JP2008098210A - 突起電極形成方法、並びに半導体装置の製造方法、および半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】ファインピッチなエリアパッド配列に対応するために突起電極が微細化しても、レジスト層の表面にオーバーハングする半田量を増加させることなく、回路基板と半導体チップとの間に樹脂を充填するのに必要な突起電極高さを確保できる突起電極形成方法を提供する。
【解決手段】接続パッド2の露出部の上方に形成されているCr膜3、Cu膜4、Cuメッキ層7、および半田メッキ層8を、半田メッキ層8のリフロー温度以上の耐熱性を持つレジスト層9で、半田メッキ層8の一部が露出するように保持した状態で、半田メッキ層8を過熱、リフローし、半田を溶融して突起電極10を形成する。
【選択図】図1
【解決手段】接続パッド2の露出部の上方に形成されているCr膜3、Cu膜4、Cuメッキ層7、および半田メッキ層8を、半田メッキ層8のリフロー温度以上の耐熱性を持つレジスト層9で、半田メッキ層8の一部が露出するように保持した状態で、半田メッキ層8を過熱、リフローし、半田を溶融して突起電極10を形成する。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体素子(半導体チップ)の接続パッド上に、半田等の低融点金属を用いたフリップチップ実装用の突起電極を形成する突起電極形成方法、並びにその突起電極形成方法を用いた半導体装置の製造方法、およびその半導体装置の製造方法により製造される半導体装置に関する。
例えばフリップチップ方式と呼ばれる半導体チップの実装技術では、半導体チップの接続パッド上に形成された突起電極を回路基板上に形成された接続パッド上に載置することにより、半導体チップと回路基板を電気的に接続している。また微細拡散プロセスを使用した半導体チップをフリップチップ実装するためには、実装時の応力緩和の観点から、低融点金属である半田からなる突起電極を使用するのが好ましい。
以下、従来の半導体装置の製造方法について、突起電極の形成方法を中心に、図5を用いて説明する。まず図5(a)に示すように、一方の面(以下、上面と称す。)から各接続パッド2の一部が露出している半導体チップ1を用意して、接続パッド2の露出部上でプローブ11による特性検査を行う。
次に、図5(b)に示すように、各接続パッド2の露出部上にメッキ下地金属膜としてCr膜3とCu膜4を形成するために、半導体チップ1の上面の少なくとも接続パッド2が配置されている領域にCr膜3を蒸着によって形成し、さらにそのCr膜3上にCu膜4を蒸着によって形成する。
次に、図5(c)に示すように、Cu膜4上に液状レジストを塗布してレジスト層5を形成した後、各接続パッド2の露出部の上方のレジスト層5を露光し、現像処理を行うことにより、露光した部分のレジスト層5を除去して、Cu膜4に達するスルーホール部6を形成する。
次に、図5(d)に示すように、各スルーホール部をマスクとしてCuメッキを施し、各スルーホール部にCuメッキ層7を形成した後、レジスト層5を剥離せずに、各スルーホール部をマスクとして各Cuメッキ層7上に半田メッキを施し、半田メッキ層8を形成する。このとき、後述するように、半田メッキ層8をレジスト層5の表面にオーバーハングさせる。
次に、図5(e)に示すように、レジスト層の残りを剥離、除去した後、Cuメッキ層7と半田メッキ層8をレジストとして、その除去したレジスト層下に形成されている接続パッド2間のCu膜4とCr膜3をエッチングする。
次に、図5(f)に示すように、熱処理により半田メッキ層を過熱、リフローして半田を溶融し、突起電極10を形成する。突起電極形成後は、その突起電極が形成された半導体チップを回路基板にフリップチップ実装することで、半導体装置を実現する。
以上のように、従来は、半導体チップをフリップチップ実装するに際し、突起電極を形成する前に接続パッド上で半導体チップの特性試験を行っていた。また、突起電極の形成時に、接続パッド上にスルーホール部を有するレジスト層を形成し、そのスルーホール部にCuメッキ層と半田メッキ層を形成した後、レジスト層を剥離して、熱処理により半田メッキ層を過熱、リフローして、突起電極である半田バンプを形成していた(例えば、特許文献1〜3参照。)。
しかしながら、図6に示すように、フリップチップ実装工法では、電気的接合の信頼性の確保や補強のために回路基板17と半導体チップ1との間に樹脂19を充填して樹脂封止する必要があるため、突起電極10に所定の高さが必要とされる。そのため、よりファインピッチなエリアパッド配列に対応するために突起電極をより微細化する場合、上記した従来の突起電極形成方法では、所望の高さの突起電極を得るために、図5(d)に示すようにレジスト層5の表面にオーバーハングする半田量が多くなり、レジスト層5が剥離しにくくなるという問題が生じていた。また、オーバーハングする半田量が多くなると、半田メッキ層にレジスト層が残留するいわゆるレジスト残りや、リフロー時に突起電極間でショートが生じるという問題があった。
特開昭55−111127号公報
特開平4−37139号公報
特開平10−189608号公報
