KR100942625B1 - 다층 간섭 코팅된 플라스틱 필름 - Google Patents

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Abstract

다층 광학 간섭계가 적어도 2개의 층을 포함하며, 상기 층들 각각은, 중합 및/또는 축중합이 가능한 유기 표면 기들을 갖는 나노스케일 무기 입자성 고체들을 포함하는 코팅 조성물을 교차결합시켜서 상기 중합 및/또는 축중합이 가능한 유기 표면 기들에 의해서 교차결합되는 층을 형성함으로써 얻을 수 있는 다층 광학 간섭계로 코팅된 폴리머 필름은 광학 적층 필름으로서 사용될 수 있다.
중합, 축중합, 유기 표면 기, 나노스케일 무기 입자성 고체, 다층 광학 간섭계, 폴리머 필름, 광학 적층 필름

Description

다층 간섭 코팅된 플라스틱 필름{Plastic film with a multilayered interference coating}
본 발명은 다층 간섭계(multilayer interference system)가 적용된 폴리머 필름, 상기 필름을 생산하는 방법, 다층 간섭계를 갖는 폴리머 필름으로 적층된 기재(substrate)를 포함하는 복합 재료(composite material), 및 상기 필름과 상기 복합 재료의 용도에 관한 것이다.
한쪽 측면에 간섭층 조립체를 갖는 폴리머성 물질의 필름들이, 예를 들면 특수 필터용으로 또는 건축 분야 또는 운송 수단 건조(vehicle construction) 분야에 있어서 일정한 광학적 제품용으로, 특히 특수 광택 가공용으로 요구되며, 여기에서 상기 필름은 반사방지, NIR(near infrared: 근적외선) 반사, IR(infrared: 적외선) 반사 또는 컬러 필터 층으로서 사용될 수 있다. 간섭층 조립체를 갖는 폴리머 필름은, 예를 들면 유리 또는 플라스틱 고체 판(sheet)에 적층된다. 높은 굴절률과 낮은 굴절률(λ/4 층들)을 갖는 광학 층들을 포함하는 선행기술의 간섭층 조립체들은 진공 코팅 기술들(스퍼터링: sputtering)에 의해 증착된다. 그러나 이 기술들에 의해 실현될 수 있는 증착률(deposition rates)은 낮고, 이는 필름들의 높은 가격으로 반영된다. 오직 순수한 무기 층들만이 스퍼터링 기술에 의해 적용될 수 있다.
또한 습식-화학적(wet-chemical), 졸-겔(sol-gel) 공정 코팅들이 선행기술로 알려져 있다. 그러나 지금까지는 유연성 있는 폴리머 필름이 아닌, 판 유리 및 안경 유리와 같은 경질의 또는 고체의 유리 기재들, 또는 폴리카보네이트 판과 같은 플라스틱 기재들에만 이들 코팅들을 적용하는 것이 가능한 것으로 입증되어 있다. 경질의 기재들은 침지(dipping) 또는 회전(spin) 코팅 기술들을 사용하여 코팅해 왔는데 이들 기술은 유연성 있는 필름들의 코팅에는 부적합하다.
또한 유연성 있는 폴리머 필름이, 예를 들면 오디오 또는 비디오 카세트의 자기 테이프, 잉크젯 오버헤드 필름 또는 핫 스탬핑(hot stamping)에 의한 표면 장식 박판의 생산 목적으로 습식-화학적 공정에 의한 다른 기능적인 코팅들에 의하여 제공될 수 있다는 것도 알려져 있다. 이것은 나이프(knife) 코팅(닥터 블레이드 코팅), 슬롯 다이(slot die) 코팅, 나선 스크레이터들(spiral scrapers)에 의한 키스 (kiss) 코팅, 메니스커스(meniscus) 코팅, 롤(roll) 코팅 또는 리버스-롤(reverse-roll) 코팅과 같은 필름 코팅 공정들을 사용하여 이루어진다. 그러나 이들 습식-화학적 코팅 기술에 의한, 필름에 입힌 다층 광학 간섭계의 생산은 알려져 있지 않다.
복잡하고 그래서 고가인 진공 코팅 기술들에 대한 필요 없이, 폴리머 필름들 위의 다층 광학 간섭계들을 생산하기 위한 간단한 방법 및 이에 상응하는 제품들을 제공하는 것이 본 발명의 목적이다.
본 발명은 적어도 2개의 층을 포함하는 다층 광학 간섭계가 적용된 폴리머 필름을 제공하는 것으로, 상기 층들 각각은, 중합 및/또는 축중합이 가능한(polymerizable and/or polycondensable) 유기 표면 기들(organic surface groups)을 갖는 나노스케일 무기 입자성 고체들을 포함하는 코팅 조성물을 교차결합(crosslinkage)시켜서 상기 중합 및/또는 축중합이 가능한 유기 표면 기들에 의해서 교차결합되는 층을 형성함으로써 얻을 수 있다. 얻어진 각 층들은 유기적으로 변형(modification)된 무기층이다.
나아가 본 발명은 하기 단계들을 포함하는 다른 굴절률들을 갖는 적어도 2개의 층들을 갖는 다층 간섭 코팅된 이 폴리머 필름을 생산하는 방법을 제공한다:
a) 중합 및/또는 축중합이 가능한 유기 표면 기들을 갖는 나노스케일 무기 입자성 고체들을 포함하는 코팅 졸(coating sol)을 폴리머 필름에 적용하는 단계,
b) 상기 입자성 고체들의 중합 및/또는 축중합이 가능한 유기 표면 기들을 교차결합시켜서 적어도 부분적으로 유기적으로 교차결합된 층을 형성시키는 단계,
c) 중합 및/또는 축중합이 가능한 유기 표면 기들 및 하기 코팅 졸과 다른 굴절률을 갖는 나노스케일 무기 입자성 고체들을 포함하는 추가의 코팅 졸을 상기 적어도 부분적으로 유기적으로 교차결합된 층에 적용하는 단계,
d) 상기 입자성 고체들의 중합 및/또는 축중합이 가능한 유기 표면 기들을 교차결합시켜서 적어도 부분적으로 유기적으로 교차결합된 층을 추가로 형성시키는 단계,
e) 만약 필요하면, c) 및 d) 단계를 한 번 또는 그 이상 반복하여 적어도 부분적으로 유기적으로 교차결합된 층을 추가로 형성시키는 단계, 그리고
f) 만약 필요하면, 최상층에 대한 d) 단계와 함께 이 단계를 수행하는 것이 가능하다면 층 조립체(layer assembly)에 열처리하는 단계.
다층 간섭계는 다른 굴절률들을 갖는 재료들로 된 적어도 2개의 층들로 구성된다. 입사광의 일부는 층들 사이 경계면들의 각각에서 반사된다. 재료와 층들의 두께에 따라, 반사들은 소멸(음성 간섭) 또는 강화(양성 간섭)된다.
