유닛의 프레임에 통합된 드라이브(17)에 의해 회전되는 단계,
    (d) 상기 운송 프레임(11)이 가이드웨이(25, 27) 상에서 상이한 방향으로 안내될 수 있는 운송 롤러 드라이브(9)에 의해 운송되는 단계,
    (e) 상기 회전 유닛이 회전 유닛의 드라이브(17)를 거쳐서 센서(23, 24)에 의해 가이드웨이(25, 27)에 대해 정확히 정렬되는 단계,
    (f) 스퍼터 공정이 검출 유닛(18)에 의해 체크되는 단계를 포함하며, 이 검출 유닛은 적어도 운송 프레임(11)의 각 리셉터클의 회전 유닛 내에 존재하고, 스페이서 요소는 스캐너 방식으로 작동할 수 있거나 또는 기판 웨이퍼(19)의 전체 면적을 광학적으로 체크할 수 있는 것을 특징으로 하는
    피딩 역전 방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 기판 웨이퍼(19)의 위치설정은 추가로 레이저 및/또는 대응 센서에 의해 모니터링되는 것을 특징으로 하는
    피딩 역전 방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 클린 룸에서 사용되기 위해서, 기계적으로 이동되는 부분은 무방출 방식으로 봉입되며 내마모성 재료로 제조되는 것을 특징으로 하는
    피딩 역전 방법.
  9. 제 6 항에 있어서,
    상기 회전 유닛은, 다음의 공정 시퀀스를 위한 연동 스테이션으로도 작용하는 것을 특징으로 하는
    피딩 역전 방법.
  10. 삭제
  11. 컴퓨터에서 실행될 경우 제 6 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 방법의 단계를 수행하기 위한 컴퓨터 프로그램의 프로그램 코드를 포함하는 기계-판독 가능한 캐리어.
KR1020117014528A 2008-12-01 2009-11-26 클린 룸 내에서 스퍼터 코팅 시스템의 피딩을 역전시키기 위한 방법 및 장치 KR101280110B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102008059794A DE102008059794B3 (de) 2008-12-01 2008-12-01 Verfahren und Vorrichtung zur Umkehr der Beschickung von Sputter-Beschichtungsanlagen in Reinräumen, sowie Computerprogramm zur Durchführung des Verfahrens und maschinenlesbarer Träger mit dem Programmcode
DE102008059794.5 2008-12-01
PCT/DE2009/001680 WO2010063264A1 (de) 2008-12-01 2009-11-26 Verfahren und vorrichtung zur umkehr der beschickung von sputter-beschichtungsanlagen in reinräumen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110098924A KR20110098924A (ko) 2011-09-02
KR101280110B1 true KR101280110B1 (ko) 2013-06-28

Family

ID=41668225

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020117014528A KR101280110B1 (ko) 2008-12-01 2009-11-26 클린 룸 내에서 스퍼터 코팅 시스템의 피딩을 역전시키기 위한 방법 및 장치

Country Status (6)

Country Link
US (1) US8747627B2 (ko)
JP (1) JP5328926B2 (ko)
KR (1) KR101280110B1 (ko)
CN (1) CN102232043B (ko)
DE (1) DE102008059794B3 (ko)
WO (1) WO2010063264A1 (ko)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5657376B2 (ja) * 2010-12-28 2015-01-21 キヤノンアネルバ株式会社 基板搬送装置
CN107964651A (zh) * 2013-12-16 2018-04-27 湘潭宏大真空技术股份有限公司 一种真空镀膜生产线用旋转平台机构
CN104404466A (zh) * 2014-12-26 2015-03-11 合肥京东方光电科技有限公司 磁控溅射镀膜方法及系统
CN109957778A (zh) * 2017-12-14 2019-07-02 湘潭宏大真空技术股份有限公司 用于双面玻璃镀膜的传送旋转装置
CN217050388U (zh) * 2022-03-09 2022-07-26 康宁股份有限公司 一种卡匣物流系统

