JP2007085912A - 位置測定方法及び位置測定装置並びに位置測定システム - Google Patents

位置測定方法及び位置測定装置並びに位置測定システム Download PDF

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Abstract

【課題】 基板12上の測定対象箇所の位置を測定する際に、カメラA〜Cの移動量誤差及びカメラA〜Cの姿勢変動によるカメラA〜Cの視野位置の誤差が位置測定結果に及ばないようにする。
【解決手段】 基板12上の測定対象箇所をカメラA〜Cで撮像し、カメラA〜Cを前記撮像をしたときのまま動かさずにテーブル5だけをy方向に移動させて基板12上の基準スケール13をカメラA〜Cで撮像し、前記移動におけるテーブル5の移動量をリニアエンコーダにより測定し、得られた測定対象箇所の画像及び基準スケール13の画像並びにテーブル5の移動量を用いて測定対象箇所の位置を求めるようにしている。
【選択図】 図2

Description

本発明は、液晶パネル用のガラス基板などの基板に対し、基板上の測定対象箇所の位置を測定するための方法及び装置並びにそれを用いた位置測定システムに関する。
基板の製作寸法精度を検査するために、基台や移動テーブルの上に基板等の測定対象物を戴置し、測定対象物に対して相対的に移動可能なカメラで測定対象物を撮像し、撮像した画像を処理して測定対象箇所の位置を求めることが行われている。例えば、特許文献1には、固定ステージに測定対象物を戴置し、1方向に移動するステージに搭載したカメラで測定対象物を撮像することが記載されている。
特開2003−28611
基台上のテーブルの移動量については、精密に測定したり制御したりするのが比較的容易であるのに対し、テーブル上の測定対象物を上方から撮像するカメラの視野位置については、カメラの移動に伴って比較的大きな誤差が発生する。この視野位置の誤差には、カメラの移動量自体の誤差によるものと、カメラの姿勢が変化することによるものとがある。カメラの姿勢が変化することによる視野位置の誤差は、カメラの姿勢の変化に伴ってカメラの光軸方向が変化し、その結果計測対象物上の視野の位置が変化することによって発生する。
カメラの視野位置の誤差を機械的な精度によって十分小さくすることは難しい。特に、カメラの姿勢が変化することによる誤差は、わずかなカメラの傾きに対しても敏感に生じるため、誤差を十分小さくすることは非常に難しい。例えば、カメラと計測対象物との間の距離が200mmであるとすると、カメラの傾きが1/1000度生じるだけで、計測対象物上における視野の位置の変動は3.5μmの大きさとなる。カメラを移動させるたびにこの程度のカメラ姿勢の変動は避けがたく発生するが、この誤差は、液晶パネルのガラス基板を検査するときのような高精度の測定が要求されるときには許容できないものである。
本発明は、基板上の測定対象箇所の位置を測定する際に、カメラの移動量誤差及びカメラの姿勢変動によるカメラの視野位置の誤差が位置測定結果に及ばないようにすることを目的とする。
(1)この発明の位置測定方法は、基台と、前記基台の上で第1の方向に移動するテーブルと、前記テーブルの移動量を測定する移動量測定器と、前記基台に固定された架台と、前記架台に備えられ第1の方向と直交する第2の方向を可動方向とするカメラ移動機構と、前記カメラ移動機構に支持されて前記基台の上方で第2の方向に移動するカメラと、前記テーブルの移動方向に垂直な方向に沿ってテーブル上に備えられ前記カメラで撮像されたときにカメラの視野の位置についての情報を撮像された画像の中に与える基準スケールとを備えた位置測定装置を準備し、
前記テーブルに測定対象とする基板を戴置し、前記基板上の測定対象箇所及び基準スケールのいずれか一方を前記カメラで撮像し、前記カメラ移動機構を前記撮像をしたときのまま動かさずに前記テーブルだけを移動させて前記基板上の測定対象箇所及び基準スケールの他方を前記カメラで撮像し、前記移動におけるテーブルの移動量を前記移動量測定器により測定し、得られた測定対象箇所の画像及び基準スケールの画像並びにテーブルの移動量を用いて測定対象箇所の位置を求めるものである。
「移動量測定器」は、例えば、リニアエンコーダのようにテーブルの移動量を直接測定するものに限らず、テーブルの移動量の指令値から移動量を取得するような間接的にテーブルの移動量を測定するものであってもよい。
「架台」は、該架台に備えられるカメラ移動機構に支持されたカメラが、テーブル上に載置された基板や基準スケールを、上方から撮像できるように、基台上に、テーブルの移動領域を跨ぐように架設されるのが好ましい。
カメラは、第2の方向を可動方向するカメラ移動機構に支持されて前記第2の方向に移動するので、カメラ移動機構を動かすことによって、カメラを第2の方向に移動させることができる一方、カメラ移動機構を動かさないときには、カメラは移動せず、そのままである。
基準スケールは、テーブル上に備えられるので、この基準スケールを撮像したときのカメラの画像中に与えられるカメラの視野の位置の情報は、テーブルの位置を基準とした情報となる。この基準スケールは、前記テーブルの移動方向に垂直な方向に沿って、すなわち、カメラの移動方向である前記第2の方向に沿って備えられるので、カメラの移動方向の各移動位置において、この基準スケールを撮像することにより、視野の位置の情報を得ることができる。この基準スケールは、前記第1方向および前記第2の方向についての視野の位置の情報を与えるものであるのが好ましい。また、この基準スケールは、前記第1の方向および前記第2の方向の情報を与えるパターンを有するのが好ましく、前記パターンには、該パターンの前記両方向の座標値を与える情報を付加してもよい。
この発明の位置測定方法においては3種類の情報が利用される。利用される第1の情報は、基準スケールの画像である。この画像により基準スケール撮像時のカメラの視野の位置を求めることができる。この視野の位置は、基準スケール撮像時の基準スケールの位置、すなわちそのときのテーブルの位置を基準とした位置である。カメラの移動量の誤差とカメラの姿勢の変動とによって視野の位置に誤差が生じるのであるが、そのような視野の位置の誤差があっても、撮像した基準スケールの画像から求めた視野の位置を利用することにより、視野の位置の誤差が位置測定結果へ影響することがなくなる。
利用される第2の情報は、基準スケール撮像時と測定対象箇所撮像時との間のテーブルの移動量である。第1の情報及び第2の情報を用いると、基準スケール撮像時のテーブルの位置を基準とした測定対象箇所撮像時の視野の位置を求めることができる。
利用される第3の情報は、測定対象箇所の画像である。この画像により測定対象箇所撮像時のカメラの視野を基準とした測定対象箇所の位置を求めることができる。したがって、すべての情報を用いると、基準スケール撮像時のテーブルの位置を基準とした測定対象箇所の位置を求めることができる。テーブルの移動量を測定する際にテーブルと基台との間の相対位置関係が判明するのであれば、この発明の位置測定方法により基台を基準とした測定対象箇所の位置を求めることができる。
この発明の位置測定方法によれば、基板上の測定対象箇所の位置を測定する際に、基準スケールの撮像によって、カメラの移動量誤差とカメラの姿勢変動とによって生じるカメラの視野位置の誤差の影響が位置測定結果に及ばないようにすることが可能である。しかも、基板上の測定対象箇所及び基準スケールのいずれか一方をカメラで撮像してから、基板上の測定対象箇所及び基準スケールの他方をカメラで撮像するまでの間、カメラを動かさず、基台に対してカメラが静止しているので、この間にカメラの視野位置の誤差が発生することを防止することができる。これによって、測定対象箇所の位置の測定精度が向上する。
(2)この発明の位置測定方法の一つの実施形態は、前記位置測定装置を準備し、前記テーブルに測定対象とする基板を戴置し、前記基板上の測定対象箇所を前記カメラで撮像し、前記カメラ移動機構を前記撮像をしたときのまま動かさずに前記テーブルだけを移動させて基準スケールを前記カメラで撮像し、前記移動におけるテーブルの移動量を前記移動量測定器により測定し、得られた測定対象箇所の画像及び基準スケールの画像並びにテーブルの移動量を用いて測定対象箇所の位置を求めるものである。
