KR101000822B1 - 경질의 표면들을 유지하기 위한 방법들과 툴 및 그러한툴의 제조 방법 - Google Patents

경질의 표면들을 유지하기 위한 방법들과 툴 및 그러한툴의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

석재 또는 유사 석재 물질이 포함된 경질의 표면에 대한 처리를 위한 방법이 개시된다. 상기 방법은, 연마 입자들이 결합됨으로써 구비된 유연성 있는 패드를 가지고 수행되는 상기 패드와 상기 경질의 표면 사이의 접촉면에서의 상기 표면에 대한 처리를 포함한다. 여기서 연마 입자들은 다이아몬드 입자들을 포함하며, 상기 처리는, 상기 접촉면에 실질적인 양의 결정화 보조제를 마련하지 않고 수행된다. 상기 처리는, 매일, 매주, 매달과 같이, 실질적으로 정기적으로 수행되며, 또한 상기 처리는, 투과성이며, 속이성긴, 삼차원의 짜여지지 않은, 섬유들의 웹을 포함하는 패드를 사용하여 수행된다. 상기 방법에 사용되는 툴이 또한 제공된다. 뿐만 아니라, 그러한 툴을 포함하는 바닥 표면화 기계 및 그러한 툴의 제조 방법이 제공된다. 또한, 목재, 중합체 물질, 래커, 리놀륨, 겔코트, 유리 및 자동차의 에나멜과 같은 경질의 매끄러운 표면들에 대한 처리 및 유지를 위한 방법들이 개시된다.
표면, 바닥, 연마, 유지, 처리, 폴리싱, 패드, 웹, 다이아몬드

Description

경질의 표면들을 유지하기 위한 방법들과 툴 및 그러한 툴의 제조 방법{METHODS AND TOOL FOR MAINTENANCE OF HARD SURFACES, AND A METHOD FOR MANUFACTURING SUCH A TOOL}
본 명세서는 경질의 표면들(hard surfaces)을 유지하기 위한 방법 및 툴에 관한 것이며, 여기서 경질의 표면들에는 콘크리트(cement), 테라초(terrazzo) 및 그라나이트(granite)로 이루어진 바닥 표면들 뿐만 아니라 대리석(marble) 또는 석회석(limestone)으로 이루어진 표면들이 주로 해당된다. 본 명세서는 특히, 폴리싱된 경질의 바닥 표면(polished hard floor surface)을 유지하기 위한 정기적인 사용에 적합한 방법 및 툴에 관한 것이다.
덧붙여, 본 명세서는 경질이며 매끄러운 표면들을 유지하기 위한 방법들에 관한 것이며, 여기서 경질이며 매끄러운 표면들에는 목재(wood), 리놀륨(linoleum), 래커(lacquer) 및 비닐(vinyl)로 이루어진 바닥 표면들이 주로 해당된다. 본 명세서는 특히, 바닥 표면처럼 광택 있고, 경질이며, 매끄러운 표면을 유지하기 위한 날마다의 사용에 적합한 방법들에 관한 것이다.
바닥 표면들에 대한 청소(cleaning) 또는 간단한 폴리싱(polishing)과 관련 하여 삼차원의 짜여지지 않은 웹(non-woven web) 형상의 패드(pad)를 사용하는 것이 알려진다. 이러한 패드는 원형의 캐리어 플레이트(carrier plate) 상에 분리 가능하게 설치되는 원형의 디스크 형상의 몸체로서 통상 구비된다. 캐리어 플레이트는, 바닥 표면과 평행한 평면에서 회전하도록 마련된다. 그리하여, 패드가 바닥 표면에 접촉될 때, 패드는 바닥 표면과 캐리어 플레이트 사이에서 발생하는 압력에 의해 다소 압축된다. 캐리어 플레이트는 통상적으로 모터에 의해 구동되며 캐리어 프레임(carrier frame) 상에 설치될 수 있다. 캐리어 프레임은, 사용자에 의해 누르거나 당겨지도록 배치될 수 있거나 승차 가능한 차량으로서 배열될 수 있다.
상기 패드들은 유기 물질로 이루어진 섬유들로 형성되며, 이때 유기 물질은, 예를 들어 폴리아미드(polyamide) 및/또는 폴리에스테르(polyester)일 수 있고 특히, 폴리에틸린 테레프탈레이트(polyethylene terephtalate)일 수 있다. 또한, 어떤 경우들에는, 상기 섬유들은 호두나무 섬유들 또는 코코넛 섬유들과 같은 천연 섬유들을 포함할 수 있다.
상기 패드의 섬유들은 이른바 용융 본딩(melt bonding)에 의해 상호 접촉점들에서 서로 연결되며, 용융 본딩에 의해 섬유들은 그것들의 외측부를 약간 녹게 하는 열을 받아 서로 결합하게 된다.
대안적으로 또는 추가적으로, 상기 섬유들은, 중합체 레진(polymer resin)으로 하여금 상기 패드에 스며들게 함으로써, 그것들의 상호 접촉점들에서 서로 연결될 수 있다. 이하에서, 중합체 레진을 "주 바인더(primary binder)"로 부르기로 한다.
이러한 종류의 짜여지지 않은 패드들의 제조는, 예를 들어 US-A-3,537,121, US-A-4,893,439, EP-A-0,397,374, GB-A-1,348,526 및 EP-B-0,562,919와 같은 특허공보들에 잘 개시되어 있으므로, 여기서 패드들의 제조에 대해 더 자세히 설명할 필요는 없을 것으로 여겨진다.
미국특허공보 US-A-3,537,121은 알루미늄, 플라스틱, 왁스(wax) 및 이것들에 유사한 표면들을 폴리싱하기 위한 패드들에 대하여 기술하고 있다. 또한, US-A-3,537,121는, 그러한 패드들의 제조에 대해 기술하고 있다. US-A-3,537,121에서, 연마 입자들(abrasive particles)과 혼합된 바인더는, 한 쌍의 스퀴즈 롤러(squeeze roller) 사이에 패드를 통과시키는 방식으로 적용된다. 이때, 한 쌍의 스퀴즈 롤러 중 하나는 바인더 레진과 연마 입자들로 이루어진 혼합물이 담겨진 컨테이너에 부분적으로 담겨져 있게 된다. 이후 패드는 건조 과정과 같은 처리 과정을 거치게 된다. 그리하여, US-A-3,537,121에서, 바인더 및 연마 입자들에 의해 완전히 스며들어진 패드가 제공되어진다.
미국특허공보 US-A-4,893,439는 바닥 표면들 또는 알루미늄을 폴리싱하기 위한 패드에 대해 개시하고 있다. 이러한 패드는, 유기 물질로 이루어지며, 성기고(lofty) 개방되며(open) 짜여지지 않은(non-woven) 구조로 구성되며, 연마 입자들을 섬유들에 묶는 바인더를 포함한다. US-A-4,893,439에 개시된 패드는 US-A-3,537,121에 개시된 패드보다 더 큰 기공들을 가지며, 그리하여 오물을 흡수하는 능력이 개선되었다. 그리하여 패드가 더 오래동안 사용될 수 있었다. 또한, US-A-4,893,439에 개시된 패드는 바인더 및 연마 입자들에 의해 완전히 스며들어진다.
유럽특허공보 EP-A-0,397,374는 바닥을 폴리싱하는 기계에 사용되는 패드를 개시하며, 그러한 패드 또한 바인더 및 연마 입자들에 의해 완전히 스며들어진다.
전술한 종류의 패드들은 이른바 "버니싱(burnishing)"에 종종 사용된다. 여기서 버니싱은 즉, 건조 폴리싱(dry polishing, 주로 날마다 행해짐)에 해당하며, 건조 폴리싱은 아주 경미하게 닳아진 표면들을 고속(1500-3000 rpm)으로 그리고 상대적으로 낮은 압력으로 수행되며 폴리싱된 표면(polished surface)을 회복시키기 위한 것이다. 이런 방식의 처리는 일반적으로 비닐(vinyl) 또는 대리석(marble) 재질의 바닥들에 사용된다. 이러한 목적에 적합한 패드들은 3M®사의 "3MTM 바닥 패드들(3MTM Floor Pads)"로 명명된 것으로서 입수할 수 있다. 그리고 상기 패드들은, 오랜 시간에 걸쳐 마모되어지는 테라초 또는 콘트리트와 같은 매우 경질의 바닥 표면들에 대해서는 효과가 거의 없거나 전혀 없다.
유럽특허공보 EP-B-0,562,919는 중합체 섬유들로 이루어진 짜여지지 않은 패드를 개시하며, 상기 패드는 치료가능한 플라스틱 레진 및 연마 입자들의 혼합물로 이루어진 바인더에 의해 완전히 스며들어진다. 이때, 연마 입자들의 크기는 0.1 내지 30 ㎛이다. 치료가능한 레진들의 예로, 페놀 레진(phenol resin), 아크릴 레진(acrylic resin), 멜라민 레진(melamine resin) 및 우레아 레진(urea resin)을 들 수 있다. 여러 가지의 가능한 연마 입자들 중의 하나로 다이아몬드를 들 수 있다. 하지만, EP-B-0,562,919에 따르면, 상기 공보에 개시된 패드는 대리석 바닥 표면들의 처리(treatment)에 적합하며, 결정화 화학물질들(crystallization chemicals)과 함께 사용된다. 이는 상기 바닥 표면들의 처리가 염(salt)을 형성하는 산(acid)를 포함하는 액체를 수반하여 수행됨을 의미한다.
