JP4970410B2 - ステージ装置及び半導体検査装置 - Google Patents
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Description
該下軸ベースに設けられる下軸リニアモータと、
該下軸リニアモータと平行に前記下軸ベースに設けられる下軸ガイドレールと、
該下軸ガイドレールに案内されながら前記下軸リニアモータの駆動により前記下軸ベースに対して可動である上軸ベースと、
該上軸ベースの側部に設けられる上軸リニアモータと、
該上軸リニアモータと平行に前記上軸ベースに設けられる上軸ガイドレールと、
該上軸ガイドレールに案内されながら前記上軸リニアモータの駆動により前記上軸ベースに対して可動に設けられたトップテーブルと、を備え、
前記下軸ベースと、前記上軸ベースと、前記トップテーブルと、は、前記上軸ベースの可動方向及び前記トップテーブルの可動方向の双方に直交する方向に積層されており、
前記上軸ベースと前記上軸リニアモータとは、
前記下軸ベースと前記トップテーブルとの間において、前記前記下軸ベースと前記上軸ベースと前記トップテーブルとの積層方向に直交する方向に並べて配置されており、
前記上軸リニアモータは、
前記上軸ベースの側部に固定された固定子と、
前記トップテーブルの前記下軸ベース側の位置に固定され前記固定子に係合する移動子と、を有することを特徴とする。
Claims (10)
- 下軸ベースと、
該下軸ベースに設けられる下軸リニアモータと、
該下軸リニアモータと平行に前記下軸ベースに設けられる下軸ガイドレールと、
該下軸ガイドレールに案内されながら前記下軸リニアモータの駆動により前記下軸ベースに対して可動である上軸ベースと、
該上軸ベースの側部に設けられる上軸リニアモータと、
該上軸リニアモータと平行に前記上軸ベースに設けられる上軸ガイドレールと、
該上軸ガイドレールに案内されながら前記上軸リニアモータの駆動により前記上軸ベースに対して可動に設けられたトップテーブルと、を備え、
前記下軸ベースと、前記上軸ベースと、前記トップテーブルと、は、前記上軸ベースの可動方向及び前記トップテーブルの可動方向の双方に直交する方向に積層されており、
前記上軸ベースと前記上軸リニアモータとは、
前記下軸ベースと前記トップテーブルとの間において、前記前記下軸ベースと前記上軸ベースと前記トップテーブルとの積層方向に直交する方向に並べて配置されており、
前記上軸リニアモータは、
前記上軸ベースの側部に固定された固定子と、
前記トップテーブルの前記下軸ベース側の位置に固定され前記固定子に係合する移動子と、を有することを特徴とするステージ装置。 - 前記下軸ベースは、凹部又は中空部を有しており、
前記下軸リニアモータは、前記凹部又は中空部に設けられていることを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。 - 前記上軸リニアモータと前記下軸リニアモータとが、シャフト型モータであることを特徴とする請求項1又は2に記載のステージ装置。
- 前記下軸ガイドレールは2つであり、前記下軸リニアモータを挟んで両側に配置されることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載のステージ装置。
- 前記上軸リニアモータはシャフト型モータであり、
前記上軸リニアモータのシャフトは、前記上軸ベースの側部の両端に設けられたシャフト支持部により両端支持されていることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載のステージ装置。 - 前記上軸ベースは、凹部又は中空部を有していることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載のステージ装置。
- 前記上軸ガイドレールは、
前記上軸ベースの凹部又は中空部以外の位置に設けられていることを特徴とする請求項6に記載のステージ装置。 - 前記トップテーブルの移動により生じる反力を処理する第1の反力処理ユニットを備えたことを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載のステージ装置。
- 前記上軸ベースの移動により生じる反力を処理する第2の反力処理ユニットを備えたことを特徴とする請求項1〜8の何れか1項に記載のステージ装置。
- 請求項1〜9の何れか1項に記載のステージ装置を備えたことを特徴とする半導体検査装置。
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- 2008-12-02 JP JP2008307728A patent/JP4970410B2/ja active Active
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