JPH05312594A - 格子作製方法 - Google Patents
格子作製方法Info
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- JPH05312594A JPH05312594A JP11590092A JP11590092A JPH05312594A JP H05312594 A JPH05312594 A JP H05312594A JP 11590092 A JP11590092 A JP 11590092A JP 11590092 A JP11590092 A JP 11590092A JP H05312594 A JPH05312594 A JP H05312594A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】この発明は、影絵的回折格子パターンのコント
ラストを大きくして影絵的回折格子パターンに対する検
知信号のＳ／Ｎを大きくすることを目的とする。 【構成】 この発明は、格子パターン１を周面に有しロ
ータリーエンコーダのロータとして用いられる格子円柱
を作製する格子作製方法であって、非反射性の円柱状基
体２1の表面を予め金属膜２2で被覆してその上にフォト
レジスト層２3を形成し、円柱状基体２1をその軸を中心
として回転させながらフォトレジスト層２3に格子状の
光学パターンを結像してフォトレジスト層２3の全周に
わたって格子状の光学パターンを露光し、フォトレジス
ト層２3を現像して金属膜２2の周面にフォトレジスト層
２3を格子状の光学パターンに従って残し、この残した
フォトレジスト層２3をマスクとして金属膜２2をエッチ
ングした後にフォトレジスト層２3を除去して金属膜２2
の有無の繰り返しによる格子パターン１を形成する。
ラストを大きくして影絵的回折格子パターンに対する検
知信号のＳ／Ｎを大きくすることを目的とする。 【構成】 この発明は、格子パターン１を周面に有しロ
ータリーエンコーダのロータとして用いられる格子円柱
を作製する格子作製方法であって、非反射性の円柱状基
体２1の表面を予め金属膜２2で被覆してその上にフォト
レジスト層２3を形成し、円柱状基体２1をその軸を中心
として回転させながらフォトレジスト層２3に格子状の
光学パターンを結像してフォトレジスト層２3の全周に
わたって格子状の光学パターンを露光し、フォトレジス
ト層２3を現像して金属膜２2の周面にフォトレジスト層
２3を格子状の光学パターンに従って残し、この残した
フォトレジスト層２3をマスクとして金属膜２2をエッチ
ングした後にフォトレジスト層２3を除去して金属膜２2
の有無の繰り返しによる格子パターン１を形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はエンコーダに用いられる
格子作製方法に関する。
格子作製方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ロータリーエンコーダは回転量や回転速
度などの検出を行うための装置として知られ、ロータリ
ーエンコーダのロータとしては円板状のものや円柱状の
ものが用いられる。従来、エンコーダを用いた移動量測
定方法としては、被検体たる単周期的構造の構造物を単
色の点状光源からの発散性の光束で照射して上記構造物
に対応する拡大的な影絵的回折格子パターンを光センサ
ーの位置に発生せしめ、上記構造物の照射光束を横切る
方向への移動に伴う上記影絵的回折格子パターンの移動
量を上記光センサーにより検知して上記構造物の移動量
を測定する移動量測定方法が特開昭６３ー４７６１６号
公報に記載されている。
度などの検出を行うための装置として知られ、ロータリ
ーエンコーダのロータとしては円板状のものや円柱状の
ものが用いられる。従来、エンコーダを用いた移動量測
定方法としては、被検体たる単周期的構造の構造物を単
色の点状光源からの発散性の光束で照射して上記構造物
に対応する拡大的な影絵的回折格子パターンを光センサ
ーの位置に発生せしめ、上記構造物の照射光束を横切る
方向への移動に伴う上記影絵的回折格子パターンの移動