EP-B-0,562,919에 개시된 패드는 또한, 짜여지지 않은 패드(non-woven pad)를 두 개의 스퀴즈 롤(squeeze roll)사이의 틈(nip)으로 통과시킴으로써 구비된다. 이들 두 개의 스퀴즈 롤 중 하나는 바인더/연마입자들 혼합물에 부분적으로 담겨지며, 이로 인하여 바인더 및 연마 입자들은 실린더의 표면을 통해 패드 상에 분산되어진다.
EP-B-0,562,919에 개시된 패드가 결정화 화학물질을 수반하여 사용되어야 하므로, EP-B-0,562,919에 기술되는 방법은 실제로 유리화 방법(vitrification method)을 구성한다. 이러한 유리화 방법은 대리석 바닥의 스테인 저항(stain resistence) 및 내구성(durability)을 개선하기 위해 사용된다. 이러한 방법은, 그것이 바닥 표면에 존재하는 칼슘과 반응하여 불용해성의 칼슘염을 형성하는 산(acid)을 포함한 특별한 결정화 화학물질들의 사용을 포함하기 때문에, 날마다의 유지를 위한 목적에는 적합하지 않다. 그러한 방법은 전형적으로 폴리싱된 대리석 바닥의 초기 제공에 연관되어 사용되며, 그 후로는 6 내지 12 개월의 기간이 지나서 사용된다. EP-B-0,562,919에 기술된 방법은 그리하여 매일 사용하기에는 지나치게 복잡한 면이 있다.
EP-B-0,562,919에 언급된 종류의 패드들은 "3MTM 5200 Brown Stone Renew Pad" 및 "3MTM 4000 Grey Stone Polish Pad"라는 제품명으로 3M®사에 의해 판매되 며, 그러한 패드들은 상대적으로 느린 속도(250 rpm 이하)에서 결정화 화학물질들을 수반하여 사용된다.
결정화 화학물질들 및 다른 표면-개선 보조제(surface-improving agent)가 요구되는 점은, 화학물질들이 표면에 적용되어야 하므로 과도한 화학물질을 제거하는 것이 뒤따르게 되어, 폴리싱 작업을 복잡하게 하며, 한편으로는 폴리싱 작업의 시간소비가 유발한다. 화학물질들을 다루고 적용하는 것은 또한 일반적으로 환경에 대한 잠재적 위험성이 있고 특히 작업 환경에 대해 영향이 크다.
다이아몬드 입자들과 같은 연마 입자들과 혼합된 플라스틱 레진으로 만들어진 그라인딩 또는 폴리싱 요소들을 포함하는 툴들을 사용함으로써 폴리싱된 석재(stone) 또는 콘크리트를 제공하는 것이 또한 알려진다. 그러한 그라인딩 또는 폴리싱 요소들은 통상 회전하는 플레이트에 고정적으로 장착되며, 그러한 요소들은 바닥의 비평탄함(unevenness)을 보상하는 능력을 갖지 않는다. 바닥의 비평탄함은, 바닥 표면을 비평탄하게 처리되도록 하거나, 상기 요소가 과도한 압력으로 표면에 접촉되는 경우 바닥 표면이 긁혀지게 하거나 얼룩지게 한다. 또 다른 문제는, 모래, 작은 돌조각 또는 금속과 같은 부스러기가 상기 요소들 안팎에 달라붙어 바닥 표면이 긁히게 할 수 있다는 것이다. 마지막으로, 이런 종류의 툴은, 툴과 바닥 표면 사이의 접촉 표면에 큰 압력을 적용할 수 있는 능력이 있는 특수한 기계를 요구한다.
WO03/075734는 나일론 윤내기(scuring) 물질을 포함하는 청소 목적의 디스크형의 장치를 개시한다. 상기 나일론 윤내기 물질은 견고한 디스크 상에 배열되며, 이에 의해 산업용 다이아몬드를 포함하는 그라인딩 요소들은 활동성의 윤내기 표면에서 홈들(recesses) 안에 배치된다. WO03/075734에 개시된 장비의 단점은, 그라인딩 요소들 안팎에 부스러기(debris)가 달라붙을 위험성이 제거되지 않는다는 것이다. 또 다른 단점은, 장비가 복잡하고 그리하여 고장날 우려가 크고 또한 제조하기 어렵고 가격이 비싸다는 것이다.
그리하여, 경질의 표면들에 대한 날마다의 유지작업을 위한 방법과 툴을 개선하고 단순화할 필요가 있는 것이다. 바람직하게는, 그러한 방법은 바닥 표면에 대한 작업을 함에 있어 특수한 훈련을 받지 않은 사람들에게 간편해야 사용될 수 있어야 한다. 또한 그러한 방법은, 버니싱(burnishing) 기계들과 같은 통상적인 바닥 표면화 장비에 사용될 수 있어야 한다. 또한, 그러한 툴들은, 제조하기 쉽고, 지나치게 비싸지 않으며, 내구성이 있어야 한다.
본 발명의 목적은, 종래의 방법들 및 패드들의 문제점들을 완전히 또는 부분적으로 제거하는 개선된 기술을 제공하는 것이다. 특히, 사용하기에 더욱 용이하고 종래의 방법들에 대등하거나 더 우월한 결과를 제공하는 경질의 표면의 처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 특히, 경질이며 매끄러운 석재(stone) 또는 석재와 유사한 표면들에 적합한 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 추가적인 목적은, 경질이며 매끄러운 그리고 바람직하게는 광택 있는 표면들의 폴리싱(polishing), 클리닝(cleaning) 또는 유지(maintaining)에 대한 방법을 제공하는 것이다. 이때, 특히, 표면의 개선 또는 청소를 위해 사용되는 화학물질들을 제거하거나 또는 감소할 필요가 있는 바닥 표면들을 중점으로 한다.
본 발명은, 다이아몬드 입자들로 형성된 연마 입자들이 EP-B-0 562 919에서 보여지는 예들에서 사용되는 연마 입자들에 의해 성취되는 효과에 비해 매우 월등한 폴리싱 효과를 제공한다는 사상에 기초하며, 또한 이러한 폴리싱 효과가 뛰어나서 결정화 화학물질들 및 다른 표면-개선 보조제들을 수반할 필요가 없다는 사상에 기초한다.
본 발명은 첨부된 독립 청구항들에 의해 정의된다. 실시예들은 종속 청구항들 및 이하의 기술과 도면들에서 보여진다.
첫 번째 관점에 따르면, 목재, 중합체 물질, 래커(lacquer) 및 리놀륨(linoleum)으로 이루어진 그룹에서 선택된 재질이 포함된 표면에 대해, 연마 입자들이 결합된 유연성 있는 패드(1)를 가지고 수행되는 상기 패드와 상기 표면 사이의 접촉면 상에서의 상기 표면에 대한 처리(treatment)를 포함하는 방법에 있어서, 상기 연마 입자들은, 다이아몬드 입자들을 포함하며, 상기 처리는, 투과성이며(open) 속이성긴(lofty) 삼차원의 짜여지지 않은, 섬유들로 이루어진 웹(web)을 포함하는 패드(1)를 사용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 경질이며 매끄러운 표면을 유지하는 방법이 제공된다.
상기와 같은 유연성 패드와 다이아몬드 입자들의 조합은, 표면에서의 비평탄함을 보상하며, 패드에 국부적으로 가해지는 압력을 분산시킨다. 또한, 유연성 패드와 다이아몬드 입자들의 조합은, 패드의 유연성에 기해 다이아몬드 입자들이 표면을 긁을 위험을 감소시킨다.
경질이며 매끄러운 표면들을 폴리싱할 때 연마 입자들로서 다이아몬드 입자들을 사용하는 것은, 습윤(wet) 또는 건조(dry) 조건 모두에서, 통상적인 연마 입자들을 사용한 경우보다 동등하거나 보다 우월한 효과를 제공한다. 특히, 다이아몬드 입자들의 사용은 표면-개선 보조제(surface-improving agent)의 수반을 폐지시킬 수 있고, 따라서 그러한 표면-개선 보조제를 다루는 작업이 제거되어진다.
상기 처리는, 상기 접촉면 상에 실질적으로 액체를 구비하지 않고 즉, 건조 조건에서 수행될 수 있다. 또는 상기 처리는, 상기 접촉면 상에 물을 구비하여 즉, 습윤 조건에서 수행될 수 있다. 특히, 상기 처리는, 상기 접촉면 상에 물 및 클리닝 보조제를 구비하여 수행될 수 있으며, 이에 의해 상기 처리는 날마다의 유지/청 소 작업에 대해 매우 뛰어난 적합성을 갖는다.
일 실시예에서, 상기 연마 입자들은 보조 바인더에 의해 상기 패드에 결합된다. 이에 의해, 바닥을 처리할 때 어떠한 연마제(abrasive)가 추가될 필요가 없게 된다. 특히, 상기 연마 입자들은 상기 접촉면의 부근에서만 상기 패드에 결합될 수 있다. 이러한 특징은, 경질의 표면과 접촉하지 않는 패드 부분에 구비된 연마 입자들이 어떠한 기능도 수행하지 않으며 그리하여 쓰레기로 여겨진다는 점에서, 유리함을 갖는다.
상기 처리는, 평균 직경이 0.1 내지 30 ㎛인 다이아몬드 입자들을 구비한 패드를 사용하여 수행되고, 상기 평균 직경은, 바람직하게는 0.1 내지 15 ㎛이며 가장 바람직하게는 3 내지 15 ㎛일 수 있다.
