JPWO2007148689A1 - 隔壁パターン付き基板およびその製造方法 - Google Patents
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- 238000005192 partition Methods 0.000 title claims abstract description 280
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 170
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 59
- 150000002500 ions Chemical group 0.000 claims abstract description 147
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 82
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 49
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 46
- 239000012634 fragment Substances 0.000 claims abstract description 43
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims abstract description 38
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 98
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 27
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims description 25
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 19
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 14
- 238000004040 coloring Methods 0.000 claims description 6
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 claims description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000011049 filling Methods 0.000 claims description 3
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 claims 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 14
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 6
- 238000005011 time of flight secondary ion mass spectroscopy Methods 0.000 abstract 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 115
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 23
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 23
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 23
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 23
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 22
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 19
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 17
- 239000010408 film Substances 0.000 description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 15
- 241000519995 Stachys sylvatica Species 0.000 description 14
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 13
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 11
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 11
- -1 methylol group Chemical group 0.000 description 11
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 7
- 238000011161 development Methods 0.000 description 6
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 6
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 5
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 3
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 3
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 3
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 2-methylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3C(=O)C2=C1 NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 2
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MANKAKZHFPFUFS-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2-benzoylbenzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 MANKAKZHFPFUFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPQAFOWBKWKVQQ-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)methyl-phenyliodanium Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C[I+]C1=CC=CC=C1 VPQAFOWBKWKVQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIZFAASMIWNDTR-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)-[4-(2-methylpropyl)phenyl]iodanium Chemical compound C1=CC(CC(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C)C=C1 CIZFAASMIWNDTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSAONUPVUVBQHL-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(4-azidophenyl)prop-2-en-1-one Chemical compound C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1C=CC(=O)C1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 FSAONUPVUVBQHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDHAWRUAECEBHC-UHFFFAOYSA-N 1-iodo-4-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(I)C=C1 UDHAWRUAECEBHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNIPJYFZGXJSDD-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-triphenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 RNIPJYFZGXJSDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPUANCEDYZMFT-UHFFFAOYSA-N 2-(1-hydroxycyclohexyl)-1-phenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)CC1(O)CCCCC1 HRPUANCEDYZMFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFSJJHVWUGRIHQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound [CH2]COCCOCCOC(C)=O NFSJJHVWUGRIHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDHGINXSZBWLBU-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1h-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1N=C(C(Cl)(Cl)Cl)C=C(C(Cl)(Cl)Cl)N1 SDHGINXSZBWLBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 2-N-[8-[[8-(4-aminoanilino)-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]amino]-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]-8-N,10-diphenylphenazin-10-ium-2,8-diamine hydroxy-oxido-dioxochromium Chemical compound O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.Nc1ccc(Nc2ccc3nc4ccc(Nc5ccc6nc7ccc(Nc8ccc9nc%10ccc(Nc%11ccccc%11)cc%10[n+](-c%10ccccc%10)c9c8)cc7[n+](-c7ccccc7)c6c5)cc4[n+](-c4ccccc4)c3c2)cc1 FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOPKKHCDIAYUSK-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(5-methylfuran-2-yl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound O1C(C)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 XOPKKHCDIAYUSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical class OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAADQSNKLRZFOQ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4,6-bis(trichloromethyl)-1h-triazine Chemical compound CN1NC(C(Cl)(Cl)Cl)=CC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 KAADQSNKLRZFOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXYQEGMSGMXGGK-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(C=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 AXYQEGMSGMXGGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)(C)C)=CC=C3C(=O)C2=C1 YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical group [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XTBTTZIVXGFXIM-UHFFFAOYSA-N ClC1=C(C=CC=C1)C=1NC(C(N1)C1=CC=C(C=C1)C)C1=CC=C(C=C1)C Chemical class ClC1=C(C=CC=C1)C=1NC(C(N1)C1=CC=C(C=C1)C)C1=CC=C(C=C1)C XTBTTZIVXGFXIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N N-phenylglycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=CC=C1 NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 208000034189 Sclerosis Diseases 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVGSDOIXRPZFH-UHFFFAOYSA-N [(1-diazonioimino-3,4-dioxonaphthalen-2-ylidene)hydrazinylidene]azanide Chemical compound C1=CC=C2C(=N[N+]#N)C(=NN=[N-])C(=O)C(=O)C2=C1 ALVGSDOIXRPZFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N [2-[2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)butoxymethyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)butyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CC)COCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- MWPUSWNISCYUNR-UHFFFAOYSA-N