量を上記光センサーにより検知して上記構造物の移動量
を測定する移動量測定方法が特開昭６３ー４７６１６号
公報に記載されている。
【０００３】また、特開昭６４ー２９７５１３号公報に
は、線状光源からの可干渉性の光を周期的構造を持つ被
検体に照射し、この被検体の照射光束を横切る方向への
移動に伴う上記被検体上の回折格子パターンに対応する
影絵的回折格子パターンの移動量を光センサーにより検
知して被検体の移動量を測定する移動量測定方法が記載
されている。
は、線状光源からの可干渉性の光を周期的構造を持つ被
検体に照射し、この被検体の照射光束を横切る方向への
移動に伴う上記被検体上の回折格子パターンに対応する
影絵的回折格子パターンの移動量を光センサーにより検
知して被検体の移動量を測定する移動量測定方法が記載
されている。
【０００４】さらに、特開平２ー５７９１３号公報に
は、被検体と同軸で一体化された円筒体に光源からの光
を照射し、上記被検体上の回折格子パターンに対応する
影絵的回折格子パターンの移動を光センサーにより検知
して円筒体の回転量を測定する回転量測定方法が記載さ
れている。
は、被検体と同軸で一体化された円筒体に光源からの光
を照射し、上記被検体上の回折格子パターンに対応する
影絵的回折格子パターンの移動を光センサーにより検知
して円筒体の回転量を測定する回転量測定方法が記載さ
れている。
【０００５】上記特開平２ー５７９１３号公報記載の回
転量測定方法は上記特開昭６３ー４７６１６号公報記載
の移動量測定方法や上記特開昭６４ー２９７５１３号公
報記載の移動量測定方法を利用したものであり、被検体
に形成された格子パターンを影絵的に拡大して影絵的回
折格子パターンを発生させるので、格子パターンの格子
ピッチが極めて細かくてもロータの回転に伴う格子パタ
ーンの移動を光学的に容易に、且つ確実に検知できる。
転量測定方法は上記特開昭６３ー４７６１６号公報記載
の移動量測定方法や上記特開昭６４ー２９７５１３号公
報記載の移動量測定方法を利用したものであり、被検体
に形成された格子パターンを影絵的に拡大して影絵的回
折格子パターンを発生させるので、格子パターンの格子
ピッチが極めて細かくてもロータの回転に伴う格子パタ
ーンの移動を光学的に容易に、且つ確実に検知できる。
【０００６】ロータリーエンコーダのロータを作製する
方法としては、マグネティック・リソグラフィーを利用
する方法や、フォトエッチングによる方法がある。
前者は、円柱体の円周面に磁性膜を形成し、この磁性
膜に磁気ヘッドで格子状の磁化パターンを書き込んだ後
にその上に磁性コロイド流体を塗布してコロイド粒子に
より格子パターンに対応する凹凸を形成し、更にその上
に金属反射膜を設ける方法である。
方法としては、マグネティック・リソグラフィーを利用
する方法や、フォトエッチングによる方法がある。
前者は、円柱体の円周面に磁性膜を形成し、この磁性
膜に磁気ヘッドで格子状の磁化パターンを書き込んだ後
にその上に磁性コロイド流体を塗布してコロイド粒子に
より格子パターンに対応する凹凸を形成し、更にその上
に金属反射膜を設ける方法である。
【０００７】後者は、円柱体の表面にフォトレジスト
層を形成してこのフォトレジスト層に格子パターンの光
学像を露光した後に、フォトレジスト層を現像して格子
パターンに従う部分を残し、そのフォトレジスト層をマ
スクとして円柱体の表面をエッチングしてマスクに従う
凹凸を形成してからフォトレジスト層のマスクを除去す
る方法である。
層を形成してこのフォトレジスト層に格子パターンの光
学像を露光した後に、フォトレジスト層を現像して格子
パターンに従う部分を残し、そのフォトレジスト層をマ
スクとして円柱体の表面をエッチングしてマスクに従う
凹凸を形成してからフォトレジスト層のマスクを除去す
る方法である。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記方法，では、
円柱体の格子パターンにおける凸部と凹部との光反射率
が等しくなるので、ロータの格子パターンにより発生さ
せる影絵的回折格子パターンのコントラストがあまり大
きくならない。このため、光センサーからの検知信号は
