KR101079514B1 - 격벽 패턴 부착 기판 및 그 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 혼색이나 백색화 불량이 없는, 각 화소에 평탄하고 균일한 착색층을 형성할 수 있는 격벽 패턴 부착 기판 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 기판과, 상기 기판 상의 소정 위치에 형성된 불소 화합물을 함유하는 재료로 이루어지는 격벽 패턴을 갖는 격벽 패턴 부착 기판으로서, 상기 격벽의 상부 표면은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 25%∼60%이다.
격벽 패턴, 기판, 불소 화합물, 음이온, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계, 기능층, 착색 잉크

Description

격벽 패턴 부착 기판 및 그 제조 방법 {SUBSTRATE WITH PARTITION PATTERN AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME}
본 발명은, 액정 표시 장치나 일렉트로 루미네센스 표시 장치 등에 이용하는 격벽 패턴 부착 기판 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 잉크 제트 방식에 의해 각 화소가 인쇄되는 격벽 패턴 부착 기판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
컬러 액정 표시 장치 등에 이용되는 컬러 필터는, 컬러 액정 표시 장치 등에 불가결한 부재로서, 액정 표시 장치의 화질을 향상시키거나, 각 화소에 각각의 원색의 색채를 부여하거나 하는 역할을 갖고 있다. 이 컬러 필터의 제조 방법은, 종래 여러가지의 검토가 거듭되고 있으며, 대표적인 방법으로서, 포토리소그래피 방식, 잉크 제트 방식 등이 알려져 있다. 포토리소그래피 방식에서는, 기판 전체에 각 색의 감광성 수지층의 도포막을 형성하고, 후에 도포막의 불필요한 부분을 제거하고, 남은 패턴을 각 색 화소로 한다. 이 방법에서는 도포막의 대부분이 불필요해지기 때문에, 컬러 필터의 제조시에 대량의 안료 등의 재료가 쓸모없게 된다. 또한, 색 화소마다 노광, 현상 공정을 행하기 때문에 공정수가 많아진다. 이러한 점으로부터, 포토리소그래피 방식에 의한 컬러 필터의 제조는 코스트, 환경면 모두 문제를 갖고 있었다. 이 점에서 최근에는 잉크 제트 방식이 주목받고 있다. 잉크 제트 방식에 의한 컬러 필터의 제조는, R, G, B의 3색의 착색 수지 조성물을 잉크로서 이용하여, 각 색을 동시에 인쇄할 수 있다. 이 때문에, 재료의 낭비도 적고, 또한 화소의 형성 공정이 단축되기 때문에, 환경 부하의 저감과 대폭적인 코스트 다운을 기대할 수 있다.
[특허 문헌 1] 일본 특허 공개 평성 6-347637호 공보
[특허 문헌 2] 일본 특허 공개 평성 7-035915호 공보
[특허 문헌 3] 일본 특허 공개 평성 7-035917호 공보
[특허 문헌 4] 일본 특허 공개 평성 7-248413호 공보
잉크 제트 방식을 이용한 컬러 필터 기판의 제조 방법으로서, 특허 문헌 1∼4에 기재되어 있는 방법이 제안되어 있다. 특허 문헌 1(일본 특허 공개 평성 6-347637호 공보)에는, 글래스 기판 상의 원하는 착색층 영역 외에의 잉크의 확산을 방지하기 위하여, 각 화소간을 구획하는 흑색의 격벽부(블랙 매트릭스)에 불산계 발수ㆍ발유제를 함유시켜, 격벽의 임계 표면 장력이 35다인 미만이고, 간극의 피인쇄면의 임계 표면 장력이 35다인 이상이며, 또한 잉크의 표면 장력이 격벽 및 간극의 피인쇄면의 임계 표면 장력으로부터 5다인 이상인 차를 갖는 격벽을 형성함으로써, 착색 영역 내에만 잉크를 정착시키는 것이 기재되어 있다. 또한, 특허 문헌 2(일본 특허 공개 평성 7-35915호 공보), 특허 문헌 3(일본 특허 공개 평성 7-35917호 공보), 특허 문헌 4(일본 특허 공개 평성 7-248413호 공보)에는, 착색층 형성 공정에서의 잉크 번짐, 혼색을 방지하기 위한 구획벽으로 하는 격벽이, 불소 함유 화합물 및/또는 규소 함유 화합물을 함유하는 흑색 수지층으로서, 그 물에 대한 후퇴 접촉각이 40°이상, 혹은 화소를 형성하기 위한 착색 잉크에 대한 후퇴 접촉각이 20°이상으로 하는 것이 기재되어 있다. 이들 방법은, 발잉크성을 갖는 불소 화합물을 함유한 흑색 수지 조성물을 이용하여 격벽을 형성하고 있기 때문에, 형성된 격벽 패턴에 발잉크성을 부여하는 공정이나, 피인쇄면에 친잉크성을 부여하는 공정 등이 불필요하여 공정수가 적고, 환경 부하와 제조 코스트를 저감할 수 있는 매우 바람직한 방법이라고 할 수 있다.
그 밖의 방법으로서는, 기판 상에 격벽 재료를 패터닝하여 격벽 패턴을 형성한 후에, 발잉크성의 표면 처리를 행하는 방법이 있지만, 공정수가 1개 늘어나는 데다가, 상부, 측면의 발잉크성 정도의 컨트롤이 곤란하다.
또한, 기판 상에 격벽 재료를 형성하여 발잉크 처리한 후에, 패터닝하는 방법도 있지만, 이 경우, 상부에만 발잉크성을 부여할 수 있는데, 패터닝 공정에서 발잉크성도 잃게 되는 경우가 있으므로, 원하는 발잉크성을 부여하는 것이 곤란하다.
그러나, 상기 종래의 방법에서는, 유기 용제계의 안료 분산형 착색 잉크를 이용하여 잉크 제트에 의해 인쇄한 경우에는, 인접한 화소간에서 격벽을 타고 넘어 잉크끼리 서로 섞여 혼색의 불량이 발생하거나, 반대로 착색층이 테두리만 있고 안이 백색화되거나 하는 문제가 발생하고 있었다. 또한 격벽의 표면이, 화소를 형성하기 위한 착색 잉크에 대하여 충분한 발잉크성을 갖고 있어도, 격벽 패턴을 형성할 때의 소성 공정이나, 잉크 제트 인쇄 전의 세정 공정에서, 발잉크제가 분해되어 비산되거나, 격벽 외로 발잉크제가 블리드 아웃하거나 하는 경우가 있었다. 그 때문에, 격벽으로 둘러싸여진 개구부의 기판 표면이 발잉크제로 오염되어, 상기한 착색층의 백색화나, 화소의 형상이 평탄하게 되지 않는 등의 문제가 발생하여, 혼색, 백색화가 없는, 평탄한 화소를 형성하는 것은 곤란하였다.
또한, 혼색 등이 없는 평탄한 화소를 형성하기 위해서는, 격벽에 발잉크성을 컨트롤할 필요가 있는데, 격벽 상부가 발잉크성이면, 그 위에 오버코트층이나 도전층 등의 기능층을 형성하였을 때에, 격벽과 기능층의 밀착성이 충분하지 않아, 기능층의 얼룩이나 막 벗겨짐 등이 생긴다고 하는 문제가 있다.
이를 회피하기 위하여, 발잉크성이 없는 격벽을 형성하는 것이 생각되지만, 그 경우, 격벽과 기능층과의 밀착성은 충분해지지만, 혼색, 백색화가 생겨, 평탄한 화소의 형성은 불가능하다.
즉, 혼색, 백색화가 없는 평탄한 화소와, 얼룩, 막 벗겨짐이 없는 기능층의 양립은 곤란하였다.
