KR101262872B1 - 리플렉터 제작 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 리플렉터 제작 방법에 관한 것으로서, 광원의 빛을 반사하여 집중시키는 리플렉터를 제작하는 방법이다. 본 발명의 실시 형태는 광원의 빛을 반사하여 집중시키는 리플렉터의 제작 방법에 있어서, 금형을 통하여 플라스틱 사출물을 사출하는 과정과, 상기 플라스틱 사출물의 표면을 초음파 세척하는 과정과, 상기 플라스틱 사출물의 표면에 알루미늄 박막을 증착하는 과정을 포함한다.

Description

리플렉터 제작 방법{Method for manufacturing reflector}
본 발명은 리플렉터 제작 방법에 관한 것으로서, 광원의 빛을 반사하여 집중시키는 리플렉터를 제작하는 방법이다.
조명장치는 광원으로부터 방출되는 광을 조명 대상체에 유효하게 조사될 수 있는 각도 범위로 효율적으로 집중시키기 위하여 다양한 형태의 리플렉터(반사갓)를 사용한다. 즉, 조명장치의 효율을 올리기 위한 방법으로서, 도 1과 같이 광원으로부터의 광을 원하는 방향으로 조사할 수 있는 반사체인 리플렉터(10)를 사용한다.
리플렉터(10)의 반사율을 높이기 위하여 리플렉터의 표면에 도금 박막을 사용한다. 도금 박막은 단막으로서 높은 반사율을 나타내지만, 표면이 매끄럽지 않아, 표면을 통해 반사되는 빛의 난반사가 심한 문제가 있다. 이러한 난반사는 사용자의 눈부심 현상(glare)을 초래하는 문제를 가져온다.
한국공개특허 10-2006-0053757
본 발명의 기술적 과제는 리플렉터의 반사율을 향상시키는데 있다. 또한 본 발명의 기술적 과제는 리플렉터의 휘도를 낮추어 눈부심을 방지하는데 있다. 또한 본 발명의 기술적 과제는 리플렉터의 반사율을 높이면서도 눈부심을 방지하는 리플렉터를 제작하는데 있어서 제작 공정을 단순화하는데 있다.
본 발명의 실시 형태는 광원의 빛을 반사하여 집중시키는 리플렉터의 제작 방법에 있어서, 금형을 통하여 플라스틱 사출물을 사출하는 과정과, 상기 플라스틱 사출물의 표면을 초음파 세척하는 과정과, 상기 플라스틱 사출물의 표면에 알루미늄 박막을 증착하는 과정을 포함한다.
또한 알루미늄 박막 증착 이전에 플라스틱 사출물의 표면에 대해서 플라즈마 표면 처리를 수행하는 과정을 포함한다. 또한 상기 알루미늄 박막 증착 이후에 플라스틱 사출물의 표면에 대해서 자외선 코팅을 수행하는 과정을 포함한다. 또한 플라스틱 사출물은, 연삭 공정인 랩핑 공정을 통하여 평탄화된 내부면을 가지는 금형에서 사출된다. 또한 플라스틱 사출물은 폴리카보네이트(Polycarbonate), ABS 수지(Acrylonitrile-Butadiene-Styrene resin)를 금형 사출하여 제작된다.
본 발명의 실시 형태에 따르면 광원의 빛을 반사하여 집중시키는 리플렉터의 반사율을 향상시킬 수 있으며, 동시에 리플렉터의 눈부심을 방지할 수 있다. 본 발명의 실시 형태에 따르면 리플렉터의 반사율 향상 및 리플렉터의 눈부심 방지를 위한 제작 공정을 단순화하여, 제작 비용을 절감시킬 수 있다.
도 1은 광원 및 리플렉터를 도시한 사시도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 리플렉터를 제작하는 과정을 도시한 플로차트이다.
도 3은 종래의 도금된 리플렉터와 본 발명의 실시예에 따라 알루미늄 증착된 리플렉터의 휘도값을 나타낸 그림이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따라 알루미늄 증착된 리플렉터의 반사율 그래프를 도시한 그래프이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 더욱 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따라서 LED 조명기구에서 사용되는 리플렉터를 제작하는 과정을 도시한 플로차트이다.