振幅が低くなってＳ／Ｎの小さい検知信号になる。
円柱体の格子パターンにおける凸部と凹部との光反射率
が等しくなるので、ロータの格子パターンにより発生さ
せる影絵的回折格子パターンのコントラストがあまり大
きくならない。このため、光センサーからの検知信号は
振幅が低くなってＳ／Ｎの小さい検知信号になる。
【０００９】本発明は上記欠点を改善し、影絵的回折格
子パターンのコントラストを大きくして影絵的回折格子
パターンに対する検知信号のＳ／Ｎを大きくすることが
できる格子作製方法を提供することを目的とする。
子パターンのコントラストを大きくして影絵的回折格子
パターンに対する検知信号のＳ／Ｎを大きくすることが
できる格子作製方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１記載の発明は、格子パターンを周面に有し
ロータリーエンコーダのロータとして用いられる格子円
柱を作製する格子作製方法であって、非反射性の円柱状
基体の表面を予め金属膜で被覆してその上にフォトレジ
スト層を形成し、上記円柱状基体をその軸を中心として
回転させながら上記フォトレジスト層に格子状の光学パ
ターンを結像して上記フォトレジスト層の全周にわたっ
て格子状の光学パターンを露光し、上記フォトレジスト
層を現像して上記金属膜の周面に上記フォトレジスト層
を上記格子状の光学パターンに従って残し、この残した
フォトレジスト層をマスクとして上記金属膜をエッチン
グした後に上記フォトレジスト層を除去して上記金属膜
の有無の繰り返しによる格子パターンを形成し、請求項
２記載の発明は、格子パターンを周面に有しエンコーダ
の直線形格子として用いられる直線形格子を作製する格
子作製方法であって、非反射性の直線状基体の表面を予
め金属膜で被覆してその上にフォトレジスト層を形成
し、上記フォトレジスト層に格子状の光学パターンを結
像して上記フォトレジスト層の全体にわたって格子状の
光学パターンを露光し、上記フォトレジスト層を現像し
て上記金属膜の周面に上記フォトレジスト層を上記格子
状の光学パターンに従って残し、この残したフォトレジ
スト層をマスクとして上記金属膜をエッチングした後に
上記フォトレジスト層を除去して上記金属膜の有無の繰
り返しによる格子パターンを形成する。
め、請求項１記載の発明は、格子パターンを周面に有し
ロータリーエンコーダのロータとして用いられる格子円
柱を作製する格子作製方法であって、非反射性の円柱状
基体の表面を予め金属膜で被覆してその上にフォトレジ
スト層を形成し、上記円柱状基体をその軸を中心として
回転させながら上記フォトレジスト層に格子状の光学パ
ターンを結像して上記フォトレジスト層の全周にわたっ
て格子状の光学パターンを露光し、上記フォトレジスト
層を現像して上記金属膜の周面に上記フォトレジスト層
を上記格子状の光学パターンに従って残し、この残した
フォトレジスト層をマスクとして上記金属膜をエッチン
グした後に上記フォトレジスト層を除去して上記金属膜
の有無の繰り返しによる格子パターンを形成し、請求項
２記載の発明は、格子パターンを周面に有しエンコーダ
の直線形格子として用いられる直線形格子を作製する格
子作製方法であって、非反射性の直線状基体の表面を予
め金属膜で被覆してその上にフォトレジスト層を形成
し、上記フォトレジスト層に格子状の光学パターンを結
像して上記フォトレジスト層の全体にわたって格子状の
光学パターンを露光し、上記フォトレジスト層を現像し
て上記金属膜の周面に上記フォトレジスト層を上記格子
状の光学パターンに従って残し、この残したフォトレジ
スト層をマスクとして上記金属膜をエッチングした後に
上記フォトレジスト層を除去して上記金属膜の有無の繰
り返しによる格子パターンを形成する。
【００１１】
【実施例】図２〜図４は光学式ロータリーエンコーダの
一例を示す。このロータリーエンコーダでは、被検体は
周期的構造物である回折格子パターン１を円柱体の周面
に設けた格子円柱からなるロータ２である。この格子円
柱２は回転軸２ａが駆動機構により回転駆動され、点状
光源（若しくは線状光源）３からの可干渉性の光束によ
り回折格子パターン１が照射されて回折格子パターン１
に対応する拡大的な影絵的回折格子パターン１ａが発生
する。この影絵的回折格子パターン１ａは固定スリット
板４のアパーチャを通して光電変換素子からなる光セン
サー５に結像され、回折格子パターン１の光源３による
照射光束を横切る方向への回転に伴う影絵的回折格子パ
ターンの移動を光センサー５により検知して格子円柱２
の回転量を測定する。ここに、点状光源３は半導体レー
ザや発光ダイオード等を用いることができるが、図４に
示すように半導体レーザ３ａを用いることが好ましい。
このロータリーエンコーダでは被検体が格子円柱２であ
り、この格子円柱２上の回折格子パターン１が光センサ
ー５による検知位置まで連続した拡大的影絵的回折格子
パターンとして投影されるので、被検体の移動量測定が
容易になる。
一例を示す。このロータリーエンコーダでは、被検体は
周期的構造物である回折格子パターン１を円柱体の周面
に設けた格子円柱からなるロータ２である。この格子円
柱２は回転軸２ａが駆動機構により回転駆動され、点状
光源（若しくは線状光源）３からの可干渉性の光束によ
り回折格子パターン１が照射されて回折格子パターン１
に対応する拡大的な影絵的回折格子パターン１ａが発生
する。この影絵的回折格子パターン１ａは固定スリット
板４のアパーチャを通して光電変換素子からなる光セン
サー５に結像され、回折格子パターン１の光源３による
照射光束を横切る方向への回転に伴う影絵的回折格子パ
ターンの移動を光センサー５により検知して格子円柱２
の回転量を測定する。ここに、点状光源３は半導体レー
ザや発光ダイオード等を用いることができるが、図４に
示すように半導体レーザ３ａを用いることが好ましい。
このロータリーエンコーダでは被検体が格子円柱２であ
り、この格子円柱２上の回折格子パターン１が光センサ
ー５による検知位置まで連続した拡大的影絵的回折格子
パターンとして投影されるので、被検体の移動量測定が
容易になる。
【００１２】図１は本発明の一実施例を説明するための
図である。この実施例は上記ロータリーエンコーダのロ
ータとして用いられる回折格子パターン１を周面に有す
る格子円柱２を作成する方法であり、図１（ａ）に示す
ように光を反射しない非反射性を有する円柱状基体２1
の表面を全周にわたって予め金属膜２2で被覆し、その
上に全面的にフォトレジスト層２3をディッピング法等
により形成する。金属膜２2の材料としては、一般にフ
ォトエッチング材料として用いられるものが良く、特に
クロムが好ましい。次に、このフォトレジスト層２3の
上に所望の格子パターンを露光装置により結像し、円柱
状基体２1をその回転軸を中心にして駆動機構により回
転させながらフォトレジスト層２3の全周にわたって格
子パターンを露光する。
図である。この実施例は上記ロータリーエンコーダのロ
ータとして用いられる回折格子パターン１を周面に有す
る格子円柱２を作成する方法であり、図１（ａ）に示す
ように光を反射しない非反射性を有する円柱状基体２1
の表面を全周にわたって予め金属膜２2で被覆し、その
上に全面的にフォトレジスト層２3をディッピング法等
により形成する。金属膜２2の材料としては、一般にフ
ォトエッチング材料として用いられるものが良く、特に
クロムが好ましい。次に、このフォトレジスト層２3の
上に所望の格子パターンを露光装置により結像し、円柱
状基体２1をその回転軸を中心にして駆動機構により回
転させながらフォトレジスト層２3の全周にわたって格
子パターンを露光する。
【００１３】具体的には例えば図５，図６に示すように
レーザ６からの光を光変調器７により変調して集光レン
ズ８を通すことにより一方向に拡げた後に、ポリゴミラ
ー９により偏向してフォトレジスト層２3の表面に結像
し、格子パターンの格子ピッチに従う周期で光変調器７
を駆動し、かつ、格子パターンの格子ピッチに従う速度
でポリゴミラー９をモータにより回転させてフォトレジ
スト層２3の全周にわたって格子パターンを露光する。
この格子パターンの格子ピッチとしては例えば１〜数μ
ｍとする。
レーザ６からの光を光変調器７により変調して集光レン
ズ８を通すことにより一方向に拡げた後に、ポリゴミラ
