KR101239493B1 - 유기 용매 중 희토류 유기포스페이트 용액의 제조 방법 - Google Patents
유기 용매 중 희토류 유기포스페이트 용액의 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101239493B1 KR101239493B1 KR1020107002659A KR20107002659A KR101239493B1 KR 101239493 B1 KR101239493 B1 KR 101239493B1 KR 1020107002659 A KR1020107002659 A KR 1020107002659A KR 20107002659 A KR20107002659 A KR 20107002659A KR 101239493 B1 KR101239493 B1 KR 101239493B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- rare earth
- acid
- water
- solution
- organic solvent
- Prior art date
Links
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 39
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 title claims abstract description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 title claims abstract description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 38
- -1 rare earth compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 28
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 27
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims abstract description 5
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims abstract description 5
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 claims abstract description 4
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 229910001404 rare earth metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 claims abstract description 3
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 claims abstract description 3
- 235000011167 hydrochloric acid Nutrition 0.000 claims abstract description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 23
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 claims description 22
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 7
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 3
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 claims description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 2
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical compound O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract description 9
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 abstract description 3
- 125000005461 organic phosphorous group Chemical group 0.000 abstract description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 62
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 33
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- SEGLCEQVOFDUPX-UHFFFAOYSA-N di-(2-ethylhexyl)phosphoric acid Chemical compound CCCCC(CC)COP(O)(=O)OCC(CC)CCCC SEGLCEQVOFDUPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 18
- PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N neodymium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Nd+3].[Nd+3] PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical group CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ATQXJRZEZJQPIK-UHFFFAOYSA-K bis(2-ethylhexyl) phosphate;neodymium(3+) Chemical compound [Nd+3].CCCCC(CC)COP([O-])(=O)OCC(CC)CCCC.CCCCC(CC)COP([O-])(=O)OCC(CC)CCCC.CCCCC(CC)COP([O-])(=O)OCC(CC)CCCC ATQXJRZEZJQPIK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 7
- JYVHOGDBFNJNMR-UHFFFAOYSA-N hexane;hydrate Chemical compound O.CCCCCC JYVHOGDBFNJNMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 6
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 2-Methylpentane Chemical compound CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 description 3
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 3
- WGECXQBGLLYSFP-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylpentane Chemical compound CCC(C)C(C)C WGECXQBGLLYSFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PFEOZHBOMNWTJB-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane Chemical compound CCC(C)CC PFEOZHBOMNWTJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 2
- GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N methylcyclopentane Chemical compound CC1CCCC1 GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- BZHMBWZPUJHVEE-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylpentane Natural products CC(C)CC(C)C BZHMBWZPUJHVEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- CFYGEIAZMVFFDE-UHFFFAOYSA-N neodymium(3+);trinitrate Chemical compound [Nd+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O CFYGEIAZMVFFDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATINCSYRHURBSP-UHFFFAOYSA-K neodymium(iii) chloride Chemical compound Cl[Nd](Cl)Cl ATINCSYRHURBSP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 235000015096 spirit Nutrition 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/06—Phosphorus compounds without P—C bonds
- C07F9/08—Esters of oxyacids of phosphorus
- C07F9/09—Esters of phosphoric acids
- C07F9/11—Esters of phosphoric acids with hydroxyalkyl compounds without further substituents on alkyl
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/06—Phosphorus compounds without P—C bonds
- C07F9/08—Esters of oxyacids of phosphorus
- C07F9/09—Esters of phosphoric acids
- C07F9/12—Esters of phosphoric acids with hydroxyaryl compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/30—Phosphinic acids [R2P(=O)(OH)]; Thiophosphinic acids ; [R2P(=X1)(X2H) (X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/301—Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/30—Phosphinic acids [R2P(=O)(OH)]; Thiophosphinic acids ; [R2P(=X1)(X2H) (X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/304—Aromatic acids (P-C aromatic linkage)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/3804—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
- C07F9/3808—Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/3804—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
- C07F9/3834—Aromatic acids (P-C aromatic linkage)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/40—Esters thereof
- C07F9/4003—Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
- C07F9/4006—Esters of acyclic acids which can have further substituents on alkyl
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/40—Esters thereof
- C07F9/4003—Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
- C07F9/4021—Esters of aromatic acids (P-C aromatic linkage)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/40—Esters thereof
- C07F9/4071—Esters thereof the ester moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
- C07F9/4075—Esters with hydroxyalkyl compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/40—Esters thereof
- C07F9/4071—Esters thereof the ester moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
- C07F9/4084—Esters with hydroxyaryl compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
본 발명은 물, 질산, 염산, 아세트산, 포름산 및 프로피온산, 및 이들 산의 희토류 염으로부터 선택된 촉진제의 존재 하에 희토류의 옥시드, 히드록시드, 카르보네이트 및 히드록시카르보네이트로부터 선택된 희토류 화합물을 유기아인산과 유기 용매 중에서 반응시키는 것을 포함하는, 유기 용매 중 희토류 유기포스페이트 용액의 제조 방법에 관한 것이다. 촉진제의 사용은 상기 방법을 간단하게 하여, 반응 시간을 줄이고 잔류 고체 함량이 낮은 용액을 얻을 수 있도록 한다.