일반적으로 LED 조명기구에서 사용되는 리플렉터는 플라스틱 사출물의 표면에 알루미늄 증착을 함으로써 최종적인 리플렉터로서 제작된다. 기존에는 이러한 알루미늄 증착이 용이하게 하도록 하기 위하여, 금형의 내부면에 이형제를 도포한 후 플라스틱 사출물를 사출하였다. 상기 이형제(release agent)는 사출되는 플라스틱 사출물가 금형(몰드)의 내부면에 점착되는 것을 방지하고 용이하게 떨이질 수 있도록 하는 역할을 하는 것으로서, 사출되는 플라스틱 사출물의 표면이 평탄하고 아름답게 마무리되도록 금형의 내부면에 도포되는 실리콘 수지를 말한다. 그러나 이러한 이형제를 도포한 금형을 통해 플라스틱 사출물를 제작한 경우, 플라스틱 사출물에 알루미늄 증착에 앞서 이형제를 먼저 제거해야 하는 불편이 있다. 이형제 제거없이 알루미늄 증착을 할 경우, 접착성이 현저히 떨어져서 리플렉터의 품질을 보장할 수 없게 된다. 또한 이형제 제거 공정이 번거롭고 완벽한 제거가 어려운 문제가 있다. 따라서 기존에 금형을 이용하여 플라스틱 사출물를 사출할 때 양산성을 좋게 하기 위하여 이형제 도포를 채택하고 있지만, 반대로 이형제 채택은 알루미늄 증착의 품질을 저하시키는 원인이 되었다.
본 발명의 실시예는 이러한 이형제 사용없이 금형 사출의 양산성 및 알루미늄 증착 품질성을 향상시키도록 한다. 금형 사출의 양산성을 위하여 내부면을 매끄럽게 깍아 평탄화하는 연삭 공정(lapping 과정)을 거친 금형을 사용하여 플라스틱 사출물를 제작한다. 또한 사출된 플라스틱 사출물의 표면에 알루미늄 증착의 품질을 향상시키기 위하여 알루미늄 증착 전에 2차례의 세척 과정, 즉, 초음파 세척 과정과 플라즈마 표면 처리 과정을 가진다.
이하 각 과정들을 상술한다. 우선, 리플렉터의 형체인 플라스틱 사출물을 제작하는 과정을 가진다. 광원의 종류에 따라서 다양한 형체를 가지는 플라스틱 사출물을 제작할 수 있다. 예를 들어, 곡률을 가지는 둥근 형체, 직선 형태의 사각 형체 및 삼각 형체 등 다양한 형태를 가질 수 있다.
리플렉터는 플라스틱 사출 금형에 의해 제작된다(S21). 즉, 원하는 형태의 금형(몰드) 내부로 뜨거운 플라스틱을 고압으로 주입(injection)하여 순간적으로 식힌 후 금형을 열고 리플렉터로 사용될 플라스틱 사출물를 꺼냄으로써 이루어진다. 상기 금형에 주입되는 플라스틱은 폴리카본(Polycarbonate) 또는 ABS 수지(Acrylonitrile-Butadiene-Styrene) 등이 사용될 수 있다.
상기 금형(몰드)의 내부면은 매끄럽게 깍아 평탄화하는 과정(lapping 과정) 거친 금형이 사용된다. 랩핑(lapping) 과정을 거친 금형 내부면을 가짐으로써, 금형에 의해 사출된 플라스틱 사출물의 표면을 매끄럽게 할 수 있다. 이러한 랩핑(lapping) 과정을 거친 금형 내부면을 이용한 사출을 함으로써 사출된 플라스틱 사출물의 표면에 별도의 이형제(release agent)를 도포할 필요가 없다.
랩핑된 내부면을 가진 금형을 이용하여 플라스틱 사출물를 사출한 후에는, 1차 세척 과정인 초음파 세척 과정을 가진다(S22). 초음파 세척 원리는 용기에 물을 채우고 그 밑바닥에 초음파를 발생시키면 물은 심하게 진동하여 물보라가 떠오르는데, 이러한 물속에 오염된 물체를 넣어 두면 초음파의 작용에 의하여 세척되는 것을 말한다. 이물질 등이 부착된 플라스틱 사출물를 액체 속에 담그고, 액체에 초음파를 가하면 액압이 충격적으로 변동하여 플라스틱 사출물의 표면에 침식되어서 세척이 된다. 따라서 복잡한 형상의 플라스틱 사출물의 내면이나 좁은 홈 등의 부분에 대해서 세척을 간단히 할 수 있다. 따라서 초음파 세척을 통하여 플라스틱 사출물의 10마이크로 미터 이하의 미세 이물질도 간단히 제거할 수 있다.
초음파 세척이 이루어지고 난 후에는 2차 세척 과정을 가지는데, 2차 세척 과정으로서 플라즈마 표면 처리가 이루어진다(S23).
플라즈마 표면 처리 공정은 플라즈마 상태에 놓인 높은 에너지를 가진 입자를 표면에 충돌시켜 표면의 이물질을 제거함으로써, 다음 공정에서 다른 재료와 잘 반응할 수 있도록 한다. 플라스틱 사출물의 표면을 고도로 활성화되고 이온화된 기체인 플라즈마로 처리하면, 플라스틱 사출물의 표면에 있는 이물질을 완전히 제거할 수 있다. 예를 들어, 플라즈마 발생 장치에서 발생시킨 이온 방전은 플라스틱 사출물의 재질 표면을 이온의 고속 방전으로 충격을 가하고, 이러한 양극의 이온 충격에 의해 플라스틱 사출물의 표면에 존재하는 유기체 및 무기물 오염 물질을 제거할 수 있다. 플라즈마 표면 처리를 통하여 1마이크로 미터 이하의 이물질들을 제거할 수 있다. 참고로, 플라스틱 사출물에 대한 알루미늄 증착 전에 이루어지는 플라스틱 표면 처리는 경우에 따라서 생략되고 초음파 세척의 1차 세척 과정만이 진행될 수 있다. 반대로 초음파 세척 과정이 생략되고 플라스틱 표면 처리 과정만이 수행되고 알루미늄 증착이 이루어질 수 있다.
초음파 세척이라는 1차 세척 및 플라즈마 표면 처리라는 2차 세척이 이루어지고 난 후에는, 알루미늄 증착 과정이 수행된다(S24). 알루미늄 증착은 10-4 ~ 10-6 [torr] 정도의 진공하에서 알루미늄을 1500℃ 이상으로 가열하면 알루미늄이 증발하여, PC, ABS 등의 플라스틱 사출물 위에 800Å~1200Å 이상의 두께로서 알루미늄 박막이 증착된다. 참고로, 알루미늄 증착 과정을 설명하면, 알루미늄괴를 진공 챔버에 넣어 감압(700~740mmHg)하에서 끊이면 진공상태에서 알루미늄이 입자 상태로 되면서 증기화되어 진공 챔버의 공간으로 유리되는데, 이때, 플라스틱 사출물을 챔버의 상단부로 통과시키면 알루미늄의 입자가 필름에 묻어(증착) 미세한 막을 형성하게 된다.
알루미늄 증착이 이루어지고 난 후에는 UV 코팅(ultraviolet coating)이 추가적으로 이루어질 수 있다(S25). UV 코팅 시에 사용되는 도료는 올리고머, 모노머, 광개시제 및 첨가제 등이 사용될 수 있으며, UV 코팅 방식으로는 스프레이 방식, 플로코팅 방식이 사용될 수 있다. 증착된 알루미늄 박막에 자외선 조사로 단기간에 경화되는 도료를 이용하여 코팅하여 내구성 향상 및 오염을 방지할 수 있다.
상기와 같은 공정들을 거침으로써 반사율을 높이는 동시에 휘도를 낮추어 난반사를 제거하여 눈부심 현상을 개선시킬 수 있다. 도 3은 종래의 도금된 리플렉터와 본 발명의 실시예에 따라 알루미늄 증착된 리플렉터의 휘도값을 나타낸 그림이다. 종래의 방식대로 도금 처리된 리플렉터의 경우 68~100[nit]의 휘도를 가지는 반면에, 본 발명의 실시예에 따라 제작된 리플렉터의 경우 10[nit] 이내의 낮은 휘도를 가짐으로써 눈부심을 제거할 수 있다. 참고적으로 상기 [nit] 단위는 특정 방향으로부터 본 물체의 밝기로서 [cd/m2] 단위에 해당하는데, 눈부심에 관계된다.
또한 도 4는 본 발명의 실시예에 따라 알루미늄 증착된 리플렉터의 반사율 그래프를 도시한 그래프이다. 파장대에 따른 반사율을 나타내고 있는데, 사람 눈으로 식별할 수 있는 가시광선 파장인 380nm~680nm 대역에서 92% 이상의 반사율을 보이고 있음을 알 수 있다.
결국, 도 3 및 도 4의 실험 결과로부터 본 발명의 실시예에 따른 리플렉터의 경우, 높은 반사율을 가지면서도 낮은 휘도를 가져 눈부심을 최소로 할 수 있음을 알 수 있다.
본 발명을 첨부 도면과 전술된 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였으나, 본 발명은 그에 한정되지 않으며, 후술되는 특허청구범위에 의해 한정된다. 따라서, 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 후술되는 특허청구범위의 기술적 사상에서 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 변형 및 수정할 수 있다.
S21: 플라스틱 사출물 제작 S22: 초음파 세척
S23: 플라즈마 표면 처리 S24: 알루미늄 증착
S25: UV 코팅

Claims (8)

  1. LED 조명 기구에서 광원의 빛을 반사하여 집중시키는 리플렉터의 제작 방법에 있어서,
    금형을 통하여 플라스틱 사출물을 사출하는 과정;
    상기 플라스틱 사출물의 표면을 초음파 세척하여 10마이크로미터 이하의 이물질을 제거하는 과정;
    상기 초음파 세척 후에, 상기 플라스틱 사출물의 표면에 대해서 플라즈마 표면 처리를 수행하여 1마이크로 미터 이하의 이물질을 제거하는 과정;
    10-4 ~ 10-6[torr]의 진공압을 가지는 챔버 내에서 1500℃ 이상의 조건에서, 상기 플라스틱 사출물의 표면에 알루미늄 박막을 증착하는 과정;
    을 포함하는 리플렉터 제작 방법.
  2. 삭제
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 알루미늄 박막 증착 이후에 플라스틱 사출물의 표면에 대해서 자외선 코팅을 수행하는 과정을 포함하는 리플렉터 제작 방법.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 플라스틱 사출물은, 연삭 공정인 랩핑 공정을 통하여 평탄화된 내부면을 가지는 금형에서 사출되는 리플렉터 제작 방법.
  5. 삭제
  6. 청구항 1에 있어서, 상기 알루미늄 증착은 800Å~1200Å 이상의 두께로서 이루어지는 리플렉터 제작 방법.
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 플라스틱 사출물은 폴리카보네이트(Polycarbonate), ABS 수지(Acrylonitrile-Butadiene-Styrene resin)를 금형 사출하여 제작되는 리플렉터 제작 방법.
  8. 삭제
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101928150B1 (ko) 2016-11-25 2018-12-11 조성은 진공증착을 이용한 리플렉터 제조방법
KR20220109518A (ko) * 2021-01-28 2022-08-05 주식회사 알토 리플렉터 제작 방법

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100272834B1 (ko) 1998-02-17 2000-11-15 오태석 조명등의 반사경 제조방법
KR100800952B1 (ko) 2007-10-22 2008-02-04 이길수 도로 반사경 제조 장치 및 그 방법

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3575927B2 (ja) * 1995-10-03 2004-10-13 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 熱可塑性樹脂製光反射部材の成形方法及び熱可塑性樹脂製光反射部品の作製方法
KR20010087664A (ko) * 2000-03-08 2001-09-21 손명호 전자파 차폐막 코팅방법 및 그 장치
CN101484830B (zh) * 2006-07-04 2010-12-01 株式会社爱发科 反射镜的制造装置及其制造方法
JP2009030029A (ja) * 2007-07-02 2009-02-12 Mitsubishi Engineering Plastics Corp ポリエステル樹脂組成物
CN201196380Y (zh) * 2008-04-25 2009-02-18 深圳市俄菲照明有限公司 一种用于大功率led光源的反射杯
CN101475173A (zh) * 2009-01-20 2009-07-08 吉林大学 一种制备超疏水抗反射微米和纳米复合结构表面的方法
CN101788127B (zh) * 2009-10-26 2012-01-11 杭州友成机工有限公司 车灯镀膜组合工艺
JP2012033726A (ja) * 2010-07-30 2012-02-16 Polyplastics Co 発光装置の製造方法、発光装置及び反射体

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100272834B1 (ko) 1998-02-17 2000-11-15 오태석 조명등의 반사경 제조방법
KR100800952B1 (ko) 2007-10-22 2008-02-04 이길수 도로 반사경 제조 장치 및 그 방법

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101928150B1 (ko) 2016-11-25 2018-12-11 조성은 진공증착을 이용한 리플렉터 제조방법
KR20220109518A (ko) * 2021-01-28 2022-08-05 주식회사 알토 리플렉터 제작 방법
KR102540575B1 (ko) * 2021-01-28 2023-06-08 주식회사 알토 리플렉터 제작 방법

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