本発明は、上記問題点に鑑み、接続パッドの露出部の上方に形成されている下地金属膜、Cuメッキ層(第1の金属層)、および半田メッキ層(第2の金属層)を、半田メッキ層のリフロー温度(所定温度)以上の耐熱性を持つレジスト層で、半田メッキ層の一部が露出するように保持した状態で、あるいは、接続パッドの露出部の上方に形成されている下地金属膜、Cuメッキ層(第1の金属層)、半田メッキ層(第2の金属層)、および半田メッキ層よりも融点が低い半田層(第3の金属層)を、半田メッキ層のリフロー温度(所定温度)以上の耐熱性を持つレジスト層で、半田層の一部が露出するように保持した状態で、熱処理により半田を溶融して突起電極を形成することにより、ファインピッチなエリアパッド配列に対応するために突起電極が微細化しても、レジスト層の表面にオーバーハングする半田量を増加させることなく、回路基板と半導体チップとの間に樹脂を充填するのに必要な突起電極高さを確保できる突起電極形成方法、並びに半導体装置の製造方法、および半導体装置を提供することを目的とする。
本発明の請求項1記載の突起電極形成方法は、半導体素子の一方の面から露出している複数の接続パッドの露出部の上方に突起電極を形成する方法であって、前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記複数の接続パッドが配置されている領域に下地金属膜を形成する工程と、前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記下地金属膜が形成されている領域に第1のレジスト層を形成する工程と、前記各接続パッドの露出部の上方の前記第1のレジスト層を除去してスルーホール部を形成する工程と、前記各スルーホール部に突起電極の軸となる第1の金属層を形成する工程と、前記各第1の金属層上に第2の金属層を形成する工程と、前記第1のレジスト層の残りを除去するとともに、その除去した前記第1のレジスト層下に形成されている前記下地金属膜を除去する工程と、前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記複数の接続パッドが配置されている領域に所定温度以上の耐熱性を持つ第2のレジスト層を形成する工程と、前記各接続パッドの露出部の上方の前記第2のレジスト層を除去して前記各第2の金属層の一部を露出させる工程と、前記各第2の金属層を溶融する工程と、前記第2のレジスト層の残りを除去する工程と、を含み、前記第1の金属層と前記第2の金属層からなる突起電極を形成することを特徴とする。また、本発明の請求項2記載の突起電極形成方法は、請求項1記載の突起電極形成方法であって、突起電極高さが突起電極幅よりも大きい突起電極を形成することを特徴とする。
また、本発明の請求項3記載の突起電極形成方法は、半導体素子の一方の面から露出している複数の接続パッドの露出部の上方に突起電極を形成する方法であって、前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記複数の接続パッドが配置されている領域に下地金属膜を形成する工程と、前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記下地金属膜が形成されている領域に所望の厚みのレジスト層を形成する工程と、前記各接続パッドの露出部の上方の前記レジスト層を除去してスルーホール部を形成する工程と、前記各スルーホール部に突起電極の軸となる第1の金属層を形成する工程と、前記各第1の金属層上に第2の金属層を形成する工程と、前記レジスト層の残りを除去するとともに、その除去した前記レジスト層下に形成されている前記下地金属膜を除去する工程と、を含み、前記第2の金属層を溶融せずに前記第1の金属層と前記第2の金属層からなる突起電極を形成することを特徴とする。また、本発明の請求項4記載の突起電極形成方法は、請求項3記載の突起電極形成方法であって、突起電極高さが突起電極幅よりも大きい突起電極を形成することを特徴とする。
また、本発明の請求項5記載の突起電極形成方法は、半導体素子の一方の面から露出している複数の接続パッドの露出部の上方に突起電極を形成する方法であって、前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記複数の接続パッドが配置されている領域に下地金属膜を形成する工程と、前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記下地金属膜が形成されている領域に第1のレジスト層を形成する工程と、前記各接続パッドの露出部の上方の前記第1のレジスト層を除去して第1のスルーホール部を形成する工程と、前記各第1のスルーホール部に突起電極の軸となる第1の金属層を形成する工程と、前記各第1の金属層上に第2の金属層を形成する工程と、前記第1のレジスト層の残りを除去するとともに、その除去した前記第1のレジスト層下に形成されている前記下地金属膜を除去する工程と、前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記複数の接続パッドが配置されている領域に、所定温度以上の耐熱性を持ち、前記下地金属膜と前記第1と第2の金属層を合わせた厚みよりも厚みが大きい第2のレジスト層を形成する工程と、前記各接続パッドの露出部の上方の前記第2のレジスト層を除去して第2のスルーホール部を形成する工程と、前記各第2のスルーホール部に前記第2の金属層よりも融点が低い第3の金属層を形成する工程と、前記各第2の金属層と前記各第3の金属層を溶融する工程と、前記第2のレジスト層の残りを除去する工程と、を含み、前記第1、第2、第3の金属層からなる突起電極を形成することを特徴とする。また、本発明の請求項6記載の突起電極形成方法は、請求項5記載の突起電極形成方法であって、突起電極高さが突起電極幅よりも大きい突起電極を形成することを特徴とする。