놀랍게도 본 발명에 따라 사용된 코팅 조성물로서 습식-화학적 필름 코팅 공정에서 다층 간섭계를 갖는 폴리머 필름들을 제공하는 것이 가능함이 발견되었다. 본 발명에 따라 다른 굴절률들을 갖는 적어도 2개의 층들과 함께 각 층에 대한 원하는 굴절률은 코팅 조성물들의 선택에 의해 목표 수단으로 조정될 수 있다.
본 명세서의 "나노스케일 무기 입자성 고체들"은 특히, 200 nm 이하, 바람직하게는 100 nm 이하, 더욱 바람직하게는 70 nm 이하, 예를 들면 5 내지 100 nm, 바람직하게는 5 내지 70 nm 의 평균 입자 크기(평균 입자 직경(부피 평균))을 갖는 것들이다. 특히 바람직한 입자 크기 범위는 5 내지 20 nm 이다.
나노스케일 무기 입자성 고체들은 어떠한 원하는 재료로도 구성될 수 있으나 바람직하게는 금속들로 구성되며 더욱 바람직하게는, ZnO, CdO, SiO2, TiO2, ZrO2 , CeO2, SnO2, Al2O3, In2O3, La2 O3, Fe2O3, Cu2O, Ta2O5, Nb2 O5, V2O5, MoO3 또는 WO3 와 같은 (임의로 수화된) 산화물, 황화물(예를 들면 CdS, ZnS, PbS 및 Ag2S), 셀렌화물(예를 들면 GaSe, CdSe 및 ZnSe) 및 텔루르화물(예를 들면 ZnTe 또는 CdTe)과 같은 칼코겐화물, AgCl, AgBr, AgI, CuCl, CuBr, CdI2 및 PbI2 와 같은 할로겐화물; CdC2 또는 SiC 와 같은 탄화물; AlAs, GaAs 및 GeAs 와 같은 비소화물; InSb 와 같은 안티몬화물; BN, AlN, Si3N4 및 Ti3N4 와 같은 질화물; GaP, InP, Zn3P2 및 Cd3P2 와 같은 인화물; 인산염, 규산염, 지르콘산염, 알루미늄산염, 주석산염 및 그에 상응하는 혼합 산화물(예를 들면 인듐-주석 산화물(ITO)과, BaTiO3 및 PbTiO3 와 같은 페로브스카이트 구조(perovskite structure)를 가진 산화물)과 같은 금속 화합물들로 구성된다.
본 발명의 공정에 사용되는 나노스케일 무기 입자성 고체들은 바람직하게는, 금속 및 그 혼합물들의 (임의로 수화된) 산화물, 황화물, 셀렌화물 및 텔루르화물이다. 본 발명에 따라 SiO2, TiO2, ZrO2, ZnO, Ta2O5, SnO2 및 Al2O3 (모든 변형들에서, 특히 보에마이트, AlO(OH)), 그리고 그 혼합물의 나노스케일 입자들이 바람직하다. 중합 및/또는 축중합이 가능한 유기 표면 기들을 갖는 입자성 고체들에 대한 나노스케일 무기 입자성 고체들로서 SiO2 및/또는 TiO2 가 필름 코팅에 특히 적합한 코팅 조성물을 생산한다는 사례가 입증되었다. 나노스케일 입자들은 여전히 그 표면들에 반응성 기들을 함유하고 있다; 예를 들면, 산화물 입자들 표면에 일반적으로 히드록시기들을 포함하고 있다.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 나노스케일 입자들이 넓은 범위의 굴절률들에 이르기 때문에, 이들 나노스케일 입자들의 적절한 선택이 층(들)의 굴절률을 원하는 값으로 쉽게 조정될 수 있도록 허용한다.
본 발명에 따라 사용되는 나노스케일 입자성 고체들은 통상의 방법으로 제조될 수 있으며: 예를 들면, 불꽃 열분해(flame pyrolysis), 플라즈마 공정들, 기체-상태 축합 공정들, 콜로이드 기술들, 침전 공정들, 졸-겔 공정들, 조절 핵생성(controlled nucleation) 및 성장(growth) 공정들, MOCVD 공정들, 그리고 (마이크로)에멀젼 공정들에 의해 생산될 수도 있다. 이들 공정들은 문헌에 상세히 기술되어 있다. 특히, 예를 들면 금속들(예를 들면 침전 공정들의 환원 후), 세라믹 산화물 계들(용액으로부터 침전에 의해), 그리고 또한 염 계들 또는 다중성분 계들에 의존하는 것이 가능하다. 다중성분 계들은 또한 반도체 계들을 포함한다.
용도는 또한 상업적으로 이용 가능한 나노스케일 무기 입자성 고체들로 만들어질 수 있다. 상업적으로 이용 가능한 나노스케일 SiO2 입자들의 예들로 상업적인 실리카 제품들, 예를 들면 레바질레(Levasile)
Figure 112004042823579-pct00001
와 같은 실리카 졸들, 바이에르 아게(Bayer AG)사의 실리카 졸들, 또는 발연(fumed) 실리카들, 예를 들면 데구자(Degussa)사의 에어로질(Aerosil) 제품들이 있다.
본 발명에 따라 사용되는 중합 및/또는 축중합이 가능한 유기 표면 기들을 갖는 나노스케일 무기 입자성 고체들의 제조는 원칙적으로 두 가지 다른 방법들, 즉 첫번째 방법으로 미리 제조된 나노스케일 무기 입자성 고체들의 표면 변형에 의해, 그리고 두번째 방법으로 중합 및/또는 축중합이 가능한 기들을 갖는 하나 또는 그 이상의 화합물들을 이용한 이들 무기 나노스케일 입자성 고체들의 제조에 의해 수행되어질 수 있다. 이들 두 가지 방법들은 하기 및 실시예들에서 설명된다.
유기 중합 및/또는 축중합이 가능한 표면 기들은 어떻게든 현존하는 하나 또는 그 이상의 적합한 개시제들(initiators) 및/또는 촉매들에 의해 자유-라디칼(free-radical), 양이온 또는 음이온, 열 또는 광화학적 중합반응, 또는 열 또는 광화학적 축중합반응에 따르며 당업자에게 알려진 어떠한 기들이라도 포함할 수 있다. 여기서 "중합반응" 의 표현은 또한 중부가반응(polyaddition)도 포함한다. 각각의 기들에 대해 적절하게 사용될 수 있는 개시제들 및/또는 촉매들은 당업자에게 알려져 있다. 본 발명에 따라 (메타)크릴로일[(meth)acryloyl], 알릴, 비닐 또는 에폭시 기, 특히 (메타)크릴로일 및 에폭시 기들을 포함하는 표면 기들이 바람직하다. 축중합이 가능한 기들은, 나노스케일 입자들 사이에서 에테르, 에스테르 및 아미드 결합들이 얻어질 수 있는 수단으로써 특히 히드록실, 카르복실, 및 아미노 기들을 포함한다.