bis(3-nitrophenyl)iodanium Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([I+]C=2C=C(C=CC=2)[N+]([O-])=O)=C1 MWPUSWNISCYUNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSXJIDHYEFYSON-UHFFFAOYSA-N bis(4-dodecylphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(CCCCCCCCCCCC)=CC=C1[I+]C1=CC=C(CCCCCCCCCCCC)C=C1 YSXJIDHYEFYSON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N bis(4-tert-butylphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001191 butyl (2R)-2-hydroxypropanoate Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 239000012955 diaryliodonium Substances 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000001941 electron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)iron;iron Chemical compound [Fe].O[Fe]=O.O[Fe]=O UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000002563 ionic surfactant Substances 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N itaconic acid Chemical class OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- NKIFVPLJBNCZFN-UHFFFAOYSA-N phenacyl(diphenyl)sulfanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NKIFVPLJBNCZFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 150000005621 tetraalkylammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- MDCWDBMBZLORER-UHFFFAOYSA-N triphenyl borate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OB(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 MDCWDBMBZLORER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
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Abstract
Description
基板上の所定位置にフッ素化合物を含む隔壁材料のパターンを形成する工程;
前記隔壁材料のパターンに電離放射線を照射する工程;
電離放射線を照射した隔壁材料のパターンに180℃以下で加熱硬化し隔壁を形成する工程。
表面洗浄処理後の隔壁の上部表面は、飛行時間型2次イオン質量分析計(TOF−SIMS)により負イオン分析を行った際の全負イオンの検出強度に占めるF−フラグメントイオン(M/Z=19)の検出強度の比率が20%以下であることを特徴とする隔壁パターン付き基板の製造方法である。
表面洗浄処理後の前記隔壁のうち、前記基板側からの高さが90%以下の部分は、飛行時間型2次イオン質量分析計(TOF−SIMS)により負イオン分析を行った際の全負イオンの検出強度に占めるF−フラグメントイオン(M/Z=19)の検出強度の比率が10%以下であることを特徴とする隔壁パターン付き基板の製造方法である。
基板上の所定位置にフッ素化合物を含む隔壁材料のパターンを形成する工程;
前記隔壁のパターンに囲まれた領域に着色インキを充填し着色層を形成する工程;
前記隔壁および着色層を形成した後に表面洗浄処理を行う工程;
第18の発明は、第17の発明に記載された隔壁パターン付き基板の製造方法であって、着色インキにより着色層を形成する工程後の隔壁パターン上に着色インキの付着がないことを特徴とする隔壁パターン付き基板の製造方法である。
前記着色インキのバインダー樹脂としては、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルアセタール、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、及びメラミン樹脂などがあげられ、使用される着色剤に応じて適宜選択され得る。例えば耐熱性や耐光性が要求される際にはアクリル樹脂が好ましい。
<実施例1>
(隔壁の作成)
フッ素系撥インキ剤を含有した感光性樹脂組成物として、下記組成比で配合し、3本ローラで十分混練したものを用いた。基板として、無アルカリガラス(“♯1737”コーニング社製)を用い、その上にこの感光性樹脂組成物を塗布し、90℃で2分プリベークして膜厚2.0μmの被膜を形成した。
[感光性樹脂組成物]
クレゾール−ノボラック樹脂“EP4050G”(旭有機材社製) 20重量部
シクロヘキサノン 80重量部
カーボン顔料“MA−8”(三菱マテリアル社製) 23重量部
分散剤“ソルスパース#5000”(ゼネカ社製) 1.4重量部
ラジカル重合性を有する化合物“トリメチロールプロパントリアクリレート”
(大阪有機社製) 5重量部
光重合開始剤“イルガキュア369”(チバスペシャリティケミカル社製) 2重量部
含フッ素化合物“F179” (大日本インキ化学社製、質量平均分子量10000)
0.5重量部
その後、線幅35μmの格子状のパターンであるフォトマスクを用いて、超高圧水銀灯により100mJ/cm2の紫外線露光を行い、現像処理を行った。続いて、高圧水銀灯により1000mJ/cm2の紫外線照射処理を行った後、熱風式焼成炉内にて温度160℃で20分間加熱処理を行って実施例1の隔壁付き基板を得た。
<実施例2>
前記実施例1において、現像処理して格子パターンを形成した基板を、紫外線照射処理を行わずに、炉内にチッ素を充満させ酸素濃度10%の不活性ガス雰囲気とした熱風式焼成炉内にて温度230℃で20分間加熱処理を施した以外実施例1と同様にして実施例2の隔壁付き基板を得た。
<実施例3>
前記実施例1において、現像処理して格子パターンを形成した基板を、紫外線照射処理を行わずに、内部をドライ式ポンプによって減圧し減圧真空度75,000Paとしたチャンバー内でホットプレートにて温度160℃で20分間加熱処理を施した以外実施例1と同様にして実施例3の隔壁付き基板を得た。
<実施例4〜6>
前記実施例1において、感光性樹脂組成物の含フッ素化合物“F179”(大日本インキ化学社製、質量平均分子量10000)の使用量を0.3重量部に変更したこと以外は、実施例1〜3と同様にして実施例4〜6の隔壁付き基板を得た。
<比較例1>
前記実施例1において、現像処理して格子パターンを形成した基板を、紫外線照射処理を行わずに、熱風式焼成炉内にて温度230℃で20分間加熱処理を行った以外実施例1と同様にして比較例1の隔壁付き基板を得た。
<比較例2>
前記実施例1において、感光性樹脂組成物の含フッ素化合物“F179” (大日本インキ化学社製、質量平均分子量10000)を0.1重量部とした以外実施例1と同様にして比較例2の隔壁付き基板を得た。
