반도체 소자를 회로 기판과 전기적으로 접속하는 방법에는 반도체 소자의 도전성 패드(electro pad)와 그에 대응되는 회로 기판의 도전성 패드를 금속 와이어로 연결하는 와이어 본딩(wire bonding)에 의한 접속 방식이 일반적이나, 반도체 소자의 입출력 수가 증가에 따라 전기적 접속 밀도를 증가시키거나 반도체 소자의 특성을 개선하기 위한 탭(TAB; Tape Automated Bonding) 방식 및 플립 칩(flip chip) 방식의 전기적 연결 방법도 실용화되고 있다.
와이어 본딩 방식이 금속 재질의 리드 프레임 및 금속 와이어를 매개로 하여 반도체 칩과 회로 기판을 접속하는 데 반하여, 탭 방식이나 플립 칩 방식은 금속 리드가 배열된 수지 필름과 금속 재질의 범프(bump)를 매개로 하거나, 직접 범프 만을 매개로 하여 전기적 접속을 구현한다. 이때 범프는 웨이퍼 상태에서 반도체 칩의 도전성 패드 상에 직접 형성되기도 하고, 회로 기판의 도전성 패드 상에 형성되기도 한다. 그리고, 와이어 본딩 방식의 리드 프레임 대신 회로 기판을 이용하는 볼 그리드 어레이(Ball Grid Array;BGA) 패키지는 리드 프레임의 외부 리드 역할을 하는 범프의 일종인 솔더 볼(solder ball)을 이용한다.
한편, 범프의 형성 방법에는 금속 와이어 볼을 이용하는 방법과 금속 볼을 부착하는 방법 외에도, 증착(evaporation), 전해도금(electroplating) 등의 방법이 있다. 그러나, 범프 형성 방법들은 일반적으로 제조 공정이 복잡하고 제조 단가가 높다는 단점들이 있어, 이를 보완하기 위하여 단순한 공정으로 저가의 금속 범프를 형성하는 방법인 스크린 프린트(screen print)에 의한 방법이 제안되고 있다.
스크린 프린트는 개구부가 형성된 마스크(mask)를 범프 형성 대상물 위에 놓고 스퀴지(squeegee)를 이용하여 금속 페이스트(paste)를 전사한 후 리플로우(reflow) 과정을 거쳐 금속 범프를 제조하는 방법이다.
금속 페이스트는 통상적으로 금속 범프를 형성하는 금속 입자 성분과 그 입자 성분들을 결합해 주는 플럭스 성분이 각각 50%씩 구성되어 있다. 그런데, 리플로우 과정을 거치면 플럭스 성분이 증발해 버려 형성된 금속 범프의 체적은 처음 금속 페이스트의 양에 비해 약 반으로 줄어든다. 따라서, 마스크의 개구부는 도전성 패드보다는 그 면적이 넓어야 되는 것이다. 금속 페이스트의 금속 입자로 용융 점이 낮으면서도 습윤성(wettability)이 좋고 비가용성인 솔더가 주로 사용된다.
그런데, 이와 같이 금속 범프를 제조하는 방법에서는 개구부를 형성하는 공정에 있어서, 기판 상에 적층된 개별 층마다 개구부를 형성하기 위해 반복적으로 레지스트를 도포하고 이를 노광 및 현상하는 공정이 반복된다.
상기와 같은 반복적인 포토 리소그래피 공정으로 공정 비용 및 공정 시간이 증가할 뿐 아니라, 반복적인 현상 공정에 따른 잔사 등의 이물질 발생에 따른 불량 발생의 가능성이 매우 높다. 또한, 노광시 정렬(alignment)의 문제가 발생하여 고정합의 노광 설비가 필요한 실정이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시형태들을 설명한다.
그러나, 본 발명의 실시형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 실시형태는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있으며, 도면상의 동일한 부호로 표시되는 요소는 동일한 요소이다.
이하에서는 도 1 내지 도 6을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 솔더 범프 형성 공정을 설명한다.
도 1을 참조하면, 마련된 기판(10) 상에 적어도 하나의 도전성 패드(20)를 형성한다. 여기서, 도전성 패드(20)는 포토 리소그라피 공정을 사용하여 형성할 수 있다.
도전성 패드 물질(도시하지 않음)이 도포된 기판(10) 상에 감광성 수지층(도시하지 않음)을 도포하고 소정의 패턴이 형성된 마스크(도시하지 않음)를 이용하여 도포된 감광성 수지층을 노광 및 현상하는 포토 리소그래피 공정을 이용하여 도전성 패드(20)를 형성할 수 있다.
다음, 도전성 패드(20)가 형성된 기판(10) 상에 솔더 레지스트층(30) 및 드라이 필름(40)을 순차적으로 형성한다.
다음, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 형성된 솔더 레지스트층(30) 및 드라이 필름(40)을 일괄적으로 노광 및 현상하여 도전성 패드(20)를 노출시키는 개구 부(V)를 형성한다.
