KR100839774B1 - 나노 패턴 형성 방법 및 이에 의하여 형성된 패턴을 갖는롤 기판 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (18)
- a) 롤 형상의 기판 상에 감광성 수지층을 형성하는 단계,b) 상기 감광성 수지층이 형성된 롤 형상의 기판을 회전시키면서 간섭광의 광원과 상기 롤 형상의 기판과의 상기 기판의 축방향으로의 상대운동을 통하여, 간섭광에 의하여 형성되는 패턴에 따라 상기 감광성 수지층을 선택적으로 노광하는 단계, 및c) 상기 선택적으로 노광된 감광성 수지층을 현상하여 감광성 수지층에 패턴을 형성하는 단계,를 포함하는 패턴 형성 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 방법은 d) 상기 패턴화된 감광성 수지층을 이용하여 상기 롤 형상의 기판을 선택적으로 식각하는 단계를 추가로 포함하는 것인 패턴 형성 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 방법은 e) 감광성 수지층을 제거하는 단계를 추가로 포함하는 것인 패턴 형성 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 방법은 d') 상기 패턴화된 감광성 수지층에 도금을 하고, 형성된 도금부를 상기 감광성 수지층을 갖는 롤 형상의 기판으로부터 분리하여 금형을 제조하는 단계를 추가로 포함하는 것인 패턴 형성 방법.
- 제4항에 있어서, 상기 방법은 e') 상기 금형을 이용하여 나노 패턴을 전사하는 단계를 추가로 포함하는 것인 패턴 형성 방법.
- 제1항의 방법에 의하여 나노미터 영역 이하의 간격을 갖는 감광성 수지 패턴이 가장 긴 너비가 12 인치 보다 큰 영역에 연속적으로 형성되어 있는 롤 형상의 기판.
- 제6항에 있어서, 상기 감광성 수지 패턴이 형성된 영역은 가장 긴 너비가 20 인치 이상인 것인 롤 형상의 기판.
- 제3항의 방법에 의하여 나노미터 영역 이하의 간격을 갖는 패턴이 가장 긴 너비가 12 인치 보다 큰 영역에 연속적으로 형성되어 있는 롤 형상의 기판.
- 제8항에 있어서, 상기 패턴이 형성된 영역은 가장 긴 너비가 20인치 이상인 것인 롤 형상의 기판.
- 제4항의 방법에 의하여 나노미터 영역 이하의 간격을 갖는 패턴이 가장 긴 너비가 12 인치 보다 큰 영역에 연속적으로 형성되어 있는 금형.
- 제10항에 있어서, 상기 패턴이 형성된 영역은 가장 긴 너비가 20인치 이상인 것인 금형.
- 제1항 내지 제3항 및 제5항 중 어느 하나의 방법에 의하여 가장 긴 너비가 12 인치 보다 큰 영역에 형성된 나노미터 영역 이하의 간격을 갖는 패턴을 갖는 전자 소자.
- 제12항에 있어서, 상기 전자 소자는 빔 스플리팅 편광소자(Beam Splitting Polarizer)인 것인 전자 소자.
- 제1항 내지 제3항 및 제5항 중 어느 하나의 방법에 의하여 가장 긴 너비가 12 인치 보다 큰 영역에 형성된 나노미터 영역 이하의 간격을 갖는 패턴을 갖는 전자 장치.
- 제14항에 있어서, 상기 전자 장치는 디스플레이 장치인 것인 전자 장치.
- a) 롤 형상의 기판 상에 감광성 수지층을 형성하는 단계,b) 상기 감광성 수지층이 형성된 롤 형상의 기판을 회전시키면서 간섭광의 광원과 상기 롤 형상의 기판과의 상기 기판의 축방향으로의 상대이동을 통하여, 간 섭광에 의하여 형성되는 패턴에 따라 상기 감광성 수지층을 선택적으로 노광하는 단계,c) 상기 선택적으로 노광된 감광성 수지층을 현상하여 감광성 수지층에 패턴을 형성하는 단계, 및d'') 감광성 수지 패턴 상에 금속을 증착시키는 단계를 포함하는 롤 형상의 스템프의 제조 방법.
- 제16항에 있어서, 상기 d'') 단계의 금속은 Cr 또는 Cr 합금인 것인 롤 형상의 스템프의 제조 방법.
- 제16항의 방법에 의하여 제조된 것으로서, 가장 긴 너비가 12 인치 보다 큰 영역에 나노미터 영역 이하의 간격을 갖는 패턴을 갖는 롤 형상의 스템프.
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JPH076945A (ja) * | 1993-03-08 | 1995-01-10 | Stephen C Jacobsen | 非平面露光ビームリトグラフィーを用いて薄膜半導体デバイスを作製する方法及び装置 |
WO2005035435A2 (en) | 2003-09-11 | 2005-04-21 | Bright View Technologies, Inc. | Systems and methods for mastering microstructures through a substrate using negative photoresist and microstructure masters so produced |
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- 2006-04-11 KR KR1020060032655A patent/KR100839774B1/ko active IP Right Grant
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