Description
본 발명은 유기 용매 중 희토류 유기포스페이트 용액의 제조 방법에 관한 것이다.
희토류 유기포스페이트 용액은 특히 디엔 중합용 촉매의 제조를 위한 출발 물질로서 사용된다.
일반적으로, 무기 희토류 염의 반응을 통한 희토류 유기포스페이트 용액의 제조는 어렵다. 이는 생성물에서 산 잔류물 (이의 존재는 사용하기에 바람직하지 않음)을 생성하는 무기 희토류 염을 완전히 용해시키기 위해 매우 과량의 유기아인산을 필요로 하거나, 또는 산업적 용도에서 부적절한 매우 긴 반응 시간을 필요로 하기 때문이다. 게다가, 얻어진 용액은 일반적으로 높은 점도 (> 15000 cPs)를 가지며, 이는 생성물에 존재하는 잔류 고체를 여과하기 위한 어떠한 작업도 실질적으로 수행할 수 없도록 한다.
따라서, 산업적 조건 하에, 낮은 함량의 고체 형태의 무기 희토류 염을 가지며 허용가능한 잔류 산도를 갖는 용액을 얻을 수 있도록 하는 방법을 갖는 것이 중요하다.
따라서, 본 발명의 목적은 상기 방법을 제공하기 위한 것이다.
이를 위해, 유기 용매 중 희토류 유기포스페이트 용액을 제조하기 위한 본 발명의 방법은 희토류의 옥시드, 히드록시드, 카르보네이트 및 히드록시카르보네이트로부터 선택된 희토류 화합물을 상기 용매의 존재 하에 유기아인산과 반응시키며, 상기 반응은 물, 질산, 염산, 아세트산, 포름산 및 프로피온산, 및 이들 산의 희토류 염으로부터 선택된 촉진제 (promoter)의 존재 하에 수행되는 것을 특징으로 하는 형태이다.
본 발명에 따른 촉진제의 사용은, 특히 상기 방법을 간단하게 하여 반응 시간을 줄이고 잔류 고체 함량이 낮은 용액을 얻을 수 있도록 한다.
본 발명의 다른 특성, 세부사항 및 이점은 하기 설명, 및 구체적이되 제한되지 않는 예시 목적의 여러 실시예의 해석으로부터 보다 완전히 명백하게 될 것이다.
용어 "희토류"는 이트륨 및 원자 번호 57 내지 71 (경계 포함)을 갖는 주기율표의 원소로 구성된 군의 원소를 의미하는 것으로 이해된다.
본 발명의 방법은 가장 특히 네오디뮴, 란탄, 프라세오디뮴, 사마륨 및 세륨으로부터 선택된 희토류 원소의 유기포스페이트의 제조에 적용한다.
본 발명의 방법은 희토류 화합물과 유기아인산의 반응을 포함한다.
희토류 화합물로서, 상기 언급된 것들이 사용된다. 이들 중에서, 바람직하게는 옥시드를 사용한다.
보다 특히, 유기아인산은 인산 모노에스테르 또는 디에스테르, 포스폰산 및 포스핀산으로부터 선택될 수 있다.
인산 모노에스테르 또는 디에스테르는 각각 화학식 (RO)PO(OH)2 및 (RO)(R'O)PO(OH)에 해당될 수 있으며, 여기서 R 및 R'는 알킬 또는 아릴 라디칼을 나타낸다 (동일하거나 또는 상이할 수 있음).
예로서, R 및 R'는 n-부틸, 이소부틸, 펜틸, 아밀, 이소펜틸, 2,2-디메틸헥실, 2-에틸헥실, 1-에틸헥실, 옥틸, 노닐, 데실, 2,2-디메틸옥틸, 톨릴 또는 노나페닐 라디칼일 수 있다.
또한, 유기아인산은 화학식 (RO)R'P(O)(OH) 및 RP(O)(OH)2의 포스폰산으로부터 선택될 수 있으며, 여기서 R 및 R'는 알킬 또는 아릴 라디칼을 나타낸다 (동일하거나 또는 상이할 수 있음). 예로서, R 및 R'는 n-부틸, 이소부틸, 펜틸, 아밀, 이소펜틸, 2,2-디메틸헥실, 2-에틸헥실, 1-에틸헥실, 옥틸, 노닐, 데실, 2,2-디메틸옥틸, 톨릴 또는 노나페닐 라디칼일 수 있다.
