KR101162108B1 - 반력 처리 기구 - Google Patents

Abstract

[과제] 정반의 진동을 억제함과 동시에, 스테이지 장치를 소형화한다.
[해결 수단] 기구(50)에서는, 프레임(21)으로 샤프트부(12x)가 가대(2)에 연결됨과 동시에, 가이드(22)로 샤프트부(12x)가 정반(4)에 대해서 X축 방향으로 상대 이동 가능하게 되어, 정반(4)과 X축 샤프트부(12x) 사이에서 X축 반력이 도피된다. 따라서 X축 반력이 샤프트부(12x)에 가해지면, 이 X축 반력은 정반(4)에 전달되지 않고 가대(2)로 전달된다. 또, Y축 및 Z축 방향에 있어서의 샤프트부(12x)와 정반(4)의 상대 이동이 가이드(22)로 규제되기 때문에, 이들의 위치 관계가 유지된다. 또한, 샤프트부(12x)가 도피 기구(24)를 통해 가대(2)에 연결되기 때문에, 예를 들면 가대(2)에 가해지는 외력으로 샤프트부(12x)가 어긋나는 것이 억제된다. 따라서 샤프트부(12x)와 코일부(13x)의 간격을 크게 할 필요 없이 이러한 접촉을 억제할 수 있다.

Description

반력 처리 기구{Reaction force treating appliance}

본 발명은 스테이지 장치에 사용되는 반력 처리 기구 및 이를 구비하는 스테이지 장치, 프로버 장치에 관한 것이다.

종래의 반력 처리 기구로는 제진 유닛을 개재시켜 지지되는 정반과, 정반 상에 지지되어 그 정반 상을 이동하는 이동체와, 이동체를 한 방향으로 구동하는 액츄에이터를 구비하는 스테이지 장치에 사용되는 것이 알려져 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조). 이러한 반력 처리 기구에서는 액츄에이터의 고정자를 지지수단으로 바닥에 연결하는 것에 의해 액츄에이터에 의한 구동으로 고정자에 가해지는 반력을 바닥으로 전달시켜, 정반의 진동을 억제하는 것이 꾀해져 있다.

일본 특허 공보 제2714502호

그러나 상기 반력 처리 기구에서는, 전술한 바와 같이 액츄에이터의 고정자를 바닥에 연결하기 때문에 스테이지 장치의 풋프린트가 커져 스테이지 장치가 대형화될 우려가 있다.

또한, 상기와 같은 반력 처리 기구에 있어서는, 예를 들어 액츄에이터로서 리니어 모터를 사용했을 경우, 고정자(또는 그 지지부)가 정반과는 별도로 설치되는 한편, 정반에 지지된 이동체에 액츄에이터의 가동자가 설치되기 때문에, 외력 등의 영향에 의해 정반과 고정자 사이에 상대 변위가 생기면 가동자와 고정자 사이에 상대 변위가 생기게 되어 이들이 접촉할 우려가 있다. 따라서 이와 같은 경우에 이러한 접촉을 회피하기 위해 고정자와 가동자의 간격을 크게 할 필요가 있기 때문에 액츄에이터가 대형화되고, 나아가서는 스테이지 장치가 대형화될 우려가 있다.

그래서 본 발명은, 정반의 진동을 억제함과 동시에 스테이지 장치를 소형화할 수 있는 반력 처리 기구를 제공하는 것을 과제로 한다.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명과 관련된 반력 처리 기구는, 가대와, 가대에 제진 유닛을 개재시켜 지지되는 정반과, 정반 상에 지지되어 그 정반 상을 이동하는 이동체와, 이동체를 한 방향으로 구동하는 액츄에이터를 구비하는 스테이지 장치에 사용되는 반력 처리 기구로서, 한 방향과는 다른 방향의 변위를 흡수하는 도피 기구를 개재하여 액츄에이터의 고정자를 가대에 연결하는 연결부와, 정반에 대한 액츄에이터의 고정자의 상대 이동을 한 방향과는 다른 방향으로는 규제하고, 한 방향으로는 이동이 가능하도록 가이드하는 가이드부를 구비한 것을 특징으로 한다.

본 발명의 반력 처리 기구에서는 연결부에 의해 액츄에이터의 고정자(이하, 간단히「고정자」라고 한다)가 가대에 연결되어 있다. 또, 가이드부에 의해 고정자가 정반에 대해 한 방향으로 상대 이동 가능하게 가이드되어 있다. 정반과 고정자 사이에서 한 방향의 힘이 도피되도록 되어 있다. 따라서 액츄에이터에 의한 구동으로 액츄에이터의 고정자에 한 방향의 반력이 가해지면, 이 반력은 정반에 전달되지 않고 가대에 전달되어 처리된다. 즉, 정반에 반력이 전달되는 것을 억제하면서, 예를 들면 고정자를 바닥에 연결할 필요가 없어지므로, 스테이지 장치의 풋프린트를 축소할 수 있게 된다.

여기서, 본 발명에서는, 한 방향과는 다른 방향에서 고정자가 정반에 고정되게 되어, 한 방향과는 다른 방향에 대해 이동하는 가동자와 고정자의 상대 변위가 거의 없어진다. 따라서, 고정자와 가동자의 접촉을 방지할 수 있다. 게다가 고정자가 도피 기구를 개재하여 가대에 연결되어 있기 때문에 가대와 고정자 사이에서 한 방향과는 다른 방향의 힘이 도피되고, 고정자와 가대를 연결하는 부재에 발생하는 응력을 도피시킬 수 있다. 예를 들면 가대에 가해진 외력(또는 반력에 의한 진동)에 의해 가대와 가대에 제진 유닛을 개재시켜 지지된 정반이 한 방향과는 다른 방향으로 어긋났다고 해도(변위되었다고 해도), 이 어긋남으로 고정자와 가대를 연결하는 부재에 가해지는 응력을 도피시킬 수 있다. 또한 그 변위를 고정자에 전달시키는 것을 방지할 수 있다. 따라서 본 발명에 의하면 추가로, 고정자와 가대를 연결하는 부재의 수명을 늘려 러닝 코스트를 줄이고, 가동자와 고정자의 접촉을 더욱 방지할 수 있다.

