KR101128913B1 - 비전 검사시스템 및 이를 이용한 좌표변환방법 - Google Patents

비전 검사시스템 및 이를 이용한 좌표변환방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101128913B1
KR101128913B1 KR1020090039713A KR20090039713A KR101128913B1 KR 101128913 B1 KR101128913 B1 KR 101128913B1 KR 1020090039713 A KR1020090039713 A KR 1020090039713A KR 20090039713 A KR20090039713 A KR 20090039713A KR 101128913 B1 KR101128913 B1 KR 101128913B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mark
coordinate value
image
stage
marks
Prior art date
Application number
KR1020090039713A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20100120864A (ko
Inventor
강성범
박희재
안우정
Original Assignee
에스엔유 프리시젼 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에스엔유 프리시젼 주식회사 filed Critical 에스엔유 프리시젼 주식회사
Priority to KR1020090039713A priority Critical patent/KR101128913B1/ko
Priority to PCT/KR2010/002253 priority patent/WO2010128759A2/ko
Priority to JP2012509722A priority patent/JP5424144B2/ja
Priority to CN201080020216.4A priority patent/CN102422121B/zh
Priority to TW099112993A priority patent/TWI457534B/zh
Publication of KR20100120864A publication Critical patent/KR20100120864A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101128913B1 publication Critical patent/KR101128913B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/03—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness by measuring coordinates of points
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/002—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring two or more coordinates
    • G01B11/005—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring two or more coordinates coordinate measuring machines
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
    • G01C11/00—Photogrammetry or videogrammetry, e.g. stereogrammetry; Photographic surveying
    • G01C11/02—Picture taking arrangements specially adapted for photogrammetry or photographic surveying, e.g. controlling overlapping of pictures
    • G01C11/025—Picture taking arrangements specially adapted for photogrammetry or photographic surveying, e.g. controlling overlapping of pictures by scanning the object
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
    • G01C3/00—Measuring distances in line of sight; Optical rangefinders
    • G01C3/10—Measuring distances in line of sight; Optical rangefinders using a parallactic triangle with variable angles and a base of fixed length in the observation station, e.g. in the instrument
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
    • G01C3/00—Measuring distances in line of sight; Optical rangefinders
    • G01C3/10—Measuring distances in line of sight; Optical rangefinders using a parallactic triangle with variable angles and a base of fixed length in the observation station, e.g. in the instrument
    • G01C3/14—Measuring distances in line of sight; Optical rangefinders using a parallactic triangle with variable angles and a base of fixed length in the observation station, e.g. in the instrument with binocular observation at a single point, e.g. stereoscopic type
    • G01C3/16—Measuring marks

Abstract

본 발명은 비전 검사시스템 및 이를 이용한 좌표변환방법에 관한 것으로서, 본 발명의 비전 검사시스템은 피검사체를 지지하는 테이블과, 상기 테이블을 Y방향으로 직선왕복이동시키는 스테이지와, 상기 피검사체 또는 상기 테이블의 이미지를 획득하기 위해 X방향을 따라 이격되게 배치되는 복수의 카메라들을 포함하는 비전 검사시스템에 있어서, 상기 Y방향과 교차하는 X방향을 따라 상기 테이블의 일단부에 이격되게 배치되는 복수의 제1마크들과, 상기 제1마크들 중 가장 좌측의 제1마크로부터 상기 테이블의 일측부에 상기 Y방향을 따라 이격되게 배치되며 상기 제1마크들 중 가장 우측의 제1마크로부터 상기 테이블의 타측부에 상기 Y방향을 따라 이격되게 배치되는 복수의 제2마크들;을 포함하며, 상기 제1마크들의 이미지를 획득하여 이미지 좌표값을 스테이지 좌표값으로 변환하고, 상기 제2마크들의 이미지를 획득하여 이미지 좌표값과 스테이지 좌표값을 피검사체를 기준으로 한 절대 좌표값으로 변환하며, 상기 피검사체를 기준으로 한 절대 좌표값은 상기 스테이지의 정확도가 보정된 좌표값인 것을 특징으로 한다.

Description

비전 검사시스템 및 이를 이용한 좌표변환방법{VISION INSPECTION SYSTEM AND METHOD FOR CONVERTING COORDINATES USING THE SAME}
본 발명은 비전 검사시스템 및 이를 이용한 좌표변환방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 피검사체를 지지하는 테이블에 마련된 기준 마크들을 이용하여 피검사체에 대한 절대좌표값을 생성할 수 있는 비전 검사시스템 및 이를 이용한 좌표변환방법에 관한 것이다.
비전(카메라)을 통해 피검사체, 예컨대 TFT-LCD, PDP, OEL 등의 평면디스플레이 상의 결함을 검사하는 비전 검사시스템은, 테이블과, 스테이지(stage)와, 카메라 등을 포함하고 있다. 테이블은 피검사체를 지지하며, 스테이지는 피검사체의 로딩(loading), 언로딩(unloading), 포지셔닝(positioning)을 위하여 피검사체가 안착된 테이블을 X축 또는 Y축 방향 직선 왕복운동시킨다. 카메라는 피검사체 또는 테이블의 이미지를 획득하는 것으로서, 평면디스플레이 패널의 크기가 점점 대형화됨에 따라 피검사체의 검사를 위하여 복수의 카메라들이 이용된다.
일반적인 비전 검사시스템은 피검사체의 결함(defect)을 마이크로미터 단위로 정밀하게 검사하고, 피검사체를 기준으로 한 절대좌표계를 생성하고 그 절대좌 표계 내에서 결함의 위치를 좌표값으로 표시한 후, 후속 공정의 장비 측에 결함에 대한 위치정보를 전달한다.
피검사체를 기준으로 한 정확한 절대좌표계를 생성하기 위하여, 카메라의 정렬 작업, 스테이지의 정확도(accuracy) 및 반복정밀도(repeatability) 측정 작업이 필요하다. 카메라의 정렬 작업을 통해 각각의 카메라로부터 획득된 이미지의 회전각, X축, Y축으로의 시프트(shift) 등을 보정할 수 있고, 스테이지의 정확도 및 반복정밀도 측정 작업을 통해 테이블을 이송시키고자 하는 목표 이송위치와 실제 테이블이 이송된 위치 간의 차이인 이송오차 또는 테이블이 X축 또는 Y축에 대하여 회전된 정도를 나타내는 회전오차를 보정할 수 있다.