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07235486A (ja) * 1994-11-21 1995-09-05 Canon Inc デバイス製造方法
JP2001163428A (ja) 1999-12-15 2001-06-19 Fuji Mach Mfg Co Ltd 基板搬送装置および基板作業システム
JP2006191039A (ja) * 2005-01-05 2006-07-20 Samsung Sdi Co Ltd トレイ移送装置
JP2007126703A (ja) * 2005-11-02 2007-05-24 Dainippon Printing Co Ltd 成膜装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2748026A (en) * 1953-03-26 1956-05-29 Libbey Owens Ford Glass Co Method and apparatus for thermal evaporation
US5400317A (en) * 1993-04-01 1995-03-21 Balzers Aktiengesellschaft Method of coating a workpiece of a plastic material by a metal layer
KR100327716B1 (ko) 1994-01-11 2002-06-27 노만 에이취. 폰드 진공처리시스템및진공처리시스템내에서의기판조작방법
DE19715151A1 (de) * 1997-04-11 1998-10-15 Leybold Systems Gmbh Verfahren zum Be- und Entladen einer evakuierbaren Behandlungskammer und Handlingsvorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE59805566D1 (de) 1997-04-11 2002-10-24 Leybold Systems Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Be- und Entladen einer evakuierbaren Behandlungskammer
JP4856308B2 (ja) * 2000-12-27 2012-01-18 キヤノンアネルバ株式会社 基板処理装置及び経由チャンバー
CN1198483C (zh) * 2002-02-27 2005-04-20 光磊科技股份有限公司 具有吸湿薄膜的发光元件及形成吸湿薄膜的制作方法
DE10348281B4 (de) * 2003-10-17 2007-06-06 Applied Materials Gmbh & Co. Kg Vakuum-Behandlungsanlage für ebene rechteckige oder quadratische Substrate
DE10357609A1 (de) 2003-12-10 2005-07-21 Kuka Roboter Gmbh Handhabungsgerät wie Industrieroboter und Verfahren zum Beeinflussen einer Umgebungsbedingung in einem solchen
ATE514802T1 (de) * 2006-03-29 2011-07-15 Applied Materials Gmbh & Co Kg Vakuumtransportvorrichtung mit beweglicher führungsschiene
DE102007009924A1 (de) 2007-02-27 2008-08-28 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Durchlaufbeschichtungsanlage, Verfahren zur Herstellung kristalliner Dünnschichten und Solarzellen sowie Solarzelle
DE202008004228U1 (de) * 2008-03-27 2008-05-29 Grenzebach Maschinenbau Gmbh Vorrichtung zur Fixierung und den Weitertransport stoßempfindlicher Platten in Sputter-Beschichtungsanlagen

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07235486A (ja) * 1994-11-21 1995-09-05 Canon Inc デバイス製造方法
JP2001163428A (ja) 1999-12-15 2001-06-19 Fuji Mach Mfg Co Ltd 基板搬送装置および基板作業システム
JP2006191039A (ja) * 2005-01-05 2006-07-20 Samsung Sdi Co Ltd トレイ移送装置
JP2007126703A (ja) * 2005-11-02 2007-05-24 Dainippon Printing Co Ltd 成膜装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN102232043A (zh) 2011-11-02
JP2012510175A (ja) 2012-04-26
US20110226612A1 (en) 2011-09-22
CN102232043B (zh) 2013-11-13
JP5328926B2 (ja) 2013-10-30
WO2010063264A1 (de) 2010-06-10
KR20110098924A (ko) 2011-09-02
US8747627B2 (en) 2014-06-10
DE102008059794B3 (de) 2010-04-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101190911B1 (ko) 수평 방위설정 및 위치설정을 위한 장치, 수평 방위설정 및 위치설정을 위한 방법, 및 컴퓨터로 읽을 수 있는 매체
KR101211841B1 (ko) 초청정실 내에서의 충격에 민감한 유리 플레이트를 이송하기 위한 장치 및 방법
KR101190954B1 (ko) 스퍼터 제공 시스템에서 충격-감응성 시트를 고정 및 이송시키는 방법 및 장치
KR101253829B1 (ko) 극청정실에서 충격 민감성 패널을 이송 및 회전시키기 위한 장치 및 방법
KR101280110B1 (ko) 클린 룸 내에서 스퍼터 코팅 시스템의 피딩을 역전시키기 위한 방법 및 장치
KR101192494B1 (ko) 유리 플레이트의 방위 및 위치 설정 장치 및 방법
CN102686764A (zh) 成膜装置以及成膜方法
KR20120032822A (ko) 기판 이송 장치
KR101807195B1 (ko) 어레이 테스트 장치
KR100321559B1 (ko) 표시 패널 제조 라인
KR101628864B1 (ko) 기판 이송 장치
KR20010006568A (ko) 디스플레이 패널 이송 장치 및 디스플레이 패널 이송 유닛
KR100870745B1 (ko) 이송장치
KR101456246B1 (ko) 기판 이송체 교환장치
KR101880457B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
KR101207029B1 (ko) 어레이 테스트 장치
KR20080002372A (ko) 서셉터 및 이를 구비한 기판이송장치
KR101232140B1 (ko) 이송 장치
KR20210056701A (ko) 쿨링버퍼
JP2008298955A (ja) 液晶封孔装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160617

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170613

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180619

Year of fee payment: 6