また、本発明の請求項7記載の突起電極形成方法は、半導体素子の一方の面から露出している複数の接続パッドの露出部の上方に突起電極を形成する方法であって、前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記複数の接続パッドが配置されている領域に下地金属膜を形成する工程と、前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記下地金属膜が形成されている領域に第1のレジスト層を形成する工程と、前記各接続パッドの露出部の上方の前記第1のレジスト層を除去して第1のスルーホール部を形成する工程と、前記各第1のスルーホール部に突起電極の軸となる第1の金属層を形成する工程と、前記各第1の金属層上に第2の金属層を形成する工程と、前記第1のレジスト層の残りを除去するとともに、その除去した前記第1のレジスト層下に形成されている前記下地金属膜を除去する工程と、前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記複数の接続パッドが配置されている領域に、前記下地金属膜と前記第1と第2の金属層を合わせた厚みよりも厚みが大きい第3のレジスト層を形成する工程と、前記各接続パッドの露出部の上方の前記第3のレジスト層を除去して第2のスルーホール部を形成する工程と、前記各第2のスルーホール部に前記第2の金属層よりも融点が低い第3の金属層を形成する工程と、前記第3のレジスト層の残りを除去する工程と、を含み、前記第2と第3の金属層を溶融せずに前記第1、第2、第3の金属層からなる突起電極を形成することを特徴とする。また、本発明の請求項8記載の突起電極形成方法は、請求項7記載の突起電極形成方法であって、突起電極高さが突起電極幅よりも大きい突起電極を形成することを特徴とする。
また、本発明の請求項9記載の半導体装置の製造方法は、請求項1もしくは2のいずれかに記載の突起電極形成方法により突起電極が形成された半導体素子を回路基板にフリップチップ実装して半導体装置を製造する方法であって、第2の金属層を溶融して突起電極を形成した後、第2のレジスト層を除去する前に、突起電極上でプローブによる半導体素子の特性試験を行うことを特徴とする。
また、本発明の請求項10記載の半導体装置の製造方法は、請求項9記載の半導体装置の製造方法において、特性試験を行った後に突起電極を加熱し、第2の金属層を溶融して突起電極を再生することを特徴とする。
また、本発明の請求項11記載の半導体装置の製造方法は、請求項1もしくは2のいずれかに記載の突起電極形成方法により突起電極が形成された半導体素子を回路基板にフリップチップ実装して半導体装置を製造する方法であって、各接続パッドの露出部の上方の第2のレジスト層を除去して各第2の金属層の一部を露出させた後、第2の金属層を溶融して突起電極を形成する前に、第2の金属層上でプローブによる半導体素子の特性試験を行うことを特徴とする。
また、本発明の請求項12記載の半導体装置の製造方法は、請求項5もしくは6のいずれかに記載の突起電極形成方法により突起電極が形成された半導体素子を回路基板にフリップチップ実装して半導体装置を製造する方法であって、第2と第3の金属層を溶融して突起電極を形成した後、第2のレジスト層を除去する前に、突起電極上でプローブによる半導体素子の特性試験を行うことを特徴とする。
また、本発明の請求項13記載の半導体装置の製造方法は、請求項12記載の半導体装置の製造方法において、特性試験を行った後に突起電極を加熱し、第2、3の金属層を溶融して突起電極を再生することを特徴とする。
また、本発明の請求項14記載の半導体装置の製造方法は、請求項5もしくは6のいずれかに記載の突起電極形成方法により突起電極が形成された半導体素子を回路基板にフリップチップ実装して半導体装置を製造する方法であって、第3の金属層を形成した後、第2と第3の金属層を溶融して突起電極を形成する前に、第3の金属層上でプローブによる半導体素子の特性試験を行うことを特徴とする。
また、本発明の請求項15記載の半導体装置の製造方法は、請求項3もしくは4のいずれかに記載の突起電極形成方法により突起電極が形成された半導体素子を回路基板にフリップチップ実装して半導体装置を製造する方法であって、半導体素子を回路基板にフリップチップ実装して、半導体素子と回路基板との間を樹脂で封止した後、第2の金属層を融解して回路基板の接続パッドと接合させることを特徴とする。
また、本発明の請求項16記載の半導体装置の製造方法は、請求項7もしくは8のいずれかに記載の突起電極形成方法により突起電極が形成された半導体素子を回路基板にフリップチップ実装して半導体装置を製造する方法であって、半導体素子を回路基板にフリップチップ実装して、半導体素子と回路基板との間を樹脂で封止した後、第3の金属層のみを融解して回路基板の接続パッドと接合させることを特徴とする。
また、本発明の請求項17記載の半導体装置の製造方法は、請求項12ないし14のいずれかに記載の半導体装置の製造方法であって、半導体素子を回路基板にフリップチップ実装するに際し、第3の金属層のみを融解した状態でフリップチップ実装することを特徴とする。