この実施形態の位置測定方法では、測定対象箇所を撮像してから基準スケールを撮像する。ところで、この順序を逆にして基準スケールを撮像してから測定対象箇所を撮像することも考えられるが、その場合には、基板の戴置姿勢が面内で回転するようにずれていたり撮像対象の形成位置の精度が悪かったりなどの原因により、テーブル移動後の視野内に、想定に反して測定対象箇所が見つからないことがあり、そのときには、測定対象箇所が見つかる想定位置を変更しなければならない。これに伴いカメラの位置を動かした場合には、そのカメラを動かしたことによる誤差が生じる虞があるので、基準スケールを先に撮像する方法では、再度基準スケールの撮像からやり直さなければならない。
これに対して、測定対象箇所を撮像してから基準スケールを撮像する、この実施形態の位置測定方法では、測定対象箇所の想定位置を収めた視野内に、測定対象箇所が見つからなかった場合に、テーブル及びカメラのいずれか又は両方を少しずつ動かして測定対象箇所を探索し、測定対象箇所を撮像できた位置からカメラを動かさずにテーブルだけを動かし、基準スケールを撮像すればよいので、基準スケールの撮像をやり直す必要がない。
(3)上記(2)の実施形態において、前記位置測定装置を準備し、前記テーブルに測定対象とする基板を戴置し、前記基板上の第1の測定対象箇所を前記カメラで撮像し、前記カメラ移動機構を動かさずに前記テーブルに第1の移動をさせて基準スケールを前記カメラで撮像して基準スケールの第1の画像を得、第1の移動におけるテーブルの第1の移動量を前記移動量測定器により測定し、前記カメラ移動機構を動かさずに前記テーブルに第2の移動をさせて第2の測定対象箇所が存在すると想定される基板表面箇所を前記カメラで撮像し、
撮像した画像に第2の測定対象箇所が入っていればその画像を第2の測定対象箇所の画像として採用し、撮像した画像に第2の測定対象箇所が入っていなければ、第2の測定対象箇所の撮像に成功するまでテーブル又はカメラ移動機構を微動させて撮像することを繰り返し、
前記テーブルの第2の移動量を前記移動量測定器により測定し、又はテーブルに前記微動をさせたときには第2の移動量に微動分を加えた累積移動量を第2の移動量として前記移動量測定器により測定し、
第2の測定対象箇所の撮像に成功するまでにカメラ移動機構を動かした場合には、第2の測定対象箇所の撮像に成功したときの状態からカメラ移動機構を動かさずに前記テーブルに第3の移動をさせて基準スケールを前記カメラで撮像して基準スケールの第2の画像を得、テーブルの第3の移動量を前記移動量測定器により測定し、
得られた第1及び第2の測定対象箇所の画像、基準スケールの第1の画像並びにテーブルの第1及び第2の移動量、並びに存在するときには基準スケールの第2の画像及びテーブルの第3の移動量を用いて、第1及び第2の測定対象箇所の位置を求めるようにしてもよい。
この実施形態によれば、テーブルの移動方向に離間した2つの測定対象箇所の位置を少ないテーブル移動で測定することができる。
(4)上記(2)の実施形態において、互いに独立して移動できる第1のカメラ移動機構及び第2のカメラ移動機構と、第1のカメラ移動機構に支持される第1のカメラ及び第2のカメラ移動機構に支持される第2のカメラとを備え、第1及び第2のカメラの視野が互いにテーブルの移動方向に垂直な方向に離間している前記位置測定装置を準備し、前記テーブルに測定対象とする基板を戴置し、前記基板上の第1の測定対象箇所を第1のカメラで及び第2の測定対象箇所を第2のカメラで撮像し、第1及び第2のカメラ移動機構を動かさずに前記テーブルを移動させて基準スケールを第1及び第2のカメラでそれぞれ撮像し、前記移動におけるテーブルの移動量を前記移動量測定器により測定し、得られた第1及び第2の測定対象箇所の画像、第1及び第2のカメラでそれぞれ撮像した基準スケールの第1及び第2の画像並びにテーブルの移動量を用いて第1及び第2の測定対象箇所の位置を求めるようにしてもよい。
第1及び第2のカメラは、テーブルの移動方向に垂直な方向に離間した視野を確保できるように、テーブルの移動領域を跨ぐように、該テーブルの移動方向に垂直な方向に架け渡された架台に、第1及び第2のカメラ移動機構を介してそれぞれ支持されるのが好ましい。
第1及び第2のカメラによる第1及び第2の測定対象箇所の撮像、及び、第1及び第2のカメラによる基準スケールの撮像は、第1及び第2のカメラで同時にそれぞれ行うのが好ましい。
この実施形態によれば、2台のカメラを用いて、テーブルの移動方向に垂直な方向に離間した2つの測定対象箇所の位置を少ないテーブル移動で測定することができる。
(5)上記(2)の実施形態において、互いに独立して移動できる第1のカメラ移動機構及び第2のカメラ移動機構と、第1のカメラ移動機構に支持される第1のカメラ及び第2のカメラ移動機構に支持される第2のカメラとを備え、第1及び第2のカメラの視野が互いにテーブルの移動方向に垂直な方向に離間している前記位置測定装置を準備し、前記テーブルに測定対象とする基板を戴置し、前記基板上の第1の測定対象箇所を第1のカメラで撮像し、第1のカメラ移動機構を前記撮像をしたときのまま動かさずに前記テーブルに第1の移動をさせて前記基板上の第2の測定対象箇所を第2のカメラで撮像し、第1の移動におけるテーブルの第1の移動量を前記移動量測定器により測定し、第1及び第2のカメラ移動機構を動かさずに前記テーブルに第2の移動をさせて基準スケールを第1及び第2のカメラでそれぞれ撮像し、第2の移動におけるテーブルの第2の移動量を前記移動量測定器により測定し、得られた第1及び第2の測定対象箇所の画像、第1及び第2のカメラでそれぞれ撮像した基準スケールの第1及び第2の画像並びにテーブルの第1及び第2の移動量を用いて第1及び第2の測定対象箇所の位置を求めるようにしてもよい。
第2のカメラ移動機構を動かすことが第1のカメラの視野位置を変動させる可能性があるときは、第1の測定対象箇所の撮像から第2の測定対象箇所の撮像までの間において、第1のカメラ移動機構のみならず第2のカメラ移動機構も動かさないことが好ましい。したがって、第2のカメラで第2の測定対象箇所を撮像するために、第2のカメラ移動機構を動かす必要がある場合には、第1のカメラで第1の測定対象箇所を撮像する前に、予め第2のカメラ移動機構を動かしておくのが好ましい。
この実施形態によれば、2台のカメラを用いて、基板上の任意の位置の2つの測定対象箇所の位置を少ないテーブル移動で測定することができる。
この実施形態において、第1の測定対象箇所の撮像(第1の撮像)と第2の測定対象箇所の撮像(第2の撮像)との間に、第1のカメラ、第2のカメラ又は他のカメラを用いて他の測定対象箇所の撮像をしてもよい。その場合は、第1の撮像から第2の撮像までのテーブルの累積移動量(第1の撮像をしたときのテーブル位置から第2の撮像をしたときのテーブル位置までの距離)をテーブルの第1の移動量とする。
この実施形態において、第3のカメラ、第4のカメラ等のさらに多くのカメラをそれぞれのカメラ移動機構に支持させた位置測定装置を用い、カメラの数に対応した測定対象箇所をテーブルを移動させながら順次撮像し、各カメラによる基準スケールの撮像は共通のテーブル位置にて行うようにしてもよい。この場合において、測定対象箇所のうちの2以上がテーブルの移動方向に離間している場合にはそれらの測定対象箇所は共通のカメラで撮像することができるから、その分、カメラの数より多くの数の測定対象箇所の位置を測定することができる。
また、測定対象箇所のうちの2以上がテーブルの移動方向に垂直な方向に離間している場合にはそれらの測定対象箇所は共通のテーブル位置にて撮像することができる。いうまでもなく、カメラ移動機構を動かすのであれば、カメラの数にかかわらず測定可能な測定対象箇所の数に制限はない。ただし、カメラ移動機構を動かしてから次にそのカメラ移動機構を動かすまでの間にそれぞれ一度はそのカメラ移動機構に支持されるカメラで基準スケールの撮像を行わなければならない。
(6)上記(1)〜(5)のいずれかの位置測定方法において、前記基板上には撮像可能なパターンが設けられており、前記基板上の測定対象箇所は前記パターンから選ばれた少なくとも2箇所の基準マークであり、求めた少なくとも2箇所の基準マークの位置を用いて、さらに前記パターンの位置及び姿勢を求めるようにしてもよい。
(7)上記(1)〜(5)のいずれかの位置測定方法において、前記基板上には撮像可能なパターンが設けられており、前記基板上の測定対象箇所は前記パターンから選ばれた第1の点及び第2の点であり、求めた第1の点及び第2の点の位置を用いて、さらに第1の点と第2の点との間の距離を求めるようにしてもよい。