(着色インキの調整)
下記組成物を、窒素雰囲気下でアゾビスイソブチルニトリル0.75重量部を加え、70℃5時間の条件で反応させ、アクリル共重合体樹脂を得た。
メタクリル酸 20重量部
メチルメタクリレート 10重量部
ブチルメタクリレート 55重量部
ヒドロキシエチルメタクリレート 15重量部
乳酸ブチル 300重量部
得られたアクリル共重合体樹脂が、全体に対して10重量%になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを用いて希釈し、アクリル共重合体樹脂の希釈液を得た。
(カラーフィルタの作製)
前記隔壁の開口部に、顔料として上記の3色の着色インキを使用し、12pl、180dpiヘッドを搭載したインキジェット印刷装置により、赤色着色層(R)、緑色着色層、(G)青色着色層(B)各々の画素パターンを形成した。
着色層を形成した後、実施例のサンプルには低圧水銀灯により、基板間距離10mmで3000mJ/cm2の紫外線照射処理を行い、隔壁上部の撥インキ性を低下させた。
Claims (20)
- 基板と、
前記基板上の所定位置に形成されたフッ素化合物を含む材料からなる隔壁パターンを有する隔壁パターン付き基板であって、
前記隔壁の上部表面は、飛行時間型2次イオン質量分析計(TOF−SIMS)により負イオン分析を行った際の全負イオンの検出強度に占めるF−フラグメントイオン(M/Z=19)の検出強度の比率が25%〜60%であることを特徴とする隔壁パターン付き基板。 - 請求項1の隔壁パターン付き基板において、
前記隔壁に囲まれた基板表面の、飛行時間型2次イオン質量分析計(TOF−SIMS)により負イオン分析を行った際の全負イオンの検出強度に占めるF−フラグメントイオン(M/Z=19)の検出強度の比率が、10%以下であることを特徴とする隔壁パターン付き基板。 - 基板と、
前記基板上の所定位置に形成されたフッ素化合物を含む材料からなる隔壁パターンを有する隔壁パターン付き基板であって、
前記隔壁のうち、前記基板側からの高さが90%以下の部分の、飛行時間型2次イオン質量分析計(TOF−SIMS)により負イオン分析を行った際の全負イオンの検出強度に占めるF−フラグメントイオン(M/Z=19)の検出強度の比率が、10%以下であることを特徴とする隔壁パターン付き基板。 - 請求項3の隔壁パターン付き基板において、
前記隔壁に囲まれた基板表面の、飛行時間型2次イオン質量分析計(TOF−SIMS)により負イオン分析を行った際の全負イオンの検出強度に占めるF−フラグメントイオン(M/Z=19)の検出強度の比率が、10%以下であることを特徴とする隔壁パターン付き基板。 - 基板と、
前記基板上の所定位置に形成されたフッ素化合物を含む材料からなる隔壁パターンと、
前記隔壁パターンに囲まれた領域に着色インキにより形成された着色層とを有する隔壁パターン付き基板であって、
前記隔壁の上部表面は、飛行時間型2次イオン質量分析計(TOF−SIMS)により負イオン分析を行った際の全負イオンの検出強度に占めるF−フラグメントイオン(M/Z=19)の検出強度の比率が20%以下であり、かつ
前記隔壁上に着色インキの付着がないことを特徴とする隔壁パターン付き基板。 - 請求項5の隔壁パターン付き基板において、
前記隔壁及び着色層上に、機能層を有することを特徴とする隔壁パターン付き基板。 - 基板と、
前記基板上の所定位置に形成されたフッ素化合物を含む材料からなる隔壁パターンと、
前記隔壁パターンに囲まれた領域に着色インキにより形成された着色層とを有する隔壁パターン付き基板であって、
前記隔壁のうち、前記基板側からの高さが90%以下の部分は、飛行時間型2次イオン質量分析計(TOF−SIMS)により負イオン分析を行った際の全負イオンの検出強度に占めるF−フラグメントイオン(M/Z=19)の検出強度の比率が10%以下であり、かつ、前記隔壁上に着色インキの付着がないことを特徴とする隔壁パターン付き基板。 - 請求項7の隔壁パターン付き基板において、
前記隔壁及び着色層上に、機能層を有することを特徴とする隔壁パターン付き基板。 - 以下の工程を含む隔壁パターン付き基板の製造方法。
基板上の所定位置にフッ素化合物を含む隔壁材料のパターンを形成する工程;
前記隔壁材料のパターンに電離放射線を照射する工程;
電離放射線を照射した隔壁材料のパターンに180℃以下で加熱硬化し隔壁を形成する工程; - 請求項9の隔壁パターン付き基板の製造方法であって、
形成された隔壁の上部表面は、飛行時間型2次イオン質量分析計(TOF−SIMS)により負イオン分析を行った際の全負イオンの検出強度に占めるF−フラグメントイオン(M/Z=19)の検出強度の比率が25%〜60%であることを特徴とする隔壁パターン付き基板の製造方法。 - 請求項9の隔壁パターン付き基板の製造方法であって、
形成された前記隔壁のうち、前記基板側からの高さが90%以下の部分は、飛行時間型2次イオン質量分析計(TOF−SIMS)により負イオン分析を行った際の全負イオンの検出強度に占めるF−フラグメントイオン(M/Z=19)の検出強度の比率が10%以下であることを特徴とする隔壁パターン付き基板の製造方法。 - 請求項9の隔壁パターン付き基板の製造方法であって、
隔壁を形成する工程の後に、着色インキにより着色層を形成する工程を有することを特徴とする隔壁パターン付き基板の製造方法。 - 請求項9の隔壁パターン付き基板の製造方法であって、
隔壁を形成する工程の後に、着色インキにより着色層を形成する工程を有し、
かつ隔壁パターン上に着色インキの付着がないことを特徴とする隔壁パターン付き基板の製造方法。 - 請求項9の隔壁パターン付き基板の製造方法であって、
隔壁を形成する工程の後に、着色インキにより着色層を形成する工程、
着色層を形成した後に前記隔壁および着色層を形成した後に表面洗浄処理を行う工程、を有することを特徴とする隔壁パターン付き基板の製造方法。 - 請求項9の隔壁パターン付き基板の製造方法であって、
隔壁を形成する工程の後に、着色インキにより着色層を形成する工程、
着色層を形成した後に前記隔壁および着色層を形成した後に表面洗浄処理を行う工程、を有し、かつ
表面洗浄処理後の隔壁の上部表面は、飛行時間型2次イオン質量分析計(TOF−SIMS)により負イオン分析を行った際の全負イオンの検出強度に占めるF−フラグメントイオン(M/Z=19)の検出強度の比率が20%以下であることを特徴とする隔壁パターン付き基板の製造方法。 - 請求項9の隔壁パターン付き基板の製造方法であって、
隔壁を形成する工程の後に、着色インキにより着色層を形成する工程、
着色層を形成した後に前記隔壁および着色層を形成した後に表面洗浄処理を行う工程、を有し、かつ
表面洗浄処理後の前記隔壁のうち、前記基板側からの高さが90%以下の部分は、飛行時間型2次イオン質量分析計(TOF−SIMS)により負イオン分析を行った際の全負イオンの検出強度に占めるF−フラグメントイオン(M/Z=19)の検出強度の比率が10%以下であることを特徴とする隔壁パターン付き基板の製造方法。 - 以下の工程を有する隔壁パターン付き基板の製造方法
基板上の所定位置にフッ素化合物を含む隔壁材料のパターンを形成する工程;
前記隔壁のパターンに囲まれた領域に着色インキを充填し着色層を形成する工程;
前記隔壁および着色層を形成した後に表面洗浄処理を行う工程; - 請求項17の隔壁パターン付き基板の製造方法であって、
着色インキにより着色層を形成する工程後の隔壁パターン上に着色インキの付着がないことを特徴とする隔壁パターン付き基板の製造方法。 - 請求項17の隔壁パターン付き基板の製造方法であって、
表面洗浄処理工程後の前記隔壁の上部表面は、飛行時間型2次イオン質量分析計(TOF−SIMS)により負イオン分析を行った際の全負イオンの検出強度に占めるF−フラグメントイオン(M/Z=19)の検出強度の比率が20%以下であることを特徴とする隔壁パターン付き基板の製造方法。 - 請求項17の隔壁パターン付き基板の製造方法であって、