또한, 유기아인산은 화학식 R(R')P(O)OH 및 R(H)P(O)OH의 포스핀산으로부터 선택될 수 있으며, 여기서 R 및 R'는 알킬 또는 아릴 라디칼을 나타낸다 (동일하거나 또는 상이할 수 있음). 예로서, R 및 R'는 n-부틸, 이소부틸, 펜틸, 아밀, 이소펜틸, 2,2-디메틸헥실, 2-에틸헥실, 1-에틸헥실, 옥틸, 노닐, 데실, 2,2-디메틸옥틸, 톨릴 또는 노나페닐 라디칼일 수 있다.
물론, 상기 기재된 유기아인산의 혼합물을 사용할 수도 있다.
본 발명의 필수 특징은 희토류 화합물과 유기아인산의 반응이 상기 주어진 형태의 촉진제의 존재 하에 수행된다는 것이다.
일반적으로, 반응은 희토류 화합물, 유기아인산 및 촉진제를 유기 용매 중에서 혼합하여 수행한다.
사용되는 유기 용매는 일반적으로 탄화수소-계 용매, 보다 특히 지방족, 지환족, 또는 심지어 방향족 용매이다.
상기 용매는 헥산, 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 헵탄, 메틸펜탄, 메틸시클로펜탄, 펜탄, 3-메틸펜탄, 2-메틸펜탄, 2,3-디메틸펜탄 및 이들의 이성질체, 톨루엔 및 크실렌, 및 이들의 혼합물을 포함하는 군으로부터 선택될 수 있다. 헥산, 시클로헥산 및 메틸시클로헥산, 및 이들의 이성질체, 및 이들의 혼합물이 바람직하다. 상업적으로 입수가능한 탄화수소-계 용매로는 엑솔 (Exxsol)? 헥산 (엑손 (Exxon)에 의해 제공됨), 엑솔? 헵탄 (엑손에 의해 제공됨), 이소파르 (Isopar)?, 이소파르-M? 및 이소파르-L? (엑손에 의해 제공됨), 솔벤트 (Solvent) 140? (엑손에 의해 제공됨), 미네랄 스피리츠 (Mineral Spirits) 66? (필립스 (Philips)에 의해 제공됨), 시클로헥산 (BASF에 의해 제공됨) 및 메틸시클로헥산 (토탈 플루이즈 (Total Fluides)에 의해 제공됨)이 있다.
사용되는 촉진제의 양은 하기에 상술될 것이다. 일반적으로, 최소량은 촉진제가 소정의 역할을 시작할 수 있는 양, 즉 반응으로부터의 수율이 허용가능하게 되기 시작하는 양임에 주목해야 할 것이다. 반응의 종료시 반응 매질이 더 이상 어떠한 혼탁성도 나타내지 않는 경우 이러한 수율은 허용가능하다. 이에 따라, 상기 양은 당업자들이 쉽게 측정할 수 있다. 최대량은 일반적으로 중요하지 않으며, 산업적 제한 사항에 따라 고정될 수 있다. 하기 주어지는 양은 예시 목적으로만 수행되며, 이에 따라 이들 최소 및 최대량 사이에 있다고 이해하여야 한다.
촉진제가 물인 경우, 사용되는 물의 양은 물/희토류 몰 비로 표현시 일반적으로 대략 1 내지 대략 500, 보다 특히 1 내지 300, 보다 더 특히 5 내지 100이다. 한 바람직한 실시양태에 따르면, 상기 비는 25 이상, 보다 특히 50 이상, 보다 더 특히 90 이상이며, 상기 주어진 값의 상한치 또한 본 실시양태에 적용 가능하다.
촉진제가 산인 경우, 사용되는 산의 양은 산/희토류 몰 비로 표현시 일반적으로 대략 0.005 내지 대략 0.2, 특히 0.005 내지 0.1, 보다 더 특히 0.005 내지 0.06이다.
산은 순수한 산을 사용하거나, 또는 농축 또는 희석 용액으로서 사용할 수 있다는 것을 주목할 수 있다.
상기 언급된 것과 같이, 촉진제는 희토류의 니트레이트, 클로라이드, 아세테이트, 포르메이트 또는 프로피오네이트일 수 있다. 상기 경우에서, 염의 양은 염/희토류 몰 비로 표현시 일반적으로 대략 0.005 내지 대략 0.2, 보다 특히 0.005 내지 0.1이다.
촉진제의 존재 하의 희토류 화합물과 유기아인산의 반응은 일반적으로 60℃ 이상, 보다 특히 80℃ 내지 100℃의 온도에서 수행된다. 100℃ 초과의 온도 또한 구상할 수 있다.