ー９により偏向してフォトレジスト層２3の表面に結像
し、格子パターンの格子ピッチに従う周期で光変調器７
を駆動し、かつ、格子パターンの格子ピッチに従う速度
でポリゴミラー９をモータにより回転させてフォトレジ
スト層２3の全周にわたって格子パターンを露光する。
この格子パターンの格子ピッチとしては例えば１〜数μ
ｍとする。
【００１４】次に、フォトレジスト層２3を現像装置に
より現像してフォトレジスト層２3を図１（ｂ）に示す
ように上記格子パターンに従って残し、その残したフォ
トレジスト層２3をマスクとして円柱状基体２1上の金属
膜２2をウェットエッチングにより図１（ｃ）に示すよ
うにエッチングした後に、フォトレジスト層２3を図１
（ｄ）に示すように全部除去して金属膜２2の表面を露
出させ、光反射性を有する金属膜２2と円柱状基体２1上
の露出した光非反射性を有する部分との繰り返しによる
回折格子パターン１を形成して格子円柱２を作製する。
より現像してフォトレジスト層２3を図１（ｂ）に示す
ように上記格子パターンに従って残し、その残したフォ
トレジスト層２3をマスクとして円柱状基体２1上の金属
膜２2をウェットエッチングにより図１（ｃ）に示すよ
うにエッチングした後に、フォトレジスト層２3を図１
（ｄ）に示すように全部除去して金属膜２2の表面を露
出させ、光反射性を有する金属膜２2と円柱状基体２1上
の露出した光非反射性を有する部分との繰り返しによる
回折格子パターン１を形成して格子円柱２を作製する。
【００１５】この回折格子パターン１を周面に有する円
柱状基体２1はロータリーエンコーダのロータとして用
いられ、図２〜図４に示すように点状光源（若しくは線
状光源）３からの可干渉性の光束により回折格子パター
ン１が照射されると、円柱状基体２1の露出した不必要
な部分での反射光が無くなり、金属膜２2で反射した光
のみが回折して折格子パターン１が光センサー５による
検知位置まで連続したコントラストの大きい拡大的影絵
的回折格子パターンとして鮮明に投影される。この拡大
的影絵的回折格子パターンが光センサー５により検知さ
れ、光センサー５からの検知信号は極めてＳ／Ｎの大き
い検知信号となって振幅も大きくなる。
柱状基体２1はロータリーエンコーダのロータとして用
いられ、図２〜図４に示すように点状光源（若しくは線
状光源）３からの可干渉性の光束により回折格子パター
ン１が照射されると、円柱状基体２1の露出した不必要
な部分での反射光が無くなり、金属膜２2で反射した光
のみが回折して折格子パターン１が光センサー５による
検知位置まで連続したコントラストの大きい拡大的影絵
的回折格子パターンとして鮮明に投影される。この拡大
的影絵的回折格子パターンが光センサー５により検知さ
れ、光センサー５からの検知信号は極めてＳ／Ｎの大き
い検知信号となって振幅も大きくなる。
【００１６】本発明の他の実施例では、上記実施例にお
いて、露光方法として次のような方法を用いている。す
なわち、図７に示すようにランプ１０により所望の格子
パターンを有するマスク１１を照射してこのマスク１１
からの格子パターンの光学像をレンズからなる結像光学
系１２によりフォトレジスト層２3の表面に結像させ
る。このとき、結像光学系１２とフォトレジスト層２3
との間にスリツト板１３を設けて結像光学系１２からの
光学像をスリツト板１３のアパーチャを通してフォトレ
ジスト層２3の表面に結像させることにより、フォトレ
ジスト層２3の露光領域を制限し、フォトレジスト層２3
の表面が曲率を持つことによる光学像のぼけを防ぐ。ま
た、マスク１１を駆動機構によりＶｍの速度でフォトレ
ジスト層２3の回転方向と平行な方向へ移動させながら
円柱状基体２1を駆動機構により周面角速度Ｖｏで回転
させてフォトレジスト層２3の全周にわたって格子パタ
ーンを露光する。ここに、Ｖｏは結像光学系１２の結像
倍率をＭとすればＶｏ＝Ｍ・Ｖｍである。フォトレジス
ト層２3は上記実施例と同様に現像装置により現像して
図８に示すように上記格子パターンに従って残す。
いて、露光方法として次のような方法を用いている。す
なわち、図７に示すようにランプ１０により所望の格子