본 발명은, 상기의 문제점을 해결하기 위하여 이루어진 것으로, 그 과제로 하는 바는, 혼색이나 백색화 불량이 없는, 각 화소에 평탄하고 균일한 착색층을 형성할 수 있는 격벽 패턴 부착 기판 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
또한, 격벽 상에 기능층을 형성하는 경우, 기능층에 얼룩이 없고, 또한 기능층과 높은 밀착성을 갖는 격벽 패턴 부착 기판 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
<과제를 해결하기 위한 수단>
이하에 상기 과제를 해결하기 위한 본원의 구성을 기재한다.
제1 발명은, 기판과, 상기 기판 상의 소정 위치에 형성된 불소 화합물을 함유하는 재료로 이루어지는 격벽 패턴을 갖는 격벽 패턴 부착 기판으로서, 상기 격벽의 상부 표면은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 25%∼60%인 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판이다.
제2 발명은, 상기 제1 발명에 기재된 격벽 패턴 부착 기판에서, 상기 격벽에 둘러싸여진 기판 표면의, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이, 10% 이하인 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판이다.
제3 발명은, 기판과, 상기 기판 상의 소정 위치에 형성된 불소 화합물을 함유하는 재료로 이루어지는 격벽 패턴을 갖는 격벽 패턴 부착 기판으로서, 상기 격벽 중, 상기 기판측으로부터의 높이가 90% 이하인 부분의, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이, 10% 이하인 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판이다.
제4 발명은, 상기 제3 발명에 기재된 격벽 패턴 부착 기판에서, 상기 격벽에 둘러싸여진 기판 표면의, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이, 10% 이하인 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판이다.
제5 발명은, 기판과, 상기 기판 상의 소정 위치에 형성된 불소 화합물을 함유하는 재료로 이루어지는 격벽 패턴과, 상기 격벽 패턴에 둘러싸여진 영역에 착색 잉크에 의해 형성된 착색층을 갖는 격벽 패턴 부착 기판으로서, 상기 격벽의 상부 표면은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 20% 이하이고, 또한 상기 격벽 상에 착색 잉크의 부착이 없는 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판이다.
제6 발명은, 상기 제5 발명에서, 격벽 패턴 부착 기판에서, 상기 격벽 및 착색층 상에, 기능층을 갖는 격벽 패턴 부착 기판이다.
제7 발명은, 기판과, 상기 기판 상의 소정 위치에 형성된 불소 화합물을 함유하는 재료로 이루어지는 격벽 패턴과, 상기 격벽 패턴에 둘러싸여진 영역에 착색 잉크에 의해 형성된 착색층을 갖는 격벽 패턴 부착 기판으로서, 상기 격벽 중, 상기 기판측으로부터의 높이가 90% 이하인 부분은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 10% 이하이고, 또한 상기 격벽 상에 착색 잉크의 부착이 없는 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판이다.
제8 발명은, 상기 제7 발명에 기재된 격벽 패턴 부착 기판에서, 상기 격벽 및 착색층 상에, 기능층을 더 갖는 것이다.
제9 발명은, 기판 상의 소정 위치에 불소 화합물을 함유하는 격벽 재료의 패턴을 형성하는 공정과,
상기 격벽 재료의 패턴에 전리 방사선을 조사하는 공정과,
전리 방사선을 조사한 격벽 재료의 패턴에 180℃ 이하에서 가열 경화하여 격벽을 형성하는 공정을 포함하는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법이다.
제10 발명은, 상기 제9 발명에 기재된 제조 방법으로서, 형성된 격벽의 상부 표면은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율을 25%∼60%로 한 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법이다.
제11 발명은, 상기 제9 발명에 기재된 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법으로서, 형성된 상기 격벽 중, 상기 기판측으로부터의 높이가 90% 이하인 부분은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율을 10% 이하로 한 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법이다.
제12 발명은, 제9 발명에 기재된 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법으로서, 격벽을 형성하는 공정 후에, 착색 잉크에 의해 착색층을 형성하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법이다.
제13 발명은, 제9 발명에 기재된 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법으로서, 격벽을 형성하는 공정 후에, 착색 잉크에 의해 착색층을 형성하는 공정을 갖고, 또한 격벽 패턴 상에 착색 잉크의 부착이 없는 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법이다.
제14 발명은, 제9 발명에 기재된 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법으로서, 격벽을 형성하는 공정 후에, 착색 잉크에 의해 착색층을 형성하는 공정, 착색층을 형성한 후에 상기 격벽 및 착색층을 형성한 후에 표면 세정 처리를 행하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법이다.
제15 발명은, 제9 발명에 기재된 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법으로서, 격벽을 형성하는 공정 후에, 착색 잉크에 의해 착색층을 형성하는 공정과, 착색층을 형성한 후에 상기 격벽 및 착색층을 형성한 후에 표면 세정 처리를 행하는 공정을 포함하고, 또한,
표면 세정 처리 후의 격벽의 상부 표면은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 20% 이하인 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법이다.
제16 발명은, 제9 발명에 기재된 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법으로서, 격벽을 형성하는 공정 후에, 착색 잉크에 의해 착색층을 형성하는 공정과, 착색층을 형성한 후에 상기 격벽 및 착색층을 형성한 후에 표면 세정 처리를 행하는 공정을 포함하고, 또한,
표면 세정 처리 후의 상기 격벽 중, 상기 기판측으로부터의 높이가 90% 이하인 부분은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 10% 이하인 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법이다.
제17 발명은, 기판 상의 소정 위치에 불소 화합물을 함유하는 격벽 재료의 패턴을 형성하는 공정과,
상기 격벽의 패턴에 둘러싸여진 영역에 착색 잉크를 충전하여 착색층을 형성하는 공정과,
상기 격벽 및 착색층을 형성한 후에 표면 세정 처리를 행하는 공정을 갖는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법이다.
제18 발명은, 제17 발명에 기재된 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법으로서, 착색 잉크에 의해 착색층을 형성하는 공정 후의 격벽 패턴 상에 착색 잉크의 부착이 없는 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법이다.
제19 발명은, 제17 발명에 기재된 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법으로서, 표면 세정 처리 공정 후의 상기 격벽의 상부 표면은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 20% 이하인 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법이다.
제20 발명은, 제17 발명에 기재된 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법으로서, 표면 세정 처리 공정 후의 상기 격벽 중, 상기 기판측으로부터의 높이가 90% 이하인 부분은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 10% 이하인 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법이다.
<발명의 효과>
혼색이나 백색화 불량이 없는, 각 화소에 평탄하고 균일한 착색층을 형성할 수 있는 격벽 패턴 부착 기판을 제공할 수 있다.
<발명을 실시하기 위한 최선의 형태>
이하, 도면을 참조하면서 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 격벽 패턴 부착 기판의 단면의 일례를 도시하는 단면도이다. 보호층(1), 격벽(2), 기재(3), 착색층(화소)(4)이 도시되어 있다.
도 2는, 본 발명의 격벽 패턴 부착 기판의 형성 방법의 일례를 도시하는 것이다. 도 2에서, (a) 기재 상에 격벽의 재료를 전체면에 형성하는 공정, (b) 격벽을 패터닝하는 공정, (c) 착색층을 형성하는 경우에는, 격벽의 개구부에 착색층을 형성하는 공정을 갖는다. 여기에서, 격벽의 사이에 있는 각 개구부에 형성한 착색층의 하나하나를 화소로 한다.
본 발명에서는, 격벽의 패턴에 둘러싸여진 영역에 착색 잉크에 의해 착색층을 형성할 때, 혼색이나 백색화의 불량이 발생하는 요인을 검토한 바, 불소계의 화합물을 격벽의 상부 표면에 편석시켜 발잉크성을 부여하는 것이 가장 바람직하고, 또한, 격벽의 상부 표면의, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행한 결과, 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이, 특정한 범위 내에 있음으로써, 혼색과 백색화를 없애, 화소의 평탄성을 높이는 것을 발견하였다.