또한, 가대와, 그 가대에 제진 유닛을 개재시켜 지지되는 정반과, 정반 상에 지지되어 그 정반 상을 이동하는 제1 및 제2 이동체와, 제1 이동체를 제1 방향으로 구동하는 제1 액츄에이터와, 제2 이동체를 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 구동하는 제2 액츄에이터를 구비하는 스테이지 장치에 사용되는 반력 처리 기구로서, 제1 방향과는 다른 방향의 변위를 흡수하는 제1 도피 기구를 개재하여, 제1 액츄에이터의 고정자를 가대에 연결하는 제1 연결부와, 제2 방향과는 다른 방향의 변위를 흡수하는 제2 도피 기구를 개재하여, 제2 액츄에이터의 고정자를 가대에 연결하는 제2 연결부와, 정반에 대한 제1 액츄에이터의 고정자의 상대 이동을 제1 방향과는 다른 방향으로 규제하면서 제1 방향으로 가이드하는 제1 가이드부와, 정반에 대한 제2 액츄에이터의 고정자의 상대 이동을 제2 방향과는 다른 방향으로 규제하면서 제2 방향으로 가이드하는 제2 가이드부를 구비한 것을 특징으로 한다.

본 발명의 반력 처리 기구에서는, 상기 반력 처리 기구와 동일한 다음의 작용 효과를 나타낸다. 즉, 제1 및 제2 액츄에이터의 구동에 의해 이들의 각 고정자에 가해지는 반력의 각각이 정반에 전달되지 않고 가대에 전달되어 처리되기 때문에, 정반의 진동을 억제하면서 풋프린트를 축소할 수 있게 된다. 또한, 제1 및 제2 액츄에이터의 각각에서 고정자와 가동자 사이에 상대 변위가 발생하는 것을 억제할 수 있어, 고정자와 가동자의 간격을 크게 하지 않고 고정자와 가동자의 접촉을 억제할 수 있다. 따라서, 본 발명에 있어서도, 정반의 진동을 억제함과 동시에 스테이지 장치를 소형화할 수 있게 된다.

또한, 제2 이동체는, 제1 이동체 상을 이동하는 것이며, 제2 액츄에이터의 고정자를 지지하는 지지 기구를 더욱 구비하고, 지지 기구는, 제2 방향에 있어서의 제2 액츄에이터의 고정자의 제1 이동체에 대한 상대 이동을 가능하게 함과 동시에 제1 방향에 있어서의 그 고정자와 제1 이동체의 동기 이동을 가능하게 하도록 구성되어 있는 것이 바람직하다. 이와 같이 구성함으로써, 본 발명의 반력 처리 기구를 이른바 스택형 스테이지 장치에 사용할 수 있다.

이 때, 지지 기구는, 정반 상에 배치된 베이스부와, 베이스부 상에 배치되어, 제2 액츄에이터의 고정자가 고정된 고정 블록부와, 베이스부에 대한 고정 블록부의 상대 이동을 제2 방향으로 규제하면서 제1 방향으로 가이드하는 제1 지지 기구 가이드부와, 제1 이동체에 대한 고정 블록부의 상대 이동을 제1 방향으로 규제하면서 제2 방향으로 가이드하는 제2 지지 기구 가이드부를 포함하고, 제2 연결부는, 제2 도피 기구를 개재하여 가대와 베이스부를 연결하고, 제2 가이드부는, 정반과 베이스부 사이에 설치되는 경우가 있다.

또한 액츄에이터는 샤프트 모터인 것이 바람직하다. 액츄에이터로서 샤프트 모터를 사용하는 경우 그 고정자와 가동자 사이의 간격이 좁기 때문에 고정자와 가동자의 접촉을 억제하는 상기의 작용 효과가 현저히 나타난다.

또한, 본 발명에 의한 반력 처리 기구는, 가대와, 가대에 제진 유닛을 개재시켜 지지되는 정반과, 정반 상에 지지되어 그 정반 상을 이동하는 이동체와, 이동체를 한 방향으로 구동하는 액츄에이터를 구비하는 스테이지 장치에 사용되는 반력 처리 기구로서, 액츄에이터의 고정자를 가대에 연결하는 연결부와, 정반에 대한 액츄에이터의 고정자의 상대 이동을 한 방향과는 다른 방향으로 규제하면서 한 방향으로 허용하는 고정자 지지부를 구비하며, 고정자 지지부는, 액츄에이터의 고정자가 이동하려고 하는 힘을, 한 방향에 대해서는 가대에 전달시키고, 한 방향과 다른 방향에 대해서는 정반에 전달시키는 것을 특징으로 한다.

이 반력 처리 기구에서는, 액츄에이터가 이동체를 한 방향으로 이동시킨 경우에 고정자에 발생하는 반력을 가대에 전달시키는 것에 의해 정반에 반력이 전달되는 것을 저감시킬 수 있다. 또한, 이동체가 한 방향과는 다른 방향으로 이동했을 경우 및 외력의 영향으로 정반이 진동했을 경우에도, 한 방향과는 다른 방향에 대해서 고정자의 정반에 대한 상대 이동을 규제하고, 고정자가 이동하려고 하는 힘을 정반으로 받을 수 있다. 이로써, 정반에 설치된 가동자와 고정자의 상대 변위를 억제할 수 있어 이들의 접촉을 방지할 수 있게 된다.

또한, 연결부는, 한 방향과 다른 방향의 변위를 흡수하는 도피 기구를 가지며, 액츄에이터의 고정자와 가대 사이에서 발생하는 변위를 허용하는 것이 바람직하다. 이로 인해 정반과 가대가 상대 변위하였을 경우, 즉 고정자와 가대 사이에 상대 변위가 있었던 경우에도, 연결부에 가해지는 응력을 저감시키고, 게다가 고정자에서 발생하는 한 방향에 대한 반력을 가대에 전달하여 반력 처리할 수 있다.

본 발명에 의하면, 정반의 진동을 억제함과 동시에 스테이지 장치를 소형화할 수 있게 된다.

[도 1] 본 발명의 일 실시 형태에 의한 반력 처리 기구가 사용된 스테이지 장치를 나타내는 사시도이다.
[도 2] 도 1의 스테이지 장치를 나타내는 개략상면도이다.
[도 3] 도 1의 스테이지 장치를 나타내는 측면도이다.
[도 4] 도 2의 IV－IV선을 따른 단면도이다.
[도 5] 본 실시 형태의 X축 반력 처리 기구를 나타내는 사시도이다.
[도 6] 도 5의 X축 반력 처리 기구의 X축 도피 기구를 나타내는 사시도이다.
[도 7] 본 실시 형태의 Y축 반력 처리 기구를 나타내는 사시도이다.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 적합한 실시 형태에 대해 상세하게 설명한다. 또한, 이하의 설명에 있어서 동일 또는 상당 요소에는 동일 부호를 사용하고 중복되는 설명은 생략한다.

도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 의한 반력 처리 기구가 사용된 스테이지 장치를 나타내는 사시도, 도 2는 도 1의 스테이지 장치를 나타내는 개략상면도, 도 3은 도 1의 스테이지 장치를 나타내는 측면도, 도 4는 도 2의 IV－IV선을 따른 단면도이다.