(8)上記(1)〜(5)のいずれかの位置測定方法において、前記基板上には撮像可能なパターンが設けられており、前記基板上の測定対象箇所は前記パターンから選ばれた第1、第2、第3及び第4の点であり、求めた第1、第2、第3及び第4の点の位置を用いて、さらに第1の点と第2の点とを結ぶ直線と、第3の点と第4の点とを結ぶ直線とがなす角度を求めるようにしてもよい。
第2の点と第3の点とは共通な1つの点としてもよい。
この実施形態によれば、パターンのひずみについての情報を得ることができる。特に2つの直線が直交することが想定されるように測定対象の点を選ぶ場合には、直交度を測定することとなって感度の高いひずみ情報を得ることができる。
(9)この発明の位置測定装置は、基台と、前記基台の上で第1の方向に移動するテーブルと、前記テーブルの移動量を測定する移動量測定器と、前記基台に固定された架台と、前記架台に備えられ第1の方向と直交する第2の方向を可動方向とするカメラ移動機構と、前記カメラ移動機構に支持されて前記基台の上方で第2の方向に移動するカメラと、前記テーブルの移動方向に垂直な方向に沿ってテーブル上に備えられ前記カメラで撮像されたときにカメラの視野の位置についての情報を撮像された画像の中に与える基準スケールとを備えている。
本発明の位置測定装置によれば、基準スケールの撮像によってカメラの移動量誤差とカメラの姿勢変動とによって生じるカメラの視野位置の誤差の影響が位置測定結果に及ばないようにすることが可能である。
しかも、基板上の測定対象箇所と基準スケールとを撮像する間、基台に対してカメラが静止しているので、この間にカメラの視野位置の誤差が発生することを防止することができる。これによって、測定対象箇所の位置の測定精度が向上する。
(10)この発明の位置測定装置の一つの実施形態では、前記基準スケールは、前記テーブル上の基板が戴置されるべき領域を挟んで、テーブルの移動方向の両側に備えられている。
この実施形態によれば、両側の基準スケール同士の位置関係が分かっていると、いずれの基準スケールも利用することができるので、利用する基準スケールを適宜選択することにより、テーブルの移動量を少なくすることができる。
(11)この発明の位置測定システムは、上記(9)又は(10)の位置測定装置と、前記位置測定装置に接続されて相互に情報伝送可能とされた制御装置とを備え、前記制御装置は、制御プログラムを実行するコンピュータを備え、前記制御プログラムは、前記位置測定装置のテーブルに戴置された基板上の測定対象箇所及び基準スケールのいずれか一方を前記カメラで撮像し、前記カメラ移動機構を前記撮像をしたときのまま動かさずに前記テーブルだけを移動させて前記基板上の測定対象箇所及び基準スケールの他方を前記カメラで撮像し、前記移動におけるテーブルの移動量を前記移動量測定器により測定し、得られた測定対象箇所の画像及び基準スケールの画像並びにテーブルの移動量を用いて測定対象箇所の位置を求める、ステップを備えるものである。
この発明の位置測定システムによれば、基板上の測定対象箇所の位置を測定する際に、基準スケールの撮像によってカメラの移動量誤差とカメラの姿勢変動とによって生じるカメラの視野位置の誤差の影響が位置測定結果に及ばないようにことが可能である。しかも、基板上の測定対象箇所と基準スケールとを撮像する間、基台に対してカメラが静止しているので、この間にカメラの視野位置の誤差が発生することを防止することができる。これによって、測定対象箇所の位置の測定精度が向上する。
本発明によれば、基板上の測定対象箇所の位置を測定する際に、基準スケールの撮像によってカメラの移動量誤差とカメラの姿勢変動とによって生じるカメラの視野位置の誤差の影響が位置測定結果に及ばないようにすることが可能であり、しかも、基板上の測定対象箇所と基準スケールとを撮像する間、基台に対してカメラが静止しているので、この間にカメラの視野位置の誤差が発生することを防止することができる。これによって、測定対象箇所の位置の測定精度が向上する。
以下、本発明の実施の形態について、図面に基づいて詳細に説明する。
図1は、本発明の一つの実施の形態に係る位置測定システムの概略構成を示す斜視図であり、図2は、位置測定装置の平面図である。
この実施形態の位置測定システムは、図1に示すように、位置測定装置1と、この位置測定装置1に相互に情報伝送可能に接続された制御装置2とを備えており、制御装置2は、位置測定装置1を制御する制御プログラムを実行するコンピュータを内蔵している。
位置測定装置1は、グラナイトなどの石製の基台3と、その上に設置された一対のガイドレール4に沿って移動可能なテーブル5と、このテーブル5を跨ぐ形で基台3上の固定位置に架設された門型の架台6と、この架台6内に設けられた図示しない複数のカメラ移動機構と、各カメラ移動機構に支持された複数台(この実施形態では3台)のカメラA〜Cとを備えている。
矩形板状のテーブル5は、図示しないリニアモータなどの駆動機構によって第1の方向である図のy方向(図2の左右方向)に移動可能である。各カメラA〜Cは、第1の方向に直交する第2の方向である図のx方向(図2の上下方向)を可動方向とする各カメラ移動機構によって、x方向に互いに独立して移動可能である。
基台3上には、テーブル5の移動方向であるy方向に沿って延びるリニアスケール10が設けられる一方、テーブル5の下面には、該テーブル5と一体的に移動する図示しないエンコーダヘッドが設置されており、リニアスケール10とエンコーダヘッドとによって、テーブル5のy方向の移動量を測定する移動量測定器としてのリニアエンコーダが構成される。
リニアスケール10およびエンコーダヘッドは、それぞれ2つ設置されて2つのリニアエンコーダが構成されており、各リニアエンコーダは、それぞれテーブル5の図1における手前側と向こう側の移動量を測定する。
各エンコーダヘッドには、投光部と受光部が備えられ、投光部から出射されてリニアスケール10で変調された反射光を受光部で受けることにより、テーブル5の移動量に応じた数のパルス信号を得ることができる。また、各リニアスケール10の1箇所には原点パターンが設けられていることにより、テーブル位置の原点信号を得ることもできる。リニアスケール10が2つ設けられているのは、テーブル5の姿勢のヨーイング(水平面内回転)によって発生するテーブル移動量の誤差を補正するためである。
リニアエンコーダに代えて、レーザ干渉計やその他各種の公知の移動量測定器を用いることができる。
基台3上には、テーブル5の側面に対向するようにレーザ変位計11が設置されており、このレーザ変位計11によって、テーブル5の側面を対象物として変位計測が行われる。
このレーザ変位計11は、対象物にレーザビームを照射する投光光学系と、対象物からの反射光を受光レンズを介して位置検出素子で受光する受光光学系とを備え、投光光軸と受光光軸とは対象物付近で所定の交叉角で交わっており、対象物上のレーザビームのスポットが位置検出素子上に結像されて生じるビームスポット像の位置が、対象物までの距離が変化したときに変位することを利用して、三角測距の原理により対象物までの距離又は距離の変化量を求めるものである。このレーザ変位計11による変位計測結果は、テーブル5の移動に伴うテーブル5のx方向の変位量を示す値として、テーブル5上に載置される測定対象としての基板12上の測定対象箇所についての位置測定結果の補正に利用される。図1、2にはレーザ変位計11を図示するが、以降の図面においてはレーザ変位計11の図示を省略する。
測定対象である基板12が載置されるテーブル5は、基台3と同様にグラナイトなどの石製であり、このテーブル5には、基板12を当接させて位置決めするための位置決めピンや、基板12の下から空気を吸引して基板12をテーブル5に密着させるための吸着孔が設けられている。
また、テーブル5上の一端(図の左端)寄りには、テーブル5の移動方向(y方向)に垂直なx方向に延びる基準スケール13が設置されており、この基準スケール13は、各カメラA〜Cで撮像されたときに各カメラA〜Cの視野の位置についての情報を撮像画像中に与えるものである。