이미 언급한 대로, 중합 및/또는 축중합이 가능한 표면 기들은 원칙적으로 두 가지 방법들에 의해 제공될 수 있다. 미리 준비된 나노스케일 입자들의 표면 변형이 수행되는 경우, 한편으로 나노스케일 입자성 고체들의 표면에 존재하는 반응성 기들과 반응하거나 적어도 상호작용이 가능한 하나 또는 그 이상의 기들(OH 기들, 예를들면 산화물의 경우)을 가지며, 그리고 다른 한편으로는 적어도 하나의 중합 및/또는 축중합이 가능한 기들을 함유하는 화합물들(바람직하게는 저 분자질량의)은 모두 이 목적에 적합하다. 나노스케일 입자들의 표면 변형은, 예를 들면 적당한 용매 및 촉매의 존재 하에 하기 기술되는 적합한 화합물들과 혼합함으로써 이루어질 수 있다. 표면 변형자들이 실란인 경우, 예를 들면 그것들을 실온에서 수 시간 동안 나노스케일 입자들과 함께 뒤섞으면 충분하다.
따라서 단순 상호작용들이, 예를 들면 쌍극자-쌍극자 상호작용들, 수소 결합 및 반 데르 발스 상호작용들을 포함하는 반면, 상응하는 화합물들은 예를 들면 공유 결합 뿐 아니라 이온(염) 또는 배위(복합) 결합들을 나노스케일 입자성 고체들의 표면에 형성할 수도 있다. 공유 결합 및/또는 배위 결합들의 형성이 바람직하다.
본 발명에 따라, 나노스케일 입자들의 표면에 존재하고 상대적으로 저 분자량을 갖는 중합 및/또는 축중합이 가능한 기들을 포함하는 유기 기들이 또한 바람직하다. 특히, (순수 유기)기들의 분자량은 600, 바람직하게는 400, 더 바람직하게는 300을 초과해서는 안된다. 이는 상당히 고분자량(예를 들면, 1000 또는 그 이상)인 이들 기들을 함유하는 화합물들(분자들)을 물론 배제하지 않는다.
나노스케일 무기 입자성 고체들의 표면들을 변형시키는데 사용될 수 있는 유기 화합물들의 예로서 불포화 카르복시산류, 중합이 가능한 이중 결합을 갖는 β-디케톤류 또는 β-카르보닐카르복시산류와 같은 β-디카르보닐 화합물류, 에틸렌적 불포화 알콜류 및 아민류, 아미노산류, 그리고 에폭시드류 및 디에폭시드류를 들 수 있다. 표면 변형으로 선호되는 화합물은 디에폭시드류 또는 β-디케톤류이다.
표면 변형을 위한 유기 화합물의 구체적인 예들로서, 3,4-에폭시사이클로헥실메틸 3,4-에폭시사이클로헥산카르복시산염, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실)아디프산염, 사이클로헥산디메탄올 디글리시딜 에테르, 네오펜틸글리콜 디글리시딜 에테르, 1,6-헥산디올 디글리시딜 에테르, 프로필렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 비스페 놀 A 디글리시딜 에테르, 비스페놀 F 디글리시딜 에테르와 같은 디에폭시드류, 및 아크릴산과 메타크릴산과 같은 불포화 카르복시산, 및 아세틸아세톤산염과 같은 β-디케톤류를 들 수 있다.
게다가 나노스케일 무기 입자성 고체들의 표면 변형을 위해 특히 바람직한 화합물들은 특히, 산화 입자들의 경우에 중합 및/또는 축중합이 가능한 기를, 바람직하게는 중합가능한 탄소-탄소 이중 결합 또는 에폭시 기를, 특히 (메타)크릴로일실란류 및 에폭시실란류를 갖는 적어도 (그리고 바람직하게) 하나의 가수분해할 수 없는 라디칼을 갖는 가수분해로 축합가능한 실란류이다. 이 종류의 실란류는 바람직하게는 하기 화학식(Ⅰ)을 갖고 있다:
X-R1-SiR2 3 (Ⅰ)
여기서 X는 CH2=CR3-COO, CH2=CH, 에폭시, 글리시딜 또는 글리시딜옥시, R3 는 수소 또는 메틸, R1은 1 내지 10 개의, 바람직하게는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 이가의 탄화수소 라디칼로서 서로 인접한 탄소 원자들을 분리하는 하나 또는 그 이상의 이형원자단(예를 들면, O, S, NH)을 필요하면 포함하며, 라디칼 R2 들은 서로 동일하거나 다른 것으로서 알콕시, 아릴옥시, 아크릴옥시 및 알킬카보닐 기들 , 그리고 할로겐 원자들(특히 F, Cl, 및/또는 Br)로부터 선택된다.
R2 기들은 서로 다를 수 있으나 바람직하게는 동일하다. R2 기들은 바람직하게는 할로겐 원자들, C1-4 알콕시 기들(예를 들면, 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시 및 부톡시), C6-10 아릴옥시 기들(예를 들면, 페녹시), C1-4 아크릴옥시 기들(예를 들면, 아세톡시 및 프로피오닐옥시) 및 C2-10 알킬카보닐 기들(예를 들면, 아세틸)로부터 선택된다. 특히 바람직한 라디칼 R2 는 C1-4 알콕시 기들, 특히 메톡시 및 에톡시이다.
라디칼 R1은 바람직하게는, 예를 들면 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌 및 헥실렌과 같은 1 내지 6 개의 탄소 원자들을 갖는 알킬렌 기이다. 만약 X가 CH2=CH 이라면, R1은 바람직하게는 메틸렌이고 이 경우에는 또한 단순하게 결합일 수 있다.
X 는 바람직하게는 CH2=CR3-COO (여기서 R3는 바람직하게는 CH3이다) 또는 글리시딜옥시이다. 따라서 화학식 (Ⅰ)의 특히 바람직한 실란류는, 예를 들면 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란 및 3-메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란과 같은 (메타)크릴로일옥시알킬트리알콕시실란류와, 예를 들면 3-글리시딜옥시프로필트리메톡시실란과 3-글리시딜옥시프로필트리에톡시실란과 같은 글리시딜옥시알킬트리알콕시실란류이다.
나노스케일 무기 입자성 고체들이 중합 및/또는 축중합이 가능한 기들을 갖 는 하나 또는 그 이상의 화합물들을 사용하여 실제로 제조되는 경우, 후속하는 표면 변형을 중지하는 것이 가능하며 이는 그러한 변형이 물론 추가 조치로서 가능함에도 불구하고 그러하다.
