KR100938012B1 - 기판 처리 장치 및 그 장치의 분석 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 기판을 수용하는 수용실과, 상기 수용실에 가스를 도입하는 가스 도입 장치를 구비하고, 상기 수용실은 상기 기판에 상기 가스를 이용하여 사전 결정된 처리를 실시하는 처리 공간을 갖는 기판 처리 장치에 있어서,상기 수용실 도입 전의 가스를 분석하는 도입 전 가스 분석 장치와,상기 처리 공간 통과 후의 가스를 분석하는 통과 후 가스 분석 장치와,상기 수용실 도입 전의 가스 분석 결과 및 상기 처리 공간 통과 후의 가스 분석 결과에 근거하여 상기 수용실 내의 상태를 검지하는 상태 검지 장치를 구비하되,상기 상태 검지 장치는,복수의 상기 기판에 상기 사전 결정된 처리를 실시하기 전에 있어서의 상기 수용실 도입 전의 가스 분석 결과에 대한 상기 처리 공간 통과 후의 가스 분석 결과의 비를 산출하고,상기 복수의 상기 기판에 상기 사전 결정된 처리를 실시한 후에 있어서의 상기 수용실 도입 전의 가스 분석 결과에 대한 상기 처리 공간 통과 후의 가스 분석 결과의 비를 산출하고,상기 복수의 상기 기판에 상기 사전 결정된 처리를 실시하기 전에 있어서의 비 및 상기 복수의 상기 기판에 상기 사전 결정된 처리를 실시한 후에 있어서의 비가 같아지도록, 상기 복수의 상기 기판에 상기 사전 결정된 처리를 실시한 후에 있어서의 상기 처리 공간 통과 후의 가스 분석 결과를 보정하는 분석 결과의 보정값을 산출하고,상기 수용실 내의 상태의 검지를 행하는 경우에 대응하는 상기 사전 결정된 처리를 개시하고, 해당 처리에서의 상기 처리 공간 통과 후의 가스 분석 결과를 측정하고, 상기 산출된 분석 결과의 보정값을 이용하여 상기 처리 공간 통과 후의 가스 분석 결과를 교정하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 상태 검지 장치는, 상기 교정된 상기 처리 공간 통과 후의 가스 분석 결과에 근거하여 상기 수용실 내의 상태의 검지를 행하는 경우에 대응하는 상기 사전 결정된 처리의 종점을 검출하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 수용실 내를 배기하는 배기계를 갖고, 상기 통과 후 가스 분석 장치는 상기 배기계에 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 수용실은 상기 처리 공간의 플라즈마의 하류로의 유출을 방지하는 배기판을 갖고, 상기 배기계는 고분자 진공 펌프를 갖고, 상기 통과 후 가스 분석 장치는 상기 배기판 및 상기 고분자 진공 펌프 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 통과 후 가스 분석 장치는 상기 수용실에 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 도입 전 가스 분석 장치 및 상기 통과 후 가스 분석 장치의 적어도 한쪽은, 가스를 취입하는 가스 취입실과, 상기 가스 취입실 내에 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생 장치와, 상기 플라즈마에 의해서 여기된 상기 가스 중의 원자 또는 분자의 발광을 분광하여, 발광 강도를 측정하는 분광 측정 장치를 갖는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 도입 전 가스 분석 장치 및 상기 통과 후 가스 분석 장치의 적어도 한쪽은, 질량 분석기인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 도입 전 가스 분석 장치 및 상기 통과 후 가스 분석 장치의 적어도 한쪽은, 퓨리에 변환 적외 분광 광도계인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 도입 전 가스 분석 장치 및 상기 통과 후 가스 분석 장치의 적어도 한쪽은, 상기 가스가 흐르는 가스관과, 상기 가스관 내에 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생 장치와, 상기 가스관 내에서의 플라즈마 발생 중심부보다 하류의 장잔 광(after glow)를 분광하여 발광 강도를 측정하는 분광 측정 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 기판 처리 장치에는, 상기 기판을 상기 기판 처리 장치에 반출입하는 기판 반송 장치가 접속되고,상기 기판 반송 장치는 상기 기판 반송 장치 내의 가스를 분석하는 가스 분석 장치를 갖는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 10 항에 있어서,상기 기판 반송 장치는, 상기 기판 반송 장치 내의 가스를 배기하는 제 2 배기계를 갖고, 상기 가스 분석 장치는 상기 제 2 배기계에 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 