상기 처리는, 천연 다이아몬드 입자들, 산업용 다이아몬드 입자들 및 코팅된 다이아몬드 입자들 중 적어도 하나를 포함하는 다이아몬드 입자들을 구비한 패드를 사용하여 수행될 수 있다.
상기 패드의 밀도는 40 kg/㎥보다 작게 마련될 수 있으며, 상기 밀도는 바람직하게는 20 내지 35 kg/㎥일 수 있다. 그리하여, 상기 패드는 상대적으로 큰 양의 기공들을 포함하게 되며, 이러한 기공들 안으로 먼지, 부스러기 및 입자들이 처리가 수행되는 동안 모여질 수 있다. 그리하여, 먼지는, 처리가 수행되는 영역에 분산되어 있기보다는 패드 내에 상당량 포함되어지며, 이로 인하여 추가적인 먼지 수거 장비에 대한 필요가 없어지게 된다. 또한, 부스러기를 패드 내에 모여지게 함으로써, 표면이 긁혀질 위험이 감소된다.
상기 경질이며 매끄러운 표면은 바닥 표면일 수 있다.
상기 패드는, 상기 경질의 표면과 접촉하는 동안, 상기 경질의 표면에 대해 상대적인 움직임을 갖는 것일 수 있다.
상기 패드는, 상기 경질의 표면과 접촉하는 동안, 50 내지 3000 rpm의 속도로 회전하며, 바람직하게는 100 내지 1500 rpm의 속도로 회전하는 것일 수 있다.
일 실시예에 따르면, 상기 표면은, 폴리비닐과 같은 중합체 물질을 포함할 수 있고, 상기 처리는, 평균 직경이 0.1 내지 15 ㎛이며 가장 바람직하게는 3 내지 15 ㎛인 다이아몬드 입자들을 구비한 패드를 사용하여 수행될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 상기 표면은 리놀륨을 포함하며, 상기 처리는, 평균 직경이 0.1 내지 15 ㎛이고 바람직하게는 3 내지 12 ㎛이며 가장 바람직하게는 3 내지 6 ㎛인 다이아몬드 입자들을 구비한 패드를 사용하여 수행될 수 있다.
다른 실시예에 따르면, 상기 처리는, 평균 직경이 0.1 내지 15 ㎛이고 바람직하게는 3 내지 12 ㎛이며 가장 바람직하게는 3 내지 6 ㎛인 다이아몬드 입자들을 구비한 패드를 사용하여 수행될 수 있다.
상기 경질이며 매끄러운 표면은, 약 3 mohs 이하의 경도를 가지며, 바람직하게는 2mohs 이하의 경도를 가지며, 가장 바람직하게는 1 moh 이하의 경도를 갖는 것일 수 있다.
상기 처리는, 상기 접촉면 상에 실질적인 양(effective amount)의 표면-개선 보조제들(surface-improving agents)을 구비하지 않고 수행되는 것일 수 있다.
상기 "표면-개선 보조제들(surface-improving agents)"라는 용어는, 표면을 처리할 때 표면과 상호 작용하여 표면을 더욱 광택 있게 하는 물질들을 포함하는 것으로 이해될 수 있다. 그러한 표면-개선 보조제들의 예로써, 왁스(waxes), 오일(oils), 레진(resins), 니스(varnish) 및 유사 물질들이 언급될 수 있다. 클리닝 목적으로 첨가되는 비누, 세제 및 그에 유사한 물질들은 상기 "표면-개선 보조제들"로 고려되지 않는다.
상기 "실질적인 양(effective amount)"이라 함은, 표면-개선 보조제들을 전혀 포함하지 않은 액체를 사용하는 동일한 방식의 처리와 비교하여 측정 가능한 광택 개선을 이루기에 충분한 양을 뜻한다.
"실질적인 양(effective amount)"의 정의는, 상기 처리가 어떠한 시간 동안 수행되는지에 따라 가변될 수 있다. 그리하여, 어떠한 처리의 경우, 그러한 처리가 며칠 동안 또는 일주일 동안의 시간에 걸쳐 수행되어지는 경우에 비해, 표면-개선 효과를 이루기 위해 훨씬 더 많은 양이 필요할 수 있다. 상기 표면-개선 보조제의 양은, 선택되는 표면-개선 보조제의 종류 및 처리되는 표면의 종류에 따라 조절되어 적용될 필요가 있다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 석재(stone) 또는 유사 석재 물질이 포함된 표면을 유지하기 위한 방법으로서, 연마 입자들의 결합된 유연성 있는 패드(1)를 가지고 수행되는 상기 패드(1)와 상기 표면 사이의 접촉면 상에서의 상기 표면에 대한 처리(treatment)를 포함하는 경질의 바닥 표면을 유지하는 방법이 제공된다. 상기 연마 입자들은, 다이아몬드 입자들을 포함할 수 있다. 상기 처리는, 상기 접촉면 상에 실질적인 양의 결정화 보조제(crystallization agent)를 마련하지 않고 수행되며, 또한 상기 처리는, 투과성이며(open) 속이성긴(lofty) 삼차원의 짜여지지 않은, 섬유들로 이루어진 웹(web)을 포함하는 패드(1)를 사용하여 수행된다.
또한 본 발명에 의하면, 석재(stone) 또는 유사 석재 물질이 포함된 표면을 유지하기 위한 방법으로서, 연마 입자들이 결합된 유연성 있는 패드(1)를 가지고 수행되는 상기 패드(1)와 상기 표면 사이의 접촉면 상에서의 상기 표면에 대한 처리(treatment)를 포함하는 방법에 있어서, 상기 연마 입자들은, 다이아몬드 입자들을 포함하며, 상기 처리는, 상기 접촉면 상에 실질적인 양의 결정화 보조제(crystallization agent)를 마련하지 않고 수행되는 것을 특징으로 하는 경질의 바닥 표면을 유지하는 방법이 제공된다.
상기 "다이아몬드"라는 용어는, 천연 다이아몬드 뿐만 아니라 합성 다이아몬드, 및 은(silver)와 같은 어떤 적합한 코팅제로 코팅된 다이아몬드 입자들을 포함하는 것으로 이해될 수 있다.
상기 "실질적인 양(effective amount)"이라 함은, 결정화 보조제를 전혀 포함하지 않은 액체를 사용하는 동일한 방식의 처리와 비교하여 측정 가능한 광택 개선을 이루기에 충분한 양을 뜻하는 것으로 이해될 수 있다. 실질적인 것으로 인식되는 양은, 단일처리 작업을 기준으로 바닥 표면 50 ㎡ 당 결정화 보조제{예로써 마그네슘 헥사플루오르실리케이트(magnesium hexafluourosilicate)의 중량을 2 내지 30 % 포함}를 약 1 내지 2 리터 적용하는 것일 수 있다. 그리하여, 임의의 기간에 대하여, 실질적인 것으로 인식되는 양은, 단위(㎡) 바닥 표면 당 약 0.4 그램의 마그네슘 헥사플루오르실리케이트가 해당된다. 하지만, 예를 들어 매일 또는 매주 와 같이 반복적으로 사용될 때에는, 예를 들어 1:100의 비율과 같이 희석된 결정화 보조제가 또한 실질적인 것으로 인식될 수 있다. 그리하여, 정기적인 유지에 대한 실질적인 양은, 단위(㎡) 바닥 표면 당 약 0.004 그램의 마그네슘 헥사플루오르실리케이트가 해당된다. 아연 헥사플루오르실리케이트(Zinc hexafluourosilicate), 하이드로플루오르 산(hydrofluoric acid) 및 악셀릭 산(oxalic acid)과 같은 다른 종류의 결정화 보조제들이 있음을 이해될 수 있다. 그리하여, 전술된 값들은 선택된 결정화 보조제의 개개의 종류에 따라 조절되어 적용될 필요가 있다.
유연성 패드 및 다이아몬드 입자들의 조합은, 표면에서의 비평탄함에 대한 보상을 제공하며, 패드에 국부적으로 압력이 적용되는 것을 분산시킨다. 또한, 이러한 조합은, 패드의 유연성을 통해, 다이아몬드 입자들이 표면을 긁을 위험성을 감소시킨다.
경질의 석재의 표면들을 폴리싱할 때, 습윤 또는 건조 조건 모두에 대해, 연마 입자로서 다이아몬드 입자를 사용하는 것은 통상적인 연마 입자들을 사용하는 경우와 동등하거나 보다 우월한 효과를 제공한다. 특히, 다이아몬드의 사용은, 결정화 보조제의 적용을 회피하는 것이 가능토록 한다. 그리하여, 결정화 보조제를 다루는 작업이 필요 없게 된다.
상기 처리는, 상기 접촉면 상에 실질적으로 액체를 구비하지 않고 즉, 건조 조건에서 수행될 수 있다. 또는 상기 처리는, 상기 접촉면 상에 물을 구비하여 즉, 습윤 조건에서 수행될 수 있다. 특히, 상기 처리는, 상기 접촉면 상에 물 및 클리닝 보조제를 구비하여 수행될 수 있으며, 이에 의해 상기 처리는 날마다의 유지/청 소 작업에 대해 매우 뛰어난 적합성을 갖는다.