그러나 카메라 정렬 작업에 있어서 복수의 카메라들의 정렬에 많은 시간과 노력이 소요될 뿐만 아니라, 카메라들의 정확한 정렬이 매우 곤란한 문제가 있다. 또한 카메라들의 위치는 진동, 충격, 기구적인 변형 등 많은 요인에 의하여 쉽게 변동되므로, 검사의 신뢰성과 재현성을 확보하기 위해서는 카메라들의 정렬을 정기적으로 실시해야 하는 문제점이 있다.
스테이지의 정확도 및 반복정밀도를 측정하기 위해서는 시스템과 인접한 위치에 레이저 인터페러미터(laser interferometer)를 설치하여 단위 구간마다 스테이지를 이송시키면서 데이터를 획득해야 하므로, 많은 시간과 노력이 소요되는 문제점이 있다. 스테이지의 정확도 및 반복정밀도 역시 진동, 충격, 기구적인 변형 등 많은 요인에 의하여 쉽게 변동되므로 정기적으로 실시해야 하는데, 피검사체의 제조 라인에서는 장시간 동안 검사 라인을 정지시킬 수 없는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 외부의 별도 장비를 이용하는 스테이지의 정확도 등의 보정 작업을 하지 않고, 비전 검사시스템 자체의 복수의 기준 마크들을 이용하여 피검사체의 검사 작업을 수행함과 동시에 스테이지의 정확도 보정 작업을 수행하여, 스테이지의 오차를 보정한 피검사체의 절대좌표계를 생성할 수 있는 수 있는 비전 검사시스템 및 이를 이용한 좌표변환방법을 제공함에 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 비전 검사시스템은, 피검사체를 지지하는 테이블과, 상기 테이블을 Y방향으로 직선왕복이동시키는 스테이지와, 상기 피검사체 또는 상기 테이블의 이미지를 획득하기 위해 X방향을 따라 이격되게 배치되는 복수의 카메라들을 포함하는 비전 검사시스템에 있어서, 상기 Y방향과 교차하는 X방향을 따라 상기 테이블의 일단부에 이격되게 배치되는 복수의 제1마크들과, 상기 제1마크들 중 가장 좌측의 제1마크로부터 상기 테이블의 일측부에 상기 Y방향을 따라 이격되게 배치되며 상기 제1마크들 중 가장 우측의 제1마크로부터 상기 테이블의 타측부에 상기 Y방향을 따라 이격되게 배치되는 복수의 제2마크들;을 포함하며, 상기 제1마크들의 이미지를 획득하여 이미지 좌표값을 스테이지 좌표값으로 변환하고, 상기 제2마크들의 이미지를 획득하여 이미지 좌표값과 스테이지 좌표값을 피검사체를 기준으로 한 절대 좌표값으로 변환하며, 상기 피검사체를 기준으로 한 절대 좌표값은 상기 스테이지의 정확도가 보정된 좌표값인 것을 특징으로 한다.
한편, 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 비전 검사시스템의 좌표변환방법은, 상기 비전 검사시스템을 이용하는 방법으로서, 상기 제1마크들의 이미지를 획득하는 제1마크 이미지 획득단계; 상기 제1마크의 이미지 좌표값과 상기 제1마크의 스테이지 절대 좌표값의 상관 관계를 이용하여 이미지 좌표값을 스테이지 좌표값으로 변환하는 제1변환식을 생성하는 제1변환식 생성단계; 상기 제2마크들의 이미지를 획득하는 제2마크 이미지 획득단계; 상기 제2마크의 이미지 좌표값과 상기 제2마크의 스테이지 좌표값의 상관 관계를 이용하여, 상기 테이블의 직선운동 중 상기 테이블이 X축에 대하여 기울어진 각도를 나타내는 회전오차를 계산하는 회전오차 계산단계; 상기 제2마크의 이미지 좌표값과 상기 제2마크의 스테이지 좌표값의 상관 관계를 이용하여, 상기 X축 또는 Y축을 따라 상기 테이블의 원하는 목표 이송위치와 실제 이송위치의 차이를 나타내는 이송오차를 계산하는 이송오차 계산단계; 상기 제1변환식에 상기 회전오차 및 상기 이송오차를 가감하여, 이미지 좌표값과 스테이지 좌표값을 피검사체를 기준으로 한 절대 좌표값으로 변환하는 제2변환식을 생성하는 제2변환식 생성단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 별도의 외부 측정장치를 이용하지 않고 테이블에 마련된 제2마크를 이용하여 피검사체의 검사 작업을 수행함과 동시에 스테이지의 정확도 보정 작업을 수행함으로써 스테이지의 정확도 및 반복정밀도 측정에 소요되는 시간 및 노력을 절감할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 진동, 충격, 기구적인 변형 등의 요인에 의하여 검사시스템이 변동되더라도 언제든지 피검사체의 검사 작업을 수행하면서 스테이지의 정확도 또는 반복정밀도 보정 작업을 수행할 수 있으므로, 장비의 유지 보수에 소요되는 경비를 절감할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 비전 검사시스템을 중지시키지 않고 스테이지의 정확도 또는 반복정밀도 보정 작업을 수행할 수 있으므로, 비전 검사시스템 및 피검사체의 검사 라인을 안정적으로 관리할 수 있다.
이하, 본 발명에 따른 비전 검사시스템 및 이를 이용한 좌표변환방법의 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 비전 검사시스템의 개략도이다.
도 1을 참조하면, 본 실시예의 비전 검사시스템(100)은 피검사체(2), 예컨대 평판디스플레이의 패널의 다양한 결함(4)을 검사 및 측정할 수 있는 것으로서, 테이블(120)과, 스테이지(130)와, 복수의 카메라(150)들과, 컴퓨터를 구비한다.
상기 테이블(120)은 피검사체(2)를 지지하는 것으로서, 프레임(110)의 상측에 배치되며, Y축 방향을 따라 운동 가능하도록 설치된다. 피검사체(2)는 테이블(120)의 상면에 설치된 클램프 등에 의하여 고정된다. 테이블(120)의 상면에 피검사체(2)가 놓여진 상태에서 테이블(120)이 Y축 방향을 따라 이동되면서 피검사 체(2)에 대한 검사가 이루어진다.
상기 스테이지(130)는 테이블(120)을 Y축 방향으로 직선 왕복이동시키는 것으로서, 본 실시예에서는 직선운동 구동력을 제공하는 리니어 모터와, 프레임(110)의 상면에 고정되고 테이블(120)의 직선운동을 가이드하는 한 쌍의 직선운동 가이드를 포함한다. 테이블(120)의 직선운동을 구현하기 위한 리니어 모터와 직선운동 가이드를 조합한 구성은 통상의 기술자에게 공지된 사항이므로 더이상의 상세한 설명은 생략한다. 한편, 스테이지(130)는 회전 구동력을 제공하는 회전모터와, 볼 스크루, 한 쌍의 직선운동 가이드로 구성될 수도 있다.
상기 카메라(150)들은 피검사체(2) 또는 테이블(120)의 이미지를 획득하기 위해 X방향을 따라 이격되게 배치된다. 본 실시예에서는 피검사체의 결함(4)을 마이크로미터 단위로 정밀하게 검사하고 그 이미지를 획득하기 위하여 해상도가 높은 라인스캔 카메라(Line Scan Camera)가 이용된다. 라인스캔 카메라는 1개의 수평 라인을 따라 피검사체(2)를 스캐닝하여 이미지를 획득한다. 복수의 라인스캔 카메라는 각각의 시야영역(Field Of View)(FOV1,FOV2,…,FOV8)에 따라 피검사체(2)의 이미지를 분할하여 스캐닝한다.
상기 컴퓨터(미도시)는 스테이지(130)와 카메라(150)들의 작동을 제어한다. 컴퓨터는 카메라(150)로부터 입력되는 이미지를 이미지 프로세싱 프로그램에 의하여 프로세싱하고, 그 결과로 획득되는 피검사체(2)의 이미지, 결함(4)의 검사 결과 등 일련의 데이터를 모니터 등의 출력장치를 통하여 출력한다.
테이블(120)의 상면에는 X방향을 따라 제1마크(M1,M2,…,M9)들이, Y방향을 따라 제2마크(Ma,Mb,Mc,Md,…)들이 마련되어 있다. 복수의 제1마크(M1,…,M9)들은 Y방향과 교차하는, 예컨대 Y방향과 직교하는 X방향을 따라 테이블(120)의 일단부에 일정 간격으로 이격되게 배치된다. 또한, 복수의 제2마크들 중 일부(Ma,Mc,Me…)는 제1마크들 중 가장 좌측의 제1마크(M1)로부터 테이블(120)의 일측부에 Y방향을 따라 일정 간격 이격되게 배치되며, 복수의 제2마크들 중 다른 일부(Mb,Md,Mf…)는 제1마크들 중 가장 우측의 제1마크(M9)로부터 테이블의 타측부에 Y방향을 따라 일정 간격 이격되게 배치된다.
제1마크(M1,…,M9)들 중 서로 인접하는 두 개의 마크들은 라인스캔 카메라 각각의 시야영역(FOV1,…,FOV8) 안에 들어오도록 배치되며, 시야영역(FOV1,…,FOV8)들 중 서로 인접하는 두 개의 시야영역들은 일정 거리 오버랩된다.
컴퓨터에는 제1마크(M1,…,M9)들과 제2마크(Ma,Mb,…)들의 스테이지 좌표값이 미리 저장되고, 카메라(150)로부터 입력되는 제1마크(M1,…,M9)들, 제2마크(Ma,Mb,…)들의 이미지로부터 이미지 좌표값이 산출되는데, 이미지의 기준픽셀을 영점으로 설정하고 영점픽셀로부터 몇번째 픽셀인지를 계산하여 X축 및 Y축 이미지 좌표값을 생성한다.
이하, 상술한 바와 같이 구성된 비전 검사시스템(100)를 이용하여 본 발명에 따른 비전 검사시스템의 좌표변환방법의 실시예에 대하여, 도 1 내지 도 3을 참조하면서 상세히 설명하기로 한다.
도 2는 도 1의 비전 검사시스템의 테이블, 제1마크들, 제2마크들 및 카메라들의 배치를 나타내는 도면이고, 도 3은 도 1의 비전 검사시스템의 테이블이 이송 오차 또는 회전오차에 의해 틀어진 모습을 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 비전 검사시스템의 좌표변환방법의 순서도이다.
본 실시예의 비전 검사시스템의 좌표변환방법을 설명하기 앞서, 회전오차와 이송오차를 다음과 같이 정의한다.
이상적인 경우라면 테이블(120)은 Y축에 따라 직선 왕복운동하므로 X축 또는 Y축에 대하여 기울어지는 경사각이 없을 것이다. 그러나 실제 경우에 있어서 제작 공차 또는 조립 공차로 인하여 테이블(120)의 직선 왕복운동시 X축 또는 Y축에 대하여 기울어짐 현상이 발생하는데, 본 명세서에서는 테이블(120)이 X축에 대하여 기울어진 각도를 회전오차로 정의한다.
또한, 스테이지(130)의 직선 왕복운동 시 스테이지(130)의 정확도(accuracy) 또는 반복정밀도로 인하여, 원하는 목표 이송위치와 실제 이송위치에서 차이가 나타나게 된다. 본 명세서에서 X축 또는 Y축을 따라 스테이지(130)를 이용하여 테이블(120)을 이송시킬 때 테이블(120)의 원하는 목표 이송위치와 실제 이송위치의 차이를 이송오차로 정의한다.
도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 실시예의 비전시스템의 좌표변환방법은 테이블에 형성된 기준 마크들을 이용하여 피검사체의 절대좌표계를 생성하는 방법으로서, 제1마크 이미지 획득단계(S110)와, 제1변환식 생성단계(S120)와, 제2마크 이미지 획득단계(S130)와, 회전오차 계산단계(S140)와, 이송오차 계산단계(S150)와, 제2변환식 생성단계(S160)를 포함한다.
우선, 제1마크(M1,…,M9)들의 스테이지 절대 좌표값과 제2마크(Ma,Mb,…)들 의 스테이지 절대 좌표값을 컴퓨터에 입력하여 각각 저장한다. 테이블(120)상의 임의의 지점을 원점으로 설정하고 그 원점과 각 마크의 X축, Y축 변위차가 스테이지 절대 좌표값이 된다.
본 명세서에서 스테이지 절대 좌표값이란 스테이지(130)의 회전오차 또는 이송오차를 포함하지 않는 정확한 목표 좌표값으로서, 작업자가 미리 정보를 가지고 있어서 컴퓨터에 저장하는 스테이지 좌표값으로 정의한다.
