JP2003217998A

JP2003217998A - ステージ装置及び露光装置

Info

Publication number: JP2003217998A
Application number: JP2002009490A
Authority: JP
Inventors: Seibun Ri; 世文李
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 2002-01-18
Filing date: 2002-01-18
Publication date: 2003-07-31

Abstract

(57)【要約】【課題】露光中の固定子の移動を抑えて同固定子の移
動による磁場変動を防ぎ、高精度で移動・位置決めでき
るステージ装置及びそのようなステージ装置を搭載した
露光装置を提供する。【解決手段】露光装置１のレチクルステージ装置１５
及びウェハステージ装置２５の固定ガイド１９、２９
は、ステージ２１、３１の駆動反力を受けるリアクショ
ンバーユニット３３を具備する。リアクションバーユニ
ット３３は、ダンパと、固定ガイド１９、２９の位置を
調整するアクチュエータ４９とを有する。ステップ動作
の間のステージ２１、３１の加減速運動中は、加減速に
よる反力をリアクションバーユニット３３を介してフレ
ーム３５に逃がす。スキャン露光中は、リアクションバ
ーユニット３３のアクチュエータ４９を駆動して固定ガ
イド１９、２９の位置変動を抑制する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ウェハ（感応基
板）やレチクル（マスク、パターン原版）等を移動・位
置決めするステージ装置、並びに、それを有する露光装
置に関する。特には、レチクルとウェハとをスキャンし
ながら投影転写する露光装置において、ステージの駆動
反力処理に改良を加えた露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ウェハ
上に半導体デバイスパターンを形成する投影露光装置と
して、原版パターンが形成されたレチクルと、原版パタ
ーンが転写されるウェハを同期走査しながら、原版パタ
ーンをウェハ上に投影転写（スキャン露光）する装置が
ある。このような装置は、ウェハやレチクルを高速で移
動させて位置決めするステージ装置を備え、レチクルス
テージとウェハステージを移動させて転写すべき露光領
域を投影光学系の光軸上に位置決めするステップ動作
と、レチクルステージ装置とウェハステージ装置を同期
移動させながら走査露光するスキャン動作を繰り返す。
このステージ装置の動作には、露光装置のスループット
の向上や転写パターン精度の向上の要求に応じて、高速
で正確な移動・位置決めが必要とされる。

【０００３】図３は、スキャン露光を行う露光装置の全
体構造の一例を模式的に示す図である。露光装置２００
は床面２０２上に設置されている。同装置２００のボデ
ィ２０３は、防振台（エアマウント、ＬＰＦ（ローパス
フィルタ））２０１を介して床面２０２上に固定されて
いる。ボディ２０３は門型の構造体であって、両側の柱
部２０３ｂと、両柱部２０３ｂの上にまたがる梁部２０
３ａとなからなる。梁部２０３ａの下面には、ボックス
状のウェハチャンバ２０５が吊り下げられて固定されて
いる。ウェハチャンバ２０５の底面２０５ａ上には、ウ
ェハステージ装置のガイド（固定子）２０６が、静圧平
面軸受（図示されず）を介して、浮上した状態で支持さ
れている。ガイド２０６上には、ウェハの移動・位置決
めを行うステージ（移動子）２０７が静圧平面軸受（図
示されず）を介して搭載されており、同ステージ２０７
はガイド２０６の軸方向にガイドされる。

【０００４】ボディ２０３の梁部２０３ａの中央部に
は、投影光学系鏡筒２０８が設置されている。この投影
光学系鏡筒２０８の外側の、ボディ２０３の梁部２０３
ａの上面には、レチクルステージ装置固定台２１０が設
置されている。固定台２１０上には、レチクルステージ
装置のガイド２１１が静圧平面軸受（図示されず）を介
して浮上した状態で支持されている。ガイド２１１上に
は、レチクルの移動・位置決めを行うステージ２１２が
静圧平面軸受（図示されず）を介して搭載されており、
同ステージ２１２はガイド２１１の軸方向にガイドされ
る。

【０００５】ボディ２０３の梁部２０３ａの上面の最も
外側の部分には、大きなボックス状のレチクルチャンバ
２１３が固定されている。レチクルチャンバ２１３は、
レチクルステージ装置２１２等を覆うとともに、その上
部中央に照明光学系鏡筒２１４が固定されている。