중합 및/또는 축중합이 가능한 표면 기들을 갖는 나노스케일 무기 입자성 고체들의 원위치(in situ) 제조는 SiO2 입자를 예로 들어 하기에 기술된다. 이 목적으로 예를 들면 SiO2 입자는 중합 및/또는 축중합이 가능한 기를 적어도 하나 갖으며 가수분해적 축중합이 가능한 실란을 적어도 하나 사용하는 졸-겔 공정에 의해 제조될 수 있다. 적합한 그러한 실란류로서 예를 들면, 상기 기술한 화학식 (Ⅰ)의 실란류를 들 수 있다. 이들 실란류는 단독으로 또는 화학식 (Ⅱ)의 적합한 실란과 배합하여 사용된다:
SiR2 4
여기서 R2는 상기에 정의되어 있다. 상기 화학식 (Ⅱ)의 바람직한 실란류는 테트라메톡시실란 및 테트라에톡시실란이다.
화학식 (Ⅱ)의 실란류에 대해 추가로 또는 그 대신으로, 또한 다른 가수분해 가능한 실란류, 예를 들면 메틸- 또는 페닐트리알콕시실란과 같이 중합 및/또는 축중합가능 기가 없고 가수분해할 수 없는 탄화수소 군을 적어도 하나 갖는 것들을 사용하는 것도 물론 가능하다. 이들은 화학식 (Ⅲ)의 실란류일 수 있다:
R4 nSiR2 4-n
여기서 R2는 상기에 정의되어 있고, 가수분해할 수 없는 라디칼 R4는 알킬 기, 바람직하게는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, s-부틸 및 t-부틸, 펜틸 또는 헥실과 같은 C1-6 알킬, 예를 들면 사이클로헥실과 같은 5 내지 12개의 탄소 원자를 갖는 사이클로알킬기, 또는 아릴기, 바람직하게는 페닐 또는 나프틸과 같은 C6-10 아릴기이며, n 은 1, 2 또는 3, 바람직하게는 1 또는 2, 특히 1이다. 상기 라디칼 R4는 필요하면, 예를 들면 할로겐, 에테르, 인산, 술폰산, 시아노, 아미도, 메르캅토, 티오에테르 또는 알콕시 기들과 같은 통상의 치환기들을 하나 또는 그 이상 가질 수 있다.
본 발명의 공정에서 전술한 나노스케일 무기 입자성 고체들을 포함하는 코팅 조성은 폴리머 필름 또는 이미 적용되어 온 층에 적용된다. 적용된 코팅 조성은 특히 코팅 졸, 즉 상기 정의된 중합 및/또는 축중합이 가능한 유기 표면 기들을 갖는 나노스케일 무기 입자고체들의 용매 또는 용매 혼합물 중 분산이다. 코팅 조성은 적용시 유체(fluid)이다.
용매는 당업자에게 알려진 용매일 수 있다. 예를 들면, 용매는 물 및/또는 유기 용매일 수 있다. 유기 용매는 바람직하게는 물과 섞일 수 있다. 적합한 유기 용매들의 예들로 알콜류, 에테르류, 케톤류, 에스테르류, 아미드류 및 그것들의 혼합물들을 들 수 있다. 바람직하게는 예를 들면 지방족(aliphatic) 또는 지환식(alicyclic) 알콜류와 같은 알콜류 또는 알콜 혼합물을 용매로서 사용하는 것이며, 모노수소화(monohydric) 알콜류가 바람직하다. 바람직한 알콜류는 1 내지 8, 바람직하게는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 가지형 일가 알카놀류이다. 특히 선호되는 알콜류는 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 2-프로판올, n-부탄올, 2-부탄올, 이소부탄올, tert-부탄올 또는 그것들의 혼합물이다.
용매 또는 그 일부는 또한 나노스케일 입자들의 제조 중에 또는 그 표면 변형 동안에 형성될 수도 있다. 예를 들면, 알콕시실란류로부터 SiO2 입자들의 제조는 상응하는 알콜류의 유리가 수반되며, 이들이 용매로서 작용할 수 있다.
본 발명에 따르는 코팅을 위한 코팅 졸들은 그것들이 적용을 위해 고도로 희석된 형태로 사용될 때 특히 적합하다는 것이 놀랍게도 밝혀졌다. 적용되는 코팅 졸의 총 고체 함량은 특히 20 중량% 이하, 바람직하게는 15 중량% 이하, 더 바람직하게는 7 중량% 이하이다. 총 고체 함량은 편의상 적어도 0.5 중량%, 바람직하게는 적어도 1 중량%, 더 바람직하게는 적어도 2.5 중량%이다.
만일 코팅 졸의 총 고체 함량이 20 중량% 이하라면, 폴리머 필름들 위에 뛰어난 코팅을 얻을 수 있다. 만약 코팅 졸이 낮은 비율로 희석(즉 상대적으로 총 고체 함량의 비율이 높음)이 된 경우에는, 코팅의 높은 습식 필름 두께는 달성될 수 없다. 적용되는 코팅 졸의 적합한 습식 필름 두께는 일반적으로 낮은 ㎛ 범위, 즉 0.5 ㎛ 내지 20 ㎛ 사이에 놓인다.
코팅 졸의 추가 구성요소는, 예를 들면 나노스케일 입자들의 표면 위에 존재하는 중합 및/또는 축중합이 가능한 기들과 반응(중합 및/또는 축중합)할 수 있는 적어도 하나의 기를 갖는 적어도 하나의 모노머 또는 올리고머 종들일 수 있다. 그런 적합한 종들에는, 예를 들면 아크릴산염, 메타크릴산염, 스티렌, 비닐 아세트산염 및 염화 비닐과 같은 중합가능 이중 결합을 갖는 모노머들을 포함한다. 하나 이상의 중합가능 결합을 갖는 바람직한 모노머 화합물들은, 특히 화학식 (Ⅳ)의 것들이다:
(CH2=CR3-COZ-)m-A
여기서
m = 2, 3 또는 4, 바람직하게는 2 또는 3, 더 바람직하게는 2,
Z = O 또는 NH, 바람직하게는 O,
R3 = H, CH3,
A = 2 내지 30, 특히 2 내지 20 개의 탄소 원자를 갖으며, 두 개의 인접한 탄소 원자들 사이에서 각 경우에 존재하는 하나 또는 그 이상의 이형원자 기들을 함유할 수 있는 m-가 탄화수소 라디칼(그러한 이형원자 기들의 예들로서 O, S, NH, NR(R= 탄화수소 라디칼), 바람직하게는 O).