도 1 내지 도 4에 나타낸 바와 같이 스테이지 장치(1)는, 예를 들면 반도체를 검사 및 노광하기 위한 반도체 검사 및 노광 장치에 장착되어, 현미경이나 카메라 등의 광학계 프레임(도시 생략)과 대향하여 배치되는 반도체 웨이퍼의 위치 조정에 사용되는 XY스테이지 장치이다.

이 스테이지 장치(1)는 도 1에 나타낸 바와 같이 가대(2)와, 가대(2)에 제진 유닛(3)을 개재시켜 지지된 정반(4)과, 정반(4) 상에서 이동하는 X축 이동체(제1 이동체)(5) 및 Y축 이동체(제2 이동체)(6)를 구비하고, X축 이동체(5) 상에서 Y축 이동체(6)가 지지되어 이동되는 이른바 스택형 스테이지 장치이다.

가대(2)는 스테이지 장치(1)의 기초가 되는 하부 구조이며, 예를 들면 공장의 바닥면(F)(도 3 참조) 등에 세워지는 4개의 다리부(2a)를 가진다.

제진 유닛(3)은 가대(2)와 정반(4) 사이에서 전파되는 진동을 감쇠해 제거하는 것으로, 예를 들면 에어 스프링이나 고무 등의 탄성재를 포함하여 구성되어 있다. 이 제진 유닛(3)은 가대(2)의 다리부(2a)의 상단부에 고정되어 있다.

정반(4)은 예를 들면 석재로 형성된 직육면체 형상을 나타내며, 제진 유닛(3)의 상단부에 고정되어 있다. 이 정반(4)의 반면(4a)은 평면 가공되어 그 평면도가 향상되어 있다.

X축 이동체(5)는 정반(4) 상에서 수평 방향의 한 방향인 하축 방향으로서의 X축 방향(제1 방향)을 따라 이동하는 것이다. 도 3에 나타낸 바와 같이 이 X축 이동체(5)는 긴 판형상을 나타내고, 그 하면 측에 설치된 한 쌍의 X축 슬라이더(7a, 7a)를 가진다. X축 슬라이더(7a, 7a)는 정반(4) 상에 설치되어 X축 방향으로 연장되어 있는 한 쌍의 X축 가이드 레일(7b, 7b)에 맞물려 있다. 이로써, X축 이동체(5)에 있어서는, 반면(4a) 상에서 연직 방향인 Z축 방향으로 지지됨과 동시에 X축 가이드 레일(7b)을 따라 활주할 수 있게, 즉 X축 방향으로 이동 가능하게 되어 있다.

도 4에 나타낸 바와 같이 Y축 이동체(6)는 X축 이동체(5) 상에서 수평 방향에 있어서의 X축 방향의 직교 방향인 상축 방향으로서의 Y축 방향(제2 방향)을 따라 이동하는 것이다. 이 Y축 이동체(6)는, 직사각형 판상을 나타내며, 그 하면 측에 설치된 한 쌍의 Y축 슬라이더(8a, 8a)를 갖는다. Y축 슬라이더(8a, 8a)는 X축 이동체(5) 상에 설치되어 Y축 방향으로 연장되어 있는 한 쌍의 Y축 가이드 레일(8b, 8b)에 맞물려 있다. 이로써, Y축 이동체(6)에 있어서는 X축 이동체(5) 상에서 Z축 방향으로 지지됨과 동시에, Y축 가이드 레일(8b)을 따라 활주할 수 있게, 즉 Y축 방향으로 이동 가능하게 되어 있다.

또한, 도 1에 나타낸 바와 같이 스테이지 장치(1)는 X축 샤프트 모터(제1 액츄에이터)(11x)와 Y축 샤프트 모터(제2 액츄에이터)(11y)를 구비하고 있다.

도 4에 나타낸 바와 같이 X축 샤프트 모터(11x)는 X축 이동체를 X축 방향으로 구동하는 액츄에이터이며, 고정자로서의 X축 샤프트부(12x)와 가동자로서의 X축 코일부(13x)를 포함하여 구성되어 있다.

X축 샤프트부(12x)는 그 내부에 자석을 포함하고, 정반(4) 상의 중앙 위치에서 X축 방향을 따라 연장되어 있다. 이 X축 샤프트부(12x)의 양 단부는, X축 리니어 가이드(제1 가이드부, 고정자 지지부)(22)로 X축 방향의 이동이 가이드된 X축 고정 블록(23)에 고정되어 있음과 동시에, X축 리액션 프레임(제1 연결부)(21)을 따라 가대(2)에 X축 도피 기구(제1 도피 기구)(24)를 개재하여 연결되어 있다 (자세한 것은 후술한다).

X축 코일부(13x)는 X축 샤프트부(12x)를 따라 가동되는 것이며, 그 내부에 X축 샤프트부(12x)를 둘러싸는 코일을 포함하고 있다. 이 X축 코일부(13x)는 X축 샤프트부(12x)에 소정의 간격을 두고 외삽되어 있음과 동시에 X축 이동체(5)의 하면 측에 고정되어 있다.

이로써 X축 샤프트 모터(11x)에서는, X축 코일부(13x)에 소정의 전류가 인가되면, 이 X축 코일부(13x)가 전자 상호 작용에 의해 X축 방향으로 이동되고, 그 결과 X축 이동체(5)가 X축 방향으로 구동되게 된다.

Y축 샤프트 모터(11y)는 Y축 이동체(6)를 Y축 방향으로 구동하는 액츄에이터이며, 상기 X축 샤프트 모터(11x)와 마찬가지로 고정자로서의 Y축 샤프트부(12y)와 가동자로서의 Y축 코일부(13y)를 포함하여 구성되어 있다.

도 1에 나타낸 바와 같이 Y축 샤프트부(12y)는 그 내부에 자석을 포함하고, X축 방향에 있어서의 X축 이동체(5)의 일방측에서 Y축 방향을 따라 연장되어 있다. 이 Y축 샤프트부(12y)의 일단부(도면 중 좌단부)는, Y축 리니어 가이드(제2 가이드부, 고정자 지지부)(32)로 Y축 방향의 이동이 가이드된 Y축 샤프트부 지지 기구(지지 기구)(40)에 지지되어 있음과 동시에, Y축 리액션 프레임(제2 연결부)(31)에 의해 가대(2)에 Y축 도피 기구(제2 도피 기구)(34)를 개재하여 연결되어 있다 (자세한 것은 후술한다). 또, Y축 샤프트부(12y)의 타단부(도면 중 우측)는 X축 이동체(5)에 고정되어 있다.