일 실시예에서, 상기 연마 입자들은 보조 바인더에 의해 상기 패드에 결합된다. 이에 의해, 바닥을 처리할 때 어떠한 연마제(abrasive)가 추가될 필요가 없게 된다. 특히, 상기 연마 입자들은 상기 접촉면의 부근에서만 상기 패드에 결합될 수 있다. 이러한 특징은, 경질의 표면과 접촉하지 않는 패드 부분에 구비된 연마 입자들이 어떠한 기능도 수행하지 않으며 그리하여 쓰레기로 여겨진다는 점에서, 유리함을 갖는다.
상기 처리는, 평균 직경이 0.1 내지 30 ㎛인 다이아몬드 입자들을 구비한 패드를 사용하여 수행되고, 상기 평균 직경은, 바람직하게는 0.1 내지 15 ㎛이며 가장 바람직하게는 10 내지 15 ㎛일 수 있다.
상기 연마 입자들은, 천연 다이아몬드 입자들, 산업용 다이아몬드 입자들 및 코팅된 다이아몬드 입자들 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 처리는, 평균 직경이 0.1 내지 30 ㎛이고 바람직하게는 0.1 내지 15 ㎛이며 가장 바람직하게는 5 내지 15 ㎛인 다이아몬드 입자들을 구비한 패드를 사용하여 수행될 수 있다.
일 실시예에서, 사용되는 패드는, 투과성이며(open) 속이성긴(lofty) 삼차원의 짜여지지 않은, 섬유들로 이루어진 웹(web)을 포함할 수 있다. 그러한 웹은 비교적 저럼하며 현존하는 표면화 기계들에 적응될 수 있는 표준 크기인 점에서 유용하다.
상기 패드는, 40 kg/㎥보다 작으며 바람직하게는 20 내지 35 kg/㎥인 밀도를 가질 수 있다. 그리하여, 상기 패드는 상대적으로 큰 양의 기공들을 포함하게 되 며, 이러한 기공들 안으로 먼지, 부스러기 및 입자들이 처리가 수행되는 동안 모여질 수 있다. 그리하여, 먼지는, 처리가 수행되는 영역에 분산되어 있기보다는 패드 내에 상당량 포함되어지며, 이로 인하여 추가적인 먼지 수거 장비에 대한 필요가 없어지게 된다. 또한, 부스러기를 패드 내에 모여지게 함으로써, 표면이 긁혀질 위험이 감소된다.
상기 방법은 특히 바닥 표면에 사용하기에 적합하다.
상기 방법은 특히, 상기 표면이 약 5 mohs 이상의 경도를 가지며 바람직하게는 6 내지 7 mohs인 경도를 갖는 석재 또는 유사 석재 물질인 경우에 적용 가능하다. 그러한 표면들의 예를 들면, 콘크리트, 테라초, 그라나이트 등을 들 수 있다.
상기 패드는, 상기 경질의 표면과 접촉하는 동안, 50 내지 3000 rpm의 속도로 회전하며, 바람직하게는 100 내지 1500 rpm의 속도로 회전하는 것일 수 있다.
상기 처리는, 매일, 매주 또는 매달처럼, 실질적으로 정기적으로 수행될 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 연마 입자들이 결합되며 처리(treatment)를 실질적으로 수행하는 표면을 구비하는 유연성 패드를 포함하는, 경질의 표면을 처리하기 위한 툴(tool)에 있어서, 상기 패드는, 상기 연마 입자들이 제1 집중도로 존재하는 제1 부분 및 상기 연삭 입자들이 상기 제1 집중도보다 낮은 제2 집중도로 존재하는 제2 부분을 구비하며, 상기 연마 입자들은, 다이아몬드 입자들을 포함하는 것을 특징으로 하는 경질의 표면을 처리하기 위한 툴이 제공된다.
일 실시예에서, 상기 제2 부분은, 실질적으로 다이아몬드 입자들이 존재하지 않을 수 있다.
상기 경질의 표면과 접촉하지 않는 패드 부분들에 존재하는 연마 입자들은 어떠한 기능도 수행함이 없기 때문에, 상기와 같은 기술에 따른 패드들은 저렴하게 제조될 수 있다.
패드의 유연성은, 패드가 유연하지 않았더라면 상기 다이아몬드 입자들이 경질의 표면에 대해 발생시킬 수 있는 해로운 효과들을 제거하거나 감소시킬 수 있다. 그리하여, 상기 툴은, 목재, 라미네이트(laminate), 대리석, 그라나이트, 콘크리트, 테라초 등과 같은 어떠한 경질의 표면들에도 사용될 수 있다. 하지만, 상기 툴은 특히 그라나이트, 콘트리트, 테라초 등과 같은 경질의 석재 또는 유사 석재 표면들에 특히 효과적이다.
일 실시예에 따르면, 상기 패드는, 일정한 두께를 갖는 디스크 형상의 몸체 및 제1 표면을 포함하며, 상기 연마 입자들은 상기 제1 표면에 존재하며, 또한 상기 연마 입자들은 상기 제1 표면으로부터 상기 두께보다 작은 일정 깊이까지의 범위에 존재함으로써, 상기 제1 부분은 상기 제1 표면에 존재하고, 상기 제2 부분은 상기 제1 표면의 반대측인 제2 표면에 존재하는 것일 수 있다. 제2 표면에 연마 물질 및 바인더가 존재치 않게 함으로써, 상기 패드를 캐리어 플레이트 상의 벨크로 훅 커넥터(Velcro hook connector)에 부착시키는 것이 수월해진다.
다른 실시예에 따르면, 상기 패드는, 일정한 두께 및 제1 표면을 갖는 디스크 형상의 몸체를 포함하며, 상기 연마 입자들은 상기 제1 표면 전체보다 적은 범위에 걸쳐 존재함으로써, 상기 제1 부분 및 상기 제2 부분은, 상기 제1 표면에서 서로 인접하여 위치하는 것일 수 있다. 이러한 실시예는 먼지 및 부스러기를 상기 패드 안으로 모으는 것을 수월하게 한다.
상기 패드는, 투과성이며(open) 속이성긴(lofty) 삼차원의 짜여지지 않은 웹(web)을 포함하고, 상기 웹은, 복수의 섬유들을 포함하며, 상기 복수의 섬유들은, 그것들의 상호 접촉점들에서 서로 달라붙은 것일 수 있다.
상기 연마 입자들은, 보조 바인더에 의해 상기 패드의 물질에 결합되는 것일 수 있다. 이에 의해, 상기 패드의 상기 섬유들의 결합은, 연마 입자들이 상기 접촉면에 단지 존재한다는 사실에 의해 부정적으로 영향받을 이유가 전혀 없어진다.
제한적이지 않은 예시로써, 상기 보조 바인더는, 페놀 레진, 멜라민 레진, 우레아 레진 및 에폭시 레진으로 이루어진 그룹에서 선택될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 상기 보조 바인더는, 상기 섬유 상에 존재하는 두 개의 상기 상호 접촉점 사이의 평균 길이보다 더 작은 최대 직경을 갖는 복수의 분리된 미소 방울들을 형성한다. 그리하여 상기 섬유들은 상기 바인더 레진에 의해 완전히 코팅되지 않게 되며, 이로 인하여 먼지나 부스러기가 상기 패드 내로 모여지는 것이 더욱 수월해진다.
상기 연마 입자들은, 평균 지름이 0.1 내지 30 ㎛이고 바람직하게는 0.1 내지 15 ㎛이며 가장 바람직하게는 5 내지 15 ㎛인 다이아몬드 입자들을 포함할 수 있다.
상기 패드는, 그라파이트(graphite), 틴 옥사이드(tin oxide), 실리콘 카바이드(silicon carbide) 및 알루미늄 옥사이드(aluminum oxide)으로 구성된 그룹에 서 선택된 제2 연마 입자들을 더 포함할 수 있다.
상기 패드는, 30 내지 100 cm 사이의 직경을 갖는 원형의 디스크 형상이며, 1 내지 5 cm 사이의 비압축 두께를 갖는 것일 수 있다.
또한 본 발명에 따르면, 패드(1)를 제공하는 제1 단계; 및 다이아몬드를 포함하는 연마 입자들 및 바인더의 혼합물을 상기 패드의 제 1표면(A) 상에 적용하는 제2 단계를 포함하며, 상기 제2 단계는, 상기 패드가, 상기 연마 입자들이 제1 집중도로 존재하는 제1 부분(P1) 및 상기 연마 입자들이 상기 제1 집중도보다 낮은 제2 집중도로 존재하는 제2 부분(P2)을 구비하도록 하는 단계인 것을 특징으로 하는 경질의 표면의 처리를 위한 툴의 제조 방법이 제공된다. 일 실시예에 따르면, 기 제2 부분은, 상기 연마 입자들이 실질적으로 존재하지 않을 수 있다. 기 바인더 및 상기 연마 입자들은, 분사(spraying), 롤링(rolling) 또는 담그기(dipping)에 의해 상기 제1 표면에 적용될 수 있다.
이하에서는, 먼저 경질의 표면들(hard surfaces)의 유지(maintenance)를 위한 방법에 사용하기에 적합한 툴(tool)에 초점을 두고 기술하고, 다음으로 그러한 툴을 제조하기 위한 방법에 초점을 두고 기술하며, 마지막으로 경질의 표면의 유지를 위한 상기 툴의 사용에 초점을 두고 기술하기로 한다.
도 1a에는 패드(1, pad)가 도시되어 있으며, 상기 패드는, 섬유들(2)로 이루어지며 투과성이며(opeb) 속이성긴(lofty) 삼차원의 짜여지지 않은 웹(web)으로 구성된다. 상기 패드(1)의 제1면은 P1 부분(portion)을 가지며, 이러한 P1 부분에는 보조 바인더(secondary binder)에 의해 상기 웹에 결합되는 연마 입자들(abrasive particles)이 구비된다. 참고로 바인더는 섬유들을 웹으로 묶는 것을 주요 목적으로 한다. 상기 패드(1)는 원형의 형상을 갖는다.
도 1b에는 도 1a의 S1-S1 선에 따른 단면도가 도시된다. 도 1b에 도시된 바와 같이, 연마 입자들을 구비한 P1 부분은, 제1면(A)에 D에 해당하는 깊이까지 존재하며, 제1면(A)의 깊이 D는 패드(1)의 두께 T보다 작다. P2 부분은 제2면(B)에 존재하며, P2 부분에는 연마 입자들 및 보조 바인더가 실질적으로 존재하지 않는다.
"부분들(portions)"을 언급할 때, 그것은 패드(1)의 거시구조(macrostructure)의 일부분인 것으로 이해되어야 하며 개개의 섬유들의 부분들로 이해되지 않아야 한다.
도 2a 및 도 2b를 참조하면 도 1의 패드와 유사한 패드(1)가 도시되어 있는데, 이러한 도 2의 패드(1)는 제1면(A)에 P2′부분도 구비된다는 점에서 도 1의 패드와 차이점이 있으며, 그러한 P2′부분에는 연마 입자들 및 보조 바인더가 구비되지 않는다.
상기 두 실시예에서, 연마 입자들은 보조 바인더를 통하여 구비되어지며, 섬유들은 주 바인더(primary binder) 및(또는) 용융-본딩(melt-bonding)에 의해 결합된다.
이하에서는, 도 1a 및 도 1b를 참조로 하는 실시예에 따른 패드(1)에 대하여 기술한다.
재료에 대해 우선 살펴보면, 20 인치(51 cm)의 직경, 28 mm의 두께, 157 그램의 중량을 갖는 원형의 디스크 형상인, Glit/Microtron®사의 Tan Floor Polishing Pad가 사용된다. 그러한 패드들은 Glit/Microtron사(Wrens시, GA주, 미국)로부터 입수할 수 있다. 상기 패드의 밀도는 27 kg/m3에 달한다. 도 3a는 폴리머 레진(polymer resin) 및 연마 입자들이 적용되기 이전의 패드를 보여주는 현미경 사진이다. 도 3a을 살펴보면, 패드를 구성하는 섬유들은, 주 폴리머 레진(primary polymer resin)에 의해 그것들의 상호접촉점들(10)에서 함께 붙들려진다. 패드는, 유연하고 탄성적이며, 폴리에스테르(polyester) 및 나일론(nylon) 섬유들을 구비한다.
균질의 폴리머 레진 혼합물이 구비되었고, 상기 혼합물은, 200그램의 PA resin 52-68 phenol resin{Perstorp AB사(소재 - Perstop시, 스웨덴)로부터 입수 가능}, 100그램의
Figure 112007074671804-pat00001
에탄올{Alfort & Cronhilm AB사(소재 - Bromma시, 스웨덴)로부터 입수 가능} 및 20그램의 LANDS LS600F 4-8 ㎛ 다이아몬드 입자들(LANDS Superabrasives 주식회사(소재 - 뉴욕시, 뉴욕주, 미국)로부터 입수 가능}로 이루어진다. 상기 혼합물이 적용되기 직전에, 65% P-톨루엔 술폰산(P-toluene sulfonic acid, PTS) 60그램을 경화제로써 첨가했다.
상기 레진 혼합물이 상기 폴리싱 패드(polishing pad)의 면들 중에서 제1면(A) 상에 뿌려졌고, 이때 표준-타입의 압축공기 스프레이 건(통상 페인트를 분사 시에 사용됨)을 사용하였다. 마르지 않은 상태의 상기 레진을 가진 상기 패드는 173그램의 중량에 달하게 된다. 그리고는, 상기 패드는 대략 120 ℃의 뜨거운 공기의 오븐에 약 20 분간 놓여진다.
상기 패드는 비로소 도 3b에서 보여지는 모습을 나타내게 되며, 도 3b는 현미경 사진이다. 레진/입자 혼합물의 미소 방울들(11, globules 또는 droplets)이,섬유들을 따라 형성되며, 또한 그 섬유들의 상호 접촉점 사이에도 형성된다. 상기 미소 방울들(11)은 달라붙게 되는 섬유들을 완전히 덮지 않도록 배열된다. 이에 대하여 도 4에 더 명확히 도시되며, 여기서 도 4는 도 1a 및 도 1b를 참조하여 기술될 수 있는 패드 및 그 패드의 일부분에 대한 확대도를 도시하며, 확대도에서 바인더/입자 혼합물의 미소 방울들(11)이 섬유들에 달라붙어 있다.
전술한 내용으로 제조된 상기 패드의 성능을 산출할 목적으로 전술한 내용으로 구비된 두 개의 다른 20 인치(51 cm) 패드들의 성능을 산출하기 위해 비교 테스트들이 수행되었다: 그중 하나는, "옐로우(yellow)"으로 불려지는 것으로서 7 내지 12 ㎛의 은(silver) 코팅 다이아몬드 입자들을 갖는 것이며, 다른 하나는, "그린(green)"으로 불려지는 것으로서 3 내지 6 ㎛의 보통 다이아몬드 입자들을 갖는 것이다. 기준 대상으로, 입수 용이한 두 개의 다른 패드들 즉, 20 인치(51 cm) 3MTM 5200 Brown Stone Renew Pad 및 20 인치(51 cm) 3MTM 4000 Grey Stone Polish Pad가 사용되었으며, 이들 패드들은 3M사(소재 - St. Paul, MN, USA)로부터 입수 가능하다.
상기 테스트들은 두 개의 다른 표면 타입들 즉,
Figure 112007074671804-pat00002
대리석(스웨덴 의
Figure 112007074671804-pat00003
외곽의
Figure 112007074671804-pat00004
지역에서 생산되는 대리석) 및 K40 콘크리트 상에서 수행되었다. 각각의 테스트는, Coor & Kleever Crystallizer 1250KG 바닥 연삭기{Coor & Kleever사(소재 - S.A., 바르셀로나, 스페인)로부터 입수 가능}를 사용하여 약 1㎡의 표면 상에서 수행되었으며, 상기 바닥 연삭기는 20 인치 바닥 패드를 수용하며 약 175 rpm으로 회전하도록 마련된 단일 캐리어 플레이트(carrier plare)를 갖는다. 상기 테스트에서 바닥은 1 분/㎡의 빠르기로 연마되도록 하였다. 표면 광택은, 각각의 처리를 전후하여 상기 지역의 여러 지점에서 Sanwal/Cenma IG-310 Glosschecker를 사용하여 측정하였다. 아래의 표들에서의 광택값은 각 지역에 대한 평균 값을 구성한다. 고광택(high gloss)은 80-90°의 범위이다. 준광택(semi gloss)은 50-75°의 범위이다. 스테인(stain)은 30-45°의 범위이다. 문지름 효과(rubbed effect)는 20-25°의 범위이다. 플랫 쉰(flat sheen)은 5-15°의 범위이다.
각 표면은 건조한 상태에서 그리고 윤활제로 물을 사용하여 테스트되었다. 게다가, 콘크리트 표면은 윤활제로서 Coor Rosa/K-2 crystallizer{Coor & Kleever사(소재 - S.A., 바르셀로나, 스페인)로부터 입수 가능}를 사용하며, 상기 윤활제는 EP-B-0562919호에 언급된 결정화 화합물(crystallization chemical)이며 결정화 보조제(crystallization agent)로서 마그네슘 헥사플루오르실리케이트(magnesium hexafluourosilicate)를 포함한다.
상기 3MTM 패드들은 테스트할 때, 각 표면 부위는 먼저 브라운 패드(brown pad)를 가지고 처리되고 이후 그레이 패드(grey pad)를 가지고 처리되었다.
표 1: Kolmarden 대리석 상에서 물을 윤활제로 하여 수행된 테스트
패드 브라운(Brown) 그레이(Grey) 그린(Green)
초기 광택 17 17 10
윤활제(Liquid) 물 물 물
최종 광택 17 35 30
표2: Kolmarden 대리석 상에서 윤활제 없이 수행된 테스트
패드 브라운(Brown) 그레이(Grey) 그린(Green)
초기 광택 20 25 28
윤활제(Liquid) 없음 없음 없음
최종 광택 25 30 50
표 1 및 2로부터, 약 3 내지 5 moh의 경도를 갖는 비교적 연한 석재인 대리석 상에서 그리고 윤활제로서 물을 사용한 경우, 비록 그레이 및 그린 패드들은 "스테인(stain)"에 속하는 값을 달성하는데 그쳤지만 3MTM 패드들의 조합(브라운 및 그레이)은 약간 나아진 효과를 얻었음을 알 수 있다. 하지만, 건조 조건 하에서, 그린 패드는 준광택(semi-gloss) 범위에 도달하는 현저한 개선을 달성하였다.