솔더 레지스트층(30) 및 드라이 필름(40)이 도포된 기판(10) 상에 소정의 패턴이 형성된 마스크(M)를 배치한 후, 도포된 솔더 레지스트층(30) 및 드라이 필름(40)을 일괄적으로 노광 및 현상하여 함으로써 솔더 레지스트층(30') 및 드라이 필름(40')의 일부분을 제거하여 도전성 패드(20)를 노출시키는 개구부(V)를 형성할 수 있다.
여기서, 개구부(V)는 상부에서 하부로 갈수록 좁아지게 테이퍼된 형태를 갖도록 형성할 수 있으나, 개구부(V)의 형태는 이에 제한되지 않는다. 이때, 노광량을 솔더 레지스트층(30)을 기준으로 설정하여 드라이 필름(40)은 약간 과노광 되도록 한다. 이와 같이, 노광량을 조절하여 본 실시예와 같은 상부에서 하부로 갈수록 좁아지게 테이퍼된 형태를 갖는 개구부(V)를 형성할 수 있다. 본 실시예에서는 상부에서 하부로 갈수록 좁아지게 테이퍼된 형태를 갖는 개구부(V)를 형성하였지만, 개구부(V)는 이에 한정되지 않으며, 노광량을 조절하여 다양하게 형성할 수 있을 것이다.
종래 공정에서와는 다르게, 기판 상에 형성된 솔더 레지스트층(30) 및 드라이 필름(40)을 일괄적으로 노광 및 현상하여 일 단계의 공정에 의해 개구부(V)를 형성할 수 있으므로, 개별 층마다 개구부를 형성하기 위해 반복적인 포토 리소그래 피 공정으로 소요되는 공정 비용 및 공정 시간을 저감할 수 있다. 또한, 노광시 정렬(alignment)의 문제가 발생하지 않게 되므로, 고정합의 노광 설비의 사용 없이 기존의 저가 장비로도 미세 피치 대응이 가능한 기판을 제작할 수 있다.
여기서, 개구부(V)는 포토 리소그래피 공정 대신에 레이저 공정으로도 형성 가능할 것이다. 레이저를 이용하여 소정 형태의 개구부(V)의 형태를 형성한 후, 레이저 공정시 발생할 수 있는 스미어(smear) 제거를 위한 디스미어(dessmear) 공정 및 솔더 레지스트층(30) 및 드라이 필름(40)의 반경화 공정을 거쳐 개구부(V)를 형성할 수 있다.
다음, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 이전 공정에서 형성된 개구부(V)에 도전성 페이스트(50)를 충진한 후, 충진된 도전성 페이스트(50)를 리플로우하여 원하는 형상의 솔더 범프(50')를 형성한다.
마지막으로, 도 6에 도시된 바와 같이, 드라이 필름(40')을 제거하여 원하는 형상의 솔더 범프(50')가 형성된 기판(10)을 얻을 수 있다.
여기서, 드라이 필름(40')은 기판(10) 표면의 드라이 필름(40')을 용제에 접촉함으로써 제거할 수 있다. 접촉 방법으로는 예를 들어, 기판(10)을 용제에 침적할 수도 있고, 반대로 용제를 기판(10)에 분무할 수도 있다. 또한, 용제의 온도와 접촉 시간을 조절하여 드라이 필름(40')을 제거할 수 있다. 그리고, 기판(10)을 용제에 침적하는 동시에 초음파 세정을 할 수도 있다. 이 경우, 단순히 기판(10) 표면의 드라이 필름(40')을 용제에 접촉하는 경우에 비하여, 드라이 필름(40')의 제거 시간이 단축될 수 있을 것이다.
다음, 상기 리플로우 공정에 따라 형성된 솔더 범프(50')에 잔류하는 플럭스(flux) 제거를 위한 통상의 디플럭스(deflux) 공정을 진행한다.
통상의 유기 용매를 사용하는 디플럭스(deflux) 공정에 따라서, 리플로우된 솔더 범프(50')를 여러 종류의 유기 용매 또는 증류수에 담그고 건조하는 과정을 반복함으로써 솔더 범프(50')에 잔류하는 플럭스(flux) 제거할 수 있다.
상기 디플럭스(deflux) 공정을 수행함으로써, 상기 리플로우 공정에서 제거되지 않고 솔더 범프(50')의 전체 표면을 감싸며 잔류하는 플럭스를 제거할 수 있다.
종래 공정에서와는 다르게, 기판 상에 형성된 솔더 레지스트층(30) 및 드라이 필름(40)을 일괄적으로 노광 및 현상하여 일 단계의 공정에 의해 개구부(V)를 형성할 수 있으므로, 개별 층마다 개구부를 형성하기 위해 반복적인 포토 리소그래피 공정으로 소요되는 공정 비용 및 공정 시간을 저감할 수 있다.
또한, 노광시 정렬(alignment)의 문제가 발생하지 않게 되므로, 고정합의 노광 설비의 사용 없이 기존의 저가 장비로도 미세 피치 대응이 가능한 기판을 제작할 수 있다.
본 발명은 상술한 실시 형태 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니며, 첨부된 청구범위에 의해 한정하고자 한다. 따라서, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능할 것이며, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다고 할 것이다.