KR101093301B1 - 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판 및 상기 투명기판을 포함하는 장치 - Google Patents

보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판 및 상기 투명기판을 포함하는 장치 Download PDF

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Abstract

투명 지지부(1) 상에 증착되는 투명 전도성 산화물(TCO)의 필름에 전극(7) 및 접촉 구역(15)들이 구성된다. 투명 지지부(1) 상에 중간 필름(3)이 먼저 코팅되는 것도 가능하다. 전극(7) 및 접촉 구역(15)은 유전체 공간(9)에 의해 이격되며, 유전체 공간(9)은, 자외선 복사에 의해 형성되어 TCO 필름을 통과하는 나노-균열(11)에 의해 형성된다.
보호 필름(13)이 전극(7) 및 유전체 공간(9)을 코팅할 수 있다.

Description

보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판 및 상기 투명기판을 포함하는 장치{TRANSPARENT SUBSTRATE WITH INVISIBLE ELECTRODES AND DEVICES INCORPORATING THE SAME}
도 1 은 본 발명에 따른 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판을 획득하기 위한 장치의 구조적 다이어그램이다.
도 2 및 3은 제 1 실시예의 제작 단계들을 도시한다.
도 4,5,6 은 제 2 실시예의 제조 단계들을 도시한다.
도 7 은 전기적 측정을 수행하기 위한 어셈블리 다이어그램을 도시한다.
도 8 은 본 발명에 따른 나노-균열을 지닌 유전체 지역의 도면이다.
도 9 는 자외선 복사 특징들이 불충분할 때 도 8의 대응도이다.
도 10은 자외선 복사 특징들이 역으로 과잉일 때, 도 8의 대응도이다.
도 11 은 도 8에서 참조된 나노-균열의 AFM 이미지이다.
본 발명은 투명한 전극을 제공하는 하나 이상의 표면을 지닌 투명 기판에 관한 것으로서, 가시광 파장 범위에서 관측자가 그 윤곽을 인지할 수 없는 구조를 가진다.
본 발명은 또한 일반적으로 전기 에너지 컬렉터의 역할을 하는 보이지 않는 전극을 지닌 하나 이상의 투명 기판들을 포함하는 전자 장치에 관련되며, 특히, 이러한 전극들의 구조 및 배열에 의해 방해받지 않으면서, 디스플레이로부터 데이터를 읽을 수 있는 전기 장치의 디스플레이 위에 배치되는 장치들에 관련된다.
본 발명은 윤곽이 보이지 않도록 전극들 간의 광학 보상을 제공하면서, 투명 전극 상의 전극을 경제적인 방식으로 고정밀로 구성하는 방법에 관한 것이다.
디스플레이와 관측자 간에 배열되는 전극들에 의해 형성되는 인터페이스를 가능한 가치있게 유지하고 전자 장치(가령, 시계)의 심미적 외양을 해치는 경우를 방지하기 위한 해법들이 이미 제시되어 있다. 예를 들어, 유리의 내면에 용량성 또는 저항성 효과에 의해 시간 관련 기능, 또는 시간과 관련없는 기능을 촉각에 의해 제어할 수 있는 전극을 포함하는 손목시계가 잘 알려져 있다(미국 특허 제4,228,534호 및 유럽 특허 제0 674 247호 및 제1 207 439호, 참조). 이러한 유리는 투명 전극을 갖는 두개의 기판과, 그 사이에 삽입되는 능동 물질로 형성되는 셀에 의해 대체되거나 완성되어, 에너지 원을 형성하는 광기전 셀을 형성할 수도 있고(국제공개특허공보 제93/19479호 참조), 아래의 다이얼 상에 디스플레이되는 데이터에 보완되는 데이터 또는 그외 다른 데이터를 디스플레이하는 상태 또는 투명 상태를 가질 수 있는 액정 셀을 형성할 수도 있다(국제공개특허공보 제99/32945호 참조).