パターンを有するマスク１１を照射してこのマスク１１
からの格子パターンの光学像をレンズからなる結像光学
系１２によりフォトレジスト層２3の表面に結像させ
る。このとき、結像光学系１２とフォトレジスト層２3
との間にスリツト板１３を設けて結像光学系１２からの
光学像をスリツト板１３のアパーチャを通してフォトレ
ジスト層２3の表面に結像させることにより、フォトレ
ジスト層２3の露光領域を制限し、フォトレジスト層２3
の表面が曲率を持つことによる光学像のぼけを防ぐ。ま
た、マスク１１を駆動機構によりＶｍの速度でフォトレ
ジスト層２3の回転方向と平行な方向へ移動させながら
円柱状基体２1を駆動機構により周面角速度Ｖｏで回転
させてフォトレジスト層２3の全周にわたって格子パタ
ーンを露光する。ここに、Ｖｏは結像光学系１２の結像
倍率をＭとすればＶｏ＝Ｍ・Ｖｍである。フォトレジス
ト層２3は上記実施例と同様に現像装置により現像して
図８に示すように上記格子パターンに従って残す。
【００１７】なお、本発明は、格子パターンを周面に有
しエンコーダの直線形格子として用いられる直線形格子
を作製する格子作製方法にも上記実施例と同様に適用す
ることができる。すなわち、非反射性を有する直線状基
体の表面を予め金属膜で被覆してその上にフォトレジス
ト層を形成し、上記フォトレジスト層に格子状の光学パ
ターンを結像して上記フォトレジスト層の全体にわたっ
て格子状の光学パターンを露光し、上記フォトレジスト
層を現像して上記金属膜の周面に上記フォトレジスト層
を上記格子状の光学パターンに従って残し、この残した
フォトレジスト層をマスクとして上記金属膜をエッチン
グした後に上記フォトレジスト層を除去して上記金属膜
の有無の繰り返しによる格子パターンを形成するように
してもよい。
しエンコーダの直線形格子として用いられる直線形格子
を作製する格子作製方法にも上記実施例と同様に適用す
ることができる。すなわち、非反射性を有する直線状基
体の表面を予め金属膜で被覆してその上にフォトレジス
ト層を形成し、上記フォトレジスト層に格子状の光学パ
ターンを結像して上記フォトレジスト層の全体にわたっ
て格子状の光学パターンを露光し、上記フォトレジスト
層を現像して上記金属膜の周面に上記フォトレジスト層
を上記格子状の光学パターンに従って残し、この残した
フォトレジスト層をマスクとして上記金属膜をエッチン
グした後に上記フォトレジスト層を除去して上記金属膜
の有無の繰り返しによる格子パターンを形成するように
してもよい。
【００１８】
【発明の効果】以上のように請求項１記載の発明によれ
ば、格子パターンを周面に有しロータリーエンコーダの
ロータとして用いられる格子円柱を作製する格子作製方
法であって、非反射性の円柱状基体の表面を予め金属膜
で被覆してその上にフォトレジスト層を形成し、上記円
柱状基体をその軸を中心として回転させながら上記フォ
トレジスト層に格子状の光学パターンを結像して上記フ
ォトレジスト層の全周にわたって格子状の光学パターン
を露光し、上記フォトレジスト層を現像して上記金属膜
の周面に上記フォトレジスト層を上記格子状の光学パタ
ーンに従って残し、この残したフォトレジスト層をマス
クとして上記金属膜をエッチングした後に上記フォトレ
ジスト層を除去して上記金属膜の有無の繰り返しによる
格子パターンを形成するので、影絵的回折格子パターン
のコントラストを大きくして影絵的回折格子パターンに
対する検知信号のＳ／Ｎを大きくすることができる。
ば、格子パターンを周面に有しロータリーエンコーダの
ロータとして用いられる格子円柱を作製する格子作製方
法であって、非反射性の円柱状基体の表面を予め金属膜
で被覆してその上にフォトレジスト層を形成し、上記円
柱状基体をその軸を中心として回転させながら上記フォ
トレジスト層に格子状の光学パターンを結像して上記フ
ォトレジスト層の全周にわたって格子状の光学パターン
を露光し、上記フォトレジスト層を現像して上記金属膜
の周面に上記フォトレジスト層を上記格子状の光学パタ
ーンに従って残し、この残したフォトレジスト層をマス
クとして上記金属膜をエッチングした後に上記フォトレ
ジスト層を除去して上記金属膜の有無の繰り返しによる