10 항에 있어서,상기 기판 반송 장치는 상기 기판을 일단 수용하는 제 2 수용실을 갖고, 상기 가스 분석 장치는 상기 제 2 수용실에 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 기판을 수용하는 수용실과, 상기 수용실에 가스를 도입하는 가스 도입 장치를 구비하고, 상기 수용실은 상기 기판에 상기 가스를 이용하여 사전 결정된 처리를 실시하는 처리 공간을 갖는 기판 처리 장치에 있어서,상기 수용실 도입 전의 가스를 분석하는 도입 전 가스 분석 장치와,상기 처리 공간 통과 후의 가스를 분석하는 통과 후 가스 분석 장치와,상기 수용실 도입 전의 가스 분석 결과 및 상기 처리 공간 통과 후의 가스 분석 결과에 근거하여 상기 수용실 내의 상태를 검지하는 상태 검지 장치를 구비하되,상기 상태 검지 장치는, 상기 수용실의 유지 보수 전후에서의 상기 수용실 도입 전의 가스 분석 결과가 같아지는 경우에, 상기 수용실의 유지 보수 전후 사이의 상기 처리 공간 통과 후의 가스 분석 결과의 변동량을 산출하여, 상기 산출된 변동량을 이용하여 상기 처리 공간 통과 후의 가스 분석 결과를 교정하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 13 항에 있어서,상기 수용실의 유지 보수에는, 부품 교환, 부품 세정 또는 상기 수용실 내의 드라이 클리닝이 해당하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 기판을 수용하는 수용실과, 상기 수용실에 가스를 도입하는 가스 도입 장치를 구비하고, 상기 수용실은 상기 기판에 상기 가스를 이용하여 사전 결정된 처리를 실시하는 처리 공간을 갖는 기판 처리 장치의 분석 방법으로서,상기 수용실 도입 전의 가스를 분석하는 도입 전 가스 분석 단계와,상기 처리 공간 통과 후의 가스를 분석하는 통과 후 가스 분석 단계와,상기 수용실 도입 전의 가스 분석 결과 및 상기 처리 공간 통과 후의 가스 분석 결과에 근거하여 상기 수용실 내의 상태를 검지하는 상태 검지 단계를 갖되,상기 상태 검지 단계에서는,복수의 상기 기판에 상기 사전 결정된 처리를 실시하기 전에 있어서의 상기 수용실 도입 전의 가스 분석 결과에 대한 상기 처리 공간 통과 후의 가스 분석 결과의 비를 산출하고,상기 복수의 상기 기판에 상기 사전 결정된 처리를 실시한 후에 있어서의 상기 수용실 도입 전의 가스 분석 결과에 대한 상기 처리 공간 통과 후의 가스 분석 결과의 비를 산출하고,상기 복수의 상기 기판에 상기 사전 결정된 처리를 실시하기 전에 있어서의 비 및 상기 복수의 상기 기판에 상기 사전 결정된 처리를 실시한 후에 있어서의 비가 같아지도록, 상기 복수의 상기 기판에 상기 사전 결정된 처리를 실시한 후에 있어서의 상기 처리 공간 통과 후의 가스 분석 결과를 보정하는 분석 결과의 보정값을 산출하고,상기 수용실 내의 상태의 검지를 행하는 경우에 대응하는 상기 사전 결정된 처리를 개시하고, 해당 처리에서의 상기 처리 공간 통과 후의 가스 분석 결과를 측정하고, 상기 산출된 분석 결과의 보정값을 이용하여 상기 처리 공간 통과 후의 가스 분석 결과를 교정하는 것을 특징으로 하는 분석 방법.
- 제 15 항에 있어서,상기 상태 검지 단계에서는, 상기 교정된 상기 처리 공간 통과 후의 가스 분석 결과에 근거하여 상기 수용실 내의 상태의 검지를 행하는 경우에 대응하는 상기 사전 결정된 처리의 종점을 검출하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치의 분석 방법.
- 기판을 수용하는 수용실과, 상기 수용실에 가스를 도입하는 가스 도입 장치를 구비하고, 상기 수용실은 상기 기판에 상기 가스를 이용하여 사전 결정된 처리를 실시하는 처리 공간을 갖는 기판 처리 장치의 분석 방법으로서,상기 수용실 도입 전의 가스를 분석하는 도입 전 가스 분석 단계와,상기 처리 공간 통과 후의 가스를 분석하는 통과 후 가스 분석 단계와,상기 수용실 도입 전의 가스 분석 결과 및 상기 처리 공간 통과 후의 가스 분석 결과에 근거하여 상기 수용실 내의 상태를 검지하는 상태 검지 단계를 갖되,상기 상태 검지 단계에서는, 상기 수용실의 유지 보수 전후에서의 상기 수용실 도입 전의 가스 분석 결과가 같아지는 경우에, 상기 수용실의 유지 보수 전후 사이의 상기 처리 공간 통과 후의 가스 분석 결과의 변동량을 산출하고, 상기 산출된 변동량을 이용하여 상기 처리 공간 통과 후의 가스 분석 결과를 교정하는 것을 특징으로 하는 분석 방법.
- 제 17 항에 있어서,상기 수용실의 유지 보수에는, 부품 교환, 부품 세정 또는 상기 수용실 내의 드라이 클리닝이 해당하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치의 분석 방법.
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