즉, 형성된 격벽의 상부 표면은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 25%∼60%인 것이 바람직하다. 상부 표면이 이 범위에 있는 격벽 패턴이면, 착색 잉크를 충전하여 착색층을 형성한 경우, 혼색과 백색화가 없는, 평탄성이 높은 화소로 할 수 있다.
또한, 격벽에 둘러싸여진 기판 표면을, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행한 결과, 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 10% 이하인 것인 것이 바람직하다. 이 범위 내이면, 착색 잉크를 충전하여 착색층을 형성한 경우, 백색화가 없는 화소로 할 수 있다.
또한, 상기 격벽 중, 상기 기판측으로부터의 높이가 90% 이하인 부분의, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이, 10% 이하인 것이 바람직하다. 격벽의 상부 표면 이외에는, 발잉크성은 그다지 높지 않은 것이 바람직하다. 잉크를 충전하였을 때에 백색화 등의 문제가 일어나기 때문이다. 또한, 격벽의 내부의 발잉크성이 높으면, 격벽과 기판의 밀착성이 저하되기 때문에, 그 점으로부터도 전술한 범위 내인 것이 바람직하다. 또한, 발잉크제를 내첨한 격벽은, 제조 과정에서 상부에 편석되는 성질이 있기 때문에, 기판 근방 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율은, 상기 격벽 중, 상기 기판측으로부터의 높이가 90% 이하인 부분에서의 값보다 낮아진다.
또한, 발잉크성이 전혀 없으면 후술하는 착색층의 형상이 오목 형상으로 될 가능성이 있어, 바람직하게는 상기 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 0.1%∼5%이면 된다.
이 범위 내이면, 혼색이 없는 것으로 되는데, 확인하는 방법 중 하나로서, 격벽 상에 착색 잉크의 부착의 확인이 있다.
구체적인 확인 방법으로서는, 격벽 상부에서, 착색 잉크에 함유되지만 격벽에는 함유되지 않는 성분의 분석을 행하면 된다. 성분으로서는 원소나 유기 관능기 등을 들 수 있지만 이것에 한정되는 것은 아니다.
분석 방법은 성분의 확인이 가능하면 어떠한 것이어도 되지만, 예를 들면, TOF-SIMS, EDX(에너지 분산형 형광 X선 분석), XPS(X선 전자 분광 분석), ICP 발광 분석 등을 들 수 있다.
예를 들면 격벽에 Cu 원소를 함유하지 않고, Cu 원소를 함유하는 착색 잉크를 이용하는 경우에는, 격벽 상부의 Cu의 원소 분석을 행함으로써 확인할 수 있다.
또한, 예를 들면 격벽에는 벤젠환을 함유하지 않고, 벤젠환을 함유하는 착색 잉크를 이용하는 경우에는, 벤젠환의 유무를 분석함으로써 확인할 수 있다.
또한, 착색층을 형성할 때에는 격벽의 상부 표면은 어느 정도의 발잉크성인 것이 바람직하지만, 착색층을 형성한 후의 격벽의 상부 표면의 발잉크성은 낮은 것이 바람직하다. 격벽층 상에 오버코트층이나 도전층 등의 기능층을 형성하는 경우, 격벽의 상부 표면의 발잉크성이 높으면, 기능층에 얼룩이 생기거나, 격벽과 기능층의 밀착성이 낮아지므로 기능층의 막 벗겨짐 등이 생기게 된다.
즉, 착색층을 형성한 후의 격벽의 상부 표면은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 20% 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 3∼20%이다.
또한, 상기 격벽 중, 상기 기판측으로부터의 높이가 90% 이하인 부분은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 10% 이하, 바람직하게는 0.1∼5%의 범위 내이다. 내부의 발잉크성이 지나치게 높으면 격벽과 기판의 밀착성이 저하되기 때문이다.
여기에서, 착색층은, 적(R), 녹(G), 청(B) 등의 착색 재료로 이루어지는 잉크에 의해 형성되는 것이어도 상관없고, 적(R), 녹(G), 청(B) 등의 발광 재료로 이루어지는 잉크에 의해 형성되는 것이어도 상관없다.
착색 재료로 이루어지는 잉크에 의해 형성하는 경우, 액정 표시 장치, 또는 일렉트로 루미네센스 표시 장치에 이용하는 컬러 필터로서 이용할 수 있다.
또한, 발광 재료로 이루어지는 잉크에 의해 형성하는 경우, 일렉트로 루미네센스 표시 장치로서 이용할 수 있다.
또한, 상기 착색 재료, 발광 재료는 적(R), 녹(G), 청(B) 이외의, 시안, 마젠타, 옐로우, 바이올렛 등의 다른 색이어도 상관없으며, 적절하게 조합하여도 된다.
액정 표시 장치용으로 하는 경우에는, 격벽 및 착색층 상에 투명 도전층, 배향막층을 순차적으로 더 적층할 수 있다. 예를 들면 박막 트랜지스터와 같은 전극을 형성한 대향 기판과 대치시키고 액정층을 개재하여, 액정 표시 장치를 구성한다. 또한, 필요에 따라서 상기 컬러 필터 상에 보호층(4)을 형성할 수 있다.
일렉트로 루미네센스 표시 장치도 마찬가지로, 격벽 및 착색층 상에 도전층, 보호층 등을 적층할 수 있다.
기판에는, 글래스 기판, 석영 기판, 플라스틱 기판 등, 공지의 기판 재료를 사용할 수 있다. 투명성의 기판을 이용하는 것이 바람직하며, 그 중에서도 글래스 기판은 투명성, 강도, 내열성, 내후성에서 우수하다.
이하, 격벽 및 그 형성 방법에 대하여 상세하게 설명한다. 본 발명에서는 격벽의 막 두께(높이)는 1.0㎛ 이상으로 하는 것이 바람직하다. 또한 1.5㎛∼5㎛로 하는 것이 보다 바람직하다. 격벽의 높이가 1.0㎛ 미만이면 혼색을 일으키기 쉽고, 격벽의 높이가 지나치게 높으면, 정밀한 격벽의 형성이 곤란함과 함께, 착색층과의 단차가 커지기 때문에 바람직하지 않다.
격벽은, 발잉크제를 함유하는 수지 조성물로 이루어지는 것이 바람직하다. 발잉크제로서는 규소계 재료나 불소계 재료 등을 들 수 있지만, 불소 화합물을 이용하는 것이 바람직하다.
특히 후술하는 포토리소그래피법에 의해 격벽을 형성하는 경우, 감광성의 수지 조성물을 이용하여 형성할 수 있다.
또한, 표시 장치에 이용하는 경우, 차광성을 갖게 하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 격벽의 재료에 차광성 재료를 혼입함으로써 차광성을 갖게 할 수 있다.
본 발명에서, 격벽의 형성 방법은 포토리소그래피법, 인쇄법, 전사법 등, 특별히 한정되지 않고 종래 공지된 방법에 의해 형성하는 것이 가능하다. 생산성, 격벽의 형성성 등의 점으로부터 포토리소그래피법이 바람직하다.
또한 격벽(2)은 1층 또는 2층 이상의 다층 구조이어도 상관없다. 또한, 1층이면 공정이 하나 적고, 또한 위치 맞춤 등도 필요없기 때문에 바람직하다.
여기에서 중요한 것은, 격벽 상부 표면, 상기 격벽 중, 상기 기판측으로부터의 높이가 90% 이하인 부분 또는 격벽의 개구부의 F-프래그먼트 이온이 전술한 범위 내에 들어가 있는 것이다.