탄화수소 라디칼 A 는 또한, 바람직하게는 할로겐(특히 F, Cl, 및/또는 Br), 알콕시(특히 C1-4 알콕시), 히드록실, 비치환 또는 치환 아미노, NO2, OCOR5, COR5(R5 = C1-6 알킬 또는 페닐)로부터 선택되는 하나 또는 그 이상의 치환기들을 갖을 수 있다. 그러나 바람직하게는 라디칼 A는 비치환, 또는 할로겐 및/또는 히드록실에 의해 치환된다.
본 발명 A의 한 구체적인 예는 지방족 디올, 알킬렌 글리콜, 폴리알킬렌 글리콜 또는 임의적으로 알콕시화(예를 들면, 에톡시화)된 비스페놀(예를 들면, 비스페놀 A)로부터 유도된다.
하나 이상의 이중 결합을 갖는 추가의 유용한 화합물들에는, 예를 들면 알릴 (메타)크릴산염, 디비닐벤젠 및 디알릴 프탈산염이 있다. 유사하게 둘 또는 그 이상의 에폭시 기들을 갖는 화합물, 예를 들면 비스페놀 A 디글리시딜 에테르 또는 그 밖에, 글리시드옥시프로필트리메톡시실란과 같은 에폭시-기능 가수분해가능 실란의 (올리고머성)선응축물(precondensate)이 사용(에폭시드-함유 표면 기들이 사용되는 경우)될 수 있다.
본 발명에 따라 사용되는 코팅 졸들에서 유기 성분들의 분획은 총 고체 함량에 기초하여 바람직하게는 20 중량% 이하, 예를 들면 4 내지 15 중량%이다. 높은 굴절률을 갖는 층들에 대해서는, 예를 들면 5 중량%, 낮은 굴절률을 갖는 층들에 대해서는 예를 들면 15 중량%일 수 있다. 그러나 바람직하게는 그러한 유기 성분들 은 사용되지 않는다.
필요하면 필름 코팅을 위한 통례의 추가 첨가물들이 또한 코팅 졸에 첨가될 수 있다. 예를 들면 광학적 기능들의 운반체들로서의 열적 또는 광화학적 교차결합개시제들, 증감제들(sensitizers), 습윤 보조제들(wetting auxiliaries), 접착 촉진제들(adhesion promoters), 평활제들(leveling agents), 산화방지제들(antioxidants), 안정제들, 교차결합제들 및 금속 콜로이드들을 예로 들 수 있다. 사용될 수도 있으며 나중에 설명되는 열적 또는 광화학적 교차결합개시제들 외에, 그러나 코팅 졸은 그 이상의 성분들을 함유하지 않는다; 다시 말하면, 코팅 졸 또는 코팅 조성은 바람직하게는 중합 및/또는 축중합이 가능한 유기 표면 기들을 갖는 나노스케일 입자성 고체들, 용매 또는 용매들, 그리고 필요하면 하나 또는 그 이상의 열적 또는 광화학적 교차결합개시제들로 이루어진다.
다른 경질의 기재들과 달리, 필름들은 유연성이 있고 그러므로 특수한 코팅 기술들 및 코팅 조성을 필요로 한다. 코팅되는 폴리머 필름은 그 기술에서 통례의 전통적인 필름, 예를 들면 유한한 길이 또는 바람직하게는 무한 필름(연속 필름)일 수도 있다. 구체적인 예들로, 예를 들면 HDPE 또는 LDPE와 같은 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리이소부틸렌, 폴리스티렌, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리클로로트리플루오로에틸렌, 폴리(메타)크릴레이트, 폴리아미드, 테레프탈산 폴리에틸렌, 폴리카보네이트, 재생된 셀룰로오스, 니트로 셀룰로오스, 초산 셀룰로오스, 셀룰로오스 트리아세테이트(TAC), 아세트산 부티르산 셀룰로오스 또는 염산고무를 들 수 있다. 폴리머 필름은 바람직하게는 투명하다. 물 론 또한, 예를 들면 상기 언급된 재료들로부터 형성된 복합 필름들을 사용하는 것도 가능하다.
폴리머 필름은 미리 처리될 수도 있다. 본 발명에 따르는 코팅에 앞서, 그것이 예를 들면 코로나 처리(corona treatment)를 받거나, 예를 들면 접착을 촉진하기 위해, 내긁힘성(scratch-resistant) 코팅 또는 항섬광(antiglare) 코팅으로서 선코팅되어 제공될 수도 있다.
본 발명의 공정의 a) 단계에서 코팅 졸은, 상기 필름의 전부 또는 부분(한 측면 위에) 코팅을 하기 위해 필름 코팅 공정으로서 폴리머 필름에 적용된다. 코팅은 개개의 필름 섹션들 또는 바람직하게는 연속 코팅 공정에서 이루어진다. 적합한 코팅 공정들은 당업자에게 알려진 통상적인 필름 코팅 공정들이다. 그것들의 예들로서 나이프 코팅(닥터 블레이드 코팅공정), 슬롯 다이 코팅, 나선 스크레이퍼들에 의한 키스 코팅, 메니스커스 코팅, 롤 코팅 또는 리버스-롤 코팅을 들 수 있다.
본 발명의 공정을 위해, 리버스-롤 코팅이 특히 적당하다고 입증되었다. 이 공정에서, 코팅 졸은 딥 롤(dip roll)에 의해 처리되고, 트랜스퍼 롤(transfer roll)을 사용한 메니스커스 코팅 단계를 거쳐 가압 롤[pressure roll; 마스터 롤(master roll)]로 이동된다. 롤들과 드라이버들의 적당하게 높은 정밀도가 주어진다면, 두 롤들 사이의 닙(nip)은 충분히 일정하다. 가압 롤 위에 존재하는 습식 필름은 그리고 나서 보통 완전히 기재 필름 위에 축적된다. 결과적으로, 기재 필름 위에 축적된 습식 필름의 두께는 기재 필름의 두께에서의 요동(fluctuation)과 독립적이다. 리버스-롤 공정의 사용을 통해, 놀랍게도 특히 정밀하고 균일한 다층 간섭계들을 폴리머 필름들에 적용하는 것이 가능하고, 그래서 이 공정의 사용은 본 발명의 공정의 하나의 특히 바람직한 구현예를 구성한다.
이 필름에 적용되기 전에, 코팅 졸은, 예를 들면 용매의 첨가로써 적합한 점성도 또는 적합한 고체 함량으로 조정될 수 있다. 이는 특히 상기 기술한 고도로 희석된 코팅 졸들의 제조를 포함한다. 적용은, 특히 교차결합이 열 처리에 의해 수행되지 않을 때, 건조 단계에 선행할 수도 있다.
본 발명의 공정의 b) 단계에서, 나노스케일 무기 입자성 고체들의 중합 및/또는 축중합이 가능한 표면 기들은 (추가적으로 사용되는 모노머 또는 올리고머 종들의 중합 및/또는 축중합이 가능한 기들에 의해 적절한 경우) 교차결합된다. 교차결합은 당업자에게 익숙한 방식으로 통례의 충합 및/또는 축중합 반응들에 의해 수행되어질 수 있다.