이후, 상기 제1마크 이미지 획득단계에서는 각각의 카메라(150)를 이용하여 제1마크(M1,…,M9)의 이미지를 각각 획득한다(S110). 도 2에 도시된 바와 같이, 서로 인접하는 두 개의 제1마크(M1,M2)(M2,M3)가 하나의 카메라(151)(152)의 시야영역 안에 들어오도록 제1마크(M1,M2)(M2,M3)의 이미지를 획득하고, 제1마크(M1,M2)(M2,M3)의 이미지로부터 제1마크의 이미지 좌표값을 산출한다.
상기 제1변환식 생성단계에서는 제1마크(M1,…,M9)의 이미지 좌표값과 제1마크(M1,…,M9)의 스테이지 절대 좌표값의 상관 관계를 이용하여 이미지 좌표값을 스테이지 좌표값으로 변환하는 제1변환식을 생성한다(S120).
제1변환식을 생성하기 위해서는 우선, 제1마크(M1,…,M9)의 스테이지 절대 좌표값과 제1마크의 이미지 좌표값을 이용하여 이미지의 픽셀당 스테이지 이송량을 의미하는 해상도를 계산한다(S121). X축 해상도(ReX)와 Y축 해상도(ReY)는 각각 하기식에 의해 표현된다.
Figure 112009027420817-pat00001
Figure 112009027420817-pat00002
여기서, ReX는 X축 해상도, ReY는 Y축 해상도, M1X는 카메라(150)에 의해 획득된 이미지 내의 한 쌍의 제1마크 중 어느 하나(M1)의 X축 스테이지 절대 좌표값, M1Y는 이미지 내의 한 쌍의 제1마크 중 어느 하나(M1)의 Y축 스테이지 절대 좌표값, M2X는 이미지 내의 한 쌍의 제1마크 중 다른 하나(M2)의 X축 스테이지 절대 좌표값, M2Y는 이미지 내의 한 쌍의 제1마크 중 다른 하나(M2)의 Y축 스테이지 절대 좌표값, m1x는 이미지 내의 한 쌍의 제1마크 중 어느 하나(M1)의 X축 이미지 좌표값, m1y는 이미지 내의 한 쌍의 제1마크 중 어느 하나(M1)의 Y축 이미지 좌표값, m2x는 이미지 내의 한 쌍의 제1마크 중 다른 하나(M2)의 X축 이미지 좌표값, m2y는 이미지 내의 한 쌍의 제1마크 중 다른 하나(M2)의 Y축 이미지 좌표값이다.
상기 단락에서는 가장 좌측의 카메라(151)의 시야영역(FOV1) 내의 제1마크(M1,M2)에 대하여 예로 들며 부재번호를 표시하였으나, 좌측으로부터 두번째 카메라(152)의 시야영역(FOV2) 내의 제1마크(M2,M3) 및 가장 우측의 카메라(158)의 시야영역(FOV8) 내의 제1마크(M8,M9)의 경우에도 동일하게 적용된다.
이후, 제1마크(M1,…,M9)의 스테이지 절대 좌표값, 제1마크(M1,…,M9)의 이미지 좌표값 및 해상도를 이용하여 카메라(150)의 X축에 대한 경사도를 계산한다. 각각의 카메라(150)의 X축에 대한 경사도인 θ는 하기식처럼 표현된다(S122).
Figure 112009027420817-pat00003
이후, 제1마크(M1,…,M9)의 스테이지 절대 좌표값, 제1마크의 이미지 좌표값, 해상도 및 경사도를 이용하여 이미지의 원점의 스테이지 좌표값을 계산한다(S123). 각각의 카메라(150)에 의해 획득된 각각의 이미지의 원점의 X축 스테이지 좌표값인 OX와, 이미지의 원점의 Y축 스테이지 좌표값인 OY는 하기식처럼 표현된다.
Figure 112009027420817-pat00004
Figure 112009027420817-pat00005
이후, 제1마크(M1,…,M9)의 이미지 좌표값, 해상도, 경사도 및 이미지의 원점의 스테이지 좌표값을 이용하여 이미지 좌표값을 스테이지 좌표값으로 변환하는 제1변환식을 생성한다(S124). 제1변환식은 하기식처럼 표현된다.
Figure 112009027420817-pat00006
Figure 112009027420817-pat00007
여기서, WX는 X축 스테이지 좌표값, WY는 Y축 스테이지 좌표값, OX는 이미지의 원점의 X축 스테이지 좌표값, OY는 이미지의 원점의 Y축 스테이지 좌표값, wx는 X축 이미지 좌표값, wy는 Y축 이미지 좌표값이다.
상기 제2마크 이미지 획득단계에서는 복수의 카메라(150)들 중 가장 좌측의 카메라(151) 및 가장 우측의 카메라(158)를 이용하여 제2마크(Ma,Mb,…)의 이미지 를 각각 획득한다(S130). 도 3에 도시된 바와 같이, 가장 좌측의 카메라를 이용하여 제2마크들 중 테이블(120)의 일단부에서 인접하게 배치된 2개의 제2마크(Ma,Mc)의 이미지를 획득하고, 가장 우측의 카메라(158)를 이용하여 테이블(120)의 타단부에서 인접하게 배치된 2개의 제2마크(Mb,Md)의 이미지를 획득하며, 제2마크의 이미지로부터 제2마크의 이미지 실제 좌표값을 산출한다.
본 명세서에서 이미지 실제 좌표값이란 회전오차 또는 이송오차를 포함하는 카메라(150)에 의해 실제 검출된 이미지 좌표값으로 정의한다.
상기 회전오차 계산단계에서는 제2마크(Ma,Mb,…)의 이미지 실제 좌표값과 제2마크(Ma,Mb,…)의 스테이지 실제 좌표값의 상관 관계를 이용하여 테이블(120)의 회전오차를 계산한다(S140).
회전오차를 계산하기 위하여 우선, 제2마크(Ma,Mb,…)들 중 가장 좌측의 제1마크(M1)와 이웃하는 하나를 마크a(Ma)로, 제2마크들 중 마크a로부터 X축을 따라 이격되게 배치된 하나를 마크b(Mb)로, 제2마크들 중 마크a(Ma)로부터 Y축을 따라 이격되게 배치되고 마크a와 인접하는 하나를 마크c(Mc)로, 제2마크들 중 마크c로부터 X축을 따라 이격되게 배치된 하나를 마크d(Md)로 설정한다(S141). 본 실시예에서 마크a(Ma)와 마크b(Mb)의 Y축 스테이지 절대 좌표값은 실질적으로 동일하고, 마크c(Mc)와 마크d(Md)의 Y축 스테이지 절대 좌표값 역시 실질적으로 동일하다.