また、本発明の請求項18記載の半導体装置は、半導体素子の接続パッド上に形成された突起電極と回路基板の接続パッドとが接合されたフリップチップ実装型の半導体装置であって、前記突起電極は、突起電極高さが突起電極幅よりも大きいことを特徴とする。
また、本発明の請求項19記載の半導体装置は、半導体素子の接続パッド上に形成された突起電極と回路基板の接続パッドとが接合されたフリップチップ実装型の半導体装置であって、前記突起電極は、最上部の金属層の融点がその下の金属層の融点よりも低く、その最上部の金属層が前記回路基板の接続パッドに接合していることを特徴とする。
また、本発明の請求項20記載の半導体装置は、請求項19記載の半導体装置であって、前記突起電極は、突起電極高さが突起電極幅よりも大きいことを特徴とする。
本発明によれば、レジスト層の堆積分だけ突起電極高さをかせぐことができるので、ファインピッチなエリアパッド配列に対応するために突起電極が微細化しても、レジスト層の表面にオーバーハングする半田量を増加させることなく、回路基板と半導体チップとの間に樹脂を充填するのに必要な突起電極高さを確保でき、突起電極高さが突起電極幅よりも大きい突起電極を形成できる。また、レジスト層の表面にオーバーハングする半田量を少なくできるので、あるいは無くすことができるので、レジスト層の剥離が容易となり、レジスト残りやリフロー時の突起電極間のショートを低減できる。
また、突起電極(第2の金属層、または第2と第3の金属層を溶融する前のものを含む。)上でプローブによる半導体素子の特性試験を行っても、その突起電極はレジスト層により胴部周囲が補強された状態にあるので、その突起電極の破損を防ぐことができる。また、その突起電極上でプローブによる特性試験を行った後、半田を溶融することにより、特性試験時にその突起電極にできた損傷をなおすことができる。
(実施の形態1)
以下、本発明の実施の形態1における半導体装置の製造方法について、突起電極の形成方法を中心に、図面を交えて説明する。
以下、本発明の実施の形態1における半導体装置の製造方法について、突起電極の形成方法を中心に、図面を交えて説明する。
図1は、本発明の実施の形態1における半導体装置の製造方法を示す工程図である。まず図1(a)に示すように、一方の面(以下、上面と称す。)から各接続パッド2の一部が露出している半導体チップ(半導体素子)1を用意して、各接続パッド2の露出部(突起電極を形成する部分)上にメッキ下地金属膜としてCr膜3とCu膜4を形成するために、半導体チップ1の上面の少なくとも接続パッド2が配置されている領域にCr膜3を蒸着によって形成し、さらにそのCr膜3上にCu膜4を蒸着によって形成する。なお、Cr膜3に代えて、半田中のSnの拡散を防止できるTi膜やMo膜等を形成してもよく、またCu膜4に代えてAu膜等を形成してもよい。
次に、図1(b)に示すように、半導体チップ1の上面の少なくともCu膜4が形成されている領域に液状レジストを塗布して第1のレジスト層5を形成した後、半導体露光装置を用いて、各接続パッド2の露出部の上方の第1のレジスト層5を露光し、現像処理を行うことにより、露光した部分の第1のレジスト層5を除去して、Cu膜4に達するスルーホール部(第1のスルーホール部)6を形成する。
次に、図1(c)に示すように、各スルーホール部6をマスクとしてCuメッキを施し、各スルーホール部6に突起電極の軸となるCuメッキ層(第1の金属層)7を形成する。なお、Cuメッキ層7の代わりにNiメッキ層を形成してもよい。
次に、図1(d)に示すように、各スルーホール部をマスクとして各Cuメッキ層7上に半田メッキを施し、各スルーホール部に半田メッキ層(第2の金属層)8を形成する。このとき、半田メッキ層8は第1のレジスト層5の表面にオーバーハングしなくてもよい。
次に、図1(e)に示すように、第1のレジスト層の残りを剥離、除去した後、Cuメッキ層7と半田メッキ層8をレジストとして、その除去した第1のレジスト層下に形成されている接続パッド2間のCu膜4とCr膜3をエッチングにより除去する。
次に、図1(f)に示すように、半導体素子1の上面の少なくとも接続パッド2が配置されている領域に、半田メッキ層8のリフロー温度(所定温度)以上の耐熱性を持つポリイミド等の液状レジストを塗布して、第2のレジスト層9を形成する。なお、液状レジストに代えて、ポリイミド等の半田メッキ層8のリフロー温度以上の耐熱性を持つフィルム状レジストを熱圧着してもよい。その後、半導体露光装置を用いて、各接続パッド2の露出部の上方の第2のレジスト層9を露光し、現像処理を行うことにより、露光した部分の第2のレジスト層9を除去して、半田メッキ層8の一部を露出させる。なお第2のレジスト層9の除去には、露光、現像処理ではなくエッチング処理を用いてもよい。
次に、図1(g)の上図に示すように、半田メッキ層を過熱、リフローし、半田を溶融して、Cuメッキ層(第1の金属層)と半田層(第2の金属層)からなる突起電極10を形成し、その突起電極10上でプローブ11による半導体チップの特性試験を行う。このとき、突起電極10の胴部周囲は第2のレジスト層9により補強された状態にある。突起電極10上でプローブ11による特性試験を行うと、図1(g)の下図に示すように突起電極10が損傷するので、図1(h)に示すように、突起電極10を過熱、リフローして、再度半田を溶融させ、突起電極10を再生する。