전극을 만들기 위해, 투명 전도체 산화물(TCO)이 잘 알려진 방식으로 사용된다. 즉, 안티모니(Sb)로 도핑된 SnO2, In2O3, 또는 주석 및 인듐 옥사이드(ITO)와 같이, 가시광 영역에서 투명하고 우수한 전도체인 물질이 사용된다. 화학적 또는 전기화학적 도핑에 의해 전도도를 개선시킬 수 있는 컨저게이트 이중 결합(conjugated double bonds)을 갖는 유기질 조성인 투명 전도성 폴리머가 전극의 구성을 위한 전도성 필름으로 사용될 수도 있다. 예를 들어, Ormecon과 같은 폴리아닐린이나 폴리아세틸렌이 사용될 수 있다. 이러한 필름들은 통상적으로 50 nm 내지 100 nm의 두께를 갖고, 스퍼터링, 이배포레이션, 졸-겔 기술, 화학적 기상 증착(CVD), 레이저 보조 화학적 기상 증착(LICVD) 등과 같은 다수의 알려진 기술들을 통해 기판에 대해 직접 또는 중간층에 대해 수행된다.
전극의 구조와 관련하여, 충분한 플루언스(fluence: 단위 면적당 광 에너지, 일반적으로 J/m2으로 표시함)의 자외선 레이저 복사에 의한 국부 박리, 또는, 화학적 에칭을 연속 TCO 필름 상에서 수행함으로써, 또는, 자외선 레이저 복사에 의한 졸-겔 필름의 국부 결정화에 의해 TCO의 증착 중에, 전극의 윤곽에 대응하는 적어도 하나의 마스크를 이용함으로써 구현되는 다양한 공지 방법들이 또한 존재한다. 투명 기판, 유리, 또는, 플라스틱의 성질은, 적용할 프로세스를 선택함에 있어, 기술적 및 경제적 관점에서 명백한 결정 요인이다. 예를 들어, 자외선 레이저에 의한 졸-겔 필름의 국부 결정화는, 이러한 프로세스가 광열 프로세스(photothermal process)이기 때문에, PMMA와 같은 플라스틱 기판에는 거의 적용할 수 없다.
더욱이, 선택적 에칭 방법에서 침식성이 큰 화학적 성분을 이용함으로써, 기판이나, 기판과 TCO 필름 간에 삽입되는 중간층이 분해되어, 전극들 사이의 비-전도성 공간이 육안으로 인지가능한 상태로 여전히 머무르게 될 수 있고, 비-전도성 공간을 충전하는데 사용되는 방법에 관계없이, 에칭 및 충전용으로 두개의 상보형 마스크를 이용할 필요가 있는 경우에, 광선을 편향시킬 수 있는 융기부(bulge)나, 함몰부(depressions)를 형성하지 않으면서, 비-전도성 공간을 충전하는 것이 어렵기 때문에 비-전도성 공간이 또한 눈에 보일 수 있다.
앞서 언급한 결점을 극복하기 위해, 본 출원에서 참고 문헌으로 사용되는 본 출원인 명의의 유럽 특허 출원 제03005615.4호에 제안된 방법은, 단일 마스크를 이용하여, 일련의 두 단계에 대해 두가지 모드에 따라 조정되는 특징들(플루언스, 펄스 수, 주파수)을 갖는 레이저 복사를 이용하는 방법을 포함한다. 제 1 단계는 비-전도성 공간에서 TCO를 전체적으로 제거하는 단계로 구성된다. 그리고 제 2 단계는 상기 비-전도성 공간에 적합한 굴절률 및 두께를 갖는 물질을 증착하는 단계로 구성된다. 사실상 서로 근접한 두 개의 전극들은 두 전극을 분리하는 공간 내의 전도성 물질의 임의의 트레이스를 제거함으로써만 전기적으로 절연될 수 있다.