상기 반응의 지속시간은 광범위하게, 예를 들어 1 내지 6시간으로 변할 수 있으며, 실제적으로는 1 내지 2시간일 수 있다.
바람직하게는, 용액이 공기로부터의 산소로 오염되는 것을 방지하기 위해 반응은 불활성 분위기, 예를 들어 질소 하에 수행된다.
반응의 종결시 희토류 유기포스페이트 용액을 얻는다.
임의로, 산 잔류물을 제거하기 위해 용액을 물로 세척할 수 있다. 상기 세척은 유기 용액을 물과 혼합하고, 교반하고, 침강에 의해 분리시키고, 이후 수성 상을 유기 상으로부터 분리하여 수행할 수 있다.
또한, 잔류 물을 제거하기 위해 상기 용액을 임의로 증류시킬 수 있다. 상기 방식으로, 수분 함량이 최대 500 ppm, 보다 특히 최대 100 ppm인 용액을 얻을 수 있다. 상기 수분 함량은 물/희토류 몰 비로 표현시 최대 0.2, 보다 특히 최대 0.04일 수 있다.
잔류 산도는 유기아인산/희토류 몰 비로 표현시 최대 0.75, 보다 특히 최대 0.6, 보다 더 특히 최대 0.4일 수 있다.
매우 소량의 출발 희토류 화합물이 용액에 남아있는 한, 반응으로부터의 수율은 높다. 실제로, 용액은 투명한 외관을 갖는다. 얻어진 수율은 일반적으로 95％ 이상이고, 100％의 수율을 달성할 수 있다.
알콜, 카르복실산 또는 인산으로부터 선택된 화합물을 첨가하여, 얻어진 용액의 점도를 조절할 수 있다. 비제한적인 예로서, 에탄올, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 아세트산 및 프로피온산을 언급할 수 있다.
상기 언급된 것과 같이, 본 발명의 방법으로부터 유래된 희토류 유기포스페이트 용액은 디엔, 예컨대 부타디엔 및 이소프렌의 중합을 위한 촉매를 제조하기 위해 사용할 수 있다.
실시예가 아래 주어진다.
<실시예>
실시예 1
네오디뮴 72.4 중량％를 함유하는 네오디뮴 옥시드 3.03 g, 디(2-에틸헥실)인산 (DEHPA) 17.39 g, 메틸시클로헥산 (MCH) 80 g 및 물 25.9 g을 아르곤으로 미리 불활성화시킨 반응기에 도입하였다. 혼합물을 교반하고, 고체가 완전히 사라질 때까지, 즉 이 경우 1시간 동안 95℃가 되도록 하였다. 혼합물을 냉각시키고, 침강에 의해 분리시켰다. 이에 따라 물 22.5 g이 혼합물로부터 제거되었다. 후속적으로, 물/MCH 공비혼합물을 딘 스탁 (Dean Stark) 장치로 증류시켰다. 이에 따라, MCH 중 네오디뮴 디(2-에틸헥실)포스페이트 용액 84 g을 얻었다.
상기 용액은 투명한 외관, 용액 중 네오디뮴 함량 2.65％, 잔류 유리 산도 (DEHPA 중량 백분율로 표현됨) 2.2％ 및 수분 함량 382 ppm으로 특성화되었다. 이 경우에서, 몰 비는 다음과 같다: DEHPA/Nd = 0.37 및 물/Nd = 0.11. 반응 수율은 100％였다.
실시예 2
네오디뮴 72.4 중량％를 함유하는 네오디뮴 옥시드 3.03 g, 디(2-에틸헥실)인산 (DEHPA) 17.39 g, 메틸시클로헥산 (MCH) 80 g 및 0.5 mol/l의 질산 1.8 ml를 아르곤으로 미리 불활성화시킨 반응기에 도입하였다. 상기 질산의 양은 네오디뮴에 대하여 0.06 몰 당량의 HNO3에 해당하였다. 혼합물을 교반하고, 고체의 존재가 더이상 시각적으로 구별되지 않을 때까지, 즉 이 경우 3시간 동안 80℃가 되도록 하였다. 혼합물을 냉각시켰다. 질산 잔류물을 제거하기 위해 물 20 g으로의 3회 세척을 연속적으로 수행하였다. 각 세척은 30분 동안의 교반 단계, 및 이후 30분 동안의 침강에 의한 분리 단계를 포함하였으나, 단 최종 침강에 의한 분리는 12시간 동안 지속하였다. 이에 따라, 18 g, 18 g 및 이후 23 g의 물을 연속적으로 회수하였다. 후속적으로, 물/MCH 공비혼합물을 딘 스탁 장치로 증류시켰다. 이에 따라 MCH 중 네오디뮴 디(2-에틸헥실)포스페이트 용액 100 g을 얻었다.