このように、突起電極を第2のレジスト層で補強した状態で特性試験を行うので、突起電極の脱落や変形を防ぐことができ、損傷を受けた場合でも再度のリフローにより突起電極を再生することができる。
次に、図1(i)に示すように、第2のレジスト層の残りを剥離、除去して突起電極10を完成する。図2に完成した突起電極10の断面を示す。図2に示すように、上記した突起電極形成方法によれば、突起電極高さ12を突起電極幅13よりも大きくできるため、例えば150μm以下のファインピッチなエリアパッド配列に対応するために突起電極が微細化しても、半導体チップと回路基板の間に樹脂を充填するために必要な突起電極高さを得ることができる。突起電極形成後は、その突起電極が形成された半導体チップを回路基板にフリップチップ実装し、半導体チップと回路基板の間を樹脂で封止することで、半導体素子の接続パッド上に形成された突起電極と回路基板の接続パッドとが接合されたフリップチップ実装型の半導体装置であって、突起電極高さが突起電極幅よりも大きい突起電極を有する半導体装置を実現できる。
本実施の形態1によれば、下地金属膜であるCr膜とCu膜、Cuメッキ層(第1の金属層)、および半田メッキ層(第2の金属層)を、半田メッキ層のリフロー温度以上の耐熱性を持つ第2のレジスト層で保持した状態で、半田メッキ層を過熱、リフローし、半田を溶融して突起電極を形成するので、第2のレジスト層の堆積分だけ突起電極高さをかせぐことができ、第1のレジスト層にオーバーハングする半田量は少なくてよい。あるいは無くてもよい。よって、第1のレジスト層が剥離し易くなり、レジスト残りや、リフロー時の突起電極間でのショートを低減できる。
なお、半田メッキ層の形成後に、半田メッキ層とCuメッキ層との間で十分な強度と特性試験に支障がない接触抵抗を確保できるなら、半田メッキ層を溶融して突起電極を形成する前に、半田メッキ層上でプローブによる半導体素子の特性試験を行い、特性試験後、半田メッキ層を溶融して突起電極を形成してもよい。
また、半導体チップの特性試験が必要ない場合や、半導体チップの接続パッドあるいは特性試験専用のパッドで特性試験を行う場合、半田メッキ層とCuメッキ層との間で十分な強度を確保できるなら、半田メッキ層の形成後に、半田メッキ層を過熱、リフローする工程を削減することができる。この場合、回路基板にフリップチップ実装する際に、突起電極(半田メッキ層)と回路基板の接続パッドとを導電性ペースト等を介して接続する。そして、半導体チップと回路基板の間を樹脂で封止した後、半田メッキ層を融解して回路基板の接続パッドと接合させる。
また、この場合であっても、第1のレジスト層5を所望の厚みに形成することで突起電極高さをかせぐことができるので、ファインピッチなエリアパッド配列に対応するために突起電極が微細化しても、レジスト層の表面にオーバーハングする半田量を増加させることなく、回路基板と半導体チップとの間に樹脂を充填するのに必要な突起電極高さを確保でき、突起電極高さが突起電極幅よりも大きい突起電極を形成できる。また、レジスト層の表面にオーバーハングする半田量を少なくできるので、あるいは無くすことができるので、レジスト層の剥離が容易となり、レジスト残りやリフロー時の突起電極間のショートを低減できる。
(実施の形態2)
以下、本発明の実施の形態2における半導体装置の製造方法について、突起電極の形成方法を中心に、図面を交えて説明する。
以下、本発明の実施の形態2における半導体装置の製造方法について、突起電極の形成方法を中心に、図面を交えて説明する。
図3は、本発明の実施の形態2における半導体装置の製造方法を示す工程図である。但し、前述の実施の形態1で説明した部材と同一の部材には同一符号を付して、説明を省略する。また、図3(a)〜図3(e)の工程は、図1(a)〜図1(e)の工程と同一であるので、説明を省略する。
図3(e)の工程後、図3(f)の上図に示すように、半導体素子1の上面の少なくとも接続パッド2が配置されている領域に、半田メッキ層(第2の金属層)8のリフロー温度(所定温度)以上の耐熱性を持つポリイミド等の液状レジストを、下地金属膜であるCr膜3とCu膜4、Cuメッキ層(第1の金属層)7、および半田メッキ層8を合わせた厚みよりも大きい厚みで塗布し、第2のレジスト層9を形成する。なお、液状レジストに代えて、ポリイミド等の半田メッキ層8のリフロー温度以上の耐熱性を持つフィルム状レジストを熱圧着してもよい。その後、半導体露光装置を用いて、接続パッド2の露出部の上方の第2のレジスト層9を露光し、現像処理を行うことにより、露光した部分の第2のレジスト層9を除去して、半田メッキ層8に達するスルーホール部(第2のスルーホール部)14を形成する。なお第2のレジスト層9の除去には、露光、現像処理ではなくエッチング処理を用いてもよい。
次に、図3(f)の下図に示すように、第2のレジスト層9をマスクとして、半田ペースト印刷法によりスルーホール部に半田メッキ層8よりも融点が低い半田層(第3の金属層)15を形成する。なお、半田層15は、半田ペースト印刷法の代わりに、半田ボール搭載法や、溶融半田へのディップ法により形成してもよい。
次に、図3(g)〜(i)に示すように、図1(g)〜(i)で説明した工程と同様に、半田メッキ層と半田層を過熱、リフローし、半田を溶融して、Cuメッキ層(第1の金属層)と、第1の半田層(第2の金属層と)と、第2の半田層(第3の金属層)からなる突起電極16を形成し、その突起電極16上でプローブ11による半導体チップの特性試験を行った後、突起電極16を過熱、リフローして、再度半田を溶融させ、突起電極16を再生し、第2のレジスト層9の残りを剥離、除去して突起電極16を完成する。
突起電極形成後は、その突起電極が形成された半導体チップを回路基板にフリップチップ実装することで、半導体素子の接続パッド上に形成された突起電極と回路基板の接続パッドとが接合されたフリップチップ実装型の半導体装置を実現できる。
また、フリップチップ実装時の温度を半田メッキ層の融点よりも低く、且つ半田メッキ層よりも融点が低い半田層の融点以上に保つことにより、図4に示すように、突起電極16の最上部の金属層である半田層(第3の金属層)をのみを融解した状態で、突起電極高さを維持しつつ回路基板17の接続パッド18に突起電極16を接合することができる。このように半導体チップを回路基板にフリップチップ実装して製造した半導体装置では、突起電極の最上部の金属層(半田層)の融点がその下の金属層(半田メッキ層)の融点よりも低く、その最上部の金属層が回路基板の接続パッドに接合している。
本実施の形態2によれば、前述の実施の形態1と同様に、突起電極高さを突起電極幅よりも大きくできるため、突起電極が微細化しても、半導体チップと回路基板の間に樹脂を充填するために必要な突起電極高さを得ることができる。したがって、前述の実施の形態1と同様に、突起電極高さが突起電極幅よりも大きい突起電極を有する半導体装置を実現できる。
また、接続パッドの露出部の上方に形成されている下地金属膜であるCr膜とCu膜、Cuメッキ層(第1の金属層)、半田メッキ層(第2の金属層)、および半田メッキ層よりも融点が低い半田層(第3の金属層)を、半田メッキ層のリフロー温度以上の耐熱性を持つ第2のレジスト層で保持した状態で、半田層と半田メッキ層を過熱、リフローし、半田を溶融して突起電極を形成するので、第2のレジスト層の堆積分だけ突起電極高さをかせぐことができ、第1と第2のレジスト層にオーバーハングする半田量は少なくてよい。あるいは無くてもよい。よって、第1と第2のレジスト層が剥離し易くなり、レジスト残りや、リフロー時の突起電極間でのショートを低減できる。
なお、半田メッキ層とCuメッキ層との間、および半田層と半田メッキ層との間で十分な強度と特性試験に支障がない接触抵抗を確保できるなら、半田メッキ層および半田層を溶融して突起電極を形成する前に、半田層上でプローブによる半導体素子の特性試験を行い、特性試験後、半田メッキ層および半田層を溶融して突起電極を形成してもよい。
また、半導体チップの特性試験が必要ない場合や、半導体チップの接続パッドあるいは特性試験専用のパッドで特性試験を行う場合、半田メッキ層とCuメッキ層との間および半田層と半田メッキ層との間で十分な強度を確保できるなら、半田層の形成後に、半田メッキ層と半田層を過熱、リフローする工程を削減することができる。この場合、回路基板にフリップチップ実装する際に、突起電極(半田層)と回路基板の接続パッドとを導電性ペースト等を介して接続する。そして、半導体チップと回路基板の間を樹脂で封止した後、半田層を融解して回路基板の接続パッドと接合させる。
また、この場合であっても、第2のレジスト層9を所望の厚みに形成することで突起電極高さをかせぐことができるので、ファインピッチなエリアパッド配列に対応するために突起電極が微細化しても、レジスト層の表面にオーバーハングする半田量を増加させることなく、回路基板と半導体チップとの間に樹脂を充填するのに必要な突起電極高さを確保でき、突起電極高さが突起電極幅よりも大きい突起電極を形成できる。また、レジスト層の表面にオーバーハングする半田量を少なくできるので、あるいは無くすことができるので、レジスト層の剥離が容易となり、レジスト残りやリフロー時の突起電極間のショートを低減できる。なお、この場合、半田メッキ層と半田層を過熱、リフローする工程を削減するので、第1のレジスト層を除去した後、半田メッキ層のリフロー温度以上の耐熱性を持たないレジスト層(第3のレジスト層)を形成してもよい。
本発明にかかる突起電極形成方法、並びに半導体装置の製造方法、および半導体装置は、ファインピッチなエリアパッド配列に対応するために突起電極が微細化しても、レジスト層の表面にオーバーハングする半田量を増加させることなく、回路基板と半導体チップとの間に樹脂を充填するのに必要な突起電極高さを確保でき、フリップチップ実装工法に有用である。
1 半導体チップ
2 半導体チップの接続パッド
3 Cr膜
4 Cu膜
5 レジスト層(第1のレジスト層)
6 スルーホール部(第1のスルーホール部)
7 Cuメッキ層
8 半田メッキ層
9 第2のレジスト層
10、16 突起電極
11 プローブ
12 突起電極高さ
13 突起電極幅
14 第2のスルーホール部
15 半田層
17 回路基板
18 回路基板の接続パッド
19 樹脂
2 半導体チップの接続パッド
3 Cr膜
4 Cu膜
5 レジスト層(第1のレジスト層)
6 スルーホール部(第1のスルーホール部)
7 Cuメッキ層
8 半田メッキ層
9 第2のレジスト層
10、16 突起電極
11 プローブ
12 突起電極高さ
13 突起電極幅
14 第2のスルーホール部
15 半田層
17 回路基板
18 回路基板の接続パッド
19 樹脂
Claims (20)
- 半導体素子の一方の面から露出している複数の接続パッドの露出部の上方に突起電極を形成する方法であって、