表面洗浄処理工程後の前記隔壁のうち、前記基板側からの高さが90%以下の部分は、飛行時間型2次イオン質量分析計(TOF−SIMS)により負イオン分析を行った際の全負イオンの検出強度に占めるF−フラグメントイオン(M/Z=19)の検出強度の比率が10%以下であることを特徴とする隔壁パターン付き基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008522472A JP5526543B2 (ja) | 2006-06-20 | 2007-06-19 | 隔壁パターン付き基板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006170047 | 2006-06-20 | ||
JP2006170047 | 2006-06-20 | ||
JP2008522472A JP5526543B2 (ja) | 2006-06-20 | 2007-06-19 | 隔壁パターン付き基板およびその製造方法 |
PCT/JP2007/062321 WO2007148689A1 (ja) | 2006-06-20 | 2007-06-19 | 隔壁パターン付き基板およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2007148689A1 true JPWO2007148689A1 (ja) | 2010-01-07 |
JP5526543B2 JP5526543B2 (ja) | 2014-06-18 |
Family
ID=38833431
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008522472A Expired - Fee Related JP5526543B2 (ja) | 2006-06-20 | 2007-06-19 | 隔壁パターン付き基板およびその製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100015398A1 (ja) |
JP (1) | JP5526543B2 (ja) |
KR (1) | KR101079514B1 (ja) |
CN (1) | CN101506695B (ja) |
WO (1) | WO2007148689A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5098670B2 (ja) * | 2008-01-25 | 2012-12-12 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
JP5099840B2 (ja) * | 2008-03-26 | 2012-12-19 | 東レエンジニアリング株式会社 | カラーフィルタ基板 |
WO2010134550A1 (ja) * | 2009-05-20 | 2010-11-25 | 旭硝子株式会社 | 光学素子の製造方法 |
JP2012208291A (ja) * | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Toppan Printing Co Ltd | 光学素子及びその製造方法 |
US9215022B2 (en) * | 2012-07-18 | 2015-12-15 | Google Inc. | Logging individuals for TV measurement compliance |
US10321172B2 (en) * | 2012-12-31 | 2019-06-11 | Sling Media LLC | System and method for hosting a personalized television channel |
CN112103308A (zh) * | 2019-06-17 | 2020-12-18 | 松下知识产权经营株式会社 | 颜色变换设备及制造方法、微型led显示器面板及制造方法 |
CN110491888A (zh) * | 2019-08-30 | 2019-11-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板、阵列基板及其制备方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3470352B2 (ja) * | 1993-07-23 | 2003-11-25 | 東レ株式会社 | カラーフィルタ |
WO1999048339A1 (fr) * | 1998-03-17 | 1999-09-23 | Seiko Epson Corporation | Substrat de formation de motifs sur film mince et son traitement de surface |
JP2000009918A (ja) | 1998-06-22 | 2000-01-14 | Asahi Glass Co Ltd | カラーフィルタの製造方法及びそれを用いた液晶表示素子 |
JP2002341128A (ja) * | 2001-05-15 | 2002-11-27 | Toray Ind Inc | カラーフィルターおよび液晶表示素子の製造方法 |
JP4515699B2 (ja) * | 2002-10-17 | 2010-08-04 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
KR101136358B1 (ko) * | 2004-12-10 | 2012-04-18 | 삼성전자주식회사 | 컬러필터용 잉크 조성물 및 이를 이용하여 제조된컬러필터 기판, 및 이를 이용한 컬러필터 기판의 제조 방법 |
TW200702821A (en) * | 2005-04-15 | 2007-01-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method of producing color filter, color filter, display device, and display apparatus |
JP4873226B2 (ja) * | 2006-03-20 | 2012-02-08 | 凸版印刷株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
-
2007
- 2007-06-19 JP JP2008522472A patent/JP5526543B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-06-19 CN CN2007800309672A patent/CN101506695B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-06-19 KR KR1020097001077A patent/KR101079514B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2007-06-19 US US12/305,938 patent/US20100015398A1/en not_active Abandoned
- 2007-06-19 WO PCT/JP2007/062321 patent/WO2007148689A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101506695B (zh) | 2011-06-29 |
KR20090032091A (ko) | 2009-03-31 |
JP5526543B2 (ja) | 2014-06-18 |
US20100015398A1 (en) | 2010-01-21 |
KR101079514B1 (ko) | 2011-11-03 |
CN101506695A (zh) | 2009-08-12 |
WO2007148689A1 (ja) | 2007-12-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |