KR101041923B1 - 인쇄판용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 수지 인쇄판 - Google Patents
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Abstract
Description
구분 | 항목 |
실시예 1 | 실시예 2 | 실시예 3 | 실시예 4 | 실시예 5 | 실시예 6 | |
구 성 성 분 |
우레탄 올리고머 아크릴레이트 중합체 | 1-1 | 4.5 | 4.5 | 4.5 | - | - | - |
1-2 | - | - | - | 4.5 | 4.5 | 4.5 | ||
열가소성 폴리우레탄 |
2-1 | 17 | 16 | 15 | - | - | - | |
2-2 | - | - | - | 17 | 16 | 15 | ||
2-3 | - | - | - | - | - | - | ||
우레탄 |
3-1 | 63.8 | 64.8 | 65.8 | ||||
3-2 | 63.8 | 64.8 | 65.8 | |||||
3-3 | ||||||||
광중합모노머 |
4-1 | 13 | - | - | 13 | - | - | |
4-2 | - | 13 | - | - | 13 | - | ||
4-3 | - | - | 13 | - | - | 13 | ||
광중합개시제 |
5-1 | 1.5 | - | - | 1.5 | 0.75 | - | |
5-2 | - | 1.5 | - | - | 0.75 | - | ||
5-3 | - | - | 1.5 | - | - | 1.5 | ||
레벨링제 | 6-1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | - | |
소포제 | 6-2 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.2 | |
성분합계 | 100 | 100 | 100 | 100 | 100 | 100 |
구분 | 항목 | 비교예 1 | 비교예 2 | 비교예 3 | |
구 성 성 분 |
우레탄 아크릴레이트 올리고머 중합체 |
1-1 | - | - | - |
1-2 | 4.5 | 4.5 | 4.5 | ||
열가소성 폴리우레탄 |
2-1 | 16 | - | - | |
2-2 | - | 16 | - | ||
2-3 | - | - | 16 | ||
우레탄 |
3-1 | ||||
3-2 | |||||
3-3 | |||||
광중합모노머 |
4-1 | 13 | - | - | |
4-2 | - | 13 | - | ||
4-3 | - | - | 13 | ||
광중합개시제 |
5-1 | 1.5 | - | - | |
5-2 | - | 1.5 | - | ||
5-3 | - | - | 1.5 | ||
레벨링제 | 6-1 | 0.1 | 0.1 | - | |
소포제 | 6-2 | 0.1 | 0.1 | 0.2 | |
성분합계 | 100 | 100 | 100 |
구분 | 항목 | 실시예 1 |
실시예 2 |
실시예 3 |
실시예 4 |
실시예 5 |
실시예 6 |
비교예 1 |
비교예 2 |
비교예 3 |
물 성 |
점도 (25℃, CPS) |
500 |
1000 |
1010 |
1300 |
1000 |
1050 |
950 |
1440 |
1000 |
유리전이온도 | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | |
표면 평활성 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | |
부착성 | ○ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | |
부식성 | ○ | ◎ | ◎ | △ | ◎ | ○ | △ | △ | △ | |
인쇄성 | ○ | ◎ | ◎ | ○ | ◎ | ○ | × | × | × |
Claims (11)
- 우레탄 아크릴레이트 올리고머 중합체 4~10중량부; 유리전이온도 35℃이상인 열가소성 폴리우레탄 10~20 중량부; 우레탄 중합체 60~70 중량부; 하나 이상의 아크로일 또는 메타아크로일기를 갖는 광중합성 모노머 10~20 중량부; 아세토페논 또는 벤질케탈 화합물 중에서 선택되는 광중합 개시제 1~5 중량부; 불소화합물계 레벨링제 0.1~0.4 중량부; 및 실리콘계 소포제 0.1~0.4 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄판용 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 우레탄 아크릴레이트 올리고머 중합체는 폴리에텔렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 폴리테트라메틸렌 글리콜, 폴리헥사메틸렌 글리콜, 폴리헵타메틸렌 글리콜, 폴리데카메틸렌 글리콜로 개환공중합화한 폴리에테르 디올로 이루어진 군에서 선택되는 폴리에테르 폴리올 화합물과 2,4 -톨일렌 디이소시아네이트, 2,6-톨일렌 디이소시아네이트, 1,3-크실일렌 디이소시아네이트, 1,4-크실렌 디이소시아네이트로 이루어진 군에서 선택되는 폴리이소시아네이트 화합물의 올리고머 중합체인 것을 특징으로 하는 인쇄판용 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 우레탄 중합체는 수산기가 56인 부탄디올 아디핀산 폴리에스테르 폴리올, 네오펜틸글리콜 아디핀산 포리에스테르 폴리올, 부탄디올, 트 리메틸올프로판, 수산기가 56인 부틴디올 에틸렌글리콜 아디핀산의 폴리에스테르 폴리올, 수산기가 28인 부탄디올 아디핀산의 폴리에스테르폴리올, 헥산디올, 에틸렌글리콜, 수산기가 56인 헥시디올 트리메틸올프로판 아디핀산의 폴리에스테르폴리올, 폴리테트라메틸렌 에테르글리콜, 부탄디올 에틸렌글리콜 디에틸렌글리콜의 폴리에스테르 폴리올로 이루어진 군에서 선택되는 화합물과 톨일렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트로 이루어진 군에서 선택되는 화합물의 중합체인 것을 특징으로 하는 인쇄판용 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서, 광중합성 모노머는 하이드록시에틸 아크릴레이트, 히드록시에틸 메타아크릴레이트, 1,6-헥산디올아크릴레이트, 트리프로필렌 글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 트리아크릴레이트 및 디펜타에리쓰리톨 헥사아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 인쇄판용 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 광중합 개시제는 1-페닐 2-하이드록시 2-메틸 프로판 1-원, 1-하이드록시 사이클로 헥실 페닐 케톤 또는 1-하이드록시 사이클로 헥실 페닐 케톤 중에서 하나 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 인쇄판용 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 불소화합물계 레벨링제는 플루오로지방산 고분자 에스테르인 것을 특징으로 하는 인쇄판용 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 실리콘계 소포제는 폴리비닐에테르/실리콘 소포제인 것을 특징으로 하는 인쇄판용 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서, 감광성 수지 조성물은 경화시 유리전이온도가 35℃ 이상이고, 점도는 25℃에서 70,000~100,000cps인 것을 특징으로 하는 인쇄판용 감광성 수지 조성물.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따른 감광성 수지 조성물이 코팅된 것을 특징으로 하는 감광성 인쇄 수지판.
- 제9항에 있어서, 상기 수지 조성물 코팅층 상부에 감광성 수지 보호용 필름을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 인쇄 수지판.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따른 인쇄용 감광성 수지 조성물을 경화시켜 제조된 것을 특징으로 하는 감광성 수지 인쇄판.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080129748A KR101041923B1 (ko) | 2008-12-19 | 2008-12-19 | 인쇄판용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 수지 인쇄판 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080129748A KR101041923B1 (ko) | 2008-12-19 | 2008-12-19 | 인쇄판용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 수지 인쇄판 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20100071137A KR20100071137A (ko) | 2010-06-29 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1020080129748A KR101041923B1 (ko) | 2008-12-19 | 2008-12-19 | 인쇄판용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 수지 인쇄판 |
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---|---|
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101584895B1 (ko) * | 2013-09-30 | 2016-01-13 | 주식회사 엘지화학 | 편광판 |
WO2015046720A1 (ko) * | 2013-09-30 | 2015-04-02 | 주식회사 엘지화학 | 편광판 |
KR101659819B1 (ko) * | 2014-06-02 | 2016-09-27 | 한국생산기술연구원 | 반사율이 개선된 반사편광필름 및 그를 채용한 액정디스플레이용 백라이트 유닛 |
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---|---|---|---|---|
JP2000219713A (ja) | 1999-01-29 | 2000-08-08 | Jsr Corp | 光硬化性樹脂組成物 |
KR20050083733A (ko) * | 2002-10-08 | 2005-08-26 | 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이. | 광경화성 수지 조성물 및 광학 물질 |
KR100734080B1 (ko) | 2004-12-28 | 2007-07-02 | 건설화학공업주식회사 | 디스플레이용 광경화성 수지 조성물 |
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- 2008-12-19 KR KR1020080129748A patent/KR101041923B1/ko active IP Right Grant
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KR100734080B1 (ko) | 2004-12-28 | 2007-07-02 | 건설화학공업주식회사 | 디스플레이용 광경화성 수지 조성물 |
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KR20100071137A (ko) | 2010-06-29 |
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