前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記複数の接続パッドが配置されている領域に下地金属膜を形成する工程と、
前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記下地金属膜が形成されている領域に第1のレジスト層を形成する工程と、
前記各接続パッドの露出部の上方の前記第1のレジスト層を除去してスルーホール部を形成する工程と、
前記各スルーホール部に突起電極の軸となる第1の金属層を形成する工程と、
前記各第1の金属層上に第2の金属層を形成する工程と、
前記第1のレジスト層の残りを除去するとともに、その除去した前記第1のレジスト層下に形成されている前記下地金属膜を除去する工程と、
前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記複数の接続パッドが配置されている領域に所定温度以上の耐熱性を持つ第2のレジスト層を形成する工程と、
前記各接続パッドの露出部の上方の前記第2のレジスト層を除去して前記各第2の金属層の一部を露出させる工程と、
前記各第2の金属層を溶融する工程と、
前記第2のレジスト層の残りを除去する工程と、
を含み、前記第1の金属層と前記第2の金属層からなる突起電極を形成することを特徴とする突起電極形成方法。 - 請求項1記載の突起電極形成方法であって、突起電極高さが突起電極幅よりも大きい突起電極を形成することを特徴とする突起電極形成方法。
- 半導体素子の一方の面から露出している複数の接続パッドの露出部の上方に突起電極を形成する方法であって、
前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記複数の接続パッドが配置されている領域に下地金属膜を形成する工程と、
前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記下地金属膜が形成されている領域に所望の厚みのレジスト層を形成する工程と、
前記各接続パッドの露出部の上方の前記レジスト層を除去してスルーホール部を形成する工程と、
前記各スルーホール部に突起電極の軸となる第1の金属層を形成する工程と、
前記各第1の金属層上に第2の金属層を形成する工程と、
前記レジスト層の残りを除去するとともに、その除去した前記レジスト層下に形成されている前記下地金属膜を除去する工程と、
を含み、前記第2の金属層を溶融せずに前記第1の金属層と前記第2の金属層からなる突起電極を形成することを特徴とする突起電極形成方法。 - 請求項3記載の突起電極形成方法であって、突起電極高さが突起電極幅よりも大きい突起電極を形成することを特徴とする突起電極形成方法。
- 半導体素子の一方の面から露出している複数の接続パッドの露出部の上方に突起電極を形成する方法であって、
前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記複数の接続パッドが配置されている領域に下地金属膜を形成する工程と、
前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記下地金属膜が形成されている領域に第1のレジスト層を形成する工程と、
前記各接続パッドの露出部の上方の前記第1のレジスト層を除去して第1のスルーホール部を形成する工程と、
前記各第1のスルーホール部に突起電極の軸となる第1の金属層を形成する工程と、
前記各第1の金属層上に第2の金属層を形成する工程と、
前記第1のレジスト層の残りを除去するとともに、その除去した前記第1のレジスト層下に形成されている前記下地金属膜を除去する工程と、
前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記複数の接続パッドが配置されている領域に、所定温度以上の耐熱性を持ち、前記下地金属膜と前記第1と第2の金属層を合わせた厚みよりも厚みが大きい第2のレジスト層を形成する工程と、
前記各接続パッドの露出部の上方の前記第2のレジスト層を除去して第2のスルーホール部を形成する工程と、
前記各第2のスルーホール部に前記第2の金属層よりも融点が低い第3の金属層を形成する工程と、
前記各第2の金属層と前記各第3の金属層を溶融する工程と、
前記第2のレジスト層の残りを除去する工程と、
を含み、前記第1、第2、第3の金属層からなる突起電極を形成することを特徴とする突起電極形成方法。 - 請求項5記載の突起電極形成方法であって、突起電極高さが突起電極幅よりも大きい突起電極を形成することを特徴とする突起電極形成方法。
- 半導体素子の一方の面から露出している複数の接続パッドの露出部の上方に突起電極を形成する方法であって、
前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記複数の接続パッドが配置されている領域に下地金属膜を形成する工程と、
前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記下地金属膜が形成されている領域に第1のレジスト層を形成する工程と、
前記各接続パッドの露出部の上方の前記第1のレジスト層を除去して第1のスルーホール部を形成する工程と、
前記各第1のスルーホール部に突起電極の軸となる第1の金属層を形成する工程と、
前記各第1の金属層上に第2の金属層を形成する工程と、
前記第1のレジスト層の残りを除去するとともに、その除去した前記第1のレジスト層下に形成されている前記下地金属膜を除去する工程と、