격벽의 F-프래그먼트 이온의 검출 강도의 조정은, 하기의 실시예에서도 기재하지만, 격벽의 형성용 조성물 내의 불소 함유 화합물량의 조절, 격벽의 형성시의 소성 공정시의 감압도 및 산소 농도, 또는 소성 온도의 조절 등에 의해 행할 수 있다. 또한, 기판 표면에서의 F-프래그먼트 이온의 검출 강도의 조정은, 격벽의 형성시의 소성 공정시의 감압도 또는 소성 온도를 조절하거나, 소성 분위기를 불활성 분위기로 하거나, 자외선 경화 공정을 설정하거나, 세정 공정 등의 조건을 조절하는 등의 방법을 들 수 있다.
다음으로, 포토리소그래피법을 이용한 격벽의 형성법의 일례에 대하여 설명한다.
상기 발잉크성을 부여하는 재료를 함유한 감광성 수지 조성물을 기판에 도공하는 공정에서는, 적당하게 세정된 기판에 대하여, 후술하는 발잉크제를 함유한 네가티브형의 감광성 수지 조성물을, 슬릿 다이 코터, 스핀 코터 등, 공지된 도공 장치를 이용하여 균일하게 도공한다(도 3의 (a) 참조). 그 후, 용제 성분을 제거하기 위하여 필요에 따라서, 감압 건조 처리나 프리베이크 처리를 실시할 수 있다. 이 때 불소계의 발잉크제를 이용한 경우에는, 도포막 내에 분산된 발잉크제가 서서히 도포막 표면에 편석되는 성질을 갖고 있고, 도공으로부터 용제가 휘발하여 도포막이 완전히 고화할 때까지의 시간 및 그 조건에 의해, 발잉크제의 편석 상태가 변화한다. 그 때문에 균일한 성능의 격벽을 얻는 측면에서, 본 공정에서의 도공으로부터 감압 건조 혹은 프리베이크까지의 시간 간격 및 그들의 조건은 균일하게 유지하는 것이 바람직하다.
격벽 패턴을 형성하는 공정에서는, 노광 장치 및 포토마스크를 이용하여, 종래 공지된 노광, 현상 방법에 의해 격벽의 패턴을 형성할 수 있다(도 3의 (b) 참조).
상기 격벽 패턴에 자외선을 조사하여 경화시키는 공정에서는, 기판의 상면으로부터 전리 방사선에 의해 격벽을 경화시키고 나서, 열경화를 시킬 수 있다(도 3의 (c) 참조). 전리 방사선으로서는, 예를 들면 200∼500nm의 자외선 등을 조사하여 격벽을 경화시킬 수 있다. 조사하는 광원으로서, 감광성 수지의 대부분이 200∼400nm의 파장 영역에 감광성을 갖기 때문에, 그 파장 영역에 적어도 하나 이상의 분광 피크를 갖는 것이 특히 바람직하다. 또한, 발잉크제의 분해를 촉진하는 파장(예를 들면 200nm 이하)을 포함하는 것은, 격벽 표면의 발잉크성을 저하시킴과 함께, 분해된 발잉크제가 개구부의 기판 표면을 오염시키기 때문에 바람직하지 않다. 광원으로서 고압 수은 램프 혹은 메탈 할라이드 램프가 특히 바람직하다. 조사하는 노광량에 관해서는, 격벽의 자외선 가교가 불충분하면, 착색층을 형성할 때의 착색 잉크의 용제에 대한 내성이 부족하여, 격벽 표면에 거칠기가 생기는 경우가 있기 때문에, 254nm에서 100mJ/cm2 이상, 365nm에서 50mJ/cm2 이상인 것이 바람직하다. 본 발명에서는, 이 공정에서, 발잉크제의 열분해에 의한 비산, 블리드 아웃을 극력 억제하여, 착색층을 형성할 때, 격벽 표면에 거칠기가 생기지 않게 될 때까지 격벽을 충분히 경화시킴으로써, 잉크 제트에 의해 착색층을 형성하였을 때의, 화소의 혼색이나 백색화, 색 얼룩을 방지할 수 있다.
또한 상기 발잉크제를 함유하는 감광성 수지 조성물에 의해 형성한 격벽이 차광성을 갖는 차광층인 경우, 상기 고압 수은 램프 혹은 메탈 할라이드 램프에 의한 자외선 조사에서는, 격벽의 표면은 경화하지만, 차광되기 때문에 내부까지는 경화하지 않는 경우가 있다. 그 경우에는, 180℃ 미만의 온도에서 가열 처리를 실시하여 열경화시키는 공정을 설정할 수 있다(도 3의 (d) 참조). 가열 방법으로서는 컨벡션 오븐, 핫 플레이트, 할로겐 히터, IR 오븐에 의한 가열 등을 이용할 수 있으며, 특별히 한정되는 것은 아니다.
그러나 180℃ 이상의 온도에서 가열하면, 전공정에서 격벽의 표면을 고압 수은 램프 혹은 메탈 할라이드 램프에 의해 자외선 경화시켜도, 격벽 개구부의 기판 표면에 발잉크제의 열분해에 의한 비산이나 블리드 아웃은 보여져, 잉크 제트에 의해 착색층을 형성하였을 때에, 백색화나 평탄성의 악화를 초래하기 때문에 바람직하지 않으며, 열경화시키기 위한 가열 온도는 180℃ 미만으로 억제하는 것이 바람직하다.
또한 자외선 조사 공정을 포함하지 않는 경우, 수지의 조성에도 따르지만, 경화하기 위하여 180℃ 이상의 고온 가열할 필요가 있어, 격벽 개구부의 기판 표면에 발잉크제의 열분해에 의한 비산이나 블리드 아웃 등이 발생할 가능성이 있다.
감광성 수지 조성물로서는 예를 들면 네가티브형의 감광성 수지 조성물을 이용할 수 있고, 조사하는 광의 파장 영역에 감광성을 갖도록, 하기의 각 성분을 적절하게 조합하여 설계되어 있다. 주성분은 바인더 수지, 래디컬 중합성을 갖는 화합물, 광중합 개시제, 용제, 발잉크제, 및 필요에 따라서 차광성 재료를 포함한다.
우선 바인더 수지로서는, 알칼리 가용성의 열경화성 수지가 바람직하며, 구체적으로는 크레졸-노볼락 수지, 폴리비닐페놀 수지, 아크릴 수지, 메타크릴 수지 등을 들 수 있다. 이들 바인더 수지는 단독으로 이용하여도, 2종류 이상을 혼합하여도 된다. 또한 저온에서의 경화성을 촉진하기 위하여, 이들 수지에 추가하여 멜라민 유도체와 광산발생제를 함유시킬 수도 있다. 멜라민 유도체로서는, 메틸올기 혹은 메톡시메틸기를 갖고 있는 화합물이면 되지만, 특히 용제에 대한 용해성이 큰 것이 바람직하다.
광산발생제는, 노광을 행하였을 때에 발생하는 산의 작용에 의해, 멜라민 유도체와 바인더 수지의 탈수 반응 및 가교 반응을 촉진하는 것이며, 광산발생제 중에서도 특히 용제에 대한 용해성이 큰 것이 바람직하다. 일례로서, 구체적으로는, 디페닐요오도늄, 디톨릴요오도늄, 페닐(4-아니실)요오도늄, 비스(3-니트로페닐)요오도늄, 비스(4-tert-부틸페닐)요오도늄, 비스(4-클로로페닐)요오도늄, 비스(4-n-도데실페닐)요오도늄, 4-이소부틸페닐(4-톨릴)요오도늄, 4-이소필페닐(4-톨릴)요오도늄 등의 디아릴요오도늄, 혹은 트리페닐술포늄 등의 트리아릴술포늄 등의 트리아릴술포늄의 클로라이드, 브로마이드, 혹은 붕불화염, 헥사플루오로포스페이트염, 헥사플루오로아르세네이트염, 방향족 술폰산염, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트염이나, 디페닐페나실술포늄(n-부틸)트리페닐보레이트 등의 술포늄 유기 붕소 착체염, 혹은 2-메틸-4,6-비스트리클로로메틸트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스트리클로로메틸트리아진, 2-{2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐}-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진 등의 트리아진 화합물, 혹은 1,2-나프토퀴논디아지드, 1,2-나프토퀴논디아지드-4-술폰산나트륨, 1,2-나프토퀴논디아지드-5-술폰산나트륨, 1,2-나프토퀴논디아지드-4-술폰산 에스테르 유도체, 1,2-나프토퀴논디아지드-5-술폰산 에스테르 유도체 등의 디아조나프토퀴논 화합물 등을 들 수 있다.
본 발명에서 래디컬 중합성을 갖는 화합물은, 예를 들면 비닐기 혹은 알릴기를 갖는 모노머, 올리고머, 말단 혹은 측쇄에 비닐기 혹은 알릴기를 갖는 폴리머를 이용할 수 있다. 구체적으로는 (메트)아크릴산 및 그의 염, (메트)아크릴산 에스테르류, (메트)아크릴아미드류, 무수 말레산, 말레산 에스테르, 이타콘산 에스테르, 스티렌류, 비닐에테르류, 비닐에스테르류, N-비닐 복소환류, 알릴에테르류, 알릴에스테르류, 및 이들의 유도체를 들 수 있다. 바람직한 화합물로서는, 예를 들면 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트 등 비교적 저분자량의 다관능 아크릴레이트 등을 들 수 있지만, 이것에 한정되지 않는다. 이들 래디컬 중합성을 갖는 화합물은 단독으로 이용하여도, 2종류 이상 혼합하여도 된다. 래디컬 중합성을 갖는 화합물의 양은, 바인더 수지 100중량부에 대하여 1∼200중량부의 범위를 취하는 것이 가능하며, 바람직하게는 10∼150중량부이다.
본 발명에서 광중합 개시제는, 노광에 의해 래디컬을 발생하고, 래디컬 중합성을 갖는 화합물을 통하여, 바인더 수지를 가교시키는 것이다. 광중합 개시제의 예로서 구체적으로는, 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등의 벤조페논 화합물, 1-히드록시시클로헥실아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 및 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온 등의 아세토페논 유도체, 티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등의 티오크산톤 유도체, 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 클로로안트라퀴논 등의 안트라퀴논 유도체, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인페닐에테르 등의 벤조인에테르 유도체, 페닐비스-(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀옥시드 등의 아실포스핀 유도체, 2-(o-클로로페닐)-4,5-비스(4'-메틸페닐)이미다졸릴 이량체 등의 로핀 이량체, N-페닐글리신 등의 N-아릴글리신류, 4,4'-디아지드칼콘 등의 유기 아지드류, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르복시)벤조페논, 퀴논디아지드기 함유 화합물 등을 들 수 있다. 이들 광중합 개시제는 단독으로 이용하여도, 2종류 이상 혼합하여도 된다. 광중합 개시제의 양은, 바인더 수지 100중량부에 대하여 0.1∼50중량부의 범위를 취하는 것이 가능하며, 바람직하게는 1∼20중량부이다.
또한, 차광성 재료는, 격벽에 차광성을 부여하고, 표시 장치를 향상시키는 것이다. 차광성 재료로서는, 흑색 안료, 흑색 염료, 카본 블랙, 아닐린 블랙, 흑연, 철흑, 산화 티탄, 무기 안료, 및 유기 안료를 이용할 수 있다. 이들 차광성 재료는 단독으로 이용하여도, 2종류 이상 혼합하여도 된다.
또한 본 발명에 이용되는 발잉크제는, 격벽에 착색 잉크에 대한 발잉크성을 부여하는 것이다. 발잉크제는, 격벽 형성에 이용하는 수지 조성물에, 미리 첨가하여 이용할 수 있다. 발잉크제로서, 불소계 화합물 혹은 규소계 화합물을 이용할 수 있고, 특히 불소계 화합물을 이용하는 것이 바람직하다. 상기 불소계 화합물의 예로서, 질량 평균 분자량이 10,000∼100,000인 불소 함유 공중합체는, 본 발명에서 격벽 표면의 발잉크성과 개구부 기재 표면의 친잉크성을 양립하는 측면에서 특히 바람직하다.
이 밖에, 격벽 형성에 이용하는 수지 조성물에는, 필요에 따라서 상용성이 있는 첨가제, 예를 들면 레벨링제, 연쇄 이동제, 안정제, 증감 색소, 계면 활성제, 커플링제 등을 첨가할 수 있다.
여기에서, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의한 음이온 분석은, 바람직하게는 PHI/EVANS사 제조의 TRIFT-II 장치를 이용하고, 측정 조건은, 1차 이온으로서 Ca+를 이용하고, 가속 전압 18kV, 시료 전류 2nA, 측정 면적 180㎛□(RAW 형식 측정시), 측정 질량 M/Z=1.7∼2000, 측정 시간 2분에서 행하고, 격벽의 상부 표면 혹은 개구부의 기판 표면을 포함하는 에리어를 전체 데이터 취득 형식(RAW 형식)으로 측정하고, 맵핑상으로부터 격벽의 상부 표면(21) 혹은 개구부의 기판 표면의 스펙트럼을 추출하여, 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율을 산출하였다.
또한, 상기 격벽 중, 상기 기판측으로부터의 높이가 90% 이하인 부분의 음이온 분석은, 격벽 전체 중 상부 10%의 부분(또는 10% 초과의 부분)을 연마 등으로 제거한 후, 상기 방법과 마찬가지의 방법으로 측정하여, 산출하였다.
본 발명에서, 격벽의 선폭은, 일반적인 컬러 필터나 EL 소자에 이용되는 격벽의 선폭에 대응하는 것이며, 구체적으로는 5∼100㎛인 것이 바람직하다. 선폭이 5㎛ 미만에서는, 격벽의 상부 표면에 다량의 불소를 함유시켜도, 혼색의 발생을 방지하는 것은 곤란하며, 또한 격벽의 패턴 형성 자체도 종래의 기술로는 어렵다고 할 수 있다. 한편 격벽의 선폭이 100㎛를 초과하면 액정 표시 장치로서의 품질이 저하하기 때문에 바람직하지 않다.
여기에서, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)는 서브㎛∼수㎛의 에리어에서도 분해능 좋게 분석하는 것이 가능하며, 선폭이 수십㎛밖에 되지 않는 격벽의 상부 표면의 분석 방법으로서, 특히 적합한 방법이라고 할 수 있다.
본 발명에서는, 격벽의 패턴의 형상이나 개구폭, 격벽의 막 두께, 선폭, 착색 잉크의 종류, 분위기 온도 등에 따라서, 격벽의 상부 표면 및 개구부의 기판 표면의 불소 비율은 상기 범위 내에서 조정하는 것이 바람직하다.
착색층은 잉크 제트법이나 인쇄법, 전사법, 전착법 등 공지된 방법으로 형성할 수 있지만, 생산성 등의 점에서 잉크 제트법을 이용하는 것이 바람직하다(도 3의 (e) 참조).
착색층에 이용되는 착색 잉크는 착색제, 열경화성 수지, 용매 등 공지된 재료를 이용할 수 있고, 필요에 따라서, 분산제 등의 첨가제를 첨가하여 조제할 수 있다. 착색제로서는, 염료나 안료를 이용할 수 있지만, 내열성이나 내후성 등의 신뢰성의 점에서 안료 분산형이 특히 바람직하다. 또한 용매로서는, 수계 및 유기 용제계를 이용할 수 있지만, 광범위한 수지 조성물에 대하여 높은 용해성을 갖고, 높은 고형분 농도에서도 잉크 제트의 토출이 가능한 점에서, 유기 용매를 이용하는 것이 특히 바람직하다.