基板12は、例えば、液晶パネル用のガラス基板であり、x方向に730mm、y方向に920mmの大きさがある。基板12上には、金属膜のエッチングにより、基準マークと図示しない配線パターンとが形成されている。図2の十字マークP、Q、R、Sは基準マークである。この基板12の全域にわたって±0.5μmの精度での位置測定が求められている。
架台6に内蔵される各カメラ移動機構は、テーブル5上に載置された基板12を撮像する各カメラA〜Cを、x方向に移動させるものである。このカメラ移動機構は、リニアエンコーダを備えており、このリニアエンコーダで各カメラA〜Cのx方向の移動量を測定しながら、制御装置2から指令されたx座標に各カメラA〜Cを移動させる。カメラ移動量の誤差は、基準スケール13の撮像によって補正されるので、このリニアエンコーダは分解能が例えば1μm程度の粗いものであっても支障がない。
各カメラA〜Cは、顕微鏡のように対物レンズを有する構成となっており、2次元CCD撮像素子を備える。対物レンズの交換により撮像倍率を変更できるようになっている。最も倍率を高くしたときの基板12上における視野の大きさは図2のx方向に144μm、y方向に110μmである。
制御装置2は、キーボードとディスプレイとを備えており、位置測定装置1に対してリアルタイムに指令を送ったり、位置測定装置1で撮像した画像を観察したり、位置測定装置1を制御するプログラムを入力したりできるようになっている。位置測定装置1を制御するプログラムは、ネットワークを経由して、外部からダウンロードすることもできる。
図3は、図2の基準スケール13の一部を拡大して示す図であり、図2のx方向(上下方向)が、図3の上下方向に対応し、図2のy方向(左右方向)が、図3の左右方向に対応している。
この基準スケール13は、ソーダガラスなどのガラス製であり、この実施形態では、x方向(上下方向)に100μm周期の繰り返しパターンが形成されている。この繰り返しパターンは、横長の矩形パターン内の中央に、十字パターンが、矩形パターンの左右の辺とは連結することなく、上下の辺と連結するように配置されたパターンである。
この矩形パターンは、そのx方向(上下方向)の長さが100μm、そのy方向(左右方向)の長さが200μmであり、中央の十字パターンのy方向(左右方向)の長さは、100μmであり、パターンを構成する各線の線幅は、10μmとなっている。
カメラA〜Cの移動量誤差とカメラA〜Cの姿勢変動とによって生じるカメラA〜Cの視野の位置の変動は、機械的精度によって100μmよりも十分小さくなるように作られている。したがって、x方向のカメラ位置の指令値又は測定値を用いることにより、基準スケール13のいずれの周期のパターンを見ているのか不定になることがなく、基準スケール13を撮像すれば、視野内の基準スケール13のパターン上の点(例えば視野中心に最も近い十字パターンの中心)の、テーブル5を基準とした座標系におけるx座標を知ることができ、このパターン上の点のx座標からテーブル5を基準とした座標系における視野中心のx座標を知ることができる。
y方向の視野の変動も100μmよりも十分小さいので、テーブル5を所定の位置に移動させれば基準スケール13を確実にカメラA〜Cの視野に入れることができ、撮像した基準スケール13の画像より、このときの視野中心のy座標を知ることができる。こうして求めた視野中心のx座標及びy座標が、測定対象箇所の座標を求めるときの補正に用いられる。
なお、カメラA〜Cの視野に少なくとも1つは入るような間隔で、基準スケール13のパターンにその箇所の座標の情報を数字であるいは図形にコード化して追加し、撮像した画像から座標の値を直接読み取るようにしてもよい。そうすれば、カメラ位置やテーブル位置の指令値や測定値を使わなくても撮像した画像だけから視野中心の座標を求めることができる。
図4は、この位置測定装置1を用いた基板12の測定対象箇所の測定手順の概略を示しており、先ず、テーブル5に基板12を載置し(ステップn1)、後述するようにして測定を実行し(ステップn2)、テーブル5から基板12を回収し(ステップn3)、終了するものである。
次に、ステップn2における測定の詳細を、いくつかの具体例に適用して説明する。
図5は、カメラAを用いて、基板12上の測定対象箇所である基準マークPの座標の測定手順を示すものであり、各ステップ1〜3におけるテーブルとカメラの位置関係および処理の内容を示している。
ここで、基準マークPの座標とは、図2の十字マークPの中心座標を意味する。十字マークPのことを簡単に点Pともいう。
ステップ1では、カメラAの視野内に点Pが収まると想定される位置関係になるように、カメラ移動機構を移動してカメラAをx方向に移動させるとともに、テーブル5をy方向に移動させてテーブル5とカメラAの位置関係を、図6に示す状態aとし、カメラAで基板12の点Pを撮像する。
カメラAおよびテーブル5の移動は、同時に行うのが好ましいが、順番に行ってもよい。
また、以下の説明においては、測定対象箇所や基準スケール13を撮像するカメラの移動について説明するが、撮像するカメラの移動を妨げないように、撮像を行わない他のカメラも必要に応じてx方向に移動させるものである。
このステップ1において、点Pが存在すると想定される箇所をカメラAで撮像しても点Pが視野の中に入っていなかった場合は、カメラA及びテーブル5を微動させて、例えば、図9に示すように、斜線で示される最初の撮像位置Zを囲む領域を、点Pが視野に入るまで、例えば8回に分けて撮像する。それでも点Pを撮像することができなければ、さらにその外側の領域を、点Pが視野に入るまで、多数回に分けて撮像していく。
なお、図9では、斜線で示される最初の撮像位置Zからテーブル5をy方向に1回微動させて撮像し、点Pが視野内に入っていなかったので、更にカメラAをx方向に1回微動させて撮像し、点Pが視野内に入った例を示しており、2回目の撮像で点Pが視野内に入っていなかった場合の撮像位置の微動を仮想線で示している。
次に、図5のステップ2では、点Pを撮像したときのままカメラ移動機構を動かすことなく、すなわち、カメラAを静止させたまま、テーブル5だけをy方向に移動させてテーブル5とカメラAの位置関係を図7に示す状態bとし、カメラAで基準スケール13を撮像する。
ステップ3では、画像処理と演算とによって、点Pの座標を算出する。
図8は、この画像処理と演算とによる点Pの座標の算出を説明するために、点Pを撮像したときの視野および基準スケール13を撮像したときの視野とテーブル5との位置関係を概略的に示したものである。
先ず、点Pを撮像した画像を処理して図8(a)に示す視野中心Oを原点とする視野座標系における点Pの座標(x1,y1)を求める。
次に、点Pを撮像した状態からカメラAを動かすことなく、テーブル5のみを移動させて撮像した基準スケール13の画像を処理して図8(b)に示す基準スケール撮像時のテーブル座標系における視野中心Oの座標(X1,Y1)を求める。このときにx方向のカメラ位置の指令値又は測定値及びy方向のテーブル位置の指令値又は測定値も用いて視野中心Oの座標(X1,Y1)を求める。すなわち、指令値又は測定値に基いて、撮像画像内の基準スケール13のパターン上の点のテーブル座標系におけるx,y方向の座標を知ることができるので、このパターンと視野中心Oとの位置関係からテーブル座標系における視野中心Oの座標(X1,Y1)を求めるのである。
更に、点Pを撮像してから基準スケール13を撮像するまでのテーブル5の移動量としてリニアエンコーダによる移動量の測定値Δyを取得する。テーブル移動量の指令値がリニアエンコーダによる測定値Δyと一致することが保証されている場合には、この指令値をテーブル5の移動量として取得してもよい。この場合は、間接的にリニアエンコーダによるテーブル5の移動量の測定値を取得したことになる。
図8(b)で求めた基準スケール撮像時のテーブル座標系における視野中心Oのx座標X1に、図8(a)の視野座標系における点Pのx座標x1を加算した値(X1+x1)がテーブル座標系における点Pのx座標である。
図8(b)で求めた基準スケール撮像時のテーブル座標系における視野中心Oのy座標Y1に、テーブル移動量Δyと、図8(a)の視野座標系における点Pのy座標y1とを加算した値(Y1+Δy+y1)がテーブル座標系における点Pのy座標である。
なお、テーブル5の移動量を測定する際にテーブル5と基台3との間の相対位置関係が判明するのであれば、基台3を基準とした測定対象箇所である点Pの位置を求めることができる。
