KR101277020B1 - 감광성 도전 페이스트 - Google Patents

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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105103240A (zh) * 2013-03-29 2015-11-25 东丽株式会社 导电糊料和导电图案的制造方法
KR101511068B1 (ko) * 2013-09-23 2015-04-10 대덕지디에스 주식회사 도전성 페이스트를 이용한 방열기판 모듈
KR102208100B1 (ko) * 2014-05-13 2021-01-28 도레이 카부시키가이샤 도전 페이스트, 터치패널 및 도전 패턴의 제조방법
CN112812611B (zh) * 2020-12-30 2022-04-15 广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院 一种导电涂层的制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20080044184A (ko) * 2006-11-15 2008-05-20 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 알칼리 현상형의 페이스트 조성물, 그것을 이용한 도전성패턴 및 블랙 매트릭스 패턴의 형성 방법, 및 그 도전성패턴 및 블랙 매트릭스 패턴
KR20090029305A (ko) * 2006-07-13 2009-03-20 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 전극 형성용 감광성 도전 페이스트 및 전극
KR100989744B1 (ko) 2005-07-13 2010-10-26 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 은 페이스트 조성물, 및 그것을 이용한 도전성 패턴의 형성방법 및 그의 도전성 패턴

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100228723B1 (ko) * 1995-11-29 1999-11-01 모리시타 요이찌 돌출부분을 형성하는 막 및 그것을 사용해서 플라즈마 디스플레이의 돌출 부분을 형성하는 방법, 및 그 방법에 의해 제조된 플라즈마 디스플레이
JP4530390B2 (ja) * 2001-03-08 2010-08-25 大日本印刷株式会社 光硬化型導体インキ及び電極パターンの形成方法
JP2002290052A (ja) * 2001-03-23 2002-10-04 Kyocera Corp 多層配線基板
TW200519535A (en) * 2003-11-27 2005-06-16 Taiyo Ink Mfg Co Ltd Hardenable resin composition, hardened body thereof, and printed circuit board
JP2005258398A (ja) * 2004-02-12 2005-09-22 Jsr Corp プラズマディスプレイパネルの製造方法および転写フィルム
JP4857670B2 (ja) * 2005-09-02 2012-01-18 パナソニック株式会社 無機粉末含有ペースト

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100989744B1 (ko) 2005-07-13 2010-10-26 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 은 페이스트 조성물, 및 그것을 이용한 도전성 패턴의 형성방법 및 그의 도전성 패턴
KR20090029305A (ko) * 2006-07-13 2009-03-20 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 전극 형성용 감광성 도전 페이스트 및 전극
KR20080044184A (ko) * 2006-11-15 2008-05-20 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 알칼리 현상형의 페이스트 조성물, 그것을 이용한 도전성패턴 및 블랙 매트릭스 패턴의 형성 방법, 및 그 도전성패턴 및 블랙 매트릭스 패턴

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