JP5338467B2 - プラズマ測定装置 - Google Patents
プラズマ測定装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5338467B2 JP5338467B2 JP2009114333A JP2009114333A JP5338467B2 JP 5338467 B2 JP5338467 B2 JP 5338467B2 JP 2009114333 A JP2009114333 A JP 2009114333A JP 2009114333 A JP2009114333 A JP 2009114333A JP 5338467 B2 JP5338467 B2 JP 5338467B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- light
- optical fiber
- measurement
- calibration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
前記プラズマが発光する光の強度を測定する少なくとも1つの受光手段と、
前記受光手段で測定された前記プラズマが発光する光の強度を較正するための較正用光源と、
一端側がプラズマ発光領域に向けて配置され他端側が前記受光手段に接続された測定用の光ファイバーと、一端側がプラズマ発光領域に向けて前記測定用の光ファイバーの一端側と接して並べて配置され他端側が前記較正用光源に接続された較正用の光ファイバーとを備えた光ファイバーユニットと、を有し、
前記プラズマが発光する光は、前記測定用の光ファイバーを介し前記受光手段に入射し、前記較正用光源が発光する光は、前記較正用の光ファイバー及び前記測定用の光ファイバーを介し前記受光手段に入射することを特徴とするプラズマ測定装置。
実施例では、プラズマ発生を継続し、汚れ膜付着前(プラズマ処理開始時)のプラズマ光測定値の許容範囲と、プラズマ発生継続での時間経過後の、汚れ膜付着時のプラズマ光測定値を較正した較正プラズマ光測定値とを比較し、較正プラズマ光測定値が許容範囲外となるまでの経過時間を測定した。その経過時間までを連続測定可能時間とした。
表2に、実施例、比較例の結果を示す。
20 プラズマ処理部
21 プラズマ発生部
30 プラズマ測定装置
31 光ファイバーユニット
311 測定光ファイバー
312 較正光ファイバー
33 CCDカメラ
34 較正用光源
40 制御部
Claims (5)
- プラズマ処理装置で発生するプラズマが発光する光の強度を測定するプラズマ測定装置であって、
前記プラズマが発光する光の強度を測定する少なくとも1つの受光手段と、
前記受光手段で測定された前記プラズマが発光する光の強度を較正するための較正用光源と、
一端側がプラズマ発光領域に向けて配置され他端側が前記受光手段に接続された測定用の光ファイバーと、一端側がプラズマ発光領域に向けて前記測定用の光ファイバーの一端側と接して並べて配置され他端側が前記較正用光源に接続された較正用の光ファイバーとを備えた光ファイバーユニットと、を有し、
前記プラズマが発光する光は、前記測定用の光ファイバーを介し前記受光手段に入射し、前記較正用光源が発光する光は、前記較正用の光ファイバー及び前記測定用の光ファイバーを介し前記受光手段に入射し、
前記較正用光源が発光する一定光量の光を前記較正用の光ファイバー及び前記測定用の光ファイバーを介し前記受光手段に入射させて光の強度を測定した測定値に基づいて、前記受光手段による前記測定用の光ファイバーを介した前記プラズマが発光する光の強度の測定値を較正することを特徴とするプラズマ測定装置。 - 前記プラズマが発光し前記測定用の光ファイバーを介し前記受光手段に入射する光の波長と、前記較正用光源が発光し前記較正用の光ファイバー及び前記測定用の光ファイバーを介し前記受光手段に入射する光の波長とを異なる波長とし、前記プラズマが発光する光の強度と前記較正用光源が発光する光の強度を同時に測定することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ測定装置。
- 前記較正用の光ファイバーは、前記測定用の光ファイバーに対し、開口数が大きいことを特徴とする請求項1または2に記載のプラズマ測定装置。
- 前記光ファイバーユニットを前記プラズマが発生する方向に複数配置したことを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載のプラズマ測定装置。
- 前記受光手段は、フォトトランジスター、フォトダイオード、CCDカメラ、PMT(光電子増倍管)、分光器の何れかであることを特徴とする請求項1から4の何れか1項に記載のプラズマ測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009114333A JP5338467B2 (ja) | 2009-05-11 | 2009-05-11 | プラズマ測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009114333A JP5338467B2 (ja) | 2009-05-11 | 2009-05-11 | プラズマ測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010262887A JP2010262887A (ja) | 2010-11-18 |
JP5338467B2 true JP5338467B2 (ja) | 2013-11-13 |
Family
ID=43360796