以上のようにして点Pの座標(位置)を、基準スケール13を撮像した画像及びテーブル5の移動量並びに点Pを撮像した画像という3種類の情報を利用して求めるものである。
この3種類の情報の内の第1の情報である基準スケール13を撮像した画像により、上述のように基準スケール撮像時のカメラAの視野の位置(X1,Y1)を求めることができる。この視野の位置は、基準スケール撮像時の基準スケール13の位置、すなわちそのときのテーブル5の位置を基準とした位置である。カメラAの移動量の誤差とカメラAの姿勢の変動とによって視野の位置に誤差が生じるのであるが、そのような視野の位置の誤差があっても、撮像した基準スケール13の画像から求めた視野の位置(X1,Y1)を利用することにより、視野の位置の誤差が位置測定結果へ影響することがなくなる。
つまり、カメラの移動量誤差および姿勢変動による誤差が生じていても、テーブル5上の基準スケール13を撮像することにより、その視野内の基準スケール13のパターンとの位置関係から視野位置の座標(X1,Y1)を求め、この座標(X1,Y1)を利用することによって、視野の位置の誤差による位置測定結果への影響を排除するものである。
第2の情報である基準スケール撮像時と点P撮像時との間のテーブル5の移動量Δyと、第1の情報である視野位置の座標(X1,Y1)とを用いると、基準スケール撮像時のテーブル5の位置を基準とした点P撮像時の視野の位置を求めることができる。
更に、第3の情報である点Pを撮像した画像により、上述のように点P撮像時のカメラAの視野を基準とした点Pの位置(x1,y1)を求めることができる。したがって、すべての情報を用いることにより、基準スケール撮像時のテーブル5の位置を基準とした点Pの位置(X1+x1,Y1+Δy+y1)を求めることができる。
以上のようにして、基板12上の測定対象箇所である点Pの位置を測定する際に、基準スケール13を撮像することによって、カメラAの移動量誤差とカメラAの姿勢変動とによって生じるカメラの視野位置の誤差の影響が位置測定結果に及ばないようにすることが可能である。しかも、基板12上の点Pと基準スケール13とを撮像する間、基台3に対してカメラAが静止しているので、この間にカメラAの視野位置の誤差が発生することを防止することができる。これによって、測定対象箇所である点Pの位置の測定精度が向上する。
上述の図5の位置測定方法では、測定対象箇所である点Pを撮像してから基準スケール13を撮像したが、この順序を逆にして基準スケール13を撮像してから点Pを撮像することも考えられるが、その場合には、基板12の戴置姿勢が面内で回転するようにずれていたり、撮像対象の形成位置の精度が悪かったりなどの原因により、テーブル移動後の視野内に、想定に反して点Pが見つからないことがあり、そのときには、上述のとおり図9に示すようにして、点Pが見つかる想定位置を変更しなければならない。
これに伴ってカメラAの位置を動かした場合には、動かしたことによってカメラAに移動量誤差と姿勢変動とによって視野位置の誤差が生じるので、基準スケール13を先に撮像する方法では、再度、基準スケール13の撮像からやり直さなければならない。
これに対して、点Pを撮像してから基準スケール13を撮像する方法では、点Pの想定位置を収めた視野内に点Pが見つからなかった場合に、テーブル5及びカメラAのいずれか又は両方を少しずつ動かして点Pを探索し、点Pを撮像できた位置からカメラAを動かさずにテーブル5だけを動かし、基準スケール13を撮像すればよいので、基準スケール13の撮像をやり直す必要がない。
図10は、カメラAを用いて基板12の基準マークP,Q,R,Sの座標及び関連寸法並びに角度の測定手順を示す図である。
点P,Qおよび点R,Sは、図2に示すように、それぞれテーブル5の移動方向に離間した2つの測定対象箇所であり、点P,Qおよび点R,Sの順序で撮像するようにしている。
先ず、上述の図5と同様に、ステップ1では、図6の状態aとし、カメラAで第1の測定対象箇所としての点Pを撮像し、ステップ2では、カメラ移動機構を動かすことなく、すなわち、カメラAをx方向に移動させることなく、テーブル5だけを、y方向に移動させて第1の移動を行い、図7の状態bとし、カメラAで基準スケール13を撮像して基準スケール13の第1の画像を取得する。
次に、ステップ3では、カメラ移動機構を動かすことなく、すなわち、カメラAをx方向に移動させることなく、テーブル5だけを、y方向に移動させて第2の移動を行い、テーブル5とカメラAの位置関係を、図11に示す状態cとし、カメラAで第2の測定対象箇所である点Qを撮像する。
このとき、カメラAの視野の中に、点Qがなかった場合は、点Pについて図9を用いて説明したのと同様に、カメラA及びテーブル5を微動させて点Qを探索して撮像する。
この点Qの探索の際に、カメラAをx方向に微動させて点Qを撮像したときには、ステップ4に移り、テーブル5のみをy方向に移動させて第3の移動を行い、テーブル5とカメラAの位置関係を、図12に示す状態b’とし、カメラAで基準スケール13を撮像して基準スケール13の第2の画像を取得し、ステップ5に移る。
また、点Qの探索の際に、テーブル5をy方向に微動させて点Qを撮像したときには、上記第2の移動の移動量(第2の移動量)に、微動分を加えた累積移動量を、第2の移動量とする。
上記ステップ3において、カメラAの視野の中に、点Qが存在し、探索の必要が無かった場合、又は、探索は行ったがカメラAを微動させなかった場合には、カメラAは、ステップ2で基準スケール13を撮像した状態のまま動かしていないので、カメラAで基準スケール13を撮像する上記ステップ4をスキップし、ステップ5に移る。
テーブル5の移動方向に離間した点P,Qの座標は、後述のステップ9において算出される。

次に、点R,Sについても点P,Qと同様に、ステップ5では、カメラAをx方向に移動させるとともに、テーブル5をy方向に移動させてテーブル5とカメラAの位置関係を、図13に示す状態dとし、カメラAで第1の測定対象箇所としての点Rを撮像する。
次に、ステップ6では、カメラAをx方向に移動させることなく、テーブル5だけをy方向に移動(第1の移動)させてテーブル5とカメラAの位置関係を、図14に示す状態eとし、カメラAで基準スケール13を撮像する。
次に、ステップ7では、カメラAをx方向に移動させることなく、テーブル5だけをy方向に移動(第2の移動)させてテーブル5とカメラAの位置関係を、図15に示す状態fとし、カメラAで点Sを撮像する。このとき、カメラAの視野の中に、点Sがなかった場合は、上記の図9と同様に、カメラA及びテーブル5を微動させて点Sを探索して撮像する。
この点Sの探索の際に、カメラAをx方向に微動させた場合には、ステップ8に移り、テーブル5のみをy方向に移動(第3の移動)させてテーブル5とカメラAの位置関係を、図16に示す状態e’とし、カメラAで基準スケール13を撮像してステップ9に移る。
また、点Sの探索の際に、テーブル5をy方向に微動させて点Qを撮像したときには、上記第2の移動の移動量(第2の移動量)に、微動分を加えた累積移動量を、第2の移動量とする。
上記ステップ7において、カメラAの視野の中に、点Sが存在し、探索の必要が無かった場合、又は、探索は行ったがカメラAを微動させなかった場合には、カメラAは、ステップ6で基準スケール13を撮像した状態のまま動かしていないので、カメラAで基準スケール13を撮像する上記ステップ8をスキップし、ステップ9に移る。
ステップ9では、以下に述べるようにして点P,Qの座標を算出する。すなわち、上記ステップ3において、カメラAの視野の中に、点Qが存在し、探索の必要が無かった場合には、カメラAによる点P,Qの撮像画像、カメラAによる基準スケール13の第1の画像およびテーブル5の第1の移動量及び第2の移動量を用いて上述の図8と同様にして、点P,Qの座標を算出する。
また、上記ステップ3において、カメラAの視野の中に、点Qが存在せず、点Qの探索を行い、その際に、テーブル5をy方向に微動させて点Qを撮像したときには、上記第2の移動量に、微動分を加えた累積移動量を、第2の移動量として、点P,Qの座標を算出する。
更に、上記ステップ3において、カメラAの視野の中に、点Qが存在せず、点Qの探索を行い、その際に、カメラAをx方向に微動させて点Qを撮像したときには、カメラAによる点P,Qの撮像画像、基準スケール13の第1及び第2の画像、テーブル5の第1、第2及び第3の移動量を用いて、点P,Qの座標を算出する。