상기 용액은 투명한 외관, 용액 중 네오디뮴 함량 2.15％, 잔류 유리 산도 (DEHPA 중량 백분율로 표현됨) 3.0％, 및 수분 함량 72 ppm으로 특성화되었다. 이 경우에서, 몰 비는 다음과 같다: DEHPA/Nd = 0.62 및 물/Nd = 0.03. 반응 수율은 98％였다.
실시예 3
네오디뮴 72.4 중량％를 함유하는 네오디뮴 옥시드 3.03 g, 디(2-에틸헥실)인산 (DEHPA) 17.39 g, 메틸시클로헥산 (MCH) 80 g 및 1 mol/l의 염산 0.9 ml를 아르곤으로 미리 불활성화시킨 반응기에 도입하였다. 상기 염산의 양은 네오디뮴에 대하여 0.06 몰 당량의 HCl에 해당하였다. 혼합물을 교반하고, 3시간 동안 80℃가 되도록 하였다. 혼합물을 냉각시켰다. 염산 잔류물을 제거하기 위해 물 20 g으로의 3회 세척을 연속적으로 수행하였다. 각 세척은 30분 동안의 교반 단계, 및 이후 30분 동안의 침강에 의한 분리 단계를 포함하였으나, 단 최종 침강에 의한 분리는 12시간 동안 지속하였다. 후속적으로, 물/MCH 공비혼합물을 딘 스탁 장치로 증류시켰다. 이에 따라 MCH 중 네오디뮴 디(2-에틸헥실)포스페이트의 투명한 용액을 얻었다.
상기 용액은 투명한 외관, 용액 중 네오디뮴 함량 2.25％, 잔류 유리 산도 (DEHPA 중량 백분율로서 표현됨) 2.85％ 및 수분 함량 249 ppm으로 특성화되었다. 이 경우에서, 몰 비는 다음과 같다: DEHPA/Nd = 0.56 및 물/Nd = 0.09. 반응 수율은 100％였다.
실시예 4
네오디뮴 72.4 중량％를 함유하는 네오디뮴 옥시드 2.88 g, 네오디뮴 24.4 중량％를 함유하는 네오디뮴 니트레이트 수용액 0.53 g, 디(2-에틸헥실)인산 (DEHPA) 17.39 g 및 메틸시클로헥산 (MCH) 80 g을 아르곤으로 미리 불활성화시킨 반응기에 도입하였다. 혼합물을 교반하고, 고체가 완전히 사라질 때까지, 즉 이 경우 1시간 동안 80℃가 되도록 하였다. 혼합물을 냉각시켰다. 무기 잔류물을 제거하기 위해 물 20 g으로의 3회 세척을 연속적으로 수행하였다. 각각의 세척은 30분 동안의 교반 단계, 및 이후 30분 동안의 침강에 의한 분리 단계를 포함하였으나, 단 최종 침강에 의한 분리 단계에 대하여 12시간 동안 지속하였다. 후속적으로, 물/MCH 공비혼합물을 딘 스탁 장치로 증류시켰다. 이에 따라, MCH 중 네오디뮴 디(2-에틸헥실)포스페이트의 투명한 용액을 얻었다.
상기 용액은 투명한 외관, 용액 중 네오디뮴 함량 2.1％, 잔류 유리 산도 (DEHPA 중량 백분율로서 표현됨) 3.2％ 및 수분 함량 369 ppm으로 특성화되었다. 이 경우에서, 몰 비는 다음과 같다: DEHPA/Nd = 0.68 및 물/Nd = 0.14. 반응 수율은 99％였다.
실시예 5
네오디뮴 72.4 중량％를 함유하는 네오디뮴 옥시드 2.88 g, 네오디뮴 22.2 중량％를 함유하는 네오디뮴 클로라이드 수용액 0.58 g, 디(2-에틸헥실)인산 (DEHPA) 17.39 g 및 메틸시클로헥산 (MCH) 80 g을 아르곤으로 미리 불활성화시킨 반응기에 도입하였다. 혼합물을 교반하고, 5시간 동안 80℃가 되도록 하였다. 혼합물을 냉각시켰다. 무기 잔류물을 제거하기 위해 물 20 g으로의 3회 세척을 연속적으로 수행하였다. 각각의 세척은 30분 동안의 교반 단계, 및 이후 30분 동안의 침강에 의한 분리 단계를 포함하였으나, 단 최종 침강에 의한 분리는 12시간 동안 지속하였다. 후속적으로, 물/MCH 공비혼합물을 딘 스탁 장치로 증류시켰다. 이에 따라, MCH 중 네오디뮴 디(2-에틸헥실)포스페이트의 투명한 용액을 얻었다.
상기 용액은 투명한 외관, 용액 중 네오디뮴 함량 2.05％, 잔류 유리 산도 (DEHPA 중량 백분율로서 표현됨) 3.3％ 및 수분 함량 406 ppm으로 특성화되었다. 이 경우에서, 몰 비는 다음과 같다: DEHPA/Nd = 0.72 및 물/Nd = 0.16. 반응 수율은 98％였다.
실시예 6
네오디뮴 72.4 중량％를 함유하는 네오디뮴 옥시드 3.03 g, 디(2-에틸헥실)인산 (DEHPA) 16.15 g, 메틸시클로헥산 (MCH) 80 g 및 0.5 mol/l의 질산 1.8 ml를 아르곤으로 미리 불활성화시킨 반응기에 도입하였다. 상기 질산의 양은 네오디뮴에 대하여 0.06 몰 당량의 HNO3에 해당하였다. 혼합물을 교반하고, 고체의 존재가 더 이상 시각적으로 구별되지 않을 때까지, 즉 이 경우 3시간 동안 80℃가 되도록 하였다. 혼합물을 냉각시켰다. 무기 잔류물을 제거하기 위해 물 20 g으로의 3회 세척을 연속적으로 수행하였다. 각 세척은 30분 동안의 교반 단계, 및 이후 30분 동안의 침강에 의한 분리 단계를 포함하였다. 이에 따라, 20 g, 19.5 g 및 이후 19.5 g을 회수하였다. 후속적으로, 물/MCH 공비혼합물을 딘 스탁 장치로 증류시켰다. 이에 따라, 투명한 외관을 갖는 MCH 중 네오디뮴 디(2-에틸헥실)포스페이트의 용액을 얻었다. 이는 용액 중 네오디뮴 함량 2.05％, 잔류 유리 산도 (DEHPA 중량 백분율로서 표현됨) 1.59％, 및 수분 함량 209 ppm으로 특성화되었다. 이 경우에서, 몰 비는 다음과 같다: DEHPA/Nd = 0.34 및 물/Nd = 0.08. 반응 수율은 95％였다.
실시예 7
네오디뮴 72.4 중량％를 함유하는 네오디뮴 옥시드 3.03 g, 디(2-에틸헥실)인산 (DEHPA) 17.39 g, 메틸시클로헥산 (MCH) 80 g 및 99.8％ 아세트산 0.054 g을 아르곤으로 미리 불활성화시킨 반응기에 도입하였다. 상기 아세트산의 양은 네오디뮴에 대하여 0.06 몰 당량의 CH3COOH에 해당하였다. 혼합물을 교반하고, 고체의 존재가 더 이상 시각적으로 구별되지 않을 때까지, 즉 이 경우 1시간 동안 80℃가 되도록 하였다. 혼합물을 냉각시켰다. 무기 잔류물을 제거하기 위해 물 20 g으로의 3회 세척을 연속적으로 수행하였다. 각 세척은 30분 동안의 교반 단계, 및 이후 30분 동안의 침강에 의한 분리 단계를 포함하였으나, 단 최종 침강에 의한 분리 단계는 밤새 수행하였다. 이에 따라, 16 g, 24.2 g 및 이후 17.1 g을 회수하였다. 후속적으로, 물/MCH 공비혼합물을 딘 스탁 장치로 증류시켰다. 이에 따라, 투명한 외관을 갖는 MCH 중 네오디뮴 디(2-에틸헥실)포스페이트의 용액을 얻었다. 이는 용액 중 네오디뮴 함량 2.3％, 잔류 유리 산도 (DEHPA 중량 백분율로서 표현됨) 2.65％, 및 수분 함량 77 ppm으로 특성화되었다. 이 경우에서, 몰 비는 다음과 같다: DEHPA/Nd = 0.51 및 물/Nd = 0.026. 반응 수율은 100％였다.
Claims (10)
- 희토류의 옥시드, 히드록시드, 카르보네이트 및 히드록시카르보네이트로부터 선택된 희토류 화합물을 유기 용매의 존재 하에 유기아인산과 반응시키며, 상기 반응이 질산, 염산, 아세트산, 포름산 및 프로피온산, 및 이들 산의 희토류 염으로부터 선택된 촉진제의 존재 하에 수행되는 것을 특징으로 하는, 유기 용매 중 희토류 유기포스페이트 용액의 제조 방법.
- 제1항에 있어서, 인산 모노에스테르 또는 디에스테르, 포스폰산 및 포스핀산으로부터 선택된 유기아인산을 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 탄화수소-계 용매를 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 네오디뮴, 란탄, 프라세오디뮴, 사마륨 및 세륨으로부터 선택된 희토류 원소의 유기포스페이트를 제조하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 희토류 화합물과 유기아인산과의 반응을 60℃ 이상의 온도에서 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 유기아인산과의 반응을 위한 희토류 화합물로서 옥시드를 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제3항에 있어서, 지방족 또는 지환족 용매를 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 희토류의 옥시드, 히드록시드, 카르보네이트 및 히드록시카르보네이트로부터 선택된 희토류 화합물을 유기 용매의 존재 하에 유기아인산과 반응시키며, 상기 반응이 촉진제로서 25 이상의 양 (물/희토류 몰 비로 표현됨)의 물의 존재 하에 수행되는 것을 특징으로 하는, 유기 용매 중 희토류 유기포스페이트 용액의 제조 방법.
- 제8항에 있어서, 물/희토류 몰 비가 50 이상인 방법.
- 제8항에 있어서, 물/희토류 몰 비가 90 이상인 방법.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR0705766 | 2007-08-08 | ||
| FR0705766A FR2919871B1 (fr) | 2007-08-08 | 2007-08-08 | Procede de preparation d'une solution d'un organophosphate de terre rare dans un solvant organique |
| PCT/EP2008/058849 WO2009019100A1 (fr) | 2007-08-08 | 2008-07-08 | Procede de preparation d'une solution d'un organophosphate de terre rare dans un solvant organique |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20100031761A KR20100031761A (ko) | 2010-03-24 |
| KR101239493B1 true KR101239493B1 (ko) | 2013-03-06 |
Family
ID=38828477
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020107002659A KR101239493B1 (ko) | 2007-08-08 | 2008-07-08 | 유기 용매 중 희토류 유기포스페이트 용액의 제조 방법 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8404821B2 (ko) |
| EP (1) | EP2178887B1 (ko) |
| JP (1) | JP5394379B2 (ko) |
| KR (1) | KR101239493B1 (ko) |
| CN (2) | CN103145756B (ko) |
| BR (1) | BRPI0814019B1 (ko) |
| FR (1) | FR2919871B1 (ko) |
| PL (1) | PL2178887T3 (ko) |
| RU (1) | RU2441013C2 (ko) |
| WO (1) | WO2009019100A1 (ko) |
| ZA (1) | ZA201000825B (ko) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7906631B2 (en) * | 2007-10-15 | 2011-03-15 | Bridgestone Corporation | Method of producing rare earth salt of dialkyl phosphate or dioleyl phosphate |
| FR2945803B1 (fr) * | 2009-05-19 | 2011-07-29 | Michelin Soc Tech | Procede de synthese d'un organophosphate de terre rare et son utilisation pour la preparation d'un systeme calalytique "preforme" |
| RU2534012C1 (ru) * | 2013-07-17 | 2014-11-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева" | Способ получения лантаноидной соли ди-(2-этилгексил)фосфорной кислоты |
| KR101656126B1 (ko) * | 2013-09-30 | 2016-09-08 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 네오디뮴 화합물 및 이를 포함하는 디엔 중합용 촉매 |
| RU2540083C1 (ru) * | 2013-11-13 | 2015-01-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Ордена Ленина и ордена Трудового Красного Знамени научно-исследовательский институт синтетического каучука имени академика С.В. Лебедева" (ФГУП "НИИСК") | Способ получения раствора диалкилфосфата гадолиния-компонента катализаторов (со) полимеризации сопряженных диенов |
| CN116023533A (zh) * | 2021-10-25 | 2023-04-28 | 中国石油化工股份有限公司 | 膦酸酯钕溶液及其制备方法和应用 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0092421A2 (en) * | 1982-04-19 | 1983-10-26 | Xerox Corporation | Improvements in ink jet droplet exciters |
| WO2000064910A1 (en) * | 1999-04-26 | 2000-11-02 | Rhodia Electronics And Catalysis Inc. | Stable solutions of rare earth tris (organophosphorus-derivatives) |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3702233A (en) * | 1971-08-11 | 1972-11-07 | Gte Sylvania Inc | Yttrium purification |
| US6197713B1 (en) * | 1997-12-19 | 2001-03-06 | Bridgestone Corporation | Use of Lewis acids for the breakdown of gelatinous rare earth compounds in hydrocarbon solutions |
| JP3010039B1 (ja) * | 1998-08-18 | 2000-02-14 | 奇美実業股▲分▼有限公司 | ランタニド系金属カルボン酸塩の製造方法、及びそのジエン系単量体の重合用触媒としての使用 |
| US6767927B1 (en) * | 1999-04-26 | 2004-07-27 | Rhodia Rare Earths Inc. | Synthesis of stable solutions of rare earth tris (organophosphate) in hydrocarbon solvents |
| KR101010865B1 (ko) * | 2002-05-16 | 2011-01-26 | 미쉐린 러쉐르슈 에 떼크니크 에스.에이. | 폴리부타디엔 제조용 촉매 시스템 및 폴리부타디엔의제조방법 |
| US7906631B2 (en) * | 2007-10-15 | 2011-03-15 | Bridgestone Corporation | Method of producing rare earth salt of dialkyl phosphate or dioleyl phosphate |
-
2007
- 2007-08-08 FR FR0705766A patent/FR2919871B1/fr active Active
-
2008
- 2008-07-08 RU RU2010108164/04A patent/RU2441013C2/ru active
- 2008-07-08 CN CN201310014805.7A patent/CN103145756B/zh active Active
- 2008-07-08 WO PCT/EP2008/058849 patent/WO2009019100A1/fr active Application Filing
- 2008-07-08 PL PL08774893T patent/PL2178887T3/pl unknown
- 2008-07-08 CN CN2008801023484A patent/CN101778853B/zh active Active
- 2008-07-08 KR KR1020107002659A patent/KR101239493B1/ko active IP Right Grant
- 2008-07-08 JP JP2010519403A patent/JP5394379B2/ja active Active
- 2008-07-08 BR BRPI0814019-7A patent/BRPI0814019B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2008-07-08 US US12/671,323 patent/US8404821B2/en active Active
- 2008-07-08 EP EP08774893.5A patent/EP2178887B1/fr active Active
-
2010
- 2010-02-04 ZA ZA201000825A patent/ZA201000825B/xx unknown
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0092421A2 (en) * | 1982-04-19 | 1983-10-26 | Xerox Corporation | Improvements in ink jet droplet exciters |
| WO2000064910A1 (en) * | 1999-04-26 | 2000-11-02 | Rhodia Electronics And Catalysis Inc. | Stable solutions of rare earth tris (organophosphorus-derivatives) |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20100031761A (ko) | 2010-03-24 |
| JP2010535729A (ja) | 2010-11-25 |
| CN103145756B (zh) | 2015-05-27 |
| RU2441013C2 (ru) | 2012-01-27 |
| RU2010108164A (ru) | 2011-09-20 |
| PL2178887T3 (pl) | 2015-11-30 |
| US20100280264A1 (en) | 2010-11-04 |
| FR2919871B1 (fr) | 2010-04-23 |
| CN101778853A (zh) | 2010-07-14 |
| CN103145756A (zh) | 2013-06-12 |
| BRPI0814019B1 (pt) | 2017-06-13 |
| WO2009019100A1 (fr) | 2009-02-12 |
| FR2919871A1 (fr) | 2009-02-13 |
| BRPI0814019A2 (pt) | 2015-02-03 |
| CN101778853B (zh) | 2013-03-06 |
| EP2178887B1 (fr) | 2015-06-03 |
| ZA201000825B (en) | 2010-10-27 |
| JP5394379B2 (ja) | 2014-01-22 |
| EP2178887A1 (fr) | 2010-04-28 |
| US8404821B2 (en) | 2013-03-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101239493B1 (ko) | 유기 용매 중 희토류 유기포스페이트 용액의 제조 방법 | |
| KR101265389B1 (ko) | 희토류 유기포스페이트 용액의 제조 방법 | |
| CN112458282A (zh) | 磷酰基羧酸或其盐用于分离钇的用途和方法 | |
| US6767927B1 (en) | Synthesis of stable solutions of rare earth tris (organophosphate) in hydrocarbon solvents | |
| KR101882517B1 (ko) | 알킬 포스페이트의 제조 방법 | |
| EP1173448B1 (en) | Stable solutions of rare earth tris (organophosphorus-derivatives) | |
| US3053809A (en) | Phosphine-metal compound catalyst | |
| JP3871915B2 (ja) | リン酸モノエステルの製造法 | |
| CN115433842B (zh) | 含磷氨基酸化合物及其用于萃取分离钇的用途 | |
| JP2007326819A (ja) | リン酸モノエステルの製造法 | |
| JP4102222B2 (ja) | リン酸ジエステルの製造方法 | |
| JPH032190A (ja) | 第２酸化ホスフアンの製法 | |
| CA2763909A1 (en) | Process for preparing alkyl phosphates | |
| JPH11310546A (ja) | 錫触媒の除去による置換ヒドロキシヒドロ桂皮酸エステルの改良された製造方法 | |
| JPH10310592A (ja) | リン含有ペンタエリスリトール系へテロ化合物の製造方法 | |
| CN1834102A (zh) | 含磷烷氧基化产品的制备 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E90F | Notification of reason for final refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160127 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170201 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180201 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190129 Year of fee payment: 7 |