KR101060323B1 - 네가티브 포토레지스트를 이용하여 기판을 통과하는미세구조의 마스터링을 위한 시스템과 그 방법 및 상기방법으로 제조한 미세구조 마스터 - Google Patents
네가티브 포토레지스트를 이용하여 기판을 통과하는미세구조의 마스터링을 위한 시스템과 그 방법 및 상기방법으로 제조한 미세구조 마스터 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (105)
- 방사빔을, 상기 방사빔에 대하여 투명한 기판을 통하여, 상기 기판 위의 네가티브 포토레지스트층 내부로 쏘아줌으로써(impinging) 방사감응층 내에 미세구조를 이미지화하는 단계를 포함하고, 상기 네가티브 포토레지스트층의 상기 방사빔에 노광된 부분이 현상 후에 잔존하는 미세구조의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 네가티브 포토레지스트층이 미세구조보다 두껍고, 상기 쏘아줌이 방사빔을 상기 방사빔에 대하여 투명한 기판을 통하여 상기 기판 위의 네가티브 포토레지스트층 내부로 쏘아줌으로써 매몰된 미세구조를 상기 기판에 이웃하여 상기 네가티브 포토레지스트층 내에 이미지화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세구조의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 미세구조의 적어도 일부분이 기저부와 상기 기저부보다 좁은 상단부를 포함하고, 상기 쏘아줌이 방사빔을 상기 방사빔에 대하여 투명한 기판을 통하여 상기 기판 위의 네가티브 포토레지스트층 내부로 쏘아줌으로써, 상기 기저부가 상기 기판에 이웃하고, 상기 상단부가 상기 기판으로부터 먼 쪽에 위치하는 미세구조를 상기 네가티브 포토레지스트층 내에 이미지화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세구조의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 네가티브 포토레지스트층의 두께가 위치에 따라 변화하고, 상기 네가티브 포토레지스트층의 최소 두께가 상기 미세구조보다 두꺼우며, 상기 쏘아줌이 방사빔을 상기 방사빔에 대하여 투명한 기판을 통하여 상기 기판 위의 네가티브 포토레지스트층 내부로 쏘아줌으로써 매몰된 미세구조를 상기 네가티브 포토레지스트층의 위치에 따라 변화하는 두께와 독립적으로 상기 네가티브 포토레지스트층 아래에 상기 기판에 이웃하여 이미지화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세구조의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 네가티브 포토레지스트층이 상기 기판으로부터 먼 쪽으로 자신의 위에 불순물을 포함하고, 상기 네가티브 포토레지스트층이 상기 미세구조보다 두꺼우며, 상기 쏘아줌이 방사빔을 상기 방사빔에 대하여 투명한 기판을 통하여 상기 기판 위의 네가티브 포토레지스트층 내부로 쏘아줌으로써, 매몰된 미세구조를 상기 기판에 이웃하여 상기 네가티브 포토레지스트층 내에 상기 불순물에 의한 왜곡됨 없이 이미지화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세구조의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 기판이 가요성 기판인 것을 특징으로 하는 미세구조의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 네가티브 포토레지스트층이 실린더형 플랫폼 위에, 상기 기판이 상기 실린더형 플랫폼으로부터 먼 쪽으로 상기 네가티브 포토레지스트층 위에 있도록 위치하고, 상기 쏘아줌이:상기 네가티브 포토레지스트층 내에 상기 미세구조를 이미지화하기 위해 상기 실린더형 플랫폼을 자신의 축을 중심으로 회전시키면서 동시에 상기 방사빔을 상기 기판에 통과시켜 상기 네가티브 포토레지스트층의 적어도 일부분을 가로질러 축방향으로 래스터시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 실린더형 플랫폼 및 방사빔의 상대적인 위치를 축방향으로 동시에 서로에 대하여 병진시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 방법.
- 제 8 항에 있어서, 상기 방사빔의 진폭을 동시에 연속적으로 변화시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 기판의 면적이 적어도 1 평방피트인 것을 특징으로 하는 미세구조의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 쏘아줌이 적어도 1시간 동안 상기 기판 위에 연속적으로 수행되는 것을 특징으로 하는 미세구조의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 쏘아줌이 적어도 1시간 동안 상기 기판 위에 연속적으로 수행되어 적어도 백만 개의 미세구조를 제조하는 것을 특징으로 하는 미세구조의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 미세구조가 광학적 미세구조, 기계적 미세구조, 및 이들의 조합으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 미세구조 마스터를 제공하기 위해 상기 네가티브 포토레지스트층 내에 이미지화된 미세구조를 현상하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 기판이 실린더형, 타원형 또는 다각형의 모양을 갖는 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 방사빔을 쏘아주는 동안 상기 기판 및 방사빔의 상대적인 위치를 서로에 대하여 병진시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 방법.