Y축 코일부(13y)는 Y축 샤프트부(12y)를 따라 가동되는 것이며, 그 내부에 Y축 샤프트부(12y)를 둘러싸는 코일을 포함하고 있다. 이 Y축 코일부(13y)는, Y축 샤프트부(12y)에 소정의 간격을 두고 외삽되어 있음과 동시에 Y축 이동체(6)에 있어서 X축 방향의 일방측의 하면에 고정되어 있다.

이로써 Y축 샤프트 모터(11y)에서는, Y축 코일부(13y)에 소정의 전류가 인가되면, 이 Y축 코일부(13y)가 전자 상호 작용에 의해 Y축 방향으로 이동되고, 그 결과 Y축 이동체(6)가 Y축 방향으로 구동되게 된다.

또한, 스테이지 장치(1)는 예를 들어 레이저광을 사용해 이동체(5, 6)의 각각의 위치를 검출하는 리니어 스케일(도시 생략)을 구비하고 있다.

여기서, 스테이지 장치(1)에 있어서는 상기 서술한 것처럼 반력 처리 기구(50)가 사용되고 있다. 반력 처리 기구(50)는 X축 샤프트 모터(11x)의 구동으로 X축 샤프트부(12x)에 가해지는 반력(이하,「X축 반력」이라고 한다)을 처리하는 X축 반력 처리 기구(20)를 구비하고 있다. 또한, 여기서의 X축 반력은, 구체적으로는, X축 샤프트 모터(11x)가 X축 이동체(5)에 부여하는 추력의 반작용으로서의 힘이며, X축 방향을 힘의 방향으로 하는 것이다.

도 5는 본 실시 형태의 X축 반력 처리 기구를 나타내는 사시도이며, 도 6은 도 5의 X축 반력 처리 기구의 X축 도피 기구를 나타내는 사시도이다. 도 5에 나타낸 바와 같이 이 X축 반력 처리 기구(20)는 X축 샤프트부(12x)의 양 단부 각각에 장착되어 있고, X축 리액션 프레임(21)과 X축 리니어 가이드(22)를 갖는다.

X축 리액션 프레임(21)은, 도 4에 나타낸 바와 같이 X축 샤프트부(12x)에 가해지는 X축 반력을 가대(2)에 전달시키는 것이다. 이 X축 리액션 프레임(21)은, Z축 방향으로 연장되어 있는 판형상을 나타내고 있고, X축 샤프트부(12x)의 단부를 가대(2)에 연결하여 고정한다. 여기에서는, X축 샤프트부(12x)의 양 단부에 장착된 각 X축 반력 처리 기구(20, 20)에 있어서 X축 리액션 프레임(21, 21)이 X축 샤프트부(12x)의 양 단부를 협지하도록 구성되어 있고, X축 리액션 프레임(21, 21)은, X축 방향의 자유도를 구속하도록 X축 샤프트부(12x)의 양 단부를 가대(2)에 연결한다.

이 X축 리액션 프레임(21)은, 구체적으로는, 그 하단부가 가대(2)의 다리부(2a)에 걸치도록 설치된 반력 받이 부재(25)를 개재하여 가대(2)에 고정되어 있다. 반력 받이 부재(25)는, 전달된 반력을 받기 위해 바람직하게 X축 방향을 법선 방향으로 하는 반력 받이면(25a)을 갖는다(도 1 참조).

한편, X축 리액션 프레임(21)의 상단부는, X축 고정 블록(23)에 고정된 스테이(26)에 X축 도피 기구(24)를 개재하여 고정되어 있다. X축 도피 기구(24)는 X축 방향과는 다른 방향의 변위를 흡수하는 것이다. 여기서는, X축 도피 기구(24)는 X축 방향 이외의 5자유도를 갖고, X축 방향 이외의 방향의 변위를 흡수한다(즉, 정반(4)과 가대(2)의 상호 위치 변위를 흡수한다). 보다 구체적으로는, 이 X축 도피 기구(24)는, 이하와 같이 구성되어 있다.

즉, 도 6에 나타낸 바와 같이, X축 도피 기구(24)에서는, 한 쌍의 블록부(24a, 24b)가 그 사이에 구체(24c)를 개재시켜 X축 방향으로 나란히 설치됨과 동시에 볼트(24d)로 블록부(24a, 24b)가 서로 눌리고, 블록부(24a, 24b)가 구체(24c)를 중심으로 하여 X축, Y축 및 Z축 둘레의 회전 방향 θx, θy, θz으로 상대 회전 가능하게 되어 있다. 이로 인해 회전 방향 θx, θy, θz의 변위가 흡수된다.

또한, 블록부(24a)와 X축 리액션 프레임(21) 사이에 Z축 가이드부 (24e)가 설치되어, 블록부(24a)가 X축 리액션 프레임(21)에 대해 Z축 방향으로 상대 이동 가능하게 하여 고정되어 있다. 이것에 의해 Z축 방향의 변위가 흡수된다. 그리고, 블록부(24b)와 스테이(26) 사이에 Y축 가이드부(24f)가 설치되어, 블록부(24b)가 스테이(26)에 대해 Y축 방향으로 상대 이동 가능하게 하여 고정되어 있다. 이로써 Y축 방향의 변위가 흡수된다.

또한, X축 도피 기구(24)에서는 블록부(24b)에 있어서 볼트(24d)가 삽입 관통되는 관통공(24g)의 직경이 볼트(24d)의 직경보다 크게 되어 있어, 이로 인해 블록부(24a, 24b)의 상대 회전이 저해되는 것을 방지할 수 있다. 또, 스프링(24h)에 의해 블록부(24b)가 블록부(24a)를 향해 탄성지지되어 있어, 이로 인해 블록부(24a, 24b)의 상대 회전 시에 구체(24c)의 탈락을 방지할 수 있다.

도 5에 나타낸 바와 같이 X축 리니어 가이드(22)는 정반(4)에 대한 X축 샤프트부(12x)의 상대 이동을 X축 방향과는 다른 방향으로 규제하면서 X축 방향으로 가이드하는 것이다. 이 X축 리니어 가이드(22)는, 정반(4)에 고정되어 X축 방향을 따라 연장되어 있는 한 쌍의 X축 가이드 레일(22a, 22a)과, X축 고정 블록(23)에 고정되어 각 X축 가이드 레일(22a, 22a)에 Y축 및 Z축 방향으로 맞물리는 한 쌍의 X축 슬라이더(22b, 22b)를 포함하고 있다.

이로써, X축 리니어 가이드(22)는 X축 고정 블록(23)을 X축 방향으로만 가동으로 하는 직동안내기구로서 기능하고, X축 고정 블록(23)의 X축 방향 이외의 방향 (즉, Y축 및 Z축 방향)의 가동을 규제한다. 바꿔 말하자면, X축 리니어 가이드(22)는, X축 샤프트부(12x)의 X축 방향 이외의 자유도를 구속한다.

도 1로 돌아가, 본 실시 형태의 반력 처리 기구(50)는, Y축 샤프트 모터(11y)의 구동으로 Y축 샤프트부(12y)에 가해지는 반력(이하, 「Y축 반력」이라고 한다)을 처리하는 Y축 반력 처리 기구(30)를 더욱 구비하고 있다. 또한, 여기에서의 Y축 반력은, 구체적으로는 Y축 샤프트 모터(11y)가 Y축 이동체(6)에 부여하는 추력의 반작용으로서의 힘이며, Y축 방향을 힘의 방향으로 하는 것이다.

도 7은 본 실시 형태의 Y축 반력 처리 기구를 나타내는 사시도이다. 도 7에 나타낸 바와 같이 Y축 반력 처리 기구(30)는, Y축 리액션 프레임(31) 및 Y축 리니어 가이드(32)를 가짐과 함께, Y축 샤프트부(12y)를 지지하는 Y축 샤프트부 지지 기구(40)를 갖는다.

Y축 리액션 프레임(31)은 Y축 샤프트부(12y)에 가해지는 Y축 반력을 가대(2)에 전달시키는 것이다. 이 Y축 리액션 프레임(31)은, 도 1에 나타낸 바와 같이 Z축 방향으로 연장되어 있는 판형상을 나타내고 있고, Y축 샤프트부(12y)의 일단부를 가대(2)에 연결해 고정한다. 여기에서는, Y축 리액션 프레임(31)은 Y축 방향의 자유도를 구속하도록 Y축 샤프트부 지지 기구(40)를 가대(2)에 연결한다.

이 Y축 리액션 프레임(31)은 구체적으로는 그 하단부가 가대(2)의 다리부(2a)에 걸치도록 설치된 반력 받이 부재(35)를 개재하여 가대(2)에 고정되어 있다. 반력 받이 부재(35)는 전달된 Y축 반력을 받기 위해 바람직하게 Y축 방향을 법선 방향으로 하는 반력 받이면(35a)을 갖는다.

한편, 도 7에 나타낸 바와 같이 Y축 리액션 프레임(31)의 상단부는 Y축 샤프트부 지지 기구(40)에 Y축 도피 기구(34)를 개재하여 고정되어 있다. Y축 도피 기구(34)는 Y축 방향과는 다른 방향의 변위를 흡수하는 것이다. 여기에서는, Y축 도피 기구(34)는 상기 X축 도피 기구(24)와 동일하게 구성되어 있고, Y축 방향 이외의 방향의 변위를 흡수한다. 즉, Y축 방향 이외의 5자유도를 갖는다.

Y축 리니어 가이드(32)는 정반(4)에 대한 Y축 샤프트부(12y)의 상대 이동을 Y축 방향과는 다른 방향으로 규제하면서 Y축 방향으로 가이드하는 것이다. 이 Y축 리니어 가이드(32)는, 정반(4)에 고정되어 Y축 방향을 따라 연장되어 있는 한 쌍의 Y축 가이드 레일(32a, 32a)과, Y축 샤프트부 지지 기구(40)에 고정되어 Y축 가이드 레일(32a, 32a)에 X축 및 Z축 방향으로 맞물리는 한 쌍의 Y축 슬라이더(32b, 32b)를 포함하고 있다.

이로써, Y축 리니어 가이드(32)는 Y축 샤프트부 지지 기구(40)를 Y축 방향만 가동으로 하는 직동안내기구로서 기능하고, Y축 샤프트부 지지 기구(40)의 Y축 방향 이외의 방향(즉, X축 및 Z축 방향)의 가동을 규제한다. 바꿔 말하면, Y축 리니어 가이드(32)는, Y축 샤프트부(12y)의 Y축 방향 이외의 자유도를 구속한다.

Y축 샤프트부 지지 기구(40)는 Y축 샤프트부(12y)로부터 X축 이동체(5)에 Y축 반력이 전달되지 않도록 이들의 Y축 방향의 상대 이동을 가능하게 하면서 Y축 샤프트부(12y)와 X축 이동체(5)의 X축 방향의 동기 이동을 가능하게 하면서, Y축 샤프트부(12y)를 지지하는 것이다. 이 Y축 샤프트부 지지 기구(40)는 지지 베이스(베이스부)(41), Y축 고정 블록(고정 블록부)(42), X축 리니어 가이드(제1 지지 기구 가이드부)(43) 및 Y축 리니어 가이드(제2 지지 기구 가이드부)(44)를 포함하여 구성되어 있다.

지지 베이스(41)는 판형상을 나타내고 있고, 정반(4) 상에서 Y축 방향의 단부에 배치되어 있다. 이 지지 베이스(41)의 하면에는, 상기 Y축 리니어 가이드(32)의 상기 Y축 슬라이더(32b)가 설치되어 있다. 또, 지지 베이스(41)의 스테이(41a)에는 상기 Y축 도피 기구(34)를 개재하여 상기 Y축 리액션 프레임(31)이 고정되어 있다. Y축 고정 블록(42)은, 지지 베이스(41) 상에 배치되어, Y축 샤프트부(12y)에 고정되어 있다.

X축 리니어 가이드(43)는 지지 베이스(41)와 Y축 고정 블록(42) 사이에 설치되어 있고, 지지 베이스(41)에 대한 Y축 고정 블록(42)의 상대 이동을 Y축 방향으로 규제하면서 X축 방향으로 가이드한다. 이 X축 리니어 가이드(43)는, 구체적으로는, 지지 베이스(41)에 설치되어 X축 방향으로 연장되어 있는 한 쌍의 X축 가이드 레일(43a, 43a)과, Y축 고정 블록(42)에 설치되어 X축 가이드 레일(43a, 43a)에 Y축 및 Z축 방향으로 맞물리는 한 쌍의 X축 슬라이더(43b, 43b)(도 3 참조)를 갖는다.

Y축 리니어 가이드(44)는 X축 이동체(5)와 Y축 고정 블록(42)를 접속시키도록 설치되어 있고, X축 이동체(5)에 대한 Y축 고정 블록(42)의 상대 이동을 X축 방향으로 규제하면서 Y축 방향으로 가이드한다. 이 Y축 리니어 가이드(44)는, 구체적으로는, X축 이동체(5)의 측면(5a)(도 1 참조)에 설치되어 Y축 방향으로 연장되어 있는 Y축 가이드 레일(44a)과, Y축 고정 블록(42)의 측면(42a)에 고정되어 Y축 가이드 레일(44a)에 X축 및 Z축 방향으로 맞물리는 Y축 슬라이더(44b)를 갖는다.