【０００６】上述のウェハステージ装置及びレチクルス
テージ２１２の駆動機構の一例としては、ステージを高
速かつ非接触で駆動するリニアモータが挙げられる。リ
ニアモータは移動子と固定子で構成され、どちらか一方
にコイル、他方に磁性体が内蔵される。磁性体が移動子
に内蔵されると、移動子の移動により磁性体が移動して
大きな磁場の変動が生じるため、磁性体は一般には固定
子に内蔵される。このようなリニアモータにおいては、
固定子はガイドを介して露光装置メインボディに直結さ
れたベース等に固定される場合（不図示）と、ガイドと
共に非接触静圧平面軸受等を介して浮上して移動可能に
配置される場合（図４参照）がある。前者の、ガイドが
メインボディなどに固定されている場合は、ステージの
加減速時に発生する駆動反力が、リニアモータ固定子か
らガイドを経てボディに伝わり、ボディ及びステージ自
身が振動してしまう。

【０００７】後者の場合は、図３に示すように、反力を
受けるとともにガイドの位置を制御するための、水平に
延びる緩衝部材２２１、２２２が、ガイド２０６、２１
１の側方に設けられている。緩衝部材２２１、２２２
は、ばね、ダンパ、アクチュエータ等を備え、一端がガ
イド２０６、２１１に接続し、他端がＲＦＣ（Reaction
Force Canceller）２２３に支持されている。ＲＦＣ２
２３は、太い柱のような構造体で、基端は床面２２２上
に固定されている。

【０００８】ステージ２０７、２１２が高速移動する
と、加減速に伴って駆動反力が発生する。駆動反力は、
ガイド２０６、２１１から緩衝部材２２１、２２２を経
てＲＦＣ２２３に伝わる。したがって、ステージ駆動反
力は、チャンバ２０５、２１３や露光装置メインボディ
２０３に伝わることがないので、光学系２０８やステー
ジ２１２、２０７の振動を防止できる。

【０００９】ステージの駆動反力処理方法の他の例とし
ては、いわゆる運動量保存方式（カウンタマス方式）が
ある。この方式では、ステージ駆動用リニアモータの固
定子及びガイド全体を駆動軸方向に移動可能（非拘束）
としておくとともに、駆動軸方向と直交する方向にはエ
アガイド（静圧平面軸受）で非接触案内・支持する。そ
して、リニアモータ移動子及びステージを動かす加減速
力の反力により、リニアモータ固定子・ガイドも自由に
動く（フロートする）ようにしておく。このようにすれ
ば、ステージ駆動反力はステージ装置外に出ず、ステー
ジ装置内部で閉じた反力処理を実現できる。運動量保存
方式の他の利点としては、ステージ装置可動子と固定子
が逆方向に動くので、両部を併せたステージ装置全体の
重心の変動、つまり偏荷重が抑制されることも挙げられ
る。

【００１０】しかしながら、リニアモータの移動子と固
定子との間に存在するうず電流による粘性や、ステージ
に接続される各種の電気配線や配管等の変形による抵抗
等が作用して、固定子が所望の位置に移動しないことが
ある。このような不確定な作用による固定子の移動を補
償するため、付加的なアクチュエータを設けることもあ
る。

【００１１】電子ビーム露光装置では、部材表面やエア
ガイドから発生するアウトガスの低減や、機構の簡素
化、ステージ装置寸法の最小化を考慮すると、反力処理
機構として運動量保存方式を採用することは問題があ
る。つまり、運動量保存方式とリニアモータを組み合わ
せると、リニアモータの固定子と移動子が両方とも動い
てしまうので、リニアモータの固定子又は移動子のいず
れを永久磁石とした場合にも永久磁石が動くこととな
る。これにより、電子ビーム軌道に有害な漏洩磁場が、
磁気シールドでは抑えきれないほど大きくなる。さら
に、運動量保存方式では、固定子と移動子が反対方向に
動くため、両者の相対的ストロークは長くなり、ステー
ジ装置全体の寸法が大きくなる。電子ビーム露光装置で
は、ステージ装置は真空チャンバ内に収容しなければな
らないため、また空気軸受からのアウトガス低減のた
め、ステージ装置の寸法は極小化の要請が強い。