- 제 14 항에 있어서, 상기 마스터로부터 복수개의 2세대 스탬퍼를 직접 형성하는 단계; 및 스탬퍼로부터 복수개의 3세대 미세구조 최종 제품을 직접 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 네가티브 포토레지스트층이 플랫폼 위에 있고, 상기 네가티브 포토레지스트층과 상기 플랫폼 사이에 층이 있으며, 상기 기판이 상기 플랫폼으로부터 먼 쪽으로 상기 네가티브 포토레지스트층 위에 있고, 상기 쏘아줌 단계에 뒤이어 상기 층을 제거하는 단계가 수행되는 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 방법.
- 제 18 항에 있어서, 상기 제거가 상기 층을 상기 플랫폼으로부터 분리하는 단계; 및 상기 층을 상기 네가티브 포토레지스트층으로부터 분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 방법.
- 플랫폼으로서, 이미지화 주파수에서 방사광에 감응하는 네가티브 포토레지스트층 및 이미지화 주파수에 대하여 투명한 기판을 자신의 위에 고정시키도록 구성된 플랫폼; 및방사빔을 이미지화 주파수로 상기 방사빔에 투명한 기판을 통하여 상기 네가티브 포토레지스트층 내부로 쏘아주어 상기 네가티브 포토레지스트층 내에 미세구조를 이미지화하도록 구성된 방사빔 시스템을 포함하고, 상기 방사빔에 노출된 상기 네가티브 포토레지스트층 부분이 현상 후에 잔존하는 미세구조의 제조 시스템.
- 제 20 항에 있어서, 상기 네가티브 포토레지스트층이 상기 미세구조보다 두껍고, 상기 방사빔 시스템은 상기 방사빔을 상기 방사빔에 대하여 투명한 기판을 통과하여 상기 기판 위의 상기 네가티브 포토레지스트층 내부로 쏘아주어 상기 네가티브 포토레지스트층 내에 상기 기판에 이웃하여 매몰된 미세구조를 이미지화하도록 구성된 방사빔 시스템인 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 시스템.
- 제 20 항에 있어서, 상기 미세구조의 적어도 일부가 기저부와 상기 기저부보다 좁은 상단부를 포함하고, 상기 방사빔 시스템은 상기 방사빔을 상기 방사빔에 대하여 투명한 기판을 통과하여 상기 기판 위의 상기 네가티브 포토레지스트층 내부로 쏘아주어 상기 네가티브 포토레지스트층 내에 상기 기판에 이웃하는 기저부와 상기 기판으로부터 먼 쪽으로 위치하는 상단부를 갖는 미세구조를 이미지화하도록 구성된 방사빔 시스템인 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 시스템.
- 제 20 항에 있어서, 상기 네가티브 포토레지스트층의 두께가 위치에 따라 변화하고, 상기 네가티브 포토레지스트층의 최소 두께가 상기 미세구조보다 두껍고 상기 방사빔 시스템은 상기 방사빔을 상기 방사빔에 대하여 투명한 기판을 통과하여 상기 기판 위의 상기 네가티브 포토레지스트층 내부로 쏘아주어 상기 네가티브 포토레지스트층 아래에 상기 기판에 이웃하여 매몰된 미세구조를 상기 네가티브 포토레지스트층의 위치에 따라 변화하는 두께와 독립적으로 이미지화하도록 구성된 방사빔 시스템인 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 시스템.
- 제 20 항에 있어서, 상기 네가티브 포토레지스트층이 상기 기판으로부터 먼 쪽으로 자신의 위에 불순물을 포함하고, 상기 네가티브 포토레지스트층은 상기 미세구조보다 두껍고, 상기 방사빔 시스템은 상기 방사빔을 상기 방사빔에 대하여 투명한 기판을 통과하여 상기 기판 위의 상기 네가티브 포토레지스트층 내부로 쏘아주어 상기 네가티브 포토레지스트층 아래에 상기 기판에 이웃하여 매몰된 미세구조를 상기 불순물에 의한 왜곡 없이 이미지화하도록 구성된 방사빔 시스템인 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 시스템.
- 제 20 항에 있어서, 상기 기판이 가요성 기판인 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 시스템.
- 제 20 항에 있어서, 상기 플랫폼이 실린더형 플랫폼이고, 상기 시스템이 상기 네가티브 포토레지스트층 내에 상기 미세 구조를 이미지화하기 위하여 상기 방사빔이 상기 기판을 통과하여 상기 네가티브 포토레지스트층의 적어도 일부분을 가로질러 축방향으로 동시에 래스터되는 동안 상기 실린더형 플랫폼을 자신의 축을 중심으로 회전시키도록 구성된 제어기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 시스템.
- 제 26 항에 있어서, 상기 제어기가 상기 실린더형 플랫폼 및 방사빔의 상대적인 위치를 서로에 대하여 축방향으로 동시에 병진시킬 수 있도록 더 구성된 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 시스템.
- 제 27 항에 있어서, 상기 제어기가 상기 방사빔의 진폭을 동시에 연속적으로 변화시킬 수 있도록 더 구성된 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 시스템.
- 제 20 항에 있어서, 상기 기판이 적어도 1 평방피트의 면적을 갖는 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 시스템.
- 제 26 항에 있어서, 상기 제어기가 상기 방사빔을 상기 기판 위에 적어도 1 시간 동안 연속적으로 쏘도록 더 구성된 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 시스템.
- 제 26 항에 있어서, 상기 제어기가 적어도 백만 개의 미세구조를 제조하기 위해 상기 방사빔을 상기 기판 위에 적어도 1 시간 동안 연속적으로 쏘도록 더 구성된 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 시스템.
- 제 20 항에 있어서, 상기 미세구조가 광학적 미세구조, 기계적 미세구조, 및 이들의 조합으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 시스템.
- 제 20 항에 있어서, 미세구조 마스터를 제공하기 위하여 상기 네가티브 포토레지스트층 내에서 이미지화된 상기 미세구조를 현상하도록 구성된 현상 스테이션을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 시스템.
- 제 20 항에 있어서, 상기 플랫폼이 자신의 위에 네가티브 포토레지스트층을 고정시키고, 상기 네가티브 포토레지스트층과 상기 플랫폼 사이에 층을 갖도록 구성된 것을 특징으로 하는 미세 구조의 제조 시스템.
- 기판; 및상기 기판 위에 네가티브 포토레지스트의 노광된 층으로서 자신의 내부에 복수개의 미세구조를 한정하도록 노광된 층을 포함하고, 상기 네가티브 포토레지스트가 이미지화 주파수의 방사광에 대하여 감광되고 상기 기판이 상기 기판의 외측 표면으로부터 상기 네가티브 포토레지스트층 바로 위의 기판 표면까지 상기 이미지화 주파수에 대하여 투명한 것을 특징으로 하는 미세구조 제품.
- 제 35 항에 있어서, 상기 복수개의 미세구조가 상기 기판에 이웃하는 기저부와 상기 기판으로부터 먼 쪽으로 위치하고 상기 기저부보다 좁은 상단부를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세구조 제품.
- 제 35 항에 있어서, 상기 기판이 가요성 기판인 것을 특징으로 하는 미세구조 제품.
- 제 35 항에 있어서, 상기 기판 및 네가티브 포토레지스트의 노광된 층이 광학적 미세구조 마스터를 위한 제품을 제공하는 것을 특징으로 하는 미세구조 제품.
- 제 35 항에 있어서, 상기 복수개의 미세구조가 상기 기판에 이웃하는 기저부 및 상기 기판으로부터 먼 쪽에 위치하는 상단부를 포함하는 복수개의 반구부(hemispherical section)를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세구조 제품.
- 제 35 항에 있어서, 상기 기판이 실린더형, 타원형 또는 다각형의 모양을 갖는 것을 특징으로 하는 미세구조 제품.
- 제 35 항에 있어서, 상기 기판이 적어도 1 평방피트의 면적을 갖는 것을 특징으로 하는 미세구조 제품.
- 제 35 항에 있어서, 상기 미세구조가 광학적 미세구조, 기계적 미세구조, 및 이들의 조합으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 미세구조 제품.
- 제 35 항에 있어서, 상기 복수개의 미세구조가 적어도 백만개의 미세구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세구조 제품.
- 제 35 항에 있어서, 네가티브 포토레지스트의 노광된 층 위에, 상기 기판으로부터 먼 쪽으로 층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세구조 제품.
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