格子パターンを形成するので、影絵的回折格子パターン
のコントラストを大きくして影絵的回折格子パターンに
対する検知信号のＳ／Ｎを大きくすることができる。
【００１９】また、請求項２記載の発明によれば、格子
パターンを周面に有しエンコーダの直線形格子として用
いられる直線形格子を作製する格子作製方法であって、
非反射性の直線状基体の表面を予め金属膜で被覆してそ
の上にフォトレジスト層を形成し、上記フォトレジスト
層に格子状の光学パターンを結像して上記フォトレジス
ト層の全体にわたって格子状の光学パターンを露光し、
上記フォトレジスト層を現像して上記金属膜の周面に上
記フォトレジスト層を上記格子状の光学パターンに従っ
て残し、この残したフォトレジスト層をマスクとして上
記金属膜をエッチングした後に上記フォトレジスト層を
除去して上記金属膜の有無の繰り返しによる格子パター
ンを形成するので、影絵的回折格子パターンのコントラ
ストを大きくして影絵的回折格子パターンに対する検知
信号のＳ／Ｎを大きくすることができる。
パターンを周面に有しエンコーダの直線形格子として用
いられる直線形格子を作製する格子作製方法であって、
非反射性の直線状基体の表面を予め金属膜で被覆してそ
の上にフォトレジスト層を形成し、上記フォトレジスト
層に格子状の光学パターンを結像して上記フォトレジス
ト層の全体にわたって格子状の光学パターンを露光し、
上記フォトレジスト層を現像して上記金属膜の周面に上
記フォトレジスト層を上記格子状の光学パターンに従っ
て残し、この残したフォトレジスト層をマスクとして上
記金属膜をエッチングした後に上記フォトレジスト層を
除去して上記金属膜の有無の繰り返しによる格子パター
ンを形成するので、影絵的回折格子パターンのコントラ
ストを大きくして影絵的回折格子パターンに対する検知
信号のＳ／Ｎを大きくすることができる。
【図１】本発明の一実施例を説明するための図である。
【図２】光学式ロータリーエンコーダの一例を示す斜視
図である。
図である。
【図３】半導体レーザを用いたロータリーエンコーダを
示す側面図である。
示す側面図である。
【図４】上記ロータリーエンコーダの拡大的影絵的回折
格子パターン発生状態を示す側面図である。
格子パターン発生状態を示す側面図である。
【図５】上記実施例の露光で用いた装置を示す側面図で
ある。
ある。
【図６】同装置の正面図である。
【図７】本発明の他の実施例の露光で用いた装置を示す
側面図である。
側面図である。
【図８】同実施例を説明するための図である。
２1 円柱状基体 ２2 金属膜 ２3 フォトレジスト層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 町田 晴彦 東京都新宿区中落合４丁目10番７号 (72)発明者 山口 友行 東京都大田区中馬込１丁目３番６号・株式 会社リコー内
Claims (2)
- 【請求項１】格子パターンを周面に有しロータリーエン
コーダのロータとして用いられる格子円柱を製成する格
子作製方法であって、非反射性の円柱状基体の表面を予
め金属膜で被覆してその上にフォトレジスト層を形成
し、上記円柱状基体をその軸を中心として回転させなが
ら上記フォトレジスト層に格子状の光学パターンを結像
して上記フォトレジスト層の全周にわたって格子状の光
学パターンを露光し、上記フォトレジスト層を現像して
上記金属膜の周面に上記フォトレジスト層を上記格子状
の光学パターンに従って残し、この残したフォトレジス
ト層をマスクとして上記金属膜をエッチングした後に上
記フォトレジスト層を除去して上記金属膜の有無の繰り
返しによる格子パターンを形成することを特徴とする格
子作製方法。 - 【請求項２】格子パターンを周面に有しエンコーダの直
線形格子として用いられる直線形格子を作製する格子作
製方法であって、非反射性の直線状基体の表面を予め金
属膜で被覆してその上にフォトレジスト層を形成し、上
記フォトレジスト層に格子状の光学パターンを結像して
上記フォトレジスト層の全体にわたって格子状の光学パ
ターンを露光し、上記フォトレジスト層を現像して上記
金属膜の周面に上記フォトレジスト層を上記格子状の光