【００１２】以上のような問題点を考慮すれば、磁場発
生源を増やさず、磁場の変動のない、単純な（ノンアク
ティブな）機械式ダンパによる反力処理機構が有力であ
る。

【００１３】本発明は上記の問題点に鑑みてなされたも
のであって、露光中の固定子の移動を抑えて同固定子の
移動による磁場変動を防ぎ、高精度で移動・位置決めで
きるステージ装置及びそのようなステージ装置を搭載し
た露光装置を提供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明のステージ装置は、移動子と、該移動子
を案内するガイドを有する固定子と、該固定子を移動
可能に支持する固定子支持機構と、前記固定子にかか
る前記移動子の駆動反力を受けるリアクションバーと、
を具備し、前記リアクションバーが、ダンパと、前記
固定子の位置を調整するアクチュエータと、を有し、
前記移動子の加減速運動中は、加減速による反力を前記
リアクションバーを介して逃がし、前記移動子が実質
的に等速運動を行っている間は、前記リアクションバー
のアクチュエータを駆動して前記固定子の位置変動を抑
制することを特徴とする。

【００１５】本発明の露光装置は、感応基板上に転写
露光すべきパターンが形成されたレチクルと前記感応基
板とを同期駆動（スキャン）しながら、前記レチクルに
エネルギ線を照射して前記感応基板上にパターン形成す
るスキャン露光を行う露光装置であって、前記感応基
板及びレチクルを搭載するステージ装置が、前記感応
基板又はレチクルが搭載される移動子と、該移動子を
案内するガイドを有する固定子と、該固定子を移動可
能に支持する固定子支持機構と、前記固定子にかかる
前記移動子の駆動反力を受けるリアクションバーと、を
具備し、前記リアクションバーが、ダンパと、前記固
定子の位置を調整するアクチュエータと、を有し、前
記移動子の加減速運動中は、加減速による反力を前記リ
アクションバーを介して逃がし、スキャン露光中は、
前記リアクションバーのアクチュエータを駆動して前記
固定子の位置変動を抑制することを特徴とする。

【００１６】ウェハステージ装置及びレチクルステージ
装置のステージ（移動子）を光軸垂直方向（Ｘ方向及び
Ｙ方向）に移動させて転写すべき露光領域を投影光学系
の光軸上に位置決めするステップ動作の間は、露光は行
われず、各ステージ装置の移動子が激しい加減速を受け
ながら運動する。この加減速運動中は、リアクションバ
ーのアクチュエータの出力を基本的にはゼロとしてダン
パから反力を逃がし、反力による振動がステージ装置に
及ぼすことを防ぐ。一方、レチクルステージ装置とウェ
ハステージ装置の移動子を一定速度で同期移動させなが
ら走査露光（スキャン露光）する間は、各移動子を駆動
するためのモータの出力はほとんどゼロである。この
間、アクチュエータを作動させて固定子の位置を維持し
ておくことで、固定子の変動による磁場変動を抑えるこ
とができる。これにより、ステージ装置の正確で高精度
な移動・位置決めを行うことができ、スループット及び
露光精度を高めることができる。

【００１７】本発明においては、前記固定子の位置変
動による磁場変動を、センサで計測するかシミュレーシ
ョンにより求め、該磁場変動が許容値以下となるよ
う、前記固定子の位置変動を抑制することが好ましい。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ説明す
る。図１は、本発明の実施の形態に係る露光装置の構造
を説明する側面図である。露光装置１のウェハチャンバ
３は、ベース５上に防振セット７を介して設置される。
防振セット７は、防振機能を備えたダンパである。この
露光装置１のウェハチャンバ３は、露光装置全体の支持
構造体を兼ねており、その上には支持構造物９が固定さ
れており、支持構造物９上にレチクルチャンバ１１が固
定されている。

【００１９】レチクルチャンバ１１の上部には、照明系
電子鏡筒１３が配置されている。同鏡筒１３内には、電
子銃やコンデンサレンズ、電子線偏向器等（いずれも図
示されず）が配置されている。レチクルチャンバ１１内
の支持構造物９の上面には、レチクルステージ装置１５
が搭載されている。レチクルステージ装置１５は、支持
構造物上面に固定されたリニアガイド（固定子支持機
構）１７と、固定ガイド（固定子）１９と、移動ステー
ジ（移動子）２１とからなる。固定ガイド１９はリニア
ガイド１７上に一方向（例えばＸ方向）に移動可能に支
持されており、移動ステージ２１は、固定ガイド１９上
に移動可能に支持されている。移動ステージ２１上に
は、レチクルを静電的に吸着保持するチャック（図示さ
れず）が設けられている。

【００２０】投影系電子鏡筒２３は、支持構造物９内と
ウェハチャンバ３とを貫通するように配置され、ウェハ
チャンバ３に固定されている。同鏡筒２３内には、投影
レンズや偏向器（いずれも図示されず）が配置されてい
る。ウェハチャンバ３の底面上にはウェハステージ装置
２５が搭載されている。ウェハステージ装置２５は、ウ
ェハチャンバ３の底面上に固定されたリニアガイド（固
定子支持機構）２７と、固定ガイド（固定子）２９と、
移動ステージ（移動子）３１とからなる。固定ガイド２
９は、リニアガイド２７上に一方向（例えばＸ方向）に
移動可能に支持されており、移動ステージ３１は、固定
ガイド２９上に移動可能に支持されている。移動ステー
ジ３１上には、ウェハを静電的に吸着保持するチャック
（図示されず）が設けられている。

【００２１】レチクルステージ装置１５及びウェハステ
ージ装置２５の駆動機構はリニアモータ（図示されず）
が使用される。リニアモータは移動ステージ２１、３１
と固定ガイド１９、２９の間に装備され、リニアモータ
移動子が移動ステージ２１、３１に内蔵され、リニアモ
ータ固定子が固定ガイド１９、２９に内蔵されている。
各固定ガイド１９、２９は、リアクションバーユニット
３３を介してベース５上に垂直に固定されたフレーム３
５に結合している。

【００２２】図２は、リアクションバーユニットの詳細
な構造を説明する側面断面図である。リアクションバー
ユニット３３は、各固定ガイドの側面からＸ方向に延び
る可動バー３７、３９の先端に設けられている。同ユニ
ット３３の反可動バー側は、同バーと同軸上に延びる固
定バー４１、４３に接続されている。固定バー４１、４
３は、図１に示すように、フレーム３５から図の左方向
に延びている。リアクションバーユニット３３は、ケー
シング３４内に収容されたダンパ付き弾性ユニット４
５、及び、ケーシング３４の開口部に設けられたアクチ
ュエータ４９を備える。ダンパ付き弾性ユニット４５に
は、ダンパ要素４７（空気、ＥＲ流体、磁性流体、オイ
ル等から構成）、及び、ばね要素４８（空気、ＥＲ流
体、磁性流体、オイル等から構成）が備えられている。
アクチュエータ４９は、電磁式エアシリンダ、電気油圧
制御式エアシリンダ、電気制御式エアシリンダ、ピエゾ
等を使用できる。アクチュエータ４９が駆動源（図示さ
れず）により作動すると、可動バー３７、３９はＸ方向
へ移動する。この可動バー３７、３９に駆動されて、同
バー３７、３９に接続されているステージの固定ガイド
１９、２９も各々リニアガイド１７、２７上をＸ方向へ
移動する。なお、アクチュエータ４９は直接フレーム３
５に支持されてもよい。

【００２３】再び、図１を参照して説明する。各リアク
ションバーユニット３３の可動バー３７、３９には、そ
れぞれの固定ガイド側の基部に、加速度計測用センサ５
３、５４が配置されており、固定ガイド１９、２９の加
速度を計測する。また、固定バー４１、４３のフレーム
側の基部にも加速度計測用センサ５５、５６が配置され
ており、固定バーとフレームの結合部の加速度を計測す
る。これらの加速度計は３方向加速度を計測するもので
ある。さらに、支持構造物９上面のリニアガイド３７に
近接する部分には磁気センサ５７が備えられており、レ
チクルステージ１５近傍の磁場を計測する。また、ウェ
ハチャンバ３底面上のリニアガイド２７に近接する部分
にも磁気センサ５９が備えられており、ウェハステージ
２５近傍の磁場を計測する。

【００２４】レチクルチャンバ１１内の固定ガイド１９
の側方（図の左側）には干渉計６１が配置されている。
干渉計６１は固定ガイド１９の位置を計測する。ウェハ
チャンバ３の側壁（図の左側）内側には干渉計６３が配
置されている。そして、この干渉計６３とＸ軸方向に対
向する投影光学系電子鏡筒２３の側面には干渉計固定鏡
６５ａが配置されており、固定ガイド２９の側面にも干
渉計固定鏡６５ｂが配置されている。干渉計６３と各固
定鏡６５ａ、６５ｂにより、固定ガイド２９の位置、及
び、投影光学系電子鏡筒２３の位置（振動）が計測され
る。

【００２５】露光装置１の動作は、レチクルステージ装
置１５及びウェハステージ装置２５の移動ステージ２
１、３１を光軸垂直方向（Ｘ方向及びＹ方向）に移動さ
せて、レチクル及びウェハを転写すべき露光領域に位置
決めするステップ動作と、レチクルステージ装置１５と
ウェハステージ装置２５の移動ステージ２１、３１を等
速で同期移動させながら走査露光するスキャン動作を繰
り返す。ステップ動作中は露光は行われず、各移動ステ
ージ２１、３１が加減速運転し、レチクル及びウェハを
次の露光領域まで移動させる。加減速運転により発生し
た駆動反力は固定ガイド１９、２９から可動バー３７、
３９を経てリアクションバーユニット３３のダンパ付き
弾性ユニット４５で吸収され、フレーム３５に逃がされ
る。この間、リアクションバーユニット３３のアクチュ
エータ４９は作動させない。固定ガイド１９、２９はリ
ニアガイド１７、２７上にＸ方向に移動可能に支持され
ているため、各固定ガイドは反力を受けてリニアガイド
上を移動する。

【００２６】一方、スキャン動作時には、レチクルステ
ージ装置１５とウェハステージ装置２５の移動ステージ
２１、３１が、ＸＹ面内を反対方向に所定の速度比（一
例で４：１）で等速で同期移動する。この間は、各ステ
ージ装置１５、２５の移動ステージ２１、３１には加減
速は加わらないので、リニアモータの駆動力はゼロに近
い。この移動ステージ２１、３１の等速運転中には、固
定ガイド１９、２９の位置を検知し、固定ガイド１９、
２９が基準位置からあまり離れないよう、リアクション
バーユニット３３のアクチュエータ４９で、固定ガイド
１９、２９を基準位置に保つ。

【００２７】固定ガイドの位置は、以下の方法で検出す
ることもできる。レチクルステージ装置１５の固定ガイド２９におい
ては、ウェハチャンバ３に備えられた干渉計６３を用
い、同干渉計６３と、固定ガイド２９の側面に設けられ
た移動鏡６５ｂとの間の距離（移動距離）及び投影系電
子鏡筒２３の側面に設けられた固定鏡６５ａとの間の距
離（参照距離）を側長する。そして、移動距離と参照距
離の差と、初期距離（初期位置での固定ガイドと投影系
電子鏡筒との間の距離）と参照距離との差とを比較し
て、移動後の固定ガイド２９のウェハチャンバ３に対す
る変位を計測する。ウェハステージ装置２５の固定ガイド１９において
は、レチクルチャンバ１１内の支持構造物９上に設けら
れた干渉計６１で、基準位置（リニアスケール６１の設
置位置）から固定ガイド１９までの距離を読み取り、初
期位置での距離と比較し、変位を計測する。リアクションバーユニット３３の各バーの基端に配
置された加速度センサ５３、５４、５５、５６で、固定
ガイド１９、２９と、固定バー４１、４３の基部との加
速度を計測し、得られた加速度から距離を求める。レチクルチャンバ１１及びウェハチャンバ３内の固
定ガイド１９、２９近傍に配置された磁気センサ５７、
５９により磁場を測定する。

【００２８】あるいは、次のような方法により、固定ガ
イドの位置を制御してもよい。まず、各固定ガイドの位
置と磁場変動の関係を予め実測やシミュレーションによ
り求めておき、換算表を作成しておく。そして、上述の
、、の方法により、固定ガイドの移動距離が計測
されると、この換算表から磁場を求める。これにより求
められた磁場、あるいは、の方法により計測された磁
場から、換算表を用いて磁場が許容値以下となる距離を
求めて、アクチュエータ４９をフィードバック又はフィ
ードフォワード制御し、固定ガイド１９、２９をこの位
置内に制御する。なお、磁場の許容値は、ビーム軌道変
動の計測や実際の露光操作により、所定値を適宜設定で
きる。

【００２９】固定ガイド１９、２９の位置をアクチュエ
ータ４９で維持することによりリニアモータ固定子の位
置変動を防いで磁場の変動を抑えることができる。

【００３０】また、図１に示した露光装置においては、
支持構造物９が直接防振セット７に支持され、ウェハチ
ャンバ３が支持構造物９から吊り下げられて支持されて
もよい。または、投影系電子鏡筒２３が支持構造物９に
支持されてもよい。または、干渉計６３が支持構造物９
から吊り下げられていてもよい。

【００３１】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、感応基板及びレチクルのステップ動作中（前
記移動子の加減速運動中）は、加減速による反力をダン
パを介して逃がし、感応基板及びレチクルのスキャン露
光中は、アクチュエータを駆動してリニアモータ固定子
の位置変動を抑制することによって、磁場変動を防ぎ、
リニアモータ固定子の位置変動を防ぎ、高精度で移動・
位置決めできるステージ装置及びそのようなステージ装
置を搭載した露光装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態に係る露光装置の構造を説
明する側面図である。

【図２】リアクションバーユニットの詳細な構造を説明
する側面断面図である。

【図３】スキャン露光を行う露光装置の全体構造の一例
を模式的に示す図である。

【符号の説明】

１露光装置３ウェハチ
ャンバ５ベース７防振セッ
ト９支持構造物１１レチクル
チャンバ１３照明系電子鏡筒１５レチク
ルステージ装置１７リニアガイド（固定子支持機構）１９固定ガイド（固定子）２１移動ス
テージ（移動子）２３投影系電子鏡筒２５ウェハ
ステージ装置２７リニアガイド（固定子支持機構）２９固定ガ
イド（固定子）３１移動ステージ（移動子）３３リアク
ションバーユニット３４ケーシング３５フレー
ム３７、３９可動バー４１、４３
固定バー４５ダンパ付き弾性ユニット４７ダンパ
要素４８ばね要素４９アクチ
ュエータ５３、５４、５５、５６加速度計測用センサ５７、５９磁気センサ６１、６３
干渉計６５干渉計固定鏡

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】移動子と、該移動子を案内するガイドを有する固定子と、該固定子を移動可能に支持する固定子支持機構と、前記固定子にかかる前記移動子の駆動反力を受けるリア
クションバーと、を具備し、前記リアクションバーが、ダンパと、前記固定子の位置
を調整するアクチュエータと、を有し、前記移動子の加減速運動中は、加減速による反力を前記
リアクションバーを介して逃がし、前記移動子が実質的に等速運動を行っている間は、前記
リアクションバーのアクチュエータを駆動して前記固定
子の位置変動を抑制することを特徴とするステージ装
置。
【請求項２】前記固定子の位置変動による磁場変動
を、センサで計測するかシミュレーションにより求め、該磁場変動が許容値以下となるよう、前記固定子の位置
変動を抑制することを特徴とする請求項１記載のステー
ジ装置。
【請求項３】感応基板上に転写露光すべきパターンが
形成されたレチクルを前記感応基板と同期駆動（スキャ
ン）しながら、前記レチクルにエネルギ線を照射して前
記感応基板上にパターン形成するスキャン露光を行う露
光装置であって、前記感応基板及びレチクルを搭載するステージ装置が、前記感応基板又はレチクルが搭載される移動子と、該移動子を案内するガイドを有する固定子と、該固定子を移動可能に支持する固定子支持機構と、前記固定子にかかる前記移動子の駆動反力を受けるリア
クションバーと、を具備し、前記リアクションバーが、ダンパと、前記固定子の位置
を調整するアクチュエータと、を有し、前記移動子の加減速運動中は、加減速による反力を前記
リアクションバーを介して逃がし、スキャン露光中は、前記リアクションバーのアクチュエ
ータを駆動して前記固定子の位置変動を抑制することを
特徴とする露光装置。