적합한 교차결합 방법들의 예들로서 열적 및 광화학적(예를 들면, UV) 교차결합, 전자 빔 큐어링(electron beam curing), 레이저 큐어링 또는 실온 큐어링을 들 수 있다. 교차결합은, 필름에 적용하기 바로 전보다 늦지 않게 코팅 졸에 첨가하는 적당한 촉매 또는 개시제의 존재 하에 적절한 경우에 일어난다.
적합한 개시제들/개시제 계들은 자유-라디칼 광개시제들, 자유-라디칼 열개시제들, 양이온 광개시제들, 양이온 열개시제들 및 그것들의 원하는 조합들을 포함하는, 당업자에게 알려진 모든 보통의 개시제들/개시제 계들을 포함한다.
사용될 수 있는 자유-라디칼 광개시제들의 구체적인 예들로, 시바-가이지(Ciba-Geigy)사로부터 입수할 수 있는 이르가쿠레(Irgacure)
Figure 112004042823579-pct00002
184 (1-히드록시사이 클로헥실 페닐 케톤), Irgacure
Figure 112004042823579-pct00003
500 (1-히드록시사이클로헥실 페닐 케톤, 벤조페논) 및 기타 Irgacure
Figure 112004042823579-pct00004
광개시제들; 다로쿠르(Darocur)
Figure 112004042823579-pct00005
1173, 1116, 1398, 1174 및 1020 (Ciba-Geigy사로부터 입수가능함); 벤조페논, 2-클로로티오잰톤, 2-메틸티오잰톤, 2-이소프로필티오잰톤, 벤조인, 4,4’-디메톡시벤조인, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤질 디메틸 케탈, 1,1,1-트리클로로아세토페논, 디에톡시아세토페논 및 디벤조수베론(dibenzosuberone)을 들 수 있다.
자유-라디칼 열개시제들의 예들로, 디아실 과산화물류, 과산화디카보네이트류, 알킬 과에스테르류, 알킬 과산화물류, 과케탈류, 케톤 과산화물류, 및 알킬 히드로과산화물류 형태의 유기 과산화물류, 그리고 아조 화합물류를 포함한다. 여기서 언급될 수도 있는 구체적인 예들은, 특히 디벤조일 과산화물, tert-부틸 과벤조산염 및 아조비스이소부티로니트릴을 포함한다. 교차결합을 위해 에폭시 기들이 존재하는 경우, 열개시제들로서 아민 기들을 포함하는 화합물들을 사용하는 것이 가능하다. 아미노프로필트리메톡시실란을 예로 들 수 있다.
양이온 광개시제의 일례로 시라쿠레(Cyracure)
Figure 112004042823579-pct00006
UVI-6974 를 들 수 있는데, 바람직한 양이온 열개시제는 1-메틸이미다졸이다.
이들 개시제들은 당업자에게 알려진 표준 양, 예를 들면 코팅 졸의 총 고체 함량에 기초하여 0.01 내지 5 중량%, 특히 0.1 내지 2 중량%으로 사용될 수도 있다. 어떤 경우들에 있어서는, 특정 환경들 하에서 전혀 개시제 없이 하는 것도 물론 가능하다.
본 발명의 공정의 b) 단계에서의 교차결합은 바람직하게는 열적으로 또는 방사선 조사(특히 UV 광)에 의해 이루어진다. 통상의 광원들, 특히 예를 들면 수은 증기 램프, 크세논 램프 및 레이저 광과 같은 UV 광을 방출하는 것들이 광중합 반응을 위해 사용될 수 있다. 열 처리에 의해 교차결합되는 경우, 적당한 온도 범위는, 특히 나노스케일 무기 입자성 고체들의 현존하는 중합 및/또는 축중합이 가능한 표면 기들, 사용되는 개시제들, 희석의 정도 및 처리 지속 시간에 자연히 의존한다.
그러나 일반적으로 말하면, 교차결합을 위한 열 처리는 80 내지 200℃, 바람직하게는 100 내지 140℃의 온도 범위에서 일어난다. 처리 지속 시간은, 예를 들면 30 초 내지 5 분, 바람직하게는 1 분 내지 2 분 일 수 있다. b) 단계는 중합 및/또는 축중합이 가능한 표면 기들에 의해 발생하는 적어도 부분적인 교차결합에 같이 수행되어진다; 또한 중합 및/또는 축중합이 가능한 표면 기들의 대체로 모든 것들이, 비록 모두는 아닐지라도, 이 단계에서 교차결합을 위한 반응에 의해 소모되는 것이 가능하다.
열 처리 과정에서, 추가의 휘발성인 요소들, 특히 용매는 교차결합 전, 그 동안 또는 그 후, 일반적으로는 교차결합과 동시에 코팅 조성으로부터 증발할 수 있다. 교차결합을 위해 열 처리가 수행되지 않는 경우, (건조를 위한) 열 처리는 교차결합 다음으로 수행될 수도 있다.
코팅 조성이 적용되는 비율은 원하는 굴절률 및 적용 영역의 함수로서, 일반적으로 50 내지 200 nm, 바람직하게는 100 내지 150 nm 의 범위의 두께를 갖는 건 조 필름을 얻기 위한 수단으로서 선택된다.
c), d) 및,적당한 경우, e) 단계에 따라, 하나 또는 그 이상의 층들이, 층들의 원하는 조립체가 얻어질 때까지 a) 및 b) 단계와 유사하게, 형성된 적어도 부분적으로 유기적으로 교차결합된 층에 적용된다. 최종(최상)층의 경우에는, 각 b) 및/또는 d) 단계로서 분리된 교차결합단계에 대한 절대적인 요구가 더 이상 있지 않다; 대신에, 교차결합은 원한다면 층 조립체를 후처리하기 위해, 적절한 경우 수행되어지는, 마지막 열 처리 f) 단계와 함께 직접적으로 수행될 수 있다.
층 조립체는 원한다면 f) 단계에서 열 처리된다. 층 조립체의 이 열 처리를 수행하는 것이 바람직하다. 열 처리는 더 단단한 코팅을 가져온다. 열 처리는 자연히 필름에 그리고 층들의 조성에 의존한다. 그러나 일반적으로 말하면, 마지막 열 처리는 80 내지 200℃, 바람직하게는 100 내지 160℃, 더 바람직하게는 110 내지 130℃의 온도 범위에서 이루어진다. 열 처리의 지속 시간은, 예를 들면 10 분 내지 2 시간, 바람직하게는 30 분 내지 1 시간이다. 이는 균열이나 다른 결함없이 폴리머 필름 위에 다층 간섭계들이 입혀지도록 한다.