컬러 필터로 하는 경우, 착색층에 이용하는 착색제로서는 착색 안료를 이용할 수 있다. 착색 안료의 구체적인 예로서는, Pigment Red 9, 19, 38, 43, 97, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 177, 179, 180, 192, 215, 216, 208, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, Pigment Blue 15, 15:6, 16, 22, 29, 60, 64, Pigment Green 7, 36, Pigment Red 20, 24, 86, 93, 108, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 153, 154, 166, 168, 185, Pigment Orange 36, Pigment Violet 23 등을 들 수 있으며, 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기의 착색 잉크에 이용되는 용매로서는, 그 표면 장력이 잉크 제트 방식에 바람직한 범위, 예를 들면 40mN/m 이하이며, 또한 비점이 130℃ 이상인 것을 바람직하게 사용할 수 있다. 표면 장력이 40mN/m를 초과하면, 잉크 제트 토출시의 도트 형상의 안정성에 현저한 악영향을 미치는 경향이 있고, 또한 비점이 130℃ 미만이면, 노즐 근방에서의 건조성이 현저하게 높아져, 노즐 막힘 등의 불량 발생을 초래하는 경향이 있다.
바람직한 용매로서, 예를 들면 2-메톡시에탄올, 2-에톡시에탄올, 2-부톡시에탄올, 2-에톡시에틸아세테이트, 2-부톡시에틸아세테이트, 2-메톡시에틸아세테이트, 2-에톡시에틸에테르, 2-(2-에톡시에톡시)에탄올, 2-(2-부톡시에톡시)에탄올, 2-(2--에톡시에톡시)에틸아세테이트, 2-(2-부톡시에톡시)에틸아세테이트, 2-페녹시에탄올, 및 디에틸렌글리콜 디메틸에테르 등을 들 수 있으며, 필요에 따라서 단독으로, 혹은 2종 이상을 혼합하여 이용할 수 있다. 용매는, 용해성 외에, 경시 안정성, 및 건조성 등이 요구되며, 사용되는 착색제, 및 바인더 수지와의 특성에 따라서 적절하게 선택된다.
상기의 착색 잉크에는 이하에 예시하는 바인더 수지를 배합할 수 있다. 상기 착색 잉크의 바인더 수지로서는, 카제인, 젤라틴, 폴리비닐알코올, 카르복시메틸아세탈, 폴리이미드 수지, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 및 멜라민 수지 등을 들 수 있고, 사용되는 착색제에 따라서 적절하게 선택될 수 있다. 예를 들면 내열성이나 내광성이 요구될 때에는 아크릴 수지가 바람직하다.
상기 착색 잉크의 바인더 수지에의 색소의 분산을 향상시키기 위하여 분산제를 첨가할 수 있다. 분산제로서는, 비이온성 계면 활성제, 예를 들면 폴리옥시에틸렌알킬에테르 등, 또한 이온성 계면 활성제로서는, 예를 들면 알킬벤젠술폰산나트륨, 폴리지방산염, 지방산염 알킬인산염, 및 테트라알킬암모늄염 등, 그 밖에 유기 안료 유도체, 및 폴리에스테르 등을 들 수 있다. 분산제는 단독으로, 혹은 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
일렉트로 루미네센스용으로 하는 경우, 착색층에 이용하는 착색제로서는 발광 재료를 이용할 수 있다. 발광 재료로서는 무기 화합물의 발광 재료, 유기 화합물의 발광 재료가 있으며, 유기 화합물의 발광 재료는 저분자 타입과 고분자 타입이 있다.
이들 발광 재료는 공지된 것을 이용할 수 있다.
또한 용제, 다른 첨가물 등도 적절하게 이용할 수 있다.
또한, 각 색의 착색층은, 격벽의 높이 등에 따라서 조정할 수 있다. 바람직하게는 각 색의 착색층은, 격벽의 높이에 대하여 화소의 평균 막 두께가 80∼120%의 범위 내인 것이 바람직하고, 90∼110%의 범위 내인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 화소 내에서, 화소 막 두께가 균일한 것이 바람직하다. 예를 들면, 1화소 내에서, 화소의 임의의 어느 하나의 부분의 막 두께가, 그 화소 또는 해당 색의 동일색의 전체 화소의 평균 막 두께에 대하여, 80∼120%의 범위 내인 것이 바람직하고, 90∼110%의 범위 내인 것이 더욱 바람직하다.
착색층을 형성한 후에 격벽층 및 착색층 상에, 기능층을 형성할 수 있다. 기능층으로서는 오버코트층, 보호층, 도전층, 전극 등을 들 수 있다.
여기에서, 격벽 및 착색층 상에 기능층을 형성하는 경우, 발잉크성이 강하면, 기능층에 얼룩이 생기거나, 기능층과 격벽 사이의 밀착성이 약하기 때문에 기능층의 막 벗겨짐이 생기거나 한다. 그 때문에, F-프래그먼트 이온이 전술한 범위 내인 것이 바람직하다.
이와 같이 하기 위해서는, 착색층을 형성한 후에, 표면 세정 처리에 의해 격벽 상부 표면 근방의 불소 화합물을 제거하는 것이 바람직하다(도 3의 (f) 참조).
표면 세정으로서는 자외선 조사 처리나 플라즈마 조사 처리, 코로나 방전 처리, 자외선 조사 오존 처리 등의 건식 처리 방법, 및 세제, 용제, 알칼리 등을 이용하는 습식 처리 방법을 들 수 있다. 그 중에서도 자외선 조사 오존 처리가 바람직하다. 특히, 파장 185nm를 포함하는 저압 수은 램프, 파장 172nm를 포함하는 크세논 엑시머 램프에 의한 UV 조사 처리는, 오존을 공급하지 않고, 자외선 조사 오존 처리를 행할 수 있기 때문에 바람직하다. 저압 수은 램프에서는, 램프와 기판간의 거리를 5∼20mm, 크세톤 엑시머 램프에서는, 램프와 기판간의 거리를 1∼3mm로 하고, 노광량 500∼400mJ/cm2로 조사 처리하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 노광량 1000∼3000mJ/cm2로 조사 처리함으로써, 격벽 표면의 발잉크제를 분해 제거하고, 전술한 F-프래그먼트 이온 범위로 하는 것이 가능하다.
이와 같이 함으로써, 착색층(화소)의 백색화, 혼색이 없고, 또한 평탄성을 확보한 후에, 격벽과 기능층의 밀착성을 확보하고, 또한 얼룩이 없는 기능층을 형성할 수 있다.
이하, 본 발명을 실시예 및 비교예에 의해 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 하기 예에 한정되는 것은 아니다.
<실시예 1>
[격벽의 작성]
불소계 발잉크제를 함유한 감광성 수지 조성물로서, 하기 조성비로 배합하고, 3축 롤러로 충분히 혼련한 것을 이용하였다. 기판으로서, 무알카리 글래스("#1737" 코닝사 제조)를 이용하고, 그 위에 이 감광성 수지 조성물을 도포하고, 90℃에서 2분 프리베이크하여 막 두께 2.0㎛의 피막을 형성하였다.
[감광성 수지 조성물]
크레졸-노볼락 수지 "EP4050G"(아사히 유끼자이사 제조) 20중량부
시클로헥사논 80중량부
카본 안료 "MA-8"(미쯔비시 머테리얼사 제조) 23중량부
분산제 "솔슈퍼스 #5000"(제네카사 제조) 1.4중량부
래디컬 중합성을 갖는 화합물 "트리메틸올프로판 트리아크릴레이트"
(오사까 유끼사 제조) 5중량부
광중합 개시제 "이르가큐어 369"(치바 스페셜티 케미컬사 제조) 2중량부
불소 함유 화합물 "F179"(다이닛본 잉크 가가꾸사 제조, 질량 평균 분자량 10000) 0.5중량부
그 후, 선폭 35㎛의 격자 형상의 패턴인 포토마스크를 이용하여, 초고압 수은등에 의해 100mJ/cm2의 자외선 노광을 행하여, 현상 처리를 행하였다. 계속해서, 고압 수은등에 의해 1000mJ/cm2의 자외선 조사 처리를 행한 후, 열풍식 소성로 내에서 온도 160℃로 20분간 가열 처리를 행하여 실시예 1의 격벽 부착 기판을 얻었다.
<실시예 2>
상기 실시예 1에서, 현상 처리하여 격자 패턴을 형성한 기판을, 자외선 조사 처리를 행하지 않고, 로 내에 질소를 충만시켜 산소 농도 10%의 불활성 가스 분위기로 한 열풍식 소성로 내에서 온도 230℃로 20분간 가열 처리를 실시한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 실시예 2의 격벽 부착 기판을 얻었다.
<실시예 3>
상기 실시예 1에서, 현상 처리하여 격자 패턴을 형성한 기판을, 자외선 조사 처리를 행하지 않고, 내부를 드라이식 펌프에 의해 감압하여 감압 진공도 75,000Pa로 한 챔버 내에서 핫 플레이트에서 온도 160℃로 20분간 가열 처리를 실시한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 실시예 3의 격벽 부착 기판을 얻었다.
<실시예 4∼6>
상기 실시예 1에서, 감광성 수지 조성물의 불소 함유 화합물 "F179"(다이닛본 잉크 가가꾸사 제조, 질량 평균 분자량 10000)의 사용량을 0.3중량부로 변경한 이외에는, 실시예 1∼3과 마찬가지로 하여 실시예 4∼6의 격벽 부착 기판을 얻었다.
<비교예 1>
상기 실시예 1에서, 현상 처리하여 격자 패턴을 형성한 기판을, 자외선 조사 처리를 행하지 않고, 열풍식 소성로 내에서 온도 230℃로 20분간 가열 처리를 행한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 비교예 1의 격벽 부착 기판을 얻었다.
<비교예 2>
상기 실시예 1에서, 감광성 수지 조성물의 불소 함유 화합물 "F179"(다이닛본 잉크 가가꾸사 제조, 질량 평균 분자량 10000)를 0.1 중량부로 한 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 비교예 2의 격벽 부착 기판을 얻었다.
계속해서, 실시예 1∼6 및 비교예 1∼2의 격벽 부착 기판에 대하여, 격벽의 상부 표면, 및 피인쇄면으로 되는 개구부의 글래스 표면을, TOF-SIMS에 의해 음이온 분석을 행하여, 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=l9)의 검출 강도의 비율(F-%)을 산출하여, 표 1에 나타내었다.
또한, SAICAS NN형(다이플라ㆍ윈테스 제조)을 이용하여, 격벽 중 상부의 막 두께 10%분을 깎아내고, 격벽 내부를 노출시켰다. 이 표면에 대해서도 마찬가지로 분석하였다.
[착색 잉크의 조정]
하기 조성물에, 질소 분위기하에서 아조비스이소부티로니트릴 0.75중량부를 첨가하고, 70 ℃, 5시간의 조건에서 반응시켜, 아크릴 공중합체 수지를 얻었다.
메타크릴산 20중량부
메틸메타크릴레이트 10중량부
부틸메타크릴레이트 55중량부
히드록시에틸메타크릴레이트 15중량부
락트산 부틸 300중량부
얻어진 아크릴 공중합체 수지가, 전체에 대하여 10중량%로 되도록 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트를 이용하여 희석하고, 아크릴 공중합체 수지의 희석액을 얻었다.
이 희석액 80.1g에 대하여, 착색 안료 19.0g, 분산제로서 폴리옥시에틸렌 알킬에테르 0.9g을 첨가하여, 3축 롤로 혼련하고, 적색, 녹색, 청색의 각 착색 바니시를 얻었다. 또한, 적색 안료로서, 피그먼트 레드 177(안트라퀴논계)을, 녹색 안료로서 피그먼트 그린 36(구리 프탈로시아닌계)을, 청색 안료로서 피그먼트 블루 15(구리 프탈로시아닌계)를 각각 사용하였다.
얻어진 각 착색 바니시에, 프로필렌글리콜 모노메틸에텔아세테이트를, 그 안료 농도가 12∼15중량%, 점도가 15cps로 되도록, 각각 조정하여 첨가하고, 적색, 녹색 및 청색 착색 잉크를 얻었다.
[컬러 필터의 제작]
상기 격벽의 개구부에, 안료로서 상기의 3색의 착색 잉크를 사용하고, 12pl, 180dpi 헤드를 탑재한 잉크 제트 인쇄 장치에 의해, 적색 착색층(R), 녹색 착색층(G), 청색 착색층(B) 각각의 화소 패턴을 형성하였다.
착색 잉크를 토출한 후, 우선 핫 플레이트에서 90℃로 2분 가열하여 용제를 증발시켰다. 다음으로 열풍식 소성로에서 230℃, 30분으로 가열 처리하여 잉크를 경화시킴으로써, 화소 패턴을 형성하였다.
이와 같이 하여 형성한 실시예 1∼6의 컬러 필터는, 착색층의 혼색이나 백색화가 없고, 평탄한 착색층을 갖고 색 얼룩이 없는 양호한 컬러 필터이었다. 한편으로 비교예 1의 컬러 필터는, 착색층의 백색화 불량이 발생하고 있고, 착색층의 형상도 볼록 형상이며 색 얼룩이 보였다. 또한 비교예 2에서는 혼색의 불량이 다발하였다.
또한, 격벽 상의 착색 잉크 성분의 분석을 행하였다. 각각, 무작위로 선택한 5개소의 격벽 상에서 TOF-SIMS 분석을 행하고, 녹, 청 잉크의 존재를 나타내는 Cu+ 프래그먼트 이온, 및 적 잉크의 존재를 나타내는 C28H16O4N2 프래그먼트 이온의 검출 유무의 확인을 행하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.
Figure 112009003243410-pct00001
Figure 112009003243410-pct00002
[기능층의 제작]
착색층을 형성한 후, 실시예의 샘플에는 저압 수은등에 의해, 기판간 거리 10mm에서 3000mJ/cm2의 자외선 조사 처리를 행하여, 격벽 상부의 발잉크성을 저하시켰다.
다음으로 아크릴 수지계의 열경화형(산-에폭시 경화형)의 오버코트제를 슬릿 다이 코터에 의해 도공하고, 230℃ 오븐에서 30분간 가열하여, 막 두께 2㎛의 오버코트층을 형성하였다.
오버코트층 형성 전의 격벽 상부 및 10% 깎은 내부의, TOF-SIMS에 의해 음이온 분석을 행하고, 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율(F-%)을 산출하고, 표 3에 나타내었다.
또한, 기능층의 얼룩의 유무의 결과를 표 3에 나타낸다.
Figure 112009003243410-pct00003
실시예 1∼6의 컬러 필터는, 기능층의 얼룩도 없고, 또한 막 벗겨짐도 없는 것으로 되었다.
혼색이나 백색화 불량이 없는, 각 화소에 평탄하고 균일한 착색층을 갖는 격벽 부착 기판 및 그 제조 방법을 제공할 수 있어, 컬러 액정 표시 장치 등에 이용되는 컬러 필터나 EL 표시 장치 등에 유용하다.
도 1은 본 발명의 격벽 패턴 부착 기판의 설명도.
도 2는 본 발명의 격벽 패턴 부착 기판의 제법의 일례를 나타내는 설명도.
도 3은 본 발명의 격벽 패턴 부착 기판의 제법의 일례를 나타내는 설명도.

Claims (20)

  1. 기판과,
    상기 기판 상의 소정 위치에 형성된 불소 화합물을 함유하는 재료로 이루어지는 격벽 패턴을 갖는 격벽 패턴 부착 기판으로서,
    상기 격벽의 상부 표면은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 25%∼60%인 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 격벽에 둘러싸여진 기판 표면의, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이, 10% 이하인 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판.
  3. 기판과,
    상기 기판 상의 소정 위치에 형성된 불소 화합물을 함유하는 재료로 이루어지는 격벽 패턴을 갖는 격벽 패턴 부착 기판으로서,
    상기 격벽 중, 상기 기판측으로부터의 높이가 90% 이하인 부분의, 비행 시간 형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이, 10% 이하인 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 격벽에 둘러싸여진 기판 표면의, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이, 10% 이하인 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판.
  5. 기판과,
    상기 기판 상의 소정 위치에 형성된 불소 화합물을 함유하는 재료로 이루어지는 격벽 패턴과,
    상기 격벽 패턴에 둘러싸여진 영역에 착색 잉크에 의해 형성된 착색층을 갖는 격벽 패턴 부착 기판으로서,
    상기 격벽의 상부 표면은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 20% 이하이고, 또한
    상기 격벽 상에 착색 잉크의 부착이 없는 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 격벽 및 착색층 상에, 기능층을 갖는 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판.
  7. 기판과,
    상기 기판 상의 소정 위치에 형성된 불소 화합물을 함유하는 재료로 이루어지는 격벽 패턴과,
    상기 격벽 패턴에 둘러싸여진 영역에 착색 잉크에 의해 형성된 착색층을 갖는 격벽 패턴 부착 기판으로서,
    상기 격벽 중, 상기 기판측으로부터의 높이가 90% 이하인 부분은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 10% 이하이고, 또한 상기 격벽 상에 착색 잉크의 부착이 없는 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 격벽 및 착색층 상에, 기능층을 갖는 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판.
  9. 기판 상의 소정 위치에 불소 화합물을 함유하는 격벽 재료의 패턴을 형성하는 공정과,
    상기 격벽 재료의 패턴에 전리 방사선을 조사하는 공정과,
    전리 방사선을 조사한 격벽 재료의 패턴에 180℃ 이하에서 가열 경화하여 격벽을 형성하는 공정
    을 포함하는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    형성된 격벽의 상부 표면은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 25%∼60%인 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법.
  11. 제9항에 있어서,
    형성된 상기 격벽 중, 상기 기판측으로부터의 높이가 90% 이하인 부분은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 10% 이하인 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법.
  12. 제9항에 있어서,
    격벽을 형성하는 공정 후에, 착색 잉크에 의해 착색층을 형성하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법.
  13. 제9항에 있어서,
    격벽을 형성하는 공정 후에, 착색 잉크에 의해 착색층을 형성하는 공정을 갖고, 또한 격벽 패턴 상에 착색 잉크의 부착이 없는 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법.
  14. 제9항에 있어서,
    격벽을 형성하는 공정 후에, 착색 잉크에 의해 착색층을 형성하는 공정과,
    착색층을 형성한 후에 상기 격벽 및 착색층을 형성한 후에 표면 세정 처리를 행하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법.
  15. 제9항에 있어서,
    격벽을 형성하는 공정 후에, 착색 잉크에 의해 착색층을 형성하는 공정과,
    착색층을 형성한 후에 상기 격벽 및 착색층을 형성한 후에 표면 세정 처리를 행하는 공정을 갖고, 또한,
    표면 세정 처리 후의 격벽의 상부 표면은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 20% 이하인 것을 특징 으로 하는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법.
  16. 제9항에 있어서,
    격벽을 형성하는 공정 후에, 착색 잉크에 의해 착색층을 형성하는 공정과,
    착색층을 형성한 후에 상기 격벽 및 착색층을 형성한 후에 표면 세정 처리를 행하는 공정을 갖고, 또한,
    표면 세정 처리 후의 상기 격벽 중, 상기 기판측으로부터의 높이가 90% 이하인 부분은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 10% 이하인 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법.
  17. 기판 상의 소정 위치에 불소 화합물을 함유하는 격벽 재료의 패턴을 형성하는 공정과,
    상기 격벽의 패턴에 둘러싸여진 영역에 착색 잉크를 충전하여 착색층을 형성하는 공정과,
    상기 격벽 및 착색층을 형성한 후에 표면 세정 처리를 행하는 공정
    을 갖는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법.
  18. 제17항에 있어서,
    착색 잉크에 의해 착색층을 형성하는 공정 후의 격벽 패턴 상에 착색 잉크의 부착이 없는 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법.
  19. 제17항에 있어서,
    표면 세정 처리 공정 후의 상기 격벽의 상부 표면은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 20% 이하인 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법.
  20. 제17항에 있어서,
    표면 세정 처리 공정 후의 상기 격벽 중, 상기 기판측으로부터의 높이가 90% 이하인 부분은, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석계(TOF-SIMS)에 의해 음이온 분석을 행하였을 때의 전체 음이온의 검출 강도에서 차지하는 F-프래그먼트 이온(M/Z=19)의 검출 강도의 비율이 10% 이하인 것을 특징으로 하는 격벽 패턴 부착 기판의 제조 방법.
KR1020097001077A 2006-06-20 2007-06-19 격벽 패턴 부착 기판 및 그 제조 방법 KR101079514B1 (ko)

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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5098670B2 (ja) * 2008-01-25 2012-12-12 大日本印刷株式会社 カラーフィルタの製造方法
JP5099840B2 (ja) * 2008-03-26 2012-12-19 東レエンジニアリング株式会社 カラーフィルタ基板
CN102428395A (zh) * 2009-05-20 2012-04-25 旭硝子株式会社 光学元件的制造方法
JP2012208291A (ja) * 2011-03-29 2012-10-25 Toppan Printing Co Ltd 光学素子及びその製造方法
US9215022B2 (en) * 2012-07-18 2015-12-15 Google Inc. Logging individuals for TV measurement compliance
US10321172B2 (en) * 2012-12-31 2019-06-11 Sling Media LLC System and method for hosting a personalized television channel
CN112103308A (zh) * 2019-06-17 2020-12-18 松下知识产权经营株式会社 颜色变换设备及制造方法、微型led显示器面板及制造方法
CN110491888A (zh) * 2019-08-30 2019-11-22 京东方科技集团股份有限公司 显示面板、阵列基板及其制备方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000009918A (ja) 1998-06-22 2000-01-14 Asahi Glass Co Ltd カラーフィルタの製造方法及びそれを用いた液晶表示素子

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3470352B2 (ja) * 1993-07-23 2003-11-25 東レ株式会社 カラーフィルタ
CN100530758C (zh) * 1998-03-17 2009-08-19 精工爱普生株式会社 薄膜构图的衬底及其表面处理
JP2002341128A (ja) * 2001-05-15 2002-11-27 Toray Ind Inc カラーフィルターおよび液晶表示素子の製造方法
JP4515699B2 (ja) * 2002-10-17 2010-08-04 大日本印刷株式会社 カラーフィルタの製造方法
KR101136358B1 (ko) * 2004-12-10 2012-04-18 삼성전자주식회사 컬러필터용 잉크 조성물 및 이를 이용하여 제조된컬러필터 기판, 및 이를 이용한 컬러필터 기판의 제조 방법
TW200702821A (en) * 2005-04-15 2007-01-16 Fuji Photo Film Co Ltd Method of producing color filter, color filter, display device, and display apparatus
JP4873226B2 (ja) * 2006-03-20 2012-02-08 凸版印刷株式会社 カラーフィルタの製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000009918A (ja) 1998-06-22 2000-01-14 Asahi Glass Co Ltd カラーフィルタの製造方法及びそれを用いた液晶表示素子

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