学パターンに従って残し、この残したフォトレジスト層
をマスクとして上記金属膜をエッチングした後に上記フ
ォトレジスト層を除去して上記金属膜の有無の繰り返し
による格子パターンを形成することを特徴とする格子作
製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11590092A JPH05312594A (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | 格子作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11590092A JPH05312594A (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | 格子作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05312594A true JPH05312594A (ja) | 1993-11-22 |
Family
ID=14673988
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11590092A Pending JPH05312594A (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | 格子作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05312594A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005036216A3 (en) * | 2003-09-11 | 2005-07-28 | Bright View Technologies Inc | Systems and methods for fabricating optical microstructures using a cylindrical platform and a rastered radiation beam |
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| US7192692B2 (en) | 2003-09-11 | 2007-03-20 | Bright View Technologies, Inc. | Methods for fabricating microstructures by imaging a radiation sensitive layer sandwiched between outer layers |
| US7867695B2 (en) | 2003-09-11 | 2011-01-11 | Bright View Technologies Corporation | Methods for mastering microstructures through a substrate using negative photoresist |
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| US20130052592A1 (en) * | 2011-08-23 | 2013-02-28 | Universite Jean-Monnet | Fabrication method of cylindrical gratings |
-
1992
- 1992-05-08 JP JP11590092A patent/JPH05312594A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US8586287B2 (en) * | 2011-08-23 | 2013-11-19 | Sick Stegmann Gmbh | Fabrication method of cylindrical gratings |
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