층 조립체의 마지막 열 처리는, 층들 및/또는 층 조립체 안에서, 예를 들면 유기적인 교차결합의 실질적인 완료에 이르게 할 수도 있고, 또는, 적절한 경우, 남아 있는 용매를 제거할 수도 있다. 열 처리 동안 입자성 고체들의 표면 위에 여전히 존재하는 반응성 기들(예를 들면, SiO2 입자들 위의 (Si)-OH 기들) 사이에 축합 반응들이 아마 또 일어날 것이어서, 층들 안의 고체 입자들은 상기 설명한 유 기 교차결합 뿐 아니라 무기 축합 반응들에 의해서도 서로 결합된다.
하나의 특히 바람직한 구현예로서, 다층 간섭계를 갖는 완성된 폴리머 필름에서 400 nm 과 650 nm 사이의 파장 범위에서 0.5% 이하의 잔류 반사치들(residual reflection values)과 550 nm 파장에서 0.3% 이하의 잔류 반사치들이 얻어지는, 그러한 코팅 조성들을 선택하는 것이 가능하다.
최후 적용에 따라서, 그 이상의 처리 단계들이 이어질 수도 있다. 다층 계를 갖는 측의 반대 측 위에, 예를 들면 코팅된 필름은 접착층(adhesive layer)이, 적절한 경우, 상층(top layer)이 제공될 수도 있다. 접착층은, 예를 들면 기재에의 적층에 이바지할 수 있다. 연속 필름은 최후 적용에 적합한 크기로 얻기 위해 잘려질 수 있다.
다층 간섭계를 갖는 본 발명의 폴리머 필름은 특히 광학적 적층 필름, 예를 들면 필름들 및 경질의 기재들로서 적합하다. 따라서 본 발명은 또한, 바람직하게는 경질이고 바람직하게는 유리 또는 플라스틱을 함유하며 및/또는 바람직하게는 투명하며, 본 발명의 폴리머 필름이 그 위에 적층되는 기재를 포함하는 복합 재료를 제공한다. 물론 그 기재는 양 측에 광학적 적층 필름이 또한 제공될 수 있다.
적합한 적층 기술들은 당업자에게 알려져 있고, 어떠한 통례의 적층 기술들이라도 채택될 수 있다. 연결(joining)은, 예를 들면 필름, 기재 또는 둘 모두에 적용될 수도 있는 접착층에 의해 이루어진다.
본 발명에 따라 제조된 다층 간섭계를 갖는 폴리머 필름 또는 그에 상응하는 복합 재료들은, 예를 들면 반사 방지계들, 특히 섬광을 감소시키기 위한 것, 반사계들, 반사 필터들, 그리고 조명 목적 또는 장식 목적의 컬러 필터들로서 적합하다.
본 발명에 따라 제조된 다층 간섭계를 갖는 폴리머 필름 및 그에 상응하는 복합 재료들의 구체적인 적용예들은 다음을 포함한다:
- 예를 들면 빌딩의 스크린 또는 창, 상점 창 및 그림의 창유리와 같은 건축 영역에서의 가시광선을 위한, 온실(glasshouse)을 위한, 예를 들면 자동차, 트럭, 모터바이크, 보트 및 항공기들과 같은 운송 수단 안에서의 창유리를 위한 반사 방지계들 및 반사 방지 코팅들;
- 광학적 및/또는 장식적 효과, 장식 목적을 위한 불투명 기재들 위의 적층을 갖는 롤 형식으로 코팅된 필름들;
- NIR 반사 필터들;
- 섬광 방지 코팅(NIR, Vis), 예를 들면 광전지 및 다른 광학적 적용들(태양 전지들, 태양 에너지 수집기들);
- 조명 또는 장식 목적의 컬러 필터들;
- 화재 방지용 및 열적 보호용 적용들을 위한 IR 반사 코트;
- UV 반사 필름; 및
- 레이저 거울들.
하기 실시예는 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되지는 않는다.
삼중(triple) 반사 방지 코트(coat)의 생산
1. 코팅 졸들의 합성
반사 방지 코팅 졸들 M, H 및 L(M: 중간 굴절률을 갖는 층을 위한 졸, H: 높은 굴절률을 갖는 층을 위한 졸, L: 낮은 굴절률을 갖는 층을 위한 졸)은 세 가지의 기초(base) 졸들(H, Lr 및 Lo)로부터 제조하였다.
1.1 기초 졸들의 합성 (실온)
a) 기초 졸 H
HCl(16.9%) 12.12 g을 2-프로판올 400 g과 1-부탄올 400 g의 혼합물에 첨가하였다. 티타늄 이소프로폭시드 79.61 g은 교반하면서 용매 혼합물에 추가하였다. 합성은 24 시간 동안 교반 후 완료된다.
b) 기초 졸 Lr
테트라에톡시실란 105.15 g을 에탄올 60 g에 용해시켰다. 부가적으로, 용액은 HCl(0.69%) 41.5 g과 에탄올 60 g으로부터 제조하였고, 교반하면서 테트라에톡시실란/에탄올 혼합물에 추가하였다. 2 시간 동안 반응 후에, 졸은 2-프로판올 500 g 및 1-부탄올 500 g으로 희석하였다.
c) 기초 졸 Lo
테트라메톡시실란 360.8 g을 에탄올 319.2 g에 용해시켰다. 부가적으로, 용액은 HCl(37%) 6.9 g, 물 362.5 g 및 부탄올 319.2 g으로부터 제조하였다. 이 용액은 교반하면서 테트라메톡시실란/에탄올 혼합물에 추가하였다. 합성은 2 시간 동안 교반 후 완료된다.
1.2 코팅 졸들의 제조(졸 약 1 ℓ)
a) 졸 M
기초 졸 Lr 76.8 g을 기초 졸 H 419.2 g과 함께 혼합하였다. 1,4-사이클로헥산디메탄올 디글리시딜 에테르(CHMG) 2.976 g은 이 혼합물에 교반하면서 적가하였다. 그 졸은 1-부탄올 321.6 g으로 희석하였다.
b) 졸 H
1,4-사이클로헥산디메탄올 디글리시딜 에테르(CHMG) 1.2 g을 기초 졸 H 480 g 에 교반하면서 적가하였다. 졸은 1-부탄올 321.6 g으로 희석하였다.
c) 졸 L
기초 졸 Lo 201.6 g은 1-부탄올 624 g으로 희석하였다. 미리 가수분해된 글리시딜옥시프로필트리메톡시실란(0.1N HCl(0.5 mol/mol OR)로 가수분해) 1.44 g을 이 혼합물에 추가하였고, 그리고 나서 용매는 회전 증발기로 제거하였다. 부가적으로, 열개시제로서 아미노프로필트리메톡시실란 0.072 g을 이 혼합물에 추가하였다.