그러나, 놀랍게도, TCO 제거없이 서로 근접한 두개의 전극을 전기적으로 절연할 수 있는 레벨로 전기 전도 성질이 저하될 수 있고, 서로 근접한 두개의 전극들을 지닌 투명 전극을 어떤 각도로 관측하더라도, 전극의 윤곽이 보이지 않게 되도록, 초기 광학적 성질을 유지할 수 있다.
따라서, 본 발명은 투명 전도성 필름이 증착되는 투명 지지부를 포함하는 보이지 않는 전극들을 갖는 투명 전극에 관한 것이고, 이 전극들은 비-전도성 공간에 의해 분리되는 윤곽으로 구성된다. 기판은 상기 비-전도성 공간의 위치에서의 전도성 필름이 나노-균열(nano fissure) 또는 크랙을 포함하는 특징을 가지며, 이러한 결함들 대부분은 전도성 필름의 전체 두께를 통과하여, 인접 전극들 간의 전기 전도를 차단하고, 육안으로 인지가능한 방식으로 광선의 경로를 변경시키지 않는다. 이러한 나노-균열 또는 크랙의 에지는 수 마이크로미터 크기만큼 이격되고, 근거리(20-30cm)에서 1/10 밀리미터 이하의 간격으로 이격된 물체를 구분할 수 없는 평균치 시력을 가진 사람의 눈에 보이지 않는다.
상기 전도성 필름은 투명 전도성 산화물(TCO)일 수 있으나, 투명 전도성 폴리머일 수도 있다. 그러나 다음의 설명에서는 투명 전극 제조에 가장 잘 알려진 제품인 TCO를 참조할 것이다.
바람직한 일 실시예에서, TCO 필름의 증착에 따라, 투명 지지부는 나노-균열을 형성하는데 기여하는, 딱딱한 투명 비-전도성 물질(하드 코팅)의 필름으로 코팅된다.
또 다른 바람직한 일 실시예에 따라, 상기 전극을 구성한 이후에, 상기 전극 접촉 지역을 제외한 상기 기판의 전체, 즉, 전극들 및 비-전도성 공간들은 시간에 따라 나노-균열을 안정화시키는데 기여하는, 반사-방지 성질을 또한 지닐 수 있는 보호 필름으로 코팅된다.
TCO 필름에서 상기 나노-균열들은 레이저 광원을 이용하여 자외선 복사에 의해 획득된다. 이것을 하기 위해, 상기 방법은 다음의 단계들을 포함한다.
- 가스 유체 공급 및 펌핑(pumping) 배출구를 지닌 봉합된 닫힌 공간에서, 지지부 및 TCO 필름(중간층 상에 증착될 수 있음)으로 구성되는 기판을 배치하는 단계와,
- 자외선 복사 광원과 기판 사이에, 자외선 복사에 대해 투과성인 윈도를 포함하는 마스크를 삽입하는 단계로서, 상기 윈도는 비-전도성 공간의 요망 윤곽을 재현하는, 단계와,
- 기판을 형성하는데 사용되는 재료, 재료의 두께, 광원의 선택의 함수로, 재료 제거없이 TCO 필름의 나노-균열을 유발하도록 자외선 복사의 특징들을 조정하는 단계.
상기 광원의 선택과 관련하여, 주로 자외선 범위 내에서 방사되고 광박리 또는 마킹을 수행한다고 알려지진 펄스형 엑시머 레이저를 이용하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 짧은 펄스(20ns)를 지닌 엑시머 KrF(λ=248nm), 또는, 긴 펄스(250ns)를 지닌 엑시머 XeF(λ=308nm)를 이용할 수 있다. "복사 특징"은 플루언스, 펄스의 수, 펄스의 주파수를 의미한다.
이러한 특징들의 조정은, 전극들 간의 통상의 절연 공간이 수십 밀리미터 수준인 전제 하에서, 전기 전도성을 충분한 낮추지 않으면서, 균열을 관찰할 수 있는 하한과, TCO 필름의 박리를 야기하여 전극의 윤곽을 눈에 보이게 하는 상한 사이에서 수행되어야 한다. 앞에서 인용한 유럽 특허 출원 제03005615.4호에 제시된 바와 같이, 이러한 공간을 투명 유전 물질로 충전하여 광학적 보상이 이루어지게 하는 것이 가능하다.
따라서, 본 발명에 따른 방법은 위의 단계를 요구하지 않는 이점을 지니며, 따라서, 보다 경제적이다. 또한, TCO 필름의 특별한 특징들(굴절률 및 두께)이 주어진 상황에서, 만족스런 광학적 보상을 얻도록 굴절률 및 두께를 가진 유전 물질을 어렵게 선택할 필요도 없다.
전극들이 구성된 이후에, 닫힌 공간 내에 기판을 남겨두어서, 프리커서 가스(precursor gas)를 닫힌 공간 내로 유입시킴으로써, 전체 기판(즉, 전극 및 비-전도성 공간)(전극간 접촉부는 예외)에 걸쳐 투명 보호 필름을 증착시키는 자외선 투과성 윈도를 갖는 다른 마스크로 과거의 마스크를 교체하는 것이 유리할 수 있다. 반사-방지 특성을 얻을 수 있는 성질 및 두께를 가진 재료를 이용하여, 보호 필름을 형성하는 것이 바람직하다. 이 필름은 시간에 따라 나노-균열을 안정화시키는 장점을 또한 갖는다.
따라서 보이지 않는 전극들을 지닌 투명 전극이 전제부에 언급된 모든 애플리케이션에 사용될 수 있고, 종래 기술의 알려진 제품들의 품질에 비해 투과성 및 균일성 측면에서 우수한 품질을 제공한다.
도 1 은 레이저 광원에 의해 형성되는 자외선 복사의 광원(14)과, 플루언스를 증가시키기 위해 레이저 빔의 단면을 감소시키는 발산 렌즈(18) 및 볼록 렌즈(16)를 포함하는 타입의 광학 시스템과, 자외선 복사-투과성 구역(12)을 갖는 마스크(10)와, 닫힌 공간(2)을 기본적으로 포함하는 장치를 개략적으로 도시한다. 닫힌 공간(2)은 자외선 복사에 대해 투과성인 윈도(8), 가스 유입구(4) 및 펌프 배출구(6)를 포함한다. 닫힌 공간(2)은 프리커서 가스(precursor gas)의 벡터 가스(vector gas)에 대한 추가적인 유입구(도시되지 않음)을 또한 포함할 수 있다. 닫힌공간(2) 내부에는 기판이 배치되며, 본 예에서, 기판은 TCO 필름(5)으로 이미 코팅된 투명 베이스를 포함한다. 물론, 가령, LICVD에 의해, 닫힌 공간(2) 내에 직접 TCO 필름을 형성할 수 있으나, 에너지 소모가 100배 이상인 상황에서, 경제적으로 매력이 떨어진다.
상기 자외선 복사 광원은, 엑시머 레이저에 의해 형성된다. 예를 들어 1.9*2.4 cm2 의 장방형 빔을 지닌 임펄스마다 150mJ의 최대 에너지를 공급하는 긴 임펄스(250ns)를 지닌 XeF 레이저(308nm), 또는, 1.5*4 cm2 의 장방형 빔을 지닌 임펄스마다 180mJ의 최대 에너지를 공급하는 짧은 임펄스(20 ns)를 지닌 KrF 레이저(248nm)에 의해 형성된다. 요망 물체에 대해 레이저의 특징들이 적응된다면, 다른 레이저들, 예를 들어 삼각(triple) 또는 사각(quadruple) Nd:YAG 레이저가 사용될 수 있다.
도 2 및 3은 가장 단순한 실시예를 도시하며, 이 때, 투명 물질로 만들어진 지지부(1)는, 본 예에서, 70nm의 두께를 지닌, 주석 및 인듐 산화물(ITO)과 같은, 연속적인 TCO 필름으로 코팅된다. 물론, Sb로 도핑된 SnO2 또는 In2O3와 같은 또 다른 TCO를 이용할 수도 있고, 다른 두께, 가령, 50 내지 100nm 사이, 바람직하게는 65 내지 75nm 사이의 두께를 가질 수도 있다. 도 3에 도시되는 바와 같이, 닫힌 공간(2)에 자외선 복사 이후, ITO 필름을 통과하는 나노-균열(11)에 의해 생성되는 비-전도성 공간(9)이 형성되고, 전기적으로 분리되는 전극(7)과 접촉 구역(15)이 형성된다. 이러한 전기적 공간(9)에 ITO를 박리하지 않으면서 나노-균열을 얻기 위해, 나노-균열의 깊이가 전기 전도를 충분히 차단하여, 인접 전극들을 전기적으로 절연시킬 수 있도록, 자외선 복사 특징들이 임계값 내에서 조정되어야 한다. 이는 도 4 내지 6에 대응하는 제 2 실시예와 관련하여 더욱 상세하게 설명된다.
도 4에서, 기판이, 본 예에서 PMMA로 만들어진, 지지부(1)에 의해 형성되고, 지지부 상에는 딱딱한 비-전도성 투명 물질(하드 코팅)의 중간층(3)이 증착된다. 이러한 중간층은 PMMA를 보호하고 나노-균열 이후 ITO 베이스를 안정화시키는 데 기여하는 것으로서, 예를 들어, SiO2를 함유한 수지로 형성되고, 그 두께는 20μm 수준이다. 기판은 닫힌 공간(2)내에 배치되고, 마스크(10)를 통해 광원(14)으로부터 자외선 복사에 노광된다. 다음의 예에서, 광원은, 플루언스를 변경시키면서, 3*4mm2 의 조명되는 표면에서 5Hz로 20개의 임펄스들의 조명 특징을 갖는, 긴 임펄스(250ns)를 지닌 XeF 엑시머 레이저(λ=308nm)에 의해 형성된다.
도 5는 전극(7) 및 접촉 지역(15)을 분리하는 비-전도성 공간(9)을 생성하는 나노-균열(11)의 구조적 형성을 도시한다.
도 6 은 닫힌 공간(2)에서 기판이 유지되지만 마스크(10)가 다른 마스크로 교체되는 선택적 단계를 도시한다. 상기 다른 마스크의 복사-투과성 윈도는 투명 기판의 유용한 윤곽의 경계를 구획한다. 그후 공급 도관(4)을 통해 닫힌 공간 내로 프리커서 가스가 유입되어, 보호 필름(13)을 증착하고 이때, 자외선 복사 특징들이 다시 조정된다. 보호 필름(13)은 가능하다면, 반사-방지 특성을 갖도록 변경되는, 균일한 두께의 SiO2 및 TiO2의 증착에 의해 형성된다. 보호 필름(13)은 한편으로, 시간에 따라 나노-균열(11)을 안정화시키고, 다른 한편으로, 나노-균열들 간의 공간을 충전함으로써 전극들을 더욱 보이지 않게 한다.
도 7 내지 11은 어떻게 자외선 복사 특징들이 조정되는지를 도시한다. 3개의 동일한 샘플들이 사용되고, 20μm의 두께를 지닌 중간층과, 상기 중간층 위에 증착된 70 nm 두께의 ITO 필름이 포함되며, 3*4mm의 표면이, 플루언스를 변화시키면서, 5Hz에서 20개의 펄스를 지닌 308nm 파장의 긴 펄스 엑시머로 조명되었다.
도 7에 도시된 다이어그램은 조명된 구역에서 상기 샘플들의 전기적 특징을 측정하기 위한 장착 배열을 도시한다. 발전기(17)는 2.2KΩ 및 570kΩ 사이에서 조정되는 저항기(19)와 "샘플부"(23)를 직렬로 포함하는 회로에, 1.77V의 사인파형 전압을 인가하고, 전압계(21)를 이용하여 저항기(19)의 단자에서 전압을 측정함으로써, 0.7 mA 및 0.2 μA 사이의 전류 값을 이끌어낼 수 있다(Rech =(Vgen - V)/I). "샘플부"는, 도 8에 도시되는 바와 같이, 나노-균열의 각 측부로부터 0.3 내지 0.5 mm의 간격의 두 지점(24) 사이에서 취하여진다. 루프-형태 단부가 또한 사용될 수 있다(도시되지 않음). 즉, ITO 필름이 팁에 의해 손상되는 것을 방지하기 위해 부드럽게된 접촉부가 사용될 수 있다.
샘플이 어떠한 자외선 복사에도 노광되지 않을 때, 상기 팁들 간의 저항은 670옴의 조정된 저항을 지닌 샘플을 통과하는 1.5mA의 전류에서 180Ω이다.
도 8 은 65 mJ/cm2의 플루언스 및 앞에서 언급한 특징을 지니는 레이저 빔으로 복사 이후에, 약 15의 배율을 가진 반사 모드의 현미경 하에서 관측되는 이미지를 도시한다. 나노-균열들의 수가 상당함을 확인할 수 있다. 측정 팁 간에 동일한 간격을 가진 비-조명 샘플들에 대해 동일한 전기적 측정을 수행함으로써, 교류가 더이상 측정불가능하고(<<0.2μA), 이는 균열(11)의 측부에 위치한 ITO 패드가 전기적으로 충분하게 절연됨을 의미한다.
이는 도 11에 도시되는 나노-균열을 통한 AFM 이미징에 의해 확인된다. 나노-균열이 75nm의 최대 깊이를 가진다는 것을 확인할 수 있다. 즉, 나노-균열의 베이스가 절연 하드코팅(3) 내로 약간만 뚫고 들어가서, 나노-균열의 하측 에지가 대략 70 nm 만큼 전기적으로 분리됨을 확인할 수 있다. 또한, 상측부에서, 나노-균열(11)의 최대 폭이 500 nm 수준임을 확인할 수 있다. 즉, 육안으로 인지하기에는 폭이 너무 좁음을 확인할 수 있다.
동일한 복사에, 그러나, 더 낮은 플루언스(즉, 60 mJ/cm2)로 제 2 샘플을 노광시킴으로써, 도 9에 도시되는 바와 같은 균열을 얻을 수 있다. 그러나 전기적 특징들이 약간 변화하였다. 670Ω의 초기 저항에서, 1.19mA의 전류 및 팁들 간의 800Ω의 저항이 관측되었으며, 이는, 균열에서 여전히 상당한 전기 전도성이 존재함을 의미한다. AFM 이미징(도시되지 않음)에 의해, 사실상, 상기 균열의 최대 깊이가 66nm임을 결정할 수 있다. 즉, 균열의 베이스에서 전기 전도성 연결이 남아있다.
역으로, 도 10과 관련하여, 65mJ/cm2에서 70mJ/cm2로 플루언스를 증가시킴으로써, 전극들을 분리시키는 구역이 육안으로 보이도록 충분한 폭에 걸쳐 ITO 필름이 제거되는 구역(22)들이 형성된다. 전기 전도성은 명확히 차단되지만, 예를 들어, 상술한 유럽특허출원 제03005615.4호에서 제안된 방법에 따라, 광학적 보상을 얻기 위한 보완적인 제작 단계가 수행되어야 한다.
TCO 필름의 성질, 그리고 중간층의 성질 및 각자의 두께에 따라, 전기 전도성에 대한 차단이 불충분한 하한과 상기 TCO 필름이 닳아 버리는 상한 사이의 위치를 찾기 위해 사용되는 레이저 광원의 함수로 자외선 방사 특징을 당 업자가 규정할 수 있다.
따라서 도 8과 관련되어 설명한 조건과 동일한 측정 조건에서, 복사되는 구역이 85mJ/cm2 의 플루언스로 1*4mm2 의 표면을 지닐 때, 전기 전도도 측면에서 동일한 결과를 얻을 수 있다.
248 nm의 짧은 펄스 레이저를 이용함으로써, 50mJ/cm2 의 플루언스 및 5Hz에서 50 개의 펄스들을 지닌 2*8mm2 의 샘플을 이용하여 도 8에서와 동일한 결과를 얻을 수 있다.
엑시머 레이저만으로 제한되지 않는, 사용되는 레이저 광원에 따라, 당 업자는 몇번의 예비적 시도를 통해서, 물질 제거없이 나노-균열을 야기하면서 전극들 간에 전기 전도를 충분히 차단할 수 있는 최적의 작동 조건을 쉽게 결정할 수 있을 것이다.
본 발명은 투명한 전극을 제공하는 하나 이상의 표면을 지닌 투명 기판에 관한 것으로서, 가시광 파장 범위에서 관측자가 그 윤곽을 인지할 수 없는 구조를 가진다.
본 발명은 또한 일반적으로 전기 에너지 컬렉터의 역할을 하는 보이지 않는 전극을 지닌 하나 이상의 투명 기판들을 포함하는 전자 장치에 관련되며, 특히, 이러한 전극들의 구조 및 배열에 의해 방해받지 않으면서, 디스플레이로부터 데이터를 읽을 수 있는 전기 장치의 디스플레이 위에 배치되는 장치들에 관련된다.
본 발명은 윤곽이 보이지 않도록 전극들 간의 광학 보상을 제공하면서, 투명 전극 상의 전극을 경제적인 방식으로 고정밀로 구성하는 방법에 관한 것이다.

Claims (18)

  1. 눈에 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판으로서, 투명 전도성 필름(5)이 증착된 투명 지지부(1)를 포함하고, 전극(7) 및 접촉 구역(15)이 비-전도성 공간(9)에 의해 분리되는 윤곽과 함께 구성되며,
    상기 비-전도성 공간(9)의 사이트에 배치된 상기 전도성 필름(5)은, 육안으로 인식할 정도로 광선의 경로를 변경함 없이 이웃하는 전극들 간의 전기적 전도성을 차단하는, 나노-균열(11)을 포함하는 것을 특징으로 하는 눈에 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 투명 전도성 필름(5)은 Sb로 도핑된 SnO2, In2O3 및 주석 및 인듐 산화물(ITO)를 포함하는 그룹으로부터 선택된 투명 전도성 산화물(TCO)인 것을 특징으로 하는 눈에 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 투명 전도성 필름(5)은 폴리아세틸렌 및 폴리아닐린 중에서 선택된 컨저게이트 이중 결합을 지닌, 도핑된 전도성 폴리머인 것을 특징으로 하는 눈에 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판.
  4. 제 1 항에 있어서, 딱딱한 투명 비-전도성 물질 또는 하드 코팅으로 만들어진 중간층(3)이 상기 지지부(1) 및 상기 전도성 필름(5) 사이에 삽입되는 것을 특징으로 하는 눈에 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판.
  5. 제 4항에 있어서, 상기 중간층(3)은 20μm의 두께를 가지며, SiO2를 함유하는 수지(resin)로 형성되는 것을 특징으로 하는 눈에 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 나노-균열(11)의 대부분은 전체 전도성 필름을 통과하는 것을 특징으로 하는 눈에 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판.
  7. 제 2 항에 있어서, 상기 전도성 필름(5)은 50 내지 100nm 의 두께를 지닌 ITO 필름인 것을 특징으로 하는 눈에 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 전도성 필름(5)은 65 내지 75 nm 사이의 두께를 지닌 ITO 필름인 것을 특징으로 하는 눈에 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판.
  9. 제 1 항에 있어서, 상기 지지부(1)는 폴리메틸렌 메타크릴레이트(PMMA) 및 폴리카보네이트(PC) 중에서 선택되는 물질로 구성되는 것을 특징으로 하는 눈에 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 전극(7) 및 비-전도성 공간(9)이 반사-방지 특성을 가질 수 있는 보호 필름(13)으로 코팅되는 것을 특징으로 하는 눈에 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판.
  11. 제 10 항에 있어서, 상기 보호 필름(13)은 상기 전극(7)의 접촉 구역(15)을 커버하지 않는 것을 특징으로 하는 눈에 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판.
  12. 제 1 항에 있어서, 상기 투명 기판은 상기 투명 기판을 일체형으로 포함하는 전자 장치의 터치형 제어 스크린을 형성하는 것을 특징으로 하는 눈에 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판.
  13. 제 1 항에 있어서, 상기 투명 기판은 전자 장치의 액정 디스플레이 셀 또는 광기전성 셀을 위해 하나 이상의 닫힌 판을 형성하는 것을 특징으로 하는 눈에 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판.
  14. 눈에 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판을 제조하는 방법으로서, 상기 투명 기판은 투명 전도성 필름(5)이 증착되는 투명 지지부(1)를 포함하고, 전극(7)은 복사 광원(14)을 이용한 자외선 복사에 의한 비-전도성 공간(9)에 의해 분리되는 윤곽과 함께 구성되며, 상기 방법은,
    - 가스형 유체 공급 유입구(4) 및 펌프 배출구(6)를 지닌 밀봉된 닫힌 공간(2) 내에 지지부(1) 및 전도성 필름(5)으로 형성되는 기판을 배치하는 단계로서, 상기 전도성 필름(5)은, 딱딱한 투명 비-전도성 물질로 만들어진 중간층(3) 상에 증착될 수 있는, 단계와,
    - 자외선 복사에 대해 투과성인 윈도(12)를 포함하는 마스크(10)를 자외선 복사 광원(14)과 기판 사이에 삽입하는 단계로서, 상기 윈도는 상기 비-전도성 공간(9)에 대응하는, 단계와,
    - 상기 복사 광원(14) 및 상기 기판에 사용되는 물질의 선택의 함수로, 어떠한 물질을 제거하지 않고도 복사되는 구역에서 전도성 필름(5) 내에 나노-균열이 생성되도록, 자외선 복사 특징들을 조절하는 단계
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 눈에 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판을 제조하는 방법.
  15. 제 14 항에 있어서, 상기 방법은,
    동일한 자외선 광원(14)을 이용하여 프리커서 가스로부터 반사-방지 기능을 갖는 전도성 필름(13)을 증착하되, 전극(7)의 접촉 구역(15)은 눈에 보인 상태로 남겨둔 채, 사용중인 마스크(10)를 투명 기판의 원하는 유용한 표면에 대응하는 또 다른 마스크로 교체하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 눈에 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판을 제조하는 방법.
  16. 제 14 항에 있어서, 상기 투명 전도성 필름(5)은 Sb로 도핑된 SnO2, In2O3 및, 주석 및 인듐 산화물(ITO)을 포함하는 그룹 중에서 선택되는 투명한 전도성 산화물(TOC)인 것을 특징으로 하는 눈에 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판을 제조하는 방법.
  17. 제 14 항에 있어서, 상기 투명 전도성 필름(5)은 폴리아세틸렌 및 폴리아닐린 중에서 선택되는, 도핑된 전도성 폴리머인 것을 특징으로 하는 눈에 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판을 제조하는 방법.
  18. 제 14 항에 있어서, 상기 광원(14)은 XeF 긴 펄스 레이저 및 KrF 짧은 펄스 레이저 중에서 선택되는 엑시머 레이저에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 눈에 보이지 않는 전극을 지닌 투명 기판을 제조하는 방법.
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