이상과 같이 구성된 스테이지 장치(1)에서는, X축 샤프트 모터(11x)에 의해 X축 이동체(5)에 추력이 부하되면, X축 고정 블록(23)이 X축 리니어 가이드(22)에 가이드되면서 X축 이동체(5)가 정반(4) 상에서 X축 방향으로 이동됨과 동시에, X축 샤프트부(12x)에 있어서 X축 반력이 생긴다.

이 때, 상기 서술한 것처럼 X축 샤프트부(12x)가 X축 리액션 프레임(21)에 의해 가대(2)에 연결되어 있음과 동시에, X축 샤프트부(12x)에 고정된 X축 고정 블록(23)이 X축 리니어 가이드(22)로 정반(4)에 대해 X축 방향으로 상대 이동 가능하게 되어, 정반(4)과 X축 샤프트부(12x) 사이에서 X축 방향의 힘이 도피(역학적으로 분리)되도록 되어 있다. 그 때문에, X축 샤프트부(12x)의 X축 반력은 정반(4)에 전달되지 않고 X축 고정 블록(23), X축 도피 기구(24), X축 리액션 프레임(21) 및 받이 부재(25)를 이 순서로 전파하고, 가대(2)에 전달되어 처리되게 된다.

그 결과, X축 반력에 의한 정반(4)의 진동을 억제(정반(4)의 제진성을 향상)할 수 있음과 동시에, 예를 들면, X축 샤프트부(12x)를 바닥에 연결하거나 반력 처리 모터를 별도로 탑재하는 것 등이 불필요해져, 간단한 구성으로 스테이지 장치(1)의 풋프린트를 축소할 수 있게 된다.

여기서, 본 실시 형태의 X축 리니어 가이드(22)에서는, 상기 서술한 것처럼 그 X축 가이드 레일(22a) 및 X축 슬라이더(22b)가 Y축 및 Z축 방향으로 서로 맞물려 있기 때문에, Y축 및 Z축 방향에 있어서, X축 고정 블록(23)의 정반(4)에 대한 상대 이동이 규제되어, 정반(4)과 X축 샤프트부(12x)의 위치 관계가 유지된다. 따라서, 정반(4)에 지지된 X축 이동체(5)와 X축 샤프트부(12x) 사이에 상대 변위가 발생하는 것이 억제되어, X축 이동체(5)에 고정된 X축 코일부(13x)와 X축 샤프트부(12x) 사이에 상대 변위가 발생하는 것이 억제된다.

게다가, 상기 서술한 것처럼 X축 고정 블록(23)과 X축 리액션 프레임(21) 사이에 X축 도피 기구(24)가 개재되어, 이 X축 도피 기구(24)에 의해 X축 방향 이외의 방향의 변위가 흡수된다. 구체적으로는, X축 도피 기구(24)에서는, X축 샤프트부(12x)와 가대(2)가 Y축 및 Z축 방향으로 상대 변위하면, Y축 및 Z축 가이드부(24f, 24e)에서 이러한 상대 변위가 각각 흡수되고, X축 샤프트부(12x)와 가대(2)가 회전 변위하면, 블록부(24a, 24b)가 구체(24c)를 중심으로 회전함으로써 이러한 회전 변위가 흡수되는 한편, X축 샤프트부(12x)와 가대(2)가 X축 방향으로 변위하면, X축 샤프트부(12x)의 변위 즉 힘이 가대(2)에 전달된다. 따라서, 예를 들면 가대(2)에 가해진 외력으로 X축 샤프트부(12x)가 X축 방향 이외의 방향으로 어긋나는 (변위하는) 것이 억제되고, X축 샤프트부(12x)와 X축 코일부(13x) 사이에 상대 변위가 발생하는 것이 더 억제된다. 또, 정반(4)과 가대(2)의 상대 위치의 어긋남도 허용하기 때문에, X축 리액션 프레임(21)에 응력은 집중되기 어렵다.

따라서, X축 샤프트 모터(11x)를 대형화하여 X축 샤프트부(12x)와 X축 코일부(13x)의 간격을 크게 할 필요가 없어지게 되면서, 이들의 접촉을 억제할 수 있게 된다.

또한, 정반(4)과 X축 샤프트부(12x)의 위치 관계를 유지하기 위해 이들의 상대 이동을 X축 리니어 가이드(22)로 규제했을 경우에 있어서, 반력 처리의 방향 이외에서 정반(4)이 가대(2)에 대해 상대 변위 되었다고 해도, 본 실시 형태에서는, X축 도피 기구(24)에 의해 X축 샤프트부(12x)가 가대(2)에 대해 5자유도를 갖고 연결되기 때문에, X축 리액션 프레임(21)에 응력이 가해지는 것을 변위를 허용함으로써 억제하고, 게다가 X축 반력을 가대(2)에 전달시킬 수 있다.

덧붙여서, Y축 고정 블록(42)이 X축 리니어 가이드(43)에 의해 지지 베이스(41)에 대해 X축 방향으로 상대 이동 가능하게 되고, 또한 Y축 리니어 가이드(44)에 의해 X축 이동체(5)에 대해 X축 방향으로 맞물려(상대 이동 규제되어) 있기 때문에, Y축 샤프트부(12y)를 X축 이동체(5)와 적합하게 동기 이동시킬 수 있고, X축 이동체(5)의 이동이 저해되는 것을 방지하는 것이 가능해진다.

한편, 본 실시 형태의 스테이지 장치(1)에 있어서는, Y축 샤프트 모터(11y)에 의해 Y축 이동체(6)에 추력이 부하되면, Y축 이동체(6)가 X축 이동체(5) 상에서 Y축 방향으로 이동됨과 동시에 Y축 샤프트부(12y)에 있어서 Y축 반력이 생긴다.

이 때, 상기 서술한 것처럼, Y축 샤프트부(12y)를 지지하는 Y축 샤프트부 지지 기구(40)가, Y축 리액션 프레임(31)에 의해 가대(2)에 연결됨과 동시에, 이 Y축 샤프트부 지지 기구(40)가, Y축 리니어 가이드(32)로 정반(4)에 대해서 Y축 방향으로 상대 이동 가능하게 되며, 정반(4)과 Y축 샤프트부 지지 기구(40) 사이에서 Y축 방향의 힘이 도피되게 되어 있다. 따라서, Y축 샤프트부(12y)의 Y축 반력은, 정반(4)에 전달되지 않고 Y축 고정 블록(42), X축 리니어 가이드(43), 지지 베이스(41), Y축 리액션 프레임(31) 및 받이 부재(35)를 이 순서로 전파하고, 가대(2)에 전달되어 처리되게 된다.