표3: K40 콘트리트 상에서 물을 윤활제로 하여 수행된 테스트
패드 브라운(Brown) 그레이(Gray) 옐로우(Yellow) 그린(Green)
초기 광택 30 29 24 35
윤활제(Liquid) 물 물 물 물
최종 광택 29 29 35 46
표4: K40 콘트리트 상에서 윤활제 없이 수행된 테스트
패드 브라운(Brown) 그레이(Gray) 옐로우(Yellow) 그린(Green)
초기 광택 29 34 30 48
윤활제(Liquid) 없음 없음 없음 없음
최종 광택 34 35 48 58
표 3 및 4로부터, 습윤 조건(wet condition)에서 그리고 약 6-7 moh의 경도를 갖는 K40 콘크리트 상에서, 브라운 및 그레이 패드들의 조합은 어떠한 측정 가능한 개선된 효과를 전혀 나타내지 못한 반면, 옐로우 및 그린 패드들의 조합은 현격히 개선된 효과를 나타냄을 알 수 있다. 건조 조건에서는, 브라운 및 그레이 패드들의 조합으로 처리된 표면에서 약간의 개선된 효과가 나타난 반면, 옐로우 및 그린 패드들의 조합에 의해 처리된 표면에서는 두드러진 개선된 효과가 나타남을 알 수 있다.
표5:K40 콘크리트 상에서 Coor Rosa/K-2 결정제를 윤활제로 사용하여 수행된 테스트
패드 그레이(Gray) 그린(Green)
초기 광택 41 35
윤활제(Liquid) VMC-Pink VMC-Pink
최종 광택 45 51
표 5로부터, K40 콘크리트 상에서 Coor Rosa/K-2 결정제를 윤활제로 사용한 경우, 그레이 패드일 경우는 약간의 효과가 있으며, 그린 패드일 경우는 더 나은 효과가 있음을 확인할 수 있다.
전체적으로 볼 때, 종래의 패드들과 비교하여 본 실시예에 따른 패드가 현저 히 개선된 효과를 제공한다고 결론지을 수 있다. 그러한 개선된 효과는 특히 콘크리트 상에서 건조 조건일 때 더욱 두드러진다.
도 5는, 본 실시예에 따른 패드(1)가 경질의 표면(8)을 갖는 접촉 표면(9)에 접할 수 있도록 장착된 바닥 연마기(20)의 단면도이며, 이러한 경우 경질의 표면(8)이 연마 대상의 바닥면에 해당한다. 상기 패드(1)는 회전 구동되는 캐리어 플레이트(4, carrier plate)에 장착되며, 캐리어 플레이트(4)는 전형적으로 베어링으로 지지되어 기계 몸체(5)에 대해 상대적으로 회전 가능하며, 기계 몸체(5)상에는 모터 유닛(6)이 배치된다. 본 실시예에서, 상기 바닥 연마기(20)는 핸들(7)을 구비하며, 따라서 사용자에 의해 파지되어 밀거나 당겨질 수 있다. 다른 실시예들에서 바닥 연마기(20)는 예를 들어 상기 패드(1)를 수용하도록 마련된 캐리어 플레이트(4)를 갖춘 탈 수 있는 차량일 수 있다.
전술한 패드(1) 및 방법은, 스크러버(scrubber)/드라이어(dryer) 조합 기계와 같은 바닥 연마기를 사용하여 석재, 콘크리트 또는 테라초(terrazzo) 바닥과 같은 연마 대상의 경질의 표면들을 나날이 청소(cleaning)/유지(maintenance)하는데 사용될 수 있다. 상기 스크러버(scrubber)/드라이어(dryer) 조합 기계는, 예를 들어, 단일 디스크 바닥 유지기(저속형 또는 고속형)인 Nilfisk CR1300 또는 연마기(burnisher)의 하나인 Nilfisk 510B 또는 545일 수 있고, 또한 Nilfisk SDH5120, BHS5120 또는 BHS7014일 수 있으며, 이와 같이 예로 든 기계들은 Nilfisk-advance사(스웨덴의 스톡홀롬에 소재)로부터 입수 가능하다.
바닥면의 처리는 전형적으로 패드가 바닥면과 접촉할 때 패드가 바닥면과 평 행하게 회전하도록 함으로써 수행된다. 전형적인 회전 속도는 50 rpm 내지 3000 rpm이다. 하지만, 더 낮은 범위 또는 더 높은 범위의 회전 속도가 배제되지는 않는다.
전술한 것으로부터 분명히, 본 발명에 따른 패드의 제1 실시예는 투과성이며(open) 속이성긴(lofty) 삼차원의 짜여지지 않은 웹(web)을 포함하며, 상기 웹은 복수의 섬유들(fibers)을 포함한다. 섬유들은 주 바인더(primary binder)에 의해 그들의 상호 접촉점들에서 서로 달라붙게 되며, 보조 바인더(secondary binder)는 연마 입자들과 함께 오로지 패드의 제1면의 섬유들에 적용된다. 그리하여, 패드는 부분적으로만 바인더/연마입자 혼합물에 의해 스며들게 된다. 대안적으로, 또는 추가적으로, 상기 섬유들은 용융-본딩에 의해 서로 달라붙을 수도 있다.
본 발명에 따른 패드의 제2 실시예에서, 바인더/연마입자 혼합물은 패드의 제1면의 일부분에만 적용된다. 이는 바인더/연마입자 혼합물이 적용되지 않아야 할 패드 제1면의 부분들을 마스킹(masking)함으로써 달성될 수 있다.
본 발명에 따른 패드의 제3 실시예에서, 패드는 바인더/연마입자 혼합물에 의해 완전히 스며들어지는데, 예를 들어, EP-B-0 562 919에서 기술된 것과 같은 스퀴즈 롤러들(squeeze rollers)이 사용될 수 있다. 이러한 실시예의 변형으로, 바인더/연마입자 혼합물이 스며들어지며 또한 상대적으로 얇은 짜여지거나(woven) 또는 짜여지지 않은(non-woven) 패드가 유연성을 구비하기 위해 상대적으로 더 두꺼운 운반 패드(carrier pad)에 접착될 수 있다. 이러한 실시예의 변형들에 따르면, 실질적으로 2차원의 짜여진 또는 짜여지지 않은 웹이 더 두꺼운 운반 패드에 부착된 다.
본 발명에 따른 패드의 제4 실시예에서, 3차원의 짜여진(woven) 또는 뜨게질된(knitted) 패드가 사용될 수 있으며, 이에 의해 바인더/연마입자 혼합물이 전술한 바와 같이 적용될 수 있다.
본 발명에 따른 패드의 제5 실시예에서, 연마 입자들이 패드 물질로서 존재한다. 이에 대한 첫 번째 선택적 방식에서, 패드는 실질적으로 전술한 바와 같은 짜여지지 않은 섬유 패드로서, 섬유 물질에 포함되는 다이아몬드 입자들을 갖는다. 두 번째 선택적 방식에서, 패드는 발포 중합체 물질(foamed polymer material)에 포함되는 다이아몬드 입자들을 갖는 중합체 폼 패드(polymer foam pad)이다.
본 발명에 따른 패드의 제6 실시예에서, 패드는 중합체 폼 패드이며, 이러한 중합체 폼 패드의 표면에 바인더/연마입자 혼합물이 전술한 바와 같이 적용된다.
본 발명은 패놀 레진(phenol resin)의 사용에만 제한되는 것은 아니다. 적합한 레진들의 다른 예들로서, 멜라민(melamine), 우레아(urea), 에폭시(epoxy) 및 폴리에스테르(polyester) 재질의 레진들이 있다.
더욱이, 선택된 레진의 타입에 적합한 경화제가 선택될 수 있다. 또한, 경화제를 포함하지 않을 수도 있는데, 이러한 방식은, 예를 들어 패드를 고온에서 그리고(또는) 장시간 동안 둠으로써 가능해진다.
또한, 단지 혼합물의 점성을 줄여 혼합물의 분사를 효율화하기 위해 에탄올과 같은 용매(solvent)가 구비될 수 있다. 적합한 어떠한 용매라도 사용 가능하며, 본 발명의 방법이 허용하는 한 용매에 제한이 없다.
연마 입자들은 바람직하게는 다이아몬드를 포함한다. 하지만, 바닥 처리 패드들은, 다른 종류의 연마 입자들 또는 그것들의 조합들을 사용하여 전술한 원칙들에 따라 제작될 수도 있다. 예를 들어, 상기 다른 종류의 연마 입자들은 EP-B-0 562 919에서 언급되어진 것들일 수 있다. 특히, 은 코팅 다이아몬드 입자들도 좋은 결과를 가져온다는 것이 입증되었다. 당연히, 다이아몬드 입자들도 다른 종류의 연마 입자들과 조합될 수 있다.
보조 바인더 및 연마 입자들을 갖는 전술한 바와 같은 패드(1)는, 바닥 연마기의 캐리어 플레이트에의 연결을 위한 임의의 커넥터를 갖는 디스크 또는 플레이트에 부착되거나, 캐리어 플레이트 상에 구비된 벨크로-타입 훅 배열(Velcro-type hook arrangement)에 의해 바닥 연마기에 곧바로 연결될 수도 있는데, 이때 상기 훅(hook)은 패드(1)의 섬유들과 결속된다. 그리하여, 바닥 유지 툴은 주 바인더, 보조 바인더 및 연마 입자들을 갖는 패드로 구성될 수 있고, 상기 패드는 경우에 따라 염색이 추가되거나 또는 패드의 종류, 제조자, 상표 등의 정보를 제공하는 인쇄된 영역이 추가될 수도 있다.
선택적으로 또는 추가적으로, 패드는 배킹 레이어(backing layer)를 구비할 수도 있다.