이후, 마크a(Ma)와 마크b(Mb)를 잇는 직선의 X축에 대한 경사각ab(△θab)를 구한다(S142). 경사각ab(△θab)를 구하는 식은 하기식과 같이 표현된다.
Figure 112009027420817-pat00008
여기서, Ya'은 마크a(Ma)의 Y축 스테이지 실제 좌표값, Yb'는 마크b(Mb)의 Y축 스테이지 실제 좌표값, Xa는 마크a(Ma)의 X축 스테이지 절대 좌표값, Ya는 마크a(Ma)의 Y축 스테이지 절대 좌표값, Xb는 마크b(Mb)의 X축 스테이지 절대 좌표값, Yb는 마크b(Mb)의 Y축 스테이지 절대 좌표값이다.
본 명세서에서 스테이지 실제 좌표값이란 회전오차 또는 이송오차를 포함하는 스테이지 좌표값으로서 실제 검출된 이미지 실제 좌표값을 제1변환식에 대입하여 얻은 스테이지 좌표값으로 정의한다.
따라서, Ya'은 마크a(Ma)의 X축, Y축 이미지 실제 좌표값을 제1변환식에 대입하여 얻을 수 있고, Yb'은 마크b(Mb)의 X축, Y축 이미지 실제 좌표값을 제1변환식에 대입하여 얻을 수 있다.
이후, 마크c(Mc)와 마크d(Md)를 잇는 직선의 X축에 대한 경사각cd(△θcd)를 구한다(S143). 경사각cd(△θcd)를 구하는 식은 하기식과 같이 표현된다.
Figure 112009027420817-pat00009
여기서, Yc'은 마크c(Mc)의 Y축 스테이지 실제 좌표값, Yd'는 마크d(Md)의 Y축 스테이지 실제 좌표값, Xc는 마크c(Mc)의 X축 스테이지 절대 좌표값, Yc는 마크c(Mc)의 Y축 스테이지 절대 좌표값, Xd는 마크d(Md)의 X축 스테이지 절대 좌표값, Yd는 마크d(Md)의 Y축 스테이지 절대 좌표값이다.
따라서, Yc'은 마크c(Mc)의 X축, Y축 이미지 실제 좌표값을 제1변환식에 대 입하여 얻을 수 있고, Yd'은 마크d(Md)의 X축, Y축 이미지 실제 좌표값을 제1변환식에 대입하여 얻을 수 있다.
이후, Y축을 따라 마크a(Ma)와 마크c(Mc) 사이에서 경사각ab(△θab)로부터 경사각cd(△θcd)까지 선형적으로 변하도록 하여 테이블(120)의 회전오차를 계산하는 회전오차식을 생성한다(S144). 회전오차(△θ(X))를 구하는 식은 하기식과 같이 표현된다.
Figure 112009027420817-pat00010
여기서, α는 비례변수로서
Figure 112009027420817-pat00011
식에 의해 구해지며, Ytop은
Figure 112009027420817-pat00012
식에 의해 구해지고, Ybtm은
Figure 112009027420817-pat00013
식에 의해 구해진다.
상기 이송오차 계산단계에서는 제2마크(Ma,Mb,…)의 이미지 절대 좌표값과 제2마크(Ma,Mb,…)의 스테이지 실제 좌표값의 상관 관계를 이용하여, 테이블의 이송오차를 계산한다(S150).
본 명세서에서 이미지 절대 좌표값이란 스테이지 절대 좌표값을 제1변환식에 대입하여 얻은 좌표값으로서 회전오차 또는 이송오차를 포함하지 않는 이미지 좌표값으로 정의한다.
이송오차를 계산하기 위하여 우선, 마크a(Ma) 또는 마크b(Mb)의 이미지 절대 좌표값, 마크a(Ma) 또는 마크b(Mb)의 스테이지 실제 좌표값, 경사각ab(△θab)를 이 용하여 X축의 변화에 따른 마크a(Ma)와 마크b(Mb) 사이의 이송오차인 이송오차ab를 구한다(S151). 본 실시예에서는 마크a(Ma)의 이미지 절대 좌표값, 마크a(Ma)의 스테이지 실제 좌표값을 이용하였고, X축 이송오차ab(△Xab)와 Y축 이송오차ab(△Yab)를 구하는 식은 하기식과 같이 표현된다.
Figure 112009027420817-pat00014
Figure 112009027420817-pat00015
여기서, Xa'은 마크a(Ma)의 X축 스테이지 실제 좌표값, xa는 마크a(Ma)의 X축 이미지 절대 좌표값, ya는 마크a(Ma)의 Y축 이미지 절대 좌표값이며, 상기 xa는 마크a(Ma)의 X축, Y축 스테이지 절대 좌표값을 제1변환식에 대입하여 얻을 수 있고, 상기 ya는 마크a(Ma)의 X축, Y축 스테이지 절대 좌표값을 제1변환식에 대입하여 얻을 수 있다.
이후, 마크c(Mc) 또는 마크d(Md)의 이미지 절대 좌표값, 마크c(Mc) 또는 마크d(Md)의 스테이지 실제 좌표값, 경사각cd(△θcd)를 이용하여 X축의 변화에 따른 마크c(Mc)와 마크d(Md) 사이의 이송오차인 이송오차cd를 구한다(S152). 본 실시예에서는 마크c(Mc)의 이미지 절대 좌표값, 마크c(Mc)의 스테이지 실제 좌표값을 이용하였고, X축 이송오차cd(△Xcd)와 Y축 이송오차cd(△Ycd)를 구하는 식은 하기식과 같이 표현된다.
Figure 112009027420817-pat00016
Figure 112009027420817-pat00017
여기서, Xc'은 마크c(Mc)의 X축 스테이지 실제 좌표값, xc는 마크c(Mc)의 X축 이미지 절대 좌표값, yc는 마크c(Mc)의 Y축 이미지 절대 좌표값이며, 상기 xc는 마크c(Mc)의 X축, Y축 스테이지 절대 좌표값을 제1변환식에 대입하여 얻을 수 있고, 상기 yc는 마크c(Mc)의 X축, Y축 스테이지 절대 좌표값을 제1변환식에 대입하여 얻을 수 있다.
이후, Y축을 따라 마크a(Ma)와 마크c(Mc) 사이에서 이송오차ab로부터 이송오차cd까지 선형적으로 변하는 선형 이송오차항을 생성한다(S153). X축 선형 이송오차항과 Y축 선형 이송오차항은 하기식과 같이 표현된다.
Figure 112009027420817-pat00018
(X축 선형 이송오차항)
Figure 112009027420817-pat00019
(Y축 선형 이송오차항)
이후, 이웃하는 카메라의 경사각의 차이를 보정하는 카메라 각도보정항을 생성한다(S154). X축 카메라 각도보정항과 Y축 카메라 각도보정항은 하기식과 같이 표현된다.
Figure 112009027420817-pat00020
(X축 카메라 각도보정항)
Figure 112009027420817-pat00021
(Y축 카메라 각도보정항)
여기서, OX1은 복수의 카메라들 중 가장 좌측의 카메라(151)에 의해 획득된 이미지의 원점의 X축 스테이지 좌표값이고, OXn은 복수의 카메라들 중 좌측으로부 터 n번째 카메라에 의해 획득된 이미지의 원점의 X축 스테이지 좌표값이다.
이후, 선형 이송오차항과 카메라 각도보정항을 가감하여 이송오차를 계산하는 이송오차식을 생성한다(S155). X축 이송오차(△Xn)와 Y축 이송오차(△Yn)를 구하는 식은 하기식과 같이 표현된다.
Figure 112009027420817-pat00022
Figure 112009027420817-pat00023
상기 제2변환식 생성단계에서는 제1변환식에 회전오차 및 이송오차를 가감하여, 이미지 좌표값과 스테이지 좌표값을 피검사체(2)를 기준으로 한 절대 좌표값으로 변환하는 제2변환식을 생성한다(S160). 본 명세서에서 피검사체(2)를 기준으로 한 절대 좌표값이란 스테이지(130)의 이송오차 또는 회전오차를 보정하여 피검사체(2)를 기준으로 생성한 절대 좌표계 내의 좌표값으로 정의한다. 피검사체(2)를 기준으로 한 절대 좌표값은 스테이지 좌표값으로 표시된다. X축, Y축에 대한 제2변환식은 하기식과 같이 표현된다.
Figure 112009027420817-pat00024
Figure 112009027420817-pat00025
여기서, NWX는 피검사체(2)의 X축 스테이지 절대 좌표값이고, NWY는 피검사체(2)의 Y축 스테이지 절대 좌표값이다.
이후, 마크c(Mc), 마크d(Md), 마크e(Me), 마크f(Mf)에 의해 구획되는 영역을 카메라(150)가 스캐닝하는 동안에도 상기의 단계들을 반복하여 피검사체(2)를 기준 으로 한 절대 좌표값을 생성할 수 있고, 결국 Y축 방향을 따라 테이블(120)이 이송하면서 피검사체(2) 전 영역에 대하여 절대 좌표값을 생성할 수 있다.
상술한 바와 같이 구성된 본 실시예에 따른 비전 검사시스템 및 이를 이용한 좌표변환방법은, 별도의 외부 측정장치를 이용하지 않고 테이블에 마련된 제2마크를 이용하여 피검사체의 검사 작업을 수행함과 동시에 스테이지의 정확도 보정 작업을 수행함으로써, 스테이지의 정확도 및 반복정밀도 측정에 소요되는 시간 및 노력을 절감할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
또한, 진동, 충격, 기구적인 변형 등의 요인에 의하여 검사시스템이 변동되더라도 언제든지 피검사체의 검사 작업을 수행하면서 스테이지의 정확도 또는 반복정밀도 보정 작업을 수행할 수 있으므로, 장비의 유지 보수에 소요되는 경비를 절감할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
또한, 비전 검사시스템을 중지시키지 않고 스테이지의 정확도 또는 반복정밀도 보정 작업을 수행할 수 있으므로, 비전 검사시스템 및 피검사체의 검사 라인을 안정적으로 관리할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
본 발명의 권리범위는 상술한 실시예 및 변형례에 한정되는 것이 아니라 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 변형 가능한 다양한 범위까지 본 발명의 청구범위 기재의 범위 내에 있는 것으로 본다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 비전 검사시스템의 개략도이고,
도 2는 도 1의 비전 검사시스템의 테이블, 제1마크들, 제2마크들 및 카메라들의 배치를 나타내는 도면이고,
도 3은 도 1의 비전 검사시스템의 테이블이 이송오차 또는 회전오차에 의해 틀어진 모습을 개략적으로 나타내는 도면이고,
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 비전 검사시스템의 좌표변환방법의 순서도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
2 : 피검사체 4 : 결함
100 : 비전 검사시스템 120 : 테이블
130 : 스테이지 150 : 카메라
M1, M2, …, M9 : 제1마크
Ma, Mb, Mc, Md, … : 제2마크

Claims (5)

  1. 피검사체를 지지하는 테이블과, 상기 테이블을 Y방향으로 직선왕복이동시키는 스테이지와, 상기 피검사체 또는 상기 테이블의 이미지를 획득하기 위해 X방향을 따라 이격되게 배치되는 복수의 카메라들을 포함하는 비전 검사시스템에 있어서,
    상기 Y방향과 교차하는 X방향을 따라 상기 테이블의 일단부에 이격되게 배치되는 복수의 제1마크들과, 상기 제1마크들 중 가장 좌측의 제1마크로부터 상기 테이블의 일측부에 상기 Y방향을 따라 이격되게 배치되며 상기 제1마크들 중 가장 우측의 제1마크로부터 상기 테이블의 타측부에 상기 Y방향을 따라 이격되게 배치되는 복수의 제2마크들;을 포함하며,
    상기 제1마크들의 이미지를 획득하여 이미지 좌표값을 스테이지 좌표값으로 변환하고, 상기 제2마크들의 이미지를 획득하여 이미지 좌표값과 스테이지 좌표값을 피검사체를 기준으로 한 절대 좌표값으로 변환하며,
    상기 피검사체를 기준으로 한 절대 좌표값은 상기 스테이지의 정확도가 보정된 좌표값인 것을 특징으로 하는 비전 검사시스템.
  2. 제1항의 비전 검사시스템을 이용하는 방법으로서,
    상기 제1마크들의 이미지를 획득하는 제1마크 이미지 획득단계;
    상기 제1마크의 이미지 좌표값과 상기 제1마크의 스테이지 절대 좌표값의 상관 관계를 이용하여 이미지 좌표값을 스테이지 좌표값으로 변환하는 제1변환식을 생성하는 제1변환식 생성단계;
    상기 제2마크들의 이미지를 획득하는 제2마크 이미지 획득단계;
    상기 제2마크의 이미지 좌표값과 상기 제2마크의 스테이지 좌표값의 상관 관계를 이용하여, 상기 테이블의 직선운동 중 상기 테이블이 X축에 대하여 기울어진 각도를 나타내는 회전오차를 계산하는 회전오차 계산단계;
    상기 제2마크의 이미지 좌표값과 상기 제2마크의 스테이지 좌표값의 상관 관계를 이용하여, 상기 X축 또는 Y축을 따라 상기 테이블의 원하는 목표 이송위치와 실제 이송위치의 차이를 나타내는 이송오차를 계산하는 이송오차 계산단계;
    상기 제1변환식에 상기 회전오차 및 상기 이송오차를 가감하여, 이미지 좌표값과 스테이지 좌표값을 피검사체를 기준으로 한 절대 좌표값으로 변환하는 제2변환식을 생성하는 제2변환식 생성단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 비전 검사시스템의 좌표변환방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제1변환식 생성단계는,
    상기 제1마크의 스테이지 절대 좌표값과 상기 제1마크의 이미지 좌표값을 이용하여 이미지의 픽셀당 스테이지 이송량을 의미하는 해상도를 계산하는 단계;
    상기 제1마크의 스테이지 절대 좌표값, 상기 제1마크의 이미지 좌표값 및 상기 해상도를 이용하여 상기 카메라의 상기 X축에 대한 경사도를 계산하는 단계;
    상기 제1마크의 스테이지 절대 좌표값, 상기 제1마크의 이미지 좌표값, 상기 해상도 및 상기 경사도를 이용하여 이미지의 원점의 스테이지 좌표값을 계산하는 단계;
    상기 제1마크의 이미지 좌표값, 상기 해상도, 상기 경사도 및 상기 이미지의 원점의 스테이지 좌표값을 이용하여 이미지 좌표값을 스테이지 좌표값으로 변환하는 제1변환식을 생성하는 단계;를 포함하며,
    상기 스테이지 절대 좌표값은 상기 스테이지의 회전오차 또는 이송오차를 포함하지 않는 미리 정해진 좌표값인 것을 특징으로 하는 비전 검사시스템의 좌표변환방법.
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서,
    상기 회전오차 계산단계는,
    상기 제2마크들 중 어느 하나를 마크a로, 상기 제2마크들 중 상기 마크a로부터 상기 X축을 따라 이격되게 배치된 하나를 마크b로, 상기 제2마크들 중 상기 마크a로부터 상기 Y축을 따라 이격되게 배치된 하나를 마크c로, 상기 제2마크들 중 상기 마크c로부터 상기 X축을 따라 이격되게 배치된 하나를 마크d로 설정하는 단계;
    상기 마크a와 상기 마크b를 잇는 직선의 상기 X축에 대한 경사각ab을 구하는 단계;
    상기 마크c와 상기 마크d를 잇는 직선의 상기 X축에 대한 경사각cd를 구하는 단계;
    상기 Y축을 따라 상기 마크a와 상기 마크c 사이에서 상기 경사각ab로부터 상기 경사각cd까지 선형적으로 변하도록 하여 상기 테이블의 회전오차를 계산하는 회전오차식을 생성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 비전 검사시스템의 좌표변환방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 이송오차 계산단계는,
    상기 마크a 또는 상기 마크b의 이미지 절대 좌표값, 상기 마크a 또는 상기 마크b의 스테이지 실제 좌표값, 상기 경사각ab를 이용하여 상기 X축의 변화에 따른 상기 마크a와 상기 마크b 사이의 이송오차인 이송오차ab를 구하는 단계;
    상기 마크c 또는 상기 마크d의 이미지 절대 좌표값, 상기 마크c 또는 상기 마크d의 스테이지 실제 좌표값, 상기 경사각cd를 이용하여 상기 X축의 변화에 따른 상기 마크c와 상기 마크d 사이의 이송오차인 이송오차cd를 구하는 단계;
    상기 Y축을 따라 상기 마크a와 상기 마크c 사이에서 상기 이송오차ab로부터 상기 이송오차cd까지 선형적으로 변하는 선형 이송오차항을 생성하는 단계;
    이웃하는 카메라의 경사각의 차이를 보정하는 카메라 각도보정항을 생성하는 단계;
    상기 선형 이송오차항과 상기 카메라 각도보정항을 가감하여 상기 이송오차를 계산하는 이송오차식을 생성하는 단계;를 포함하며,
    상기 이미지 절대 좌표값은 상기 스테이지 절대 좌표값을 상기 제1변환식에 대입하여 얻은 좌표값으로서 회전오차 또는 이송오차를 포함하지 않는 이미지 좌표값이며, 상기 스테이지 실제 좌표값은 회전오차 또는 이송오차를 포함하는 스테이지 좌표값이며, 상기 이미지 실제 좌표값은 회전오차 또는 이송오차를 포함하는 실제 검출된 이미지 좌표값인 것을 특징으로 하는 비전 검사시스템의 좌표변환방법.