2. 폴리머 필름의 코팅
사용된 폴리머 필름은 50 ㎛ 두께를 갖는 트리아세테이트(TAC) 필름이고 내긁힘성 코팅이었다. 상기 코팅 졸들 M, H 및 L은 리버스-롤 코팅 단위(모델 BA12300, 베르너 마티스 아게(Werner Mathis AG)사, 스위스)의 도움으로 연속하여 폴리머 필름에 적용하였다. 총 3개의 코팅들에 대한 필름 장력은 60 N 이다. 총 3개의 적용된 코팅들의 최초 교차결합은 2 분 동안 120℃ 오븐 온도에서 수행되었다. 후처리를 위해 롤 형식으로 적용된 층 조립체는 예열된 오븐에서 30 분 동안 120℃에서 처리되었고, 그리고 나서 제거되었으며 실온으로 냉각되었다. 그 결과는 원하는 간섭 성질을 갖으며 폴리머 필름 위의 결점없는 다층 간섭계였다.
3 개의 층들의 적용을 위해, 하기의 코팅 파라미터들은 리버스-롤 코팅으로 조정되었다:
졸 롤러 회전 속력(m/min) 닙(㎛)
M 딥 롤러 왼쪽 1.0
트랜스퍼 롤러 왼쪽 1.0 딥 및 트랜스퍼 롤 사이 = 100
마스터 롤러 오른쪽 1.0 트랜스퍼 및 마스터 롤 사이 = 100
H 딥 롤러 왼쪽 1.0
트랜스퍼 롤러 왼쪽 1.0 딥 및 트랜스퍼 롤 사이 = 150
마스터 롤러 오른쪽 1.0 트랜스퍼 및 마스터 롤 사이 = 100
L 딥 롤러 왼쪽 1.0
트랜스퍼 롤러 왼쪽 1.0 딥 및 트랜스퍼 롤 사이 = 100
마스터 롤러 오른쪽 1.0 트랜스퍼 및 마스터 롤 사이 = 100

Claims (15)

  1. 적어도 2개의 층을 포함하는 다층 광학 간섭계가 코팅된 폴리머 필름으로서, 상기 층들 각각은, 중합 및/또는 축중합이 가능한 유기 표면 기들을 표면에 갖는 나노스케일 무기 입자성 고체들을 포함하는 코팅 조성물을 교차결합시켜서 상기 중합 및/또는 축중합이 가능한 유기 표면 기들에 의해서 교차결합되는 층을 형성함으로써 얻어지며,
    상기 나노스케일 무기 입자성 고체들은 200 nm 이하의 평균입자크기를 가지되, SiO2, TiO2, ZrO2, ZnO, Ta2O5, SnO2, Al2O3, 보에마이트, AlO(OH) 및 이들의 혼합물 중에서 선택되고,
    상기 중합 및/또는 축중합이 가능한 유기 표면 기들은 아크릴로일, 메타크릴로일, 비닐, 알릴 또는 에폭시 기를 가진 유기 라디칼 중에서 선택되는,
    다층 광학 간섭계로 코팅된 폴리머 필름.
  2. 제1항에 있어서, 나노스케일 무기 입자성 고체들이 SiO2 및/또는 TiO2 중에서 선택되는 것임을 특징으로 하는 폴리머 필름.
  3. 삭제
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 적어도 2개의 적용된 층들이 열처리시킨 것임을 특징으로 하는 폴리머 필름.
  5. 기재 및 그 위에 적층된 제1항 또는 제2항에 있어서의 폴리머 필름을 포함하는 복합 재료.
  6. a) 중합 및/또는 축중합이 가능한 유기 표면 기들을 표면에 갖는 나노스케일 무기 입자성 고체들을 포함하는 코팅 졸을 폴리머 필름에 적용하는 단계,
    b) 상기 입자성 고체들의 중합 및/또는 축중합이 가능한 유기 표면 기들을 교차결합시켜서 적어도 부분적으로 유기적으로 교차결합된 층을 형성시키는 단계,
    c) 중합 및/또는 축중합이 가능한 유기 표면 기들 및 하기 코팅 졸과 다른 굴절률을 갖는 나노스케일 무기 입자성 고체들을 포함하는 추가의 코팅 졸을 상기 적어도 부분적으로 유기적으로 교차결합된 층에 적용하는 단계,
    d) 상기 입자성 고체들의 중합 및/또는 축중합이 가능한 유기 표면 기들을 교차결합시켜서 추가의 층을 형성시키는 단계,
    e) 만약 필요하면, c) 및 d) 단계를 한 번 또는 그 이상 반복하여 적어도 부분적으로 유기적으로 교차결합된 층을 형성시키는 단계, 및
    f) 만약 필요하면, 최상층에 대한 d) 단계와 함께 이 단계를 수행하는 것이 가능하다면 층 조립체에 열처리하는 단계를 포함하고,
    상기 나노스케일 무기 입자성 고체들은 200 nm 이하의 평균입자크기를 가지되, SiO2, TiO2, ZrO2, ZnO, Ta2O5, SnO2, Al2O3, 보에마이트, AlO(OH) 및 이들의 혼합물 중에서 선택되고,
    상기 중합 및/또는 축중합이 가능한 유기 표면 기들은 아크릴로일, 메타크릴로일, 비닐, 알릴 또는 에폭시 기를 가진 유기 라디칼 중에서 선택되며,
    다른 굴절률들을 갖는 적어도 2개의 층을 갖는 다층 간섭계로 코팅된 폴리머 필름의 생산방법.
  7. 제6항에 있어서, f)단계에 따라 층 조립체의 열 처리가 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제6항 또는 제7항에 있어서, 20 중량% 이하의 총 고체 함유량을 갖는 코팅 졸이 적용되는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제6항 또는 제7항에 있어서, 적어도 부분적으로 유기적으로 교차결합된 층(들)의 형성이 80℃ 내지 200℃ 범위의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제6항 또는 제7항에 있어서, 층 조립체의 열 처리가 80℃ 내지 100℃ 범위의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제6항 또는 제7항에 있어서, 층들이 리버스-롤 코팅에 의해 적용되는 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 제1항에 있어서, 복합 재료의 반사방지계, 반사계, 반사 필터 또는 컬러 필터의 제조용으로 사용되는 폴리머 필름.
  13. 제5항에 있어서, 기재가 유리 또는 플라스틱 기재인 것을 특징으로 하는 복합 재료.
  14. 제8항에 있어서, 적용된 코팅 졸이 15 중량% 이하의 총 고체 함유량을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제5항에 있어서, 복합 재료의 반사방지계, 반사계, 반사 필터 또는 컬러 필터의 제조용으로 사용되는 복합 재료.
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