전술한 옐로우 패드 및 그린 패드 그리고 "화이트(white)"로 참조되는 또 다른 패드를 사용하여 추가적인 테스트들을 수행하였으며, 이때 화이트 패드는 15 내지 30 ㎛의 다이아몬드 입자들을 갖는 것을 제외하고는 나머지 다른 특징은 옐로우 및 그린 패드와 대응한다. 기준 대상으로, 3M사(소재 - St. Paul, MN, USA)로부터 입수 가능한 3M® 5100 RED 버퍼 패드가 사용되었다.
첫 번째 추가 테스트에서, 패드들은 기름발린 오크재 파케이 바닥(oiled oak parquet surface) 상에서 수행되었다. 전술한 광택 미터(gloss meter)를 사용하여, 이격된 다섯 지점에서 바닥처리 전후에 대해 바닥의 광택 값들이 측정되었다. 그리하여 각 패드 종류에 대한 과정이 마쳐진 이후 평균 광택 값이 산출되었다. 그 결과를 아래의 표 6에 나타내고 있다.
표 6: 기름발린 오크재 파케이(oiled oak parquet)의 건조 연마
패드 3M®red 화이트 옐로우 그린
초기 광택 6.0 6.0 6.0 6.0
윤활제(Liquid) 없음 없음 없음 없음
최종 광택 20.2 17.0 26.0 31.4
표 6으로부터 광택 값이 "6.0"이었던 실크 매트 표면(silk matt surface)에 대한 광택 개선이 성취되었음을 알 수 있고, 특히 옐로우 및 화이트 패드들을 사용한 경우 광택 개선이 성취되어 이들 패드들에 의해 광택 있는 표면이 제공되었다. 화이트 패드도 광택 있는 표면을 제공한 반면, 3M®Red 패드는 광택이 있지만 다소 얼룩 있는 표면을 제공하였다. 이처럼, 화이트, 옐로우 및 그린 패드들은 매우 깨끗한 바닥을 제공하였다.
두 번째 추가 테스트에서는, 기름발린 오크재 파케이 바닥(oiled oak parquet surface) 상에서 패드들에 대해 습윤 연마(wet polishing)가 수행되었다. 전술한 광택 미터(gloss meter)를 사용하여, 이격된 다섯 지점에서 바닥처리 전후 에 대해 바닥의 광택 값들이 측정되었다. 그리하여 각 패드 종류에 대한 과정이 마쳐진 이후 평균 광택 값이 산출되었다. 그 결과를 아래의 표 7에 나타내고 있다.
표 7: 기름발린 오크재 파케이(oiled oak parquet)의 습윤 연마
패드 화이트 옐로우 그린 그린
초기 광택 6.8 6.8 6.8 6.8
윤활제 물 물 물 없음
최종 광택 0.0 0.0 0.0 22.8
표 7로부터, 실크 매트 표면에서 시작하여, 화이트 및 옐로우 패드들이 극히 광택 없는 표면을 제공함을 알 수 있었고, 습윤 연마에서 얼마간의 연마 부스러기가 발견됨을 알 수 있었다. 반면, 그린 패드는 광택 없고, 극히 부드러운 표면을 제공하였다. 그린 패드를 사용한 건조 연마는 광택 있고 깨끗한 표면을 제공하며, 이때는 오일 필름(oil film)으로부터 완전히 자유롭다. 화이트, 옐로우 및 그린 패드들은 매우 깨끗한 바닥을 제공하였다. 또한 습윤 연마 이후 화이트, 옐로우 또는 그린 패드들을 사용하는 바닥의 건조 연마는 표 6에서의 광택 값들과 비슷한 광택 값들을 제공하였다.
따라서, 여기서 기술되는 패드는, 목재로 된 바닥면들(floor surfaces), 데크 표면들(deck surfaces, 예를 들어 테라스 또는 보트 상에서의), 벽 표면들(wall surfaces), 인테리어 몰딩들(interior moldings), 문들(doors), 베이스보드들(baseboards) 등의 목재면들을 그라인딩(grinding) 및/또는 폴리싱(polishing)하는 데 사용될 수 있다.
세 번째 추가 테스트에서는, 패드들에 의해, Amtico International사(Coventry, UK)로부터 입수 가능하며 플로어링 왁스(flooring wax)로 광택 마무리(shiny finish)된 Amtico® 비닐 타일 플로어링(Amtico® vynyl tile flooring)을 대상으로 건조 연마가 수행되었다. 초기에, 표면은 다수의 스커프 마크들(scuff marks)를 가지고 있었다. 전술한 광택 미터를 사용하여, 이격된 다섯 지점에서 바닥처리 전후에 대해 바닥의 광택 값들이 측정되었다. 그리하여 각 패드 종류에 대한 과정이 마쳐진 이후 평균 광택 값이 산출되었다. 그 결과를 아래의 표 8에 나타내고 있다.
표 8: Amtico® 비닐 타일 플로어링의 건조 연마
패드 광택 코멘트(Comment)
패드 비사용 24.8 광택 있는 표면, 다수의 스커프 마크들 있음
3M(R) RED 24.8 광택 있는 표면, 스커프 마크 잔존함
화이트 16.4 깨끗하고 광택 적은 표면, 스커프 마크 없음
옐로우 19.4 깨끗한 표면, 스커프 마크 없음
그린 24.4 매우 광택 있고 깨끗한 표면
표 8로부터, 3M®red 패드는 광택 있는 바닥면을 유지하는 반면 모든 스커프 마크들을 제거하지 않음을 알 수 있다. 화이트 패드는 광택 손실을 유발하며 스커프 마크들을 제거하였다. 옐로우 패드를 사용한 경우, 좀더 우월한 광택의 표면을 얻어지면서 모든 스커프 마크들이 제거되었다. 그린 패드를 사용한 경우, 스커프 마크들이 완전히 제거되면서도, 실질적으로 초기 광택과 동일한 수준의 광택을 갖는 표면이 얻어졌다. 화이트, 옐로우 및 그린 패드들은 매우 깨끗한 바닥을 제공함 을 알 수 있다.
네 번째 추가 테스트에서, 패드들에 의해, Amtico International사(Coventry, UK)로부터 입수 가능하며 플로어링 왁스(flooring wax)로 광택 마무리(shiny finish)된 Amtico® 비닐 타일 플로어링(Amtico® vynyl tile flooring)을 대상으로 습윤 연마(wet polishing)가 수행되었다. 초기에, 표면은 다수의 스커프 마크들을 가지고 있었다. 전술한 광택 미터를 사용하여, 이격된 다섯 지점에서 바닥처리 전후에 대해 바닥의 광택 값들이 측정되었다. 그리하여 각 패드 종류에 대한 과정이 마쳐진 이후 평균 광택 값이 산출되었다. 기준 대상으로, 그린 패드를 사용하여 건조 연마(dry polishing)가 수행되었다. 그 결과를 아래의 표 9에 나타내고 있다.
표 9: Amtico® 비닐 타일 플로어링에 대한 습윤 연마
패드 윤활제 광택 코멘트(Comment)
비사용 비사용 24.0 광택 있는 표면, 다수의 스커프 마크들 있음
3M®Red 물 24.8 광택 있는 표면, 몇몇 스커프 마크들 잔존
화이트 물 15.2 깨끗하며 광택 적은 표면, 스커프 마크 없음
옐로우 물 19.0 깨끗한 표면, 다소 더 광택 있음
그린 물 20.4 깨끗한 표면
그린 비사용 26.8 매우 광택 있으며 깨끗한 표면
표 9로부터, 3M® red 패드는 이번 테스트에서도 비록 광택 있는 표면을 제공하면서도 모든 스커프 마크들을 제거하는데 실패하였다. 화이트 패드는 깨끗하고 광택 적은 표면을 제공하는 반면, 옐로우 패드는 깨끗하고 보다 더 광택 있는 표면을 제공하였다. 습윤 연마에서, 그린 패드를 사용한 결과가 옐로우 패드를 사용한 결과에 비해 좀 더 우월하였다. 또한, 건조 조건에서 사용될 경우, 그린 패드는 매우 광택 있고 깨끗한 표면을 제공하였다. 화이트, 옐로우 및 그린 패드들은 매우 깨끗한 바닥을 제공함을 알 수 있었다.
다섯 번째 추가 테스트에서, 패드들을 가지고 리놀륨 바닥 표면(linoleum floor surface)에 대해 건조 연마를 수행하였다. 초기에 바닥 표면은 플로어링 왁스(flooring wax)를 가지고 처리되었다. 전술한 광택 미터를 사용하여, 이격된 다섯 지점에서 바닥처리 전후에 대해 바닥의 광택 값들이 측정되었다. 그리하여 각 패드 종류에 대한 과정이 마쳐진 이후 평균 광택 값이 산출되었다. 그 결과를 아래의 표 10에 나타내고 있다.
표 10: 리놀륨 표면에 대한 건조 연마
패드 윤활제 광택 코멘트(Comment)
비사용 비사용 19.0
3M® red 비사용 21.0 큰 변화 없음
화이트 비사용 12.8 표면의 광택이 적어짐
옐로우 비사용 21.5 표면의 광택이 기준 대상보다 더 향상된 것으로 인식됨
그린 비사용 26.3 매우 광택 있고 깨끗한 표면
표 10으로부터, 화이트 패드가 더 광택 적은 표면을 제공하는 반면 3M® red 패드는 단지 미미한 광택의 개선을 제공하였으며, 또한 옐로우 패드를 가지고 수행된 표면은 기준 대상보다 더 광택 있는 것으로 인식됨을 알 수 있다. 그린 패드는 매우 광택 있고 깨끗한 표면을 제공한다. 화이트, 옐로우 및 그린 패드들은 매우 깨끗한 바닥을 제공함을 알 수 있다.
여섯 번째 추가 테스트에서, 패드들을 가지고 리놀륨 바닥면(linoleum floor surface)에 대해 습윤 연마를 수행하였다. 초기에 바닥면은 플로어링 왁스(flooring wax)를 가지고 처리되었다. 전술한 광택 미터를 사용하여, 이격된 다섯 지점에서 바닥처리 전후에 대해 바닥의 광택 값들이 측정되었다. 그리하여 각 패드 종류에 대한 과정이 마쳐진 이후 평균 광택 값이 산출되었다. 그 결과를 아래의 표 11에 나타내고 있다.
표 11: 리놀륨 표면에 대한 습윤 연마
패드 윤활제 광택 코멘트(Comment)
비사용 물 19.0
3M® red 물 7.3 연마 이후 매우 광택이 적은 표면 제공됨
화이트 물 3.5 연마에 의해 폴리싱된 면(polished surface)가 제거됨
옐로우 물 7.0 연마에 의해 폴리싱된 면가 제거되고 광택이 낮게 유지됨
그린 물 9.8 옐로우 패드보다 다소 더 광택이 있고, 광택이 낮게 마무리됨
표 11로부터, 화이트 패드가 광택이 낮은 표면을 제공하고 폴리싱된 면(polished surface)을 완전히 제거하는 반면, 3M®red 패드는 매우 광택이 낮은 표면을 제공한다. 옐로우 패드는 폴리싱된 면을 제거하는 반면 광택이 적은 마무리를 제공한다. 그린 패드는, 옐로우 패드와 비교하여 약간 더 광택 있는 마무리를 제공한다. 화이트, 옐로우 및 그린 패드들은 매우 깨끗한 바닥은 제공함을 알 수 있다. 습윤 연마에 후속하는 화이트, 옐로우 또는 그린 패드들을 사용한 바닥의 건조 연마는 표 10의 광택 값들과 비슷한 광택 값들을 제공함을 또한 알 수 있었다.
이와 같이, 패드는 리놀륨 및 플라스틱 바닥들을 그라인딩 및/또는 폴리싱하 는데 사용될 수 있으며, 상기 리놀륨 및 플라스틱 바닥들의 예를 들면 비닐(vinyl), 폴리우레탄(polyurethane), 에폭시(epoxy), 아크릴(acrylic) 또는 다른 플라스틱 재질을 포함하는 표면을 갖는 바닥들을 들 수 있다.
일곱 번째 추가 테스트에서는, 패드들에 의해 래커 파케이 바닥 표면(lacquered parquet floor surface)이 건조 연마되었다. 본 테스트에서, "오렌지(Orenge)"로 참조되며 2-4 마이크론(micron)의 다이아몬드 입자들을 갖는 추가 패드가 사용되었다. 전술한 광택 미터를 사용하여, 이격된 다섯 지점에서 바닥처리 전후에 대해 바닥의 광택 값들이 측정되었다. 그 결과를 아래의 표 12에 나타내고 있다.
표 12: 래커 파케이 표면의 연마
패드 그린 오렌지 오렌지
초기 광택 40 40 47-50
윤활제(Liquid) 비사용 비사용 비사용
최종 광택 47-51 58-60 56-59
표 12로부터, 패드들이 래버 표면에 대한 청소(cleaning)/연마(polishing)에도 사용될 수 있음을 알 수 있다. 오렌지 패드의 사용은, 초기 광택이 40인 표면에서 수행되는지 또는 초기 광택이 47-50인 표면에서 수행되는지에 무관하게, 광택을 추가로 향상시킨다.
이로부터, 여기서 개시되는 패드는 래커 표면들(lacquered surfaces)을 그라인딩 및/또는 연마하는데 사용될 수 있다고 결론지을 수 있다. 이때, 래커 표면들 의 예로써, 목재 파케이 바닥과 다른 래커 표면들(예를 들어, 테라스 또는 보트)과 같은 래커 목재 표면들, 벽 표면들, 인테리어 몰딩들, 문들, 베이스보드들 등을 들 수 있다.
다른 실시예에 따르면, 패드는 중합체 표면들을 연마하는데 사용될 수 있다. 중합체 표면들의 예로써, 보트 등에서 찾아볼 수 있는 섬유-강화 플라스틱 구조들에 입각한 소위 "겔코트(gelcoat)" 표면들을 들 수 있으며, 이러한 겔코트 표면들은 전형적으로 레진을 포함하며 또한 선택적으로 안료들(pigments)을 포함한다.
또 다른 실시예에 따르면, 패드는 작은 스크래치 제거를 위해 유리 표면들을 그라인딩 및/또는 연마하는 데 사용될 수 있다. 유리 표면들의 예로써, 차량의 유리창/방풍스크린을 들 수 있다.
또 다른 실시예에 따르면, 패드는 차량의 몸체를 그라인딩 및/또는 연마하는데 사용될 수 있으며, 심지어 차량 몸체 상의 페인트 칠해진 표면을 연마하는데 즉, 차량을 광낼 때에도 사용될 수도 있다.
여기서 기술된 방법들은 통상적인 처리 또는 유지에 적합하면서도, 그러한 방법들은 또한 특수한 연마 처리 또는 그라인딩 처리에도 사용될 수 있다.
도 1a 및 도 1b는 본 발명의 제1 실시예에 따른 패드를 도시한다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 제2 실시예에 따른 패드를 도시한다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명에 따른 패드의 확대 사진으로서, 바인더와 연마 입자들이 적용되기 전과 후를 각각 도시한다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 패드의 다이어그램(diagram)으로서, 패드의 일부분에 대한 확대도를 함께 도시한다.
도 5는 본 발명에 따른 패드가 장착된 바닥 표면화 기계의 단면도이다.

Claims (23)

  1. 석재(stone) 또는 유사 석재 물질을 포함하는 경질의 바닥 표면을 청소하기 위한 방법에 있어서,
    상기 방법은,
    투과성이며(open) 속이성긴(lofty) 삼차원의 짜여지지 않은 섬유들로 이루어진 웹(web)을 포함하며 연마 입자들이 결합된 유연성 있는 패드(1)를 사용하여, 상기 패드(1)와 상기 경질의 바닥 표면이 접촉하는 상태로 상기 경질의 바닥 표면을 청소하는 것;을 포함하며,
    상기 연마 입자들은 다이아몬드 입자들을 포함하는, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 청소는, 상기 패드와 상기 경질의 바닥 표면 간의 접촉면 상에 물을 구비하여 수행되는, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 청소는, 상기 패드와 상기 경질의 바닥 표면 간의 접촉면 상에 물 및 클리닝 보조제(cleaning agent)를 구비하여 수행되는, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 청소는, 보조 바인더에 의해 결합되는 연마 입자들을 구비한 패드(1)를 사용하여 수행되는, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 청소는, 상기 패드와 상기 경질의 바닥 표면 간의 접촉면 부근에만 결합되는 연마 입자들을 구비한 패드(1)를 사용하여 수행되는, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  6. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 청소는, 평균 직경이 0.1 내지 30 ㎛인 연마 입자들을 구비한 패드(1)를 사용하여 수행되는, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 평균 직경은 0.1 내지 15 ㎛인, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 평균 직경은 10 내지 15 ㎛인, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  9. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 청소는, 평균 직경이 0.1 내지 30 ㎛인 다이아몬드 입자들을 구비한 패드(1)를 사용하여 수행되는, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 평균 직경은 0.1 내지 15 ㎛인, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 평균 직경은 5 내지 15 ㎛인, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  12. 제6항에 있어서,
    상기 청소는, 평균 직경이 3 내지 8 ㎛인 연삭 입자들을 갖는 패드를 사용하여 수행되는, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  13. 제6항에 있어서,
    상기 청소는, 평균 직경이 7 내지 12 ㎛인 연삭 입자들을 갖는 패드를 사용하여 수행되는, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  14. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 청소는, 천연 다이아몬드 입자들, 산업용 다이아몬드 입자들 및 코팅된 다이아몬드 입자들 중 적어도 하나를 포함하는 연마 입자들을 구비한 패드(1)를 사용하여 수행되는, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  15. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 청소는 20 내지 35 kg/㎥의 밀도를 갖는 패드(1)를 사용하여 수행되는, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  16. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 경질의 바닥 표면은, 6 내지 7 mohs의 경도를 갖는 석재 또는 유사 석재 물질인, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 경질의 바닥 표면은, 콘크리트 또는 테라초 표면인, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  18. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 패드(1)는, 상기 경질의 바닥 표면과 접촉하는 동안, 상기 경질의 바닥 표면에 대해 상대적인 움직임을 갖는, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 패드(1)는, 상기 경질의 바닥 표면과 접촉하는 동안, 50 내지 3000 rpm의 회전 속도로 회전하는, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  20. 제19항에 있어서,
    상기 회전 속도는 100 내지 1500 rpm인, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  21. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 청소는, 매일 1회, 매주 1회 또는 매달 1회와 같이, 정기적으로 수행되는, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  22. 제1항에 있어서,
    상기 패드는 기계 몸체 및 상기 기계 몸체에 장착되는 캐리어 플레이트를 포함한 단일 디스크 바닥 유지기에 적용되며, 상기 패드는 상기 캐리어 플레이트에 부착되는, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
  23. 제1항에 있어서,
    상기 패드는 연마기(burnisher)에 부착되는, 경질의 바닥 표면을 청소하는 방법.
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ATE540779T1 (de) 2012-01-15
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