前記半導体素子の前記一方の面の少なくとも前記複数の接続パッドが配置されている領域に、前記下地金属膜と前記第1と第2の金属層を合わせた厚みよりも厚みが大きい第3のレジスト層を形成する工程と、
前記各接続パッドの露出部の上方の前記第3のレジスト層を除去して第2のスルーホール部を形成する工程と、
前記各第2のスルーホール部に前記第2の金属層よりも融点が低い第3の金属層を形成する工程と、
前記第3のレジスト層の残りを除去する工程と、
を含み、前記第2と第3の金属層を溶融せずに前記第1、第2、第3の金属層からなる突起電極を形成することを特徴とする突起電極形成方法。 - 請求項7記載の突起電極形成方法であって、突起電極高さが突起電極幅よりも大きい突起電極を形成することを特徴とする突起電極形成方法。
- 請求項1もしくは2のいずれかに記載の突起電極形成方法により突起電極が形成された半導体素子を回路基板にフリップチップ実装して半導体装置を製造する方法であって、第2の金属層を溶融して突起電極を形成した後、第2のレジスト層を除去する前に、突起電極上でプローブによる半導体素子の特性試験を行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項9記載の半導体装置の製造方法において、特性試験を行った後に突起電極を加熱し、第2の金属層を溶融して突起電極を再生することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1もしくは2のいずれかに記載の突起電極形成方法により突起電極が形成された半導体素子を回路基板にフリップチップ実装して半導体装置を製造する方法であって、各接続パッドの露出部の上方の第2のレジスト層を除去して各第2の金属層の一部を露出させた後、第2の金属層を溶融して突起電極を形成する前に、第2の金属層上でプローブによる半導体素子の特性試験を行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項5もしくは6のいずれかに記載の突起電極形成方法により突起電極が形成された半導体素子を回路基板にフリップチップ実装して半導体装置を製造する方法であって、第2と第3の金属層を溶融して突起電極を形成した後、第2のレジスト層を除去する前に、突起電極上でプローブによる半導体素子の特性試験を行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項12記載の半導体装置の製造方法において、特性試験を行った後に突起電極を加熱し、第2、3の金属層を溶融して突起電極を再生することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項5もしくは6のいずれかに記載の突起電極形成方法により突起電極が形成された半導体素子を回路基板にフリップチップ実装して半導体装置を製造する方法であって、第3の金属層を形成した後、第2と第3の金属層を溶融して突起電極を形成する前に、第3の金属層上でプローブによる半導体素子の特性試験を行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項3もしくは4のいずれかに記載の突起電極形成方法により突起電極が形成された半導体素子を回路基板にフリップチップ実装して半導体装置を製造する方法であって、半導体素子を回路基板にフリップチップ実装して、半導体素子と回路基板との間を樹脂で封止した後、第2の金属層を融解して回路基板の接続パッドと接合させることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項7もしくは8のいずれかに記載の突起電極形成方法により突起電極が形成された半導体素子を回路基板にフリップチップ実装して半導体装置を製造する方法であって、半導体素子を回路基板にフリップチップ実装して、半導体素子と回路基板との間を樹脂で封止した後、第3の金属層のみを融解して回路基板の接続パッドと接合させることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項12ないし14のいずれかに記載の半導体装置の製造方法であって、半導体素子を回路基板にフリップチップ実装するに際し、第3の金属層のみを融解した状態でフリップチップ実装することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 半導体素子の接続パッド上に形成された突起電極と回路基板の接続パッドとが接合されたフリップチップ実装型の半導体装置であって、前記突起電極は、突起電極高さが突起電極幅よりも大きいことを特徴とする半導体装置。
- 半導体素子の接続パッド上に形成された突起電極と回路基板の接続パッドとが接合されたフリップチップ実装型の半導体装置であって、前記突起電極は、最上部の金属層の融点がその下の金属層の融点よりも低く、その最上部の金属層が前記回路基板の接続パッドに接合していることを特徴とする半導体装置。
- 請求項19記載の半導体装置であって、前記突起電極は、突起電極高さが突起電極幅よりも大きいことを特徴とする半導体装置。
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2006
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