同様にして、点R,Sの座標も算出する。
ステップ10では、各算出した点の座標より、各基準マーク間の寸法および各基準マーク間を結ぶ直線の内の2つの直線がなす角度を算出する。
例えば、基準マークP,Qの各座標から基準マークP,Q間の距離(寸法)を算出したり、例えば、基準マークP,Qを結ぶ直線と基準マークQ,Sを結ぶ直線とがなす角度、すなわち、直交度を算出する。
このように、基板12上の基準マークP,Q,R,Sの間の寸法やそれらを結ぶ直線がなす角度を算出することにより、基板上のパターンの歪みや直交度を把握できることになる。
図17は、第1,第2のカメラとしてのカメラA,Bを用いて、基板12の基準マークS,Qの座標を測定する手順を示す図である。
第1,第2の測定対象箇所としての点S,Qは、テーブル5の移動方向に垂直な方向に離間した2点である。
先ず、ステップ1では、カメラA,Bの視野内に点S,Qがそれぞれ収まると想定される位置関係になるように、カメラA,Bをx方向に移動させるとともに、テーブル5をy方向に移動させてテーブル5とカメラA,Bの位置関係を、図18に示す状態gとし、第1のカメラとしてのカメラAで第1の測定対象箇所としての点Sを撮像するとともに、第2のカメラとしてのカメラBで第2の測定対象箇所としての点Qを撮像する。
次に、ステップ2では、カメラ移動機構を動かすことなく、すなわち、カメラA,Bを移動させることなく、テーブル5だけをy方向に移動させてテーブル5とカメラA,Bの位置関係を図19に示す状態hとし、第1,第2のカメラとしてのカメラA,Bで基準スケール13をそれぞれ撮像して第1及び第2の画像を取得する。ステップ3では、カメラA,Bによる点S,Qの画像、カメラA,Bによる基準スケール13の第1及び第2の画像、並びにテーブル5の移動量を用いて、画像処理と演算によって、点Q,Sの座標を算出する。
図20は、カメラA〜Cを用いて、図21に示される基板12上の点Tの基板座標系における座標を測定する手順を示す、図5に対応する図である。
基板12上の点Tは、例えば、配線パターンの中から選ばれた、図形の中心や図形のコーナーなどの特徴点である。
先ず、ステップ1では、カメラA,Cの視野内に点S,Qがそれぞれ収まると想定される位置関係になるように、カメラ移動機構を動かしてカメラA,Cをx方向に移動させるとともに、テーブル5をy方向に移動させてテーブル5とカメラA,Cの位置関係を、図21に示す状態iとし、カメラAで点Sを撮像するとともに、カメラCで点Qを撮像する。
なお、このステップ1では、カメラBも、カメラA,Cの移動と同時に、点Tがテーブル5の移動のみによって視野内に収まると想定される位置に移動しておくのが好ましい。すなわち、カメラBのx方向の移動によって、カメラA,Cの視野位置を変動させる可能性があるような場合、例えば、カメラBの移動による振動がカメラA,Cの視野位置に影響を与えるような場合には、カメラA,Cをx方向に移動させる際に、同時にカメラBもx方向に移動させておくことにより、カメラA,Cによる撮像の後に、カメラA,Cの視野位置に変動が生じるのを防止することができる。
次に、ステップ2では、テーブル5をy方向に移動させて第1の移動を行い、テーブル5とカメラBの位置関係を、図22に示す状態jとし、カメラBで点Tを撮像する。
次に、ステップ3では、カメラ移動機構を動かすことなく、すなわち、カメラA〜Cを移動させることなく、テーブル5だけをy方向に移動させて第2の移動を行い、テーブル5とカメラA〜Cの位置関係を図23に示す状態kとし、カメラA〜Cで基準スケール13をそれぞれ撮像し、ステップ4では、画像処理と演算によって、テーブル座標系における点Q,Sおよび点Tの座標を算出する。
次に、ステップ5では、点Q、Sの座標を用いてテーブル座標系に対する基板座標系が定められ、その後、テーブル座標系において求められた点Tの座標が基板座標系に変換される。点Tの座標を基板座標系に変換するのは、点Tの設計上の座標がもともと基板座標系で表されているため、点Tの実測座標を基板座標系における座標に変換しておくと、点Tの実測座標を設計上の座標と直接比較することができて便利だからである。
ここで、テーブル座標系から基板座標系への変換について説明する。
基板12上の2点である点Q及び点Sについて基板座標系におけるxy座標が既知であれば、それらの点Q,Sのテーブル座標系におけるxy座標を測定することにより、両座標系の原点同士の位置関係(例えば基板座標系原点のテーブル座標系における座標)と両座標系の座標軸同士がなす角度とを求めることができるので、これらを用いて両座標系相互の座標変換を行うことができる。ただし、例えば点Qを基板座標系における座標原点に設けた場合、点Sの基板座標系における設計上の座標が(Sx,0)であるとしても、製造誤差により、点Sの点Qからの距離は実際にはSxから僅かにずれている可能性があるから、点Sの座標は既知であるとはいえない。しかし、点Qと点Sとを結ぶ線が基板座標系におけるx座標軸であると定義することにより、テーブル座標系のx軸と基板座標系のx軸とがなす角度を求めることはできる。したがって、この例では、点Q(すなわち基板座標系の原点)のテーブル座標系における座標と、両座標系のx軸同士がなす角度とを得ることができるので、これらを用いて両座標系相互の座標変換を行うことができる。
この図20の測定手順は、十字マークS、Qという、基板12上の撮像可能なパターンから選ばれた少なくとも2つの基準マークを用いて、基板12上のパターンの位置及び姿勢を求める方法として把握することができる。
また、上記図20の測定手順は、基板12上の第1の測定対象箇所(点S)を第1のカメラ(カメラA)で及び第2の測定対象箇所(点Q)を第2のカメラ(カメラC)で撮像し、第1及び第2のカメラを支持する各移動機構を動かさずにテーブル5を移動させて基準スケール13を第1及び第2のカメラでそれぞれ撮像し、第1及び第2の測定対象箇所の撮像から基準スケール13の撮像までのテーブル5の移動量を移動量測定器により測定し、得られた第1及び第2の測定対象箇所の画像、第1及び第2のカメラでそれぞれ撮像した基準スケール13の第1及び第2の画像並びにテーブル5の移動量を用いて第1及び第2の測定対象箇所の位置を求める方法として把握することができる。
更に、上記図20の測定手順は、基板12上の第1の測定対象箇所(点S)を第1のカメラ(カメラA)で撮像し、第1のカメラを支持する移動機構を第1の測定対象箇所の撮像をしたときのまま動かさずにテーブル5に第1の移動をさせて基板12上の第2の測定対象箇所(点T)を第2のカメラ(カメラB)で撮像し、第1の移動におけるテーブル5の第1の移動量を移動量測定器により測定し、第1及び第2のカメラを支持する各移動機構を動かさずにテーブル5に第2の移動をさせて基準スケール13を第1及び第2のカメラでそれぞれ撮像し、第2の移動におけるテーブル5の第2の移動量を移動量測定器により測定し、得られた第1及び第2の測定対象箇所の画像、第1及び第2のカメラでそれぞれ撮像した基準スケール13の第1及び第2の画像並びにテーブル5の第1及び第2の移動量を用いて第1及び第2の測定対象箇所の位置を求める方法として把握することができる。
図24は、本発明の他の実施形態の位置測定装置の図2に対応する平面図である。
上述の図2に示した実施形態との相違は、図2に示した基準スケール13(図24では基準スケール13aとする)のほかに、もう一つ、基準スケール13bを、基板12を挟んでテーブル5上の基準スケール13aとは反対側の位置に設けたことである。
基準スケール13aを基準とした基準スケール13bの位置は、予め測定されており、基準スケール13bを撮像すればそのときの視野の位置が基準スケール13aを基準として求められるようになっている。したがって、基準スケール13bはいつでも基準スケール13aに代えて利用することができる。そこで、測定手順はこれまでの各測定手順と同様とし、ただし測定対象箇所が基準スケール13bに近い場合には適宜基準スケール13aを撮像することに代えて基準スケール13bを撮像することにより、テーブル5の移動量を少なくし、測定に要する時間を短縮することができる。
他の実施形態として、さらに多くのカメラをそれぞれのカメラ移動機構に支持させた位置測定装置を用い、カメラの数に対応した測定対象箇所をテーブルを移動させながら順次撮像し、各カメラによる基準スケールの撮像は共通のテーブル位置にて行うようにしてもよい。
また、位置測定装置に複数のカメラを備えさせるときには、架台6の両側、すなわち、架台6を挟むように、テーブル移動方向の両側に、カメラ移動機構の設置を振り分けるようにしてもよい。そうすれば、架台6の互いに異なる側に設けられたカメラ移動機構同士については、互いに移動範囲についての干渉が発生しないように設計することが容易であるので、カメラ間の移動の独立性を高めることができる。
更に、複数の架台を設けて、それらの架台にカメラ移動機構の設置を振り分けるようにしてもよい。そうすれば、互いに異なる架台に設けられたカメラ移動機構同士については、移動範囲の干渉が発生しないようにすることが容易であるばかりでなく、一方の架台に設けられたカメラ移動機構を動かしても他方の架台に設けられたカメラ移動機構に支持されたカメラの視野を変動させないようにすることが容易であるので、カメラ移動機構及びテーブルを動かすこと並びに撮像することの順序についての自由度が高くなる。
ただし、上記のとおり架台の両側にカメラを設けるか複数の架台にカメラを設けるかする場合に、それらのカメラの視野がテーブルの移動方向に異なった位置になるとすれば、それに応じて、テーブル上に複数の基準スケールを設けるか基準スケールをテーブル移動方向に大きくするかして、同じテーブル位置にて各カメラが異なる基準スケール又は一つの基準スケールの異なる部分を見ることができるようにするか、基準スケールの撮像を複数のタイミングに分けてその間にテーブル移動を行うか、のような配慮が必要である。基準スケールの撮像を複数のタイミングに分けてその間にテーブル移動を行う場合には、測定対象箇所の位置を求める際にその移動量も用いる必要がある。
本発明は、例えば、基板の寸法検査などに有用である。
本発明の一つの実施の形態に係る位置測定システムの概略構成を示す斜視図である。 図1の位置測定装置の平面図である。 基準スケールの拡大図である。 位置測定方法の手順を示す図である。 カメラAを用いた点Pの座標の測定手順を示す図である。 図5の状態aを示す位置測定装置の平面図である。 図5の状態bを示す位置測定装置の平面図である。 画像処理と演算による点Pの座標の算出を説明するための撮像画像を概略的に示す図である。 測定対象箇所の撮像の探索手順を説明するための図である。 カメラAを用いた点P,Q,R,Sの座標の測定手順を示す図である。 図10の状態cを示す位置測定装置の平面図である。 図10の状態b’を示す位置測定装置の平面図である。 図10の状態dを示す位置測定装置の平面図である。 図10の状態eを示す位置測定装置の平面図である。 図10の状態fを示す位置測定装置の平面図である。 図10の状態e’を示す位置測定装置の平面図である。 カメラA,Bを用いた点Q,Sの座標の測定手順を示す図である。 図17の状態gを示す位置測定装置の平面図である。 図17の状態hを示す位置測定装置の平面図である。 カメラA〜Cを用いた点Tの座標の測定手順を示す図である。 図20の状態iを示す位置測定装置の平面図である。 図20の状態jを示す位置測定装置の平面図である。 図20の状態kを示す位置測定装置の平面図である。 本発明の他の実施形態の図2に対応する平面図である。
符号の説明
1 位置測定装置 2 制御装置
5 テーブル 6 架台
12 基板 13 基準スケール

Claims (11)

  1. 基台と、前記基台の上で第1の方向に移動するテーブルと、前記テーブルの移動量を測定する移動量測定器と、前記基台に固定された架台と、前記架台に備えられ第1の方向と直交する第2の方向を可動方向とするカメラ移動機構と、前記カメラ移動機構に支持されて前記基台の上方で第2の方向に移動するカメラと、前記テーブルの移動方向に垂直な方向に沿ってテーブル上に備えられ前記カメラで撮像されたときにカメラの視野の位置についての情報を撮像された画像の中に与える基準スケールとを備えた位置測定装置を準備し、
    前記テーブルに測定対象とする基板を戴置し、
    前記基板上の測定対象箇所及び基準スケールのいずれか一方を前記カメラで撮像し、
    前記カメラ移動機構を前記撮像をしたときのまま動かさずに前記テーブルだけを移動させて前記基板上の測定対象箇所及び基準スケールの他方を前記カメラで撮像し、
    前記移動におけるテーブルの移動量を前記移動量測定器により測定し、
    得られた測定対象箇所の画像及び基準スケールの画像並びにテーブルの移動量を用いて測定対象箇所の位置を求める、位置測定方法。
  2. 前記位置測定装置を準備し、
    前記テーブルに測定対象とする基板を戴置し、
    前記基板上の測定対象箇所を前記カメラで撮像し、
    前記カメラ移動機構を前記撮像をしたときのまま動かさずに前記テーブルだけを移動させて基準スケールを前記カメラで撮像し、
    前記移動におけるテーブルの移動量を前記移動量測定器により測定し、
    得られた測定対象箇所の画像及び基準スケールの画像並びにテーブルの移動量を用いて測定対象箇所の位置を求める、請求項1に記載の位置測定方法。
  3. 前記位置測定装置を準備し、
    前記テーブルに測定対象とする基板を戴置し、
    前記基板上の第1の測定対象箇所を前記カメラで撮像し、
    前記カメラ移動機構を動かさずに前記テーブルに第1の移動をさせて基準スケールを前記カメラで撮像して基準スケールの第1の画像を得、
    第1の移動におけるテーブルの第1の移動量を前記移動量測定器により測定し、
    前記カメラ移動機構を動かさずに前記テーブルに第2の移動をさせて第2の測定対象箇所が存在すると想定される基板表面箇所を前記カメラで撮像し、
    撮像した画像に第2の測定対象箇所が入っていればその画像を第2の測定対象箇所の画像として採用し、
    撮像した画像に第2の測定対象箇所が入っていなければ、第2の測定対象箇所の撮像に成功するまでテーブル又はカメラ移動機構を微動させて撮像することを繰り返し、
    前記テーブルの第2の移動量を前記移動量測定器により測定し、又はテーブルに前記微動をさせたときには第2の移動量に微動分を加えた累積移動量を第2の移動量として前記移動量測定器により測定し、
    第2の測定対象箇所の撮像に成功するまでにカメラ移動機構を動かした場合には、第2の測定対象箇所の撮像に成功したときの状態からカメラ移動機構を動かさずに前記テーブルに第3の移動をさせて基準スケールを前記カメラで撮像して基準スケールの第2の画像を得、
    テーブルの第3の移動量を前記移動量測定器により測定し、
    得られた第1及び第2の測定対象箇所の画像、基準スケールの第1の画像並びにテーブルの第1及び第2の移動量、並びに存在するときには基準スケールの第2の画像及びテーブルの第3の移動量を用いて、第1及び第2の測定対象箇所の位置を求める、請求項2に記載の位置測定方法。
  4. 互いに独立して移動できる第1のカメラ移動機構及び第2のカメラ移動機構と、第1のカメラ移動機構に支持される第1のカメラ及び第2のカメラ移動機構に支持される第2のカメラとを備え、第1及び第2のカメラの視野が互いにテーブルの移動方向に垂直な方向に離間している前記位置測定装置を準備し、
    前記テーブルに測定対象とする基板を戴置し、
    前記基板上の第1の測定対象箇所を第1のカメラで及び第2の測定対象箇所を第2のカメラで撮像し、
    第1及び第2のカメラ移動機構を動かさずに前記テーブルを移動させて基準スケールを第1及び第2のカメラでそれぞれ撮像し、
    前記移動におけるテーブルの移動量を前記移動量測定器により測定し、
    得られた第1及び第2の測定対象箇所の画像、第1及び第2のカメラでそれぞれ撮像した基準スケールの第1及び第2の画像並びにテーブルの移動量を用いて第1及び第2の測定対象箇所の位置を求める、請求項2に記載の位置測定方法。
  5. 互いに独立して移動できる第1のカメラ移動機構及び第2のカメラ移動機構と、第1のカメラ移動機構に支持される第1のカメラ及び第2のカメラ移動機構に支持される第2のカメラとを備え、第1及び第2のカメラの視野が互いにテーブルの移動方向に垂直な方向に離間している前記位置測定装置を準備し、
    前記テーブルに測定対象とする基板を戴置し、
    前記基板上の第1の測定対象箇所を第1のカメラで撮像し、
    第1のカメラ移動機構を前記撮像をしたときのまま動かさずに前記テーブルに第1の移動をさせて前記基板上の第2の測定対象箇所を第2のカメラで撮像し、
    第1の移動におけるテーブルの第1の移動量を前記移動量測定器により測定し、
    第1及び第2のカメラ移動機構を動かさずに前記テーブルに第2の移動をさせて基準スケールを第1及び第2のカメラでそれぞれ撮像し、
    第2の移動におけるテーブルの第2の移動量を前記移動量測定器により測定し、
    得られた第1及び第2の測定対象箇所の画像、第1及び第2のカメラでそれぞれ撮像した基準スケールの第1及び第2の画像並びにテーブルの第1及び第2の移動量を用いて第1及び第2の測定対象箇所の位置を求める、請求項2に記載の位置測定方法。
  6. 前記基板上には撮像可能なパターンが設けられており、
    前記基板上の測定対象箇所は前記パターンから選ばれた少なくとも2箇所の基準マークであり、
    求めた少なくとも2箇所の基準マークの位置を用いて、さらに前記パターンの位置及び姿勢を求める、請求項1から5のいずれかに記載の位置測定方法。
  7. 前記基板上には撮像可能なパターンが設けられており、
    前記基板上の測定対象箇所は前記パターンから選ばれた第1の点及び第2の点であり、
    求めた第1の点及び第2の点の位置を用いて、さらに第1の点と第2の点との間の距離を求める、請求項1から5のいずれかに記載の位置測定方法。
  8. 前記基板上には撮像可能なパターンが設けられており、
    前記基板上の測定対象箇所は前記パターンから選ばれた第1、第2、第3及び第4の点であり、
    求めた第1、第2、第3及び第4の点の位置を用いて、さらに第1の点と第2の点とを結ぶ直線と、第3の点と第4の点とを結ぶ直線とがなす角度を求める、請求項1から5のいずれかに記載の位置測定方法。
  9. 基台と、
    前記基台の上で第1の方向に移動するテーブルと、
    前記テーブルの移動量を測定する移動量測定器と、
    前記基台に固定された架台と、
    前記架台に備えられ第1の方向と直交する第2の方向を可動方向とするカメラ移動機構と、
    前記カメラ移動機構に支持されて前記基台の上方で第2の方向に移動するカメラと、
    前記テーブルの移動方向に垂直な方向に沿ってテーブル上に備えられ前記カメラで撮像されたときにカメラの視野の位置についての情報を撮像された画像の中に与える基準スケールと
    を備えた位置測定装置。
  10. 前記基準スケールは、前記テーブル上の基板が戴置されるべき領域を挟んで、テーブルの移動方向の両側に備えられている、請求項9に記載の位置測定装置。
  11. 請求項9又は10に記載の位置測定装置と、
    前記位置測定装置に接続されて相互に情報伝送可能とされた制御装置とを備え、
    前記制御装置は、制御プログラムを実行するコンピュータを備え、
    前記制御プログラムは、
    前記位置測定装置のテーブルに戴置された基板上の測定対象箇所及び基準スケールのいずれか一方を前記カメラで撮像し、
    前記カメラ移動機構を前記撮像をしたときのまま動かさずに前記テーブルだけを移動させて前記基板上の測定対象箇所及び基準スケールの他方を前記カメラで撮像し、
    前記移動におけるテーブルの移動量を前記移動量測定器により測定し、
    得られた測定対象箇所の画像及び基準スケールの画像並びにテーブルの移動量を用いて測定対象箇所の位置を求める、ステップを備えるものである、
    位置測定システム。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007108037A (ja) * 2005-10-14 2007-04-26 Omron Corp 位置測定方法、距離測定方法及び位置測定装置
JP2010085309A (ja) * 2008-10-01 2010-04-15 Mitsutoyo Corp 画像測定装置
JP2011512539A (ja) * 2008-02-18 2011-04-21 エスエヌユー プレシジョン カンパニー,リミテッド ビジョン検査システム及びこれを利用した被検査体の検査方法
JP2012026767A (ja) * 2010-07-20 2012-02-09 Sumitomo Metal Ind Ltd エッジ検出方法及び検出システム、帯材の走行状況測定方法及び測定システム、帯材の走行制御方法及び制御システム、並びに、帯材の製造方法及び製造システム
CN108759676A (zh) * 2018-07-12 2018-11-06 浙江大学 基于棋盘格的传动箱端面大尺寸形位公差检测装置与方法
CN111982078A (zh) * 2019-05-21 2020-11-24 中国石油天然气股份有限公司 钻井平台稳定性精密激光监测装置及激光漂移校准方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201241399A (en) * 2011-04-07 2012-10-16 xi-ming Xu Laser measurement device
DE112019006323T5 (de) * 2018-12-21 2021-09-09 Omron Corporation Verfahren zum korrigieren von durch lineare skalen erfassten werten

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003065746A (ja) * 2001-08-29 2003-03-05 Japan Em Co Ltd 座標測定装置および計測方法
JP2004348045A (ja) * 2003-05-26 2004-12-09 Fuji Photo Film Co Ltd 基準マーク位置測定装置

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2621416B2 (ja) * 1988-09-22 1997-06-18 松下電器産業株式会社 移動量の測定用プレート

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003065746A (ja) * 2001-08-29 2003-03-05 Japan Em Co Ltd 座標測定装置および計測方法
JP2004348045A (ja) * 2003-05-26 2004-12-09 Fuji Photo Film Co Ltd 基準マーク位置測定装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007108037A (ja) * 2005-10-14 2007-04-26 Omron Corp 位置測定方法、距離測定方法及び位置測定装置
JP2011512539A (ja) * 2008-02-18 2011-04-21 エスエヌユー プレシジョン カンパニー,リミテッド ビジョン検査システム及びこれを利用した被検査体の検査方法
JP2010085309A (ja) * 2008-10-01 2010-04-15 Mitsutoyo Corp 画像測定装置
JP2012026767A (ja) * 2010-07-20 2012-02-09 Sumitomo Metal Ind Ltd エッジ検出方法及び検出システム、帯材の走行状況測定方法及び測定システム、帯材の走行制御方法及び制御システム、並びに、帯材の製造方法及び製造システム
CN108759676A (zh) * 2018-07-12 2018-11-06 浙江大学 基于棋盘格的传动箱端面大尺寸形位公差检测装置与方法
CN108759676B (zh) * 2018-07-12 2023-11-03 浙江大学 基于棋盘格的传动箱端面大尺寸形位公差检测装置与方法
CN111982078A (zh) * 2019-05-21 2020-11-24 中国石油天然气股份有限公司 钻井平台稳定性精密激光监测装置及激光漂移校准方法
CN111982078B (zh) * 2019-05-21 2022-03-29 中国石油天然气股份有限公司 钻井平台稳定性精密激光监测装置及激光漂移校准方法

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