KR1020090039713A 2009-05-07 2009-05-07 비전 검사시스템 및 이를 이용한 좌표변환방법 KR101128913B1 (ko)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090039713A KR101128913B1 (ko) 2009-05-07 2009-05-07 비전 검사시스템 및 이를 이용한 좌표변환방법
PCT/KR2010/002253 WO2010128759A2 (ko) 2009-05-07 2010-04-13 비전 검사시스템 및 이를 이용한 좌표변환방법
JP2012509722A JP5424144B2 (ja) 2009-05-07 2010-04-13 ビジョン検査システム及びこれを用いた座標変換方法
CN201080020216.4A CN102422121B (zh) 2009-05-07 2010-04-13 视觉检测系统及利用该系统的坐标转换方法
TW099112993A TWI457534B (zh) 2009-05-07 2010-04-23 視覺檢測系統及利用該系統的座標變換方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090039713A KR101128913B1 (ko) 2009-05-07 2009-05-07 비전 검사시스템 및 이를 이용한 좌표변환방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100120864A KR20100120864A (ko) 2010-11-17
KR101128913B1 true KR101128913B1 (ko) 2012-03-27

Family

ID=43050594

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090039713A KR101128913B1 (ko) 2009-05-07 2009-05-07 비전 검사시스템 및 이를 이용한 좌표변환방법

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5424144B2 (ko)
KR (1) KR101128913B1 (ko)
CN (1) CN102422121B (ko)
TW (1) TWI457534B (ko)
WO (1) WO2010128759A2 (ko)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5674149B2 (ja) * 2011-05-30 2015-02-25 新東工業株式会社 ボールねじ軸の累積リード誤差測定装置及び測定方法
CN102810058B (zh) * 2011-05-31 2016-02-03 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 量测编程坐标系刷新系统及方法
CN104634246B (zh) * 2015-02-03 2017-04-12 李安澜 目标空间坐标的浮动式立体视觉测量系统及测量方法
FI127560B (en) 2015-06-24 2018-09-14 Murata Manufacturing Co Digital microcircuit and method for calculating inclinometer angles
CN108489994A (zh) * 2018-03-30 2018-09-04 湖北工程学院 卷对卷塑质面膜检验及控制方法
CN111247389B (zh) * 2019-03-29 2022-03-25 深圳市大疆创新科技有限公司 关于拍摄设备的数据处理方法、装置及图像处理设备
CN110320496B (zh) * 2019-06-25 2021-06-11 清华大学 一种室内定位方法及装置
KR102257055B1 (ko) 2020-11-30 2021-05-28 이재준 스마트 비전 얼라인먼트 시스템 및 이를 이용한 스마트 비전 얼라인먼트 방법
KR20230126012A (ko) * 2022-02-22 2023-08-29 엘에스일렉트릭(주) 아핀 변환의 파라미터 캘리브레이션 방법 및 이를 이용하는 모션 제어 시스템

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008083227A (ja) 2006-09-26 2008-04-10 Fujifilm Corp アライメントマーク位置測定装置及び方法、及び描画装置
KR100863700B1 (ko) 2008-02-18 2008-10-15 에스엔유 프리시젼 주식회사 비전 검사 시스템 및 이것을 이용한 피검사체의 검사 방법

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0807352A1 (en) * 1995-01-31 1997-11-19 Transcenic, Inc Spatial referenced photography
JP4660779B2 (ja) * 2000-08-18 2011-03-30 学校法人 中央大学 移動装置の位置誤差評価方法およびその評価結果に基づく移動精度向上方法
JP2003197502A (ja) * 2001-12-26 2003-07-11 Nikon Corp 計測方法及び露光方法、露光装置、並びにデバイス製造方法
JP4417121B2 (ja) * 2004-01-19 2010-02-17 株式会社ミツトヨ 被測定物の通り出し方法、及び表面性状測定装置
US20050175217A1 (en) * 2004-02-05 2005-08-11 Mueller Louis F. Using target images to determine a location of a stage
JP4522140B2 (ja) * 2004-05-14 2010-08-11 キヤノン株式会社 指標配置情報推定方法および情報処理装置
JP4889928B2 (ja) * 2004-08-09 2012-03-07 株式会社ミツトヨ 基準座標算出方法、基準座標算出プログラム、その記録媒体、定盤および形状測定装置
JP2007034168A (ja) * 2005-07-29 2007-02-08 Fujifilm Holdings Corp ステージ位置変動情報取得方法および装置
JP4261535B2 (ja) * 2005-09-28 2009-04-30 アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社 マスク検査装置におけるアライメント方法および評価方法
JP4884828B2 (ja) * 2006-05-01 2012-02-29 株式会社日本マイクロニクス 表示用パネルの処理装置
JP2009170559A (ja) * 2008-01-14 2009-07-30 Canon Inc 露光装置およびデバイス製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008083227A (ja) 2006-09-26 2008-04-10 Fujifilm Corp アライメントマーク位置測定装置及び方法、及び描画装置
KR100863700B1 (ko) 2008-02-18 2008-10-15 에스엔유 프리시젼 주식회사 비전 검사 시스템 및 이것을 이용한 피검사체의 검사 방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100120864A (ko) 2010-11-17
WO2010128759A2 (ko) 2010-11-11
CN102422121A (zh) 2012-04-18
JP5424144B2 (ja) 2014-02-26
WO2010128759A3 (ko) 2011-01-20
CN102422121B (zh) 2014-06-18
TW201107708A (en) 2011-03-01
JP2012526278A (ja) 2012-10-25
TWI457534B (zh) 2014-10-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101128913B1 (ko) 비전 검사시스템 및 이를 이용한 좌표변환방법
KR100863700B1 (ko) 비전 검사 시스템 및 이것을 이용한 피검사체의 검사 방법
KR101074901B1 (ko) 프로브 카드 분석기의 컴포넌트 편향 효과들을 완화시키는 방법
US20130194569A1 (en) Substrate inspection method
KR101202320B1 (ko) 정렬계를 이용한 계측 시스템과 정렬계의 시스템 변수 결정 방법
JP5840909B2 (ja) 検査装置及び方法
JP2006276454A (ja) 画像補正方法、およびこれを用いたパターン欠陥検査方法
KR101545186B1 (ko) 사전 정의된 목표 영상을 이용한 웨이퍼 패턴 결함 위치 보정 방법
JP2007085912A (ja) 位置測定方法及び位置測定装置並びに位置測定システム
JP2012242138A (ja) 形状計測装置
JP5152567B2 (ja) Ｔｆｔアレイ検査装置
JP5572247B2 (ja) 画像歪補正方法
JP5692669B2 (ja) 液晶アレイ検査装置および液晶アレイ検査装置の撮像画像取得方法
JP4299688B2 (ja) 基板検査方法及び基板検査装置
KR20130020404A (ko) 정렬계를　이용한 계측 시스템 및 위치 계측 방법
JP4840258B2 (ja) Ｘ線検査装置
JP2016205958A (ja) Ｘ−ｙ基板検査装置の可動ヘッド位置補正方法およびｘ−ｙ基板検査装置
JP2010019742A (ja) 真直度測定方法および真直度測定装置
KR20200044252A (ko) 표시 패널 검사 시스템, 표시 패널 검사 방법 및 이를 이용한 표시 패널.
TWI392845B (zh) 垂直度量測方法及其系統
JP6210841B2 (ja) Ｘ線三次元測定装置及びｘ線三次元測定方法
TW202136759A (zh) 在電子電路之製備中用於檢查圖案化物件之多個特徵之系統及方法
JP5472636B2 (ja) Ｔｆｔアレイ検査装置およびｔｆｔアレイ検査方法
KR20130042367A (ko) Ｘｙ 스테이지에 탑재된 측정장비의 위치보정방법
KR20220062636A (ko) 위치 측정 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150311

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee