CN104699310A - 触摸屏及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种触摸屏及其制备方法。触摸屏包括：显示面板、电极层、填充结构和保护基板，所述电极层位于所述显示面板的出光侧，所述电极层包括多个触摸电极，所述触摸电极之间设置有间隔，所述填充结构位于所述间隔内，所述填充结构具有设定折射率，所述保护基板位于所述电极层的上方。本发明中，电极层包括多个触摸电极，触摸电极之间设置有间隔，填充结构位于间隔内，填充结构具有设定折射率，使得电极层的折射率与位于间隔内的填充结构的折射率相等或者相近，降低了电极层和填充结构的折射率之间的差异，降低了电极层和填充结构的透光率之间的差异，从而避免了消影不良现象。

Description

触摸屏及其制备方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种触摸屏及其制备方法。
背景技术
随着显示技术的发展，触摸屏的应用越来越广泛。作为触摸屏的一种重要类型，盒外式(On Cell)触摸屏是指将触摸结构嵌入到显示装置的彩膜基板和偏振片之间的装置，即在显示装置上设置触摸传感器。图1为现有技术中触摸屏的结构示意图，如图1所示，该触摸屏包括显示面板1、电极层2、连接层5、偏振片6和保护基板(Cover Glass)4。电极层2包括多个触摸电极21，触摸电极21之间设置有间隔22，电极层2位于显示面板1的出光侧，连接层5位于电极层2之上，偏振片6位于连接层5之上，保护基板4位于偏振片6之上。其中，连接层5的材料可以为压敏(pressure sensitive adhesive，简称：PSA)胶，该PSA胶可将电极层2和偏振片6进行粘接，电极层2的材料为ITO。其中，电极层2为单层电极层，也就是说，使用单层电极层制作多个触摸电极21，该多个触摸电极可包括驱动电极(Tx)与感应电极(Rx)，例如：驱动电极可横向设置，感应电极可纵向设置。驱动电极和感应电极分别构成了电容的两极。当手指触摸到触摸屏的屏幕时，影响了触摸点附近两个电极之间的耦合，从而改变了这两个电极之间的电容量。检测互电容大小时，横向的驱动电极依次发出驱动信号，纵向的所有感应电极同时接收感应信号，这样可以得到所有横向的驱动电极和纵向的感应电极交汇点的电容值大小，即整个触摸屏的二维平面的电容大小。当人体手指触摸时，会导致局部电容量减少，根据触摸屏二维电容变化量数据，可以计算出每一个触摸点的坐标。这样，触摸屏上即使有多个触摸点，也能计算出每个触摸点的真实坐标。
当电极层2的材料为ITO时，该电极层2的折射率为1.5。而触摸电极21之间的间隔为空气，空气的折射率为1。由于电极层2的折射率与未设置电极层2的间隔的折射率存在较大差异，导致电极层2的折射率与未设置电极层2的间隔的透光率也存在较大差异，从而造成消影不良现象。
发明内容
本发明提供一种触摸屏及其制备方法，用于避免消影不良现象。
为实现上述目的，本发明提供了一种触摸屏，包括：显示面板、电极层、填充结构和保护基板，所述电极层位于所述显示面板的出光侧，所述电极层包括多个触摸电极，所述触摸电极之间设置有间隔，所述填充结构位于所述间隔内，所述填充结构具有设定折射率，所述保护基板位于所述电极层的上方。
可选地，还包括：连接层，所述连接层位于所述电极层之上。
可选地，所述连接层和所述填充结构一体成型。
可选地，所述设定折射率和所述电极层的折射率的差值与所述电极层的折射率的比值的范围包括±20％。
可选地，所述设定折射率大于或等于1.2且小于或等于1.8。
可选地，所述填充结构的设定透光率和所述电极层的透光率的差值与所述电极层的透光率的比值的范围包括±5％。
可选地，所述填充结构的材料为透明树脂液态胶。
为实现上述目的，本发明提供了一种触摸屏的制备方法，包括：
制备显示面板；
在所述显示面板的出光侧形成电极层，所述电极层包括多个触摸电极，所述触摸电极之间设置有间隔；
在所述间隔内形成填充结构和在所述电极层的上方形成保护基板，所述填充结构具有设定折射率。
可选地，所述触摸屏包括：连接层和保护基板，所述连接层和所述填充结构一体成型；
所述在所述间隔内形成填充结构和在所述电极层的上方形成保护基板包括：
在所述电极层之上形成用于形成连接层的材料层，部分连接层的材料层填充于间隔内；
将保护基板设置于所述连接层的材料层的上方；
对所述连接层的材料层进行固化处理形成连接层和填充结构。
可选地，所述触摸屏还包括偏振片；
所述将保护基板设置于所述连接层的材料层的上方之前包括：将所述偏振片设置于所述保护基板上；
所述将保护基板设置于所述连接层的材料层的上方包括：将所述保护基板上设置有偏振片的一侧设置于所述连接层的材料层上。
本发明具有以下有益效果：
本发明提供的触摸屏及其制备方法的技术方案中，电极层包括多个触摸电极，触摸电极之间设置有间隔，填充结构位于间隔内，填充结构具有设定折射率，使得电极层的折射率与位于间隔内的填充结构的折射率相等或者相近，降低了电极层和填充结构的折射率之间的差异，降低了电极层和填充结构的透光率之间的差异，从而避免了消影不良现象。
附图说明
图1为现有技术中触摸屏的结构示意图；
图2为本发明实施例一提供的一种触摸屏的结构示意图；
图3为本发明实施例三提供的一种触摸屏的制备方法的流程图。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明提供的触摸屏及其制备方法进行详细描述。
图2为本发明实施例一提供的一种触摸屏的结构示意图，如图2所示，该触摸屏包括显示面板1、电极层2、填充结构3和保护基板4，电极层2位于显示面板1的出光侧，电极层2包括多个触摸电极21，触摸电极21之间设置有间隔，填充结构3位于间隔内，填充结构3具有设定折射率，保护基板4位于电极层2的上方。
本实施例中，电极层2为单层电极层，也就是说，使用单层电极层制作多个触摸电极21，多个触摸电极21同层设置。触摸电极21可包括驱动电极(Tx)或者感应电极(Rx)，则多个触摸电极21可包括驱动电极和感应电极，例如：驱动电极可横向设置，感应电极可纵向设置。其中，触摸电极21之间设置有间隔可以包括：驱动电极和感应电极之间设置有间隔；可选地，驱动电极和驱动电极之间也可以设置有间隔，感应电极和感应电极之间也可以设置有间隔。
进一步地，该触摸屏还包括连接层5，连接层5位于电极层2之上，连接层5可将保护基板4和电极层2之间连接起来，例如：连接层5可将保护基板4和电极层2进行粘接。优选地，连接层5和填充结构3一体成型。图2中示出的即为一体成型的情况，虚线是为了清楚的表示出连接层5和填充结构3的结构。
设定折射率和电极层2的折射率的差值与电极层2的折射率的比值的范围包括±20％，即：该比值大于或者等于-20％且小于或者等于20％。当该比值的范围为±20％时，表明填充结构3的折射率与电极层2的折射率相等或相近。例如：设定折射率可大于或等于1.2且小于或等于1.8。
当折射率的比值的范围为±20％时，填充结构3的设定透光率和电极层2的透光率的差值与电极层2的透光率的比值的范围包括±5％，即：该比值大于或者等于-5％且小于或者等于5％，其中，电极层3的透光率可以为95％。因此，当填充结构3的折射率与电极层2的折射率相等或者相近时，会使填充结构3的透光率和电极层2的透光率相等或者相近，从而使得通过填充结构3和电极层2而到达人眼的光基本是一致的，从而避免了消影不良现象。
优选地，填充结构3的材料为透明树脂液态胶，例如：该透明树脂液态胶可以为光学透明树脂(Optical Clear Resin，简称OCR)液态胶。当连接层5和填充结构3一体成型时，连接层5和填充结构3的材料相同，即：连接层5的材料也可以为透明树脂液态胶。
进一步地，该触摸屏还可以包括偏振片6，该偏振片6位于连接层5和保护基板4之间。此时，连接层5可将偏振片6和电极层2之间连接起来，例如：连接层5可将偏振片6和电极层2进行粘接。
本实施例中，显示面板1可以为液晶显示面板，则该显示面板1可包括相对设置的第一基板11和第二基板12，第一基板11和第二基板12之间设置有液晶13，第一基板11和第二基板12的边缘还设置于封框胶14。其中，第一基板11可以为阵列基板，第二基板12可以为彩膜基板；或者，第一基板11可以为彩膜阵列基板(color filter on array，简称：COA)，第二基板12可以为透明基板。此时，显示面板1的入光侧(图2中第一基板11下方)还设置有偏振片和背光模组，该偏振片和背光模组不再具体画出。
可选地，显示面板1还可以为有机发光二极管(OrganicLight-Emitting Diode，简称：OLED)显示面板，此种情况不再具体画出。
在实际应用中，填充结构3和连接层5的材料还可以不同，此时填充结构3和连接层5在结构上并非一体成型，且在制备过程中填充结构3和连接层5是分别形成的。例如：填充结构3的材料为透明树脂液态胶，连接层5的材料为PSA胶。此种情况图2中并未具体画出。
本实施例提供的触摸屏中，电极层包括多个触摸电极，触摸电极之间设置有间隔，填充结构位于间隔内，填充结构具有设定折射率，使得电极层的折射率与位于间隔内的填充结构的折射率相等或者相近，降低了电极层和填充结构的折射率之间的差异，降低了电极层和填充结构的透光率之间的差异，从而避免了消影不良现象。
图3为本发明实施例三提供的一种触摸屏的制备方法的流程图，如图3所示，该方法包括：
步骤101、制备显示面板。
步骤102、在显示面板的出光侧形成电极层，电极层包括多个触摸电极，触摸电极之间设置有间隔。
本实施例中，可在显示面板的出光侧形成电极材料层，并对电极材料层进行构图工艺形成电极层。
步骤103、在间隔内形成填充结构和在电极层的上方形成保护基板，填充结构具有设定折射率。
本实施例中，触摸屏包括连接层和保护基板，连接层和填充结构一体成型。则步骤103包括：
步骤1031、在电极层之上形成用于形成连接层的材料层，部分连接层的材料层填充于间隔内。
本实施例中，连接层的材料层的材料为透明树脂液态胶，由于透明树脂液态胶是可以流动的，因此部分连接层的材料层会流动至间隔内以实现填充于间隔内。由此可知，连接层的材料层的材料优选采用流动性的材料。
步骤1032、将保护基板设置于连接层的材料层的上方。
本实施例中，所述触摸屏还包括偏振片。则步骤1032之前还包括：将偏振片设置于保护基板上；步骤1032具体包括：将保护基板上设置有偏振片的一侧设置于连接层的材料层上。
步骤1033、对连接层的材料层进行固化处理形成连接层和填充结构。
连接层的材料层固化处理后形成的连接层可将电极层和偏振片之间进行粘接。采用上述方式可同步形成填充结构和连接层，工艺简单且易于实现。
本实施例提供的触摸屏的制备方法可用于制备上述实施例一提供的触摸屏，对触摸屏的描述可参见上述实施例一，此处不再赘述。
本实施例提供的触摸屏的制备方法制备出的触摸屏中，电极层包括多个触摸电极，触摸电极之间设置有间隔，填充结构位于间隔内，填充结构具有设定折射率，使得电极层的折射率与位于间隔内的填充结构的折射率相等或者相近，降低了电极层和填充结构的折射率之间的差异，降低了电极层和填充结构的透光率之间的差异，从而避免了消影不良现象。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种触摸屏，其特征在于，包括：显示面板、电极层、填充结构和保护基板，所述电极层位于所述显示面板的出光侧，所述电极层包括多个触摸电极，所述触摸电极之间设置有间隔，所述填充结构位于所述间隔内，所述填充结构具有设定折射率，所述保护基板位于所述电极层的上方。
2.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，还包括：连接层，所述连接层位于所述电极层之上。
3.根据权利要求2所述的触摸屏，其特征在于，所述连接层和所述填充结构一体成型。
4.根据权利要求1至3任一所述的触摸屏，其特征在于，所述设定折射率和所述电极层的折射率的差值与所述电极层的折射率的比值的范围包括±20％。
5.根据权利要求4所述的触摸屏，其特征在于，所述设定折射率大于或等于1.2且小于或等于1.8。
6.根据权利要求4所述的触摸屏，其特征在于，所述填充结构的设定透光率和所述电极层的透光率的差值与所述电极层的透光率的比值的范围包括±5％。
7.根据权利要求1至3任一所述的触摸屏，其特征在于，所述填充结构的材料为透明树脂液态胶。
8.一种触摸屏的制备方法，其特征在于，包括：
制备显示面板；
在所述显示面板的出光侧形成电极层，所述电极层包括多个触摸电极，所述触摸电极之间设置有间隔；
在所述间隔内形成填充结构和在所述电极层的上方形成保护基板，所述填充结构具有设定折射率。
9.根据权利要求8所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述触摸屏包括：连接层和保护基板，所述连接层和所述填充结构一体成型；
所述在所述间隔内形成填充结构和在所述电极层的上方形成保护基板包括：
在所述电极层之上形成用于形成连接层的材料层，部分所述连接层的材料层填充于间隔内；
将保护基板设置于所述连接层的材料层的上方；
对所述连接层的材料层进行固化处理形成连接层和填充结构。
10.根据权利要求9所述的触摸屏的制备方法，其特征在于，所述触摸屏还包括偏振片；
所述将保护基板设置于所述连接层的材料层的上方之前包括：将所述偏振片设置于所述保护基板上；
所述将保护基板设置于所述连接层的材料层的上方包括：将所述保护基板上设置有偏振片的一侧设置于所述连接层的材料层上。
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