그 결과, Y축 반력에 의한 정반(4)의 진동을 억제할 수 있음과 동시에, 예를 들면 Y축 샤프트부(12y)를 바닥에 연결하거나 반력 처리 모터를 별도 탑재하는 것을 필요 없게 할 수 있어, 간단한 구성으로 스테이지 장치(1)의 풋프린트를 축소할 수 있게 된다.

여기서, 본 실시 형태의 Y축 리니어 가이드(32)에서는 상기 서술한 것처럼 그 Y축 가이드 레일(32a) 및 Y축 슬라이더(32b)가 X축 및 Z축 방향으로 서로 맞물려 있기 때문에, X축 및 Z축 방향에 있어서, Y축 샤프트부 지지 기구(40)의 정반(4)에 대한 상대 이동이 규제되어, 정반(4)과 Y축 샤프트부(12y)의 위치 관계가 유지된다. 따라서, 정반(4)에 X축 이동체(5)를 개재하여 지지된 Y축 이동체(6)와 Y축 샤프트부(12y) 사이에 상대 변위가 발생하는 것이 억제되어, Y축 이동체(6)에 고정된 Y축 코일부(13y)와 Y축 샤프트부(12y) 사이에 상대 변위가 발생하는 것이 억제된다.

게다가, 상기 서술한 것처럼 Y축 샤프트부 지지 기구(40)와 Y축 리액션 프레임(31) 사이에 Y축 도피 기구(34)가 개재되어, 이 Y축 도피 기구(34)에 의해 Y축 방향 이외의 방향의 변위가 흡수되기 때문에, 예를 들면, 가대(2)에 가해진 외력으로 Y축 샤프트부(12y)가 Y축 방향 이외의 방향으로 어긋나는 것이 억제되어, Y축 샤프트부(12y)와 Y축 코일부(13y) 사이에 상대 변위가 발생하는 것이 한층 더 억제된다. 또, 정반(4)과 가대(2)의 상대 위치의 어긋남도 허용하기 때문에, Y축 리액션 프레임(31)에 응력은 집중되기 어렵다.

따라서, Y축 샤프트 모터(11y)를 대형화하여 Y축 샤프트부(12y)와 Y축 코일부(13y)의 간격을 크게 할 필요가 없어지면서 이들의 접촉을 억제할 수 있게 된다.

또한, 정반(4)과 Y축 샤프트부(12y)의 위치 관계를 유지하기 위해 이들의 상대 이동을 Y축 리니어 가이드(32)로 규제했을 경우, 반력 처리의 방향 이외에서 정반(4)과 가대(2) 사이에 상대 변위가 발생하였다고 해도 본 실시 형태에서는, Y축 샤프트부(12y)가 가대(2)에 대해 5자유도를 가지면서 연결되기 때문에, Y축 리액션 프레임(31)에 응력이 가해지는 것을 변위를 허용함으로써 억제하고, 게다가 Y축 반력을 가대(2)에 전달시킬 수 있다.

덧붙여서, Y축 고정 블록(42)이, Y축 리니어 가이드(44)에 의해 X축 이동체(5)에 대해 Y축 방향으로 상대 이동 가능하게 되어 있기 때문에, Y축 고정 블록(42)과 X축 이동체(5) 사이에서 Y축 방향의 힘이 도피되게 되어 있다. 그 때문에, Y축 샤프트부(12y)의 Y축 반력이 X축 이동체(5)에 전달되는 것을 억제할 수 있게 된다.

이상, 본 실시 형태의 반력 처리 기구(50)에 의하면, X축 반력 및 Y축 반력에 의한 정반(4)의 진동을 억제함과 동시에 스테이지 장치(1)를 소형화할 수 있게 된다. 그 결과, 리니어 스케일에 의한 이동체(5, 6)의 위치 검지 정밀도, 나아가서는 이동체(5, 6)의 위치 정밀도를 향상시킬 수 있다.

또한, 본 실시 형태에서는, 상기 서술한 것처럼, 액츄에이터로서, 샤프트 모터(11x, 11y)를 사용하고 있다. 샤프트 모터(11x, 11y)를 사용하는 경우, 그 샤프트부(12x, 12y)와 코일부(13x, 13y) 사이의 간격이 작아지기(좁아지기) 때문에 이들의 접촉을 억제하는 상기 작용 효과는 현저해 진다.

또, 본 실시 형태에서는, 상기 서술한 것처럼, 도피 기구(24, 34)에 있어서 X축 및 Y축 방향 이외 방향의 응력이 각각 도피되므로, 리액션 프레임(21, 31)의 각각에 과대한 부하가 가해지는 것을 회피할 수 있다. 따라서, 리액션 프레임(21, 31)의 내구성, 나아가서는 반력 처리 기구(50)의 내구성 향상이 가능해진다.

이상 본 발명의 적합한 실시 형태에 대해 설명했는데, 본 발명은 상기 실시 형태로 한정되는 것은 아니다.

상기 실시 형태에서는 반력 처리 기구(50)를 탑재하는 스테이지 장치(1)를 이른바 스택형의 XY스테이지로 하였지만, 서피스형의 XY스테이지로 해도 된다. 또, 한 방향으로 이동하는 이동체만 구비한 X(Y)스테이지로 해도 되고, XZ(YZ)스테이지, XZθ(YZθ)스테이지, XYZ스테이지, XYZθ스테이지, Xθ(Yθ)스테이지로 해도 된다.

또, X축 반력 처리 기구(20)를 X축 샤프트부(12x)의 양단측 각각에 배치하였지만, 어느 일단측에만 배치해도 된다. 또, 도피 기구(24, 34)는, 변위를 흡수하지 않는 방향이 존재하도록 구성되어 있어도 되며, 도피 기구(24, 34)의 구성이나 배치는, 상기 실시 형태에 한정되지 않는다. 예를 들면, 반드시 고정자(고정 블록)를 도피 기구에 직접 연결할 필요는 없으며, 연결부의 중앙이나 가대에 가까운 위치에 배치해도 된다. 게다가, 연결부 자체가, 형상이나 재질 등에 의해 도피 수단을 가져도 된다.

또 상기 실시 형태에서는, 액츄에이터로서 샤프트 모터(11x, 11y)를 채용했지만 마그넷 대향형의 리니어 모터 등을 채용해도 된다. 또한, 가이드부, 제1 및 제2 가이드부, 제1 및 제2 지지 기구 가이드부로서는 상기 실시 형태와 같은 리니어 가이드로 한정되는 것이 아니며, 예를 들면 소정의 방향으로만 변위가 가능한 판 스프링이나 탄성체에 의해 구성된 것이어도 된다.

본원 발명에 있어서의 반력 처리 기구는, 스테이지 장치에 사용되면 적합한 성능을 발휘하고, 특히, 애플리케이션으로서는 프로버 장치, 검사 장치 등에 이용되면 적합하다.

1…스테이지 장치
2…가대
3…제진 유닛
4…정반
5…X축 이동체(이동체, 제1 이동체)
6…Y축 이동체(이동체, 제2 이동체)
11x…X축 샤프트 모터(액츄에이터, 제1 액츄에이터)
11y…Y축 샤프트 모터(액츄에이터, 제2 액츄에이터)
12x…X축 샤프트부(고정자)
12y…Y축 샤프트부(고정자)
21…X축 리액션 프레임(연결부, 제1 연결부)
22…X축 리니어 가이드(가이드부, 제1 가이드부, 고정자 지지부)
24…X축 도피 기구(도피 기구, 제1 도피 기구)
31…Y축 리액션 프레임(연결부, 제2 연결부)
32…Y축 리니어 가이드(가이드부, 제2 가이드부, 고정자 지지부)
34…Y축 도피 기구(도피 기구, 제2 도피 기구)
40…Y축 샤프트부 지지 기구(지지 기구)
41…지지 베이스(베이스부)
42…Y축 고정 블록(고정 블록부)
43…X축 리니어 가이드(제1 지지 기구 가이드부)
44…Y축 리니어 가이드(제2 지지 기구 가이드부)
50…반력 처리 기구.

Claims (9)

1. 가대와, 상기 가대에 제진 유닛을 개재시켜 지지되는 정반과, 상기 정반 상에 지지되어 상기 정반 상을 이동하는 이동체와, 상기 이동체를 한 방향으로 구동하는 액츄에이터를 구비하는 스테이지 장치에 사용되는 반력 처리 기구로서,
   상기 한 방향과는 다른 방향의 변위를 흡수하는 도피 기구를 개재하여, 상기 액츄에이터의 고정자를 상기 가대에 연결하는 연결부와,
   상기 정반에 대한 상기 액츄에이터의 고정자의 상대 이동을, 상기 한 방향과는 다른 방향으로 규제하면서 상기 한 방향으로 가이드하는 가이드부를 구비한 것을 특징으로 하는 반력 처리 기구.
2. 가대와, 상기 가대에 제진 유닛을 개재시켜 지지되는 정반과, 상기 정반 상에 지지되어 상기 정반 상을 이동하는 제1 및 제2 이동체와, 상기 제1 이동체를 제1 방향으로 구동하는 제1 액츄에이터와, 상기 제2 이동체를 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 구동하는 제2 액츄에이터를 구비하는 스테이지 장치에 사용되는 반력 처리 기구로서,
   상기 제1 방향과는 다른 방향의 변위를 흡수하는 제1 도피 기구를 개재하여, 상기 제1 액츄에이터의 고정자를 상기 가대에 연결하는 제1 연결부와,
   상기 제2 방향과는 다른 방향의 변위를 흡수하는 제2 도피 기구를 개재하여 상기 제2 액츄에이터의 고정자를 상기 가대에 연결하는 제2 연결부와,
   상기 정반에 대한 상기 제1 액츄에이터의 고정자의 상대 이동을 상기 제1 방향과는 다른 방향으로 규제하면서 상기 제1 방향으로 가이드하는 제1 가이드부와,
   상기 정반에 대한 상기 제2 액츄에이터의 고정자의 상대 이동을 상기 제2 방향과는 다른 방향으로 규제하면서 상기 제2 방향으로 가이드하는 제2 가이드부를 구비한 것을 특징으로 하는 반력 처리 기구.
3. 청구항 2에 있어서,
   상기 제2 이동체는, 상기 제1 이동체 상을 이동하는 것이며,
   상기 제2 액츄에이터의 고정자를 지지하는 지지 기구를 더욱 구비하고,
   상기 지지 기구는, 상기 제2 방향에 있어서의 상기 제2 액츄에이터의 고정자의 상기 제1 이동체에 대한 상대 이동을 가능하게 함과 동시에, 상기 제1 방향에 있어서의 상기 고정자와 상기 제1 이동체의 동기 이동을 가능하게 하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 반력 처리 기구.
4. 청구항 3에 있어서,
   상기 지지 기구는,
   상기 정반 상에 배치된 베이스부와,
   상기 베이스부 상에 배치되어, 상기 제2 액츄에이터의 고정자에 고정된 고정 블록부와,
   상기 베이스부에 대한 상기 고정 블록부의 상대 이동을 상기 제2 방향으로 규제하면서 상기 제1 방향으로 가이드하는 제1 지지 기구 가이드부와,
   상기 제1 이동체에 대한 상기 고정 블록부의 상대 이동을 상기 제1 방향으로 규제하면서 상기 제2 방향으로 가이드하는 제2 지지 기구 가이드부를 포함하고,
   상기 제2 연결부는, 상기 제2 도피 기구를 개재하여 상기 가대와 상기 베이스부를 연결하고,
   상기 제2 가이드부는, 상기 정반과 상기 베이스부 사이에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 반력 처리 기구.
5. 청구항 1에 있어서,
   상기 액츄에이터는 샤프트 모터인 것을 특징으로 하는 반력 처리 기구.
6. 가대와, 상기 가대에 제진 유닛을 개재시켜 지지되는 정반과, 상기 정반 상에 지지되어 상기 정반 상을 이동하는 이동체와, 상기 이동체를 한 방향으로 구동하는 액츄에이터를 구비하는 스테이지 장치에 사용되는 반력 처리 기구로서,
   상기 액츄에이터의 고정자를 상기 가대에 연결하는 연결부와,
   상기 정반에 대한 상기 액츄에이터의 고정자의 상대 이동을 상기 한 방향과는 다른 방향으로 규제하면서 상기 한 방향으로 허용하는 고정자 지지부를 구비하고,
   상기 고정자 지지부는, 상기 액츄에이터의 고정자가 이동하려고 하는 힘을, 상기 한 방향에 대해서는 상기 가대에 전달시키고, 상기 한 방향과 다른 방향에 대해서는 상기 정반에 전달시키는 것을 특징으로 하는 반력 처리 기구.
7. 청구항 6에 있어서,
   상기 연결부는, 상기 한 방향과 다른 방향의 변위를 흡수하는 도피 기구를 가지며, 상기 액츄에이터의 고정자와 상기 가대 사이에서 발생하는 변위를 허용하는 것을 특징으로 하는 반력 처리 기구.
8. 청구항 1 내지 청구항 7중 어느 한 항에 기재된 반력 처리 기구를 구비한 것을 특징으로 하는 스테이지 장치.
9. 청구항 8에 기재된 스테이지 장치를 구비한 것을 특징으로 하는 프로버 장치.

Images