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009114333A Expired - Fee Related JP5338467B2 (ja) | 2009-05-11 | 2009-05-11 | プラズマ測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5338467B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10871396B2 (en) | 2019-04-05 | 2020-12-22 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical emission spectroscopy calibration device and system including the same |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017106106A (ja) * | 2015-12-01 | 2017-06-15 | キヤノントッキ株式会社 | スパッタ装置、膜の製造方法及び電子デバイスの製造方法 |
KR102543349B1 (ko) | 2016-07-11 | 2023-06-30 | 삼성전자주식회사 | 플라즈마 모니터링 장치 |
US11114286B2 (en) * | 2019-04-08 | 2021-09-07 | Applied Materials, Inc. | In-situ optical chamber surface and process sensor |
US11499869B2 (en) * | 2019-11-13 | 2022-11-15 | Applied Materials, Inc. | Optical wall and process sensor with plasma facing sensor |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63168542A (ja) * | 1987-01-05 | 1988-07-12 | Shimadzu Corp | プラズマ診断装置 |
JP3790630B2 (ja) * | 1998-09-21 | 2006-06-28 | 大塚電子株式会社 | 分光光度計及び分光波長校正方法 |
JP2003086574A (ja) * | 2001-09-07 | 2003-03-20 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体処理装置のガス分析方法およびその装置 |
JP3981304B2 (ja) * | 2002-07-10 | 2007-09-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
JP2005317341A (ja) * | 2004-04-28 | 2005-11-10 | Konica Minolta Holdings Inc | プラズマ測定方法及びプラズマ処理装置 |
JP2007163383A (ja) * | 2005-12-15 | 2007-06-28 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 微量成分計測装置及び方法 |
JP2007280670A (ja) * | 2006-04-04 | 2007-10-25 | Konica Minolta Holdings Inc | プラズマ処理装置 |
JP5016294B2 (ja) * | 2006-11-10 | 2012-09-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び該装置の分析方法 |
-
2009
- 2009-05-11 JP JP2009114333A patent/JP5338467B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10871396B2 (en) | 2019-04-05 | 2020-12-22 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical emission spectroscopy calibration device and system including the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010262887A (ja) | 2010-11-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8699023B2 (en) | Reflectivity measuring device, reflectivity measuring method, membrane thickness measuring device, and membrane thickness measuring method | |
US10591278B2 (en) | Confocal displacement sensor | |
JP5338467B2 (ja) | プラズマ測定装置 | |
TWI480501B (zh) | Displacement measurement method and displacement measuring device | |
JP5790178B2 (ja) | 共焦点計測装置 | |
TWI460406B (zh) | 光放射光譜標準化用之方法與設備 | |
JP2010249808A (ja) | 分光透過率可変素子を備えた分光イメージング装置及び分光イメージング装置における分光透過率可変素子の調整方法 | |
JP2012063321A5 (ja) | ||
JPWO2010013429A1 (ja) | 膜厚測定装置及び膜厚測定方法 | |
JP6205346B2 (ja) | 光学測定装置およびファイババンドルの対応付け方法 | |
JP2008203090A (ja) | 波長選択方法、膜厚計測方法、膜厚計測装置、及び薄膜シリコン系デバイスの製造システム | |
WO2013147038A1 (ja) | 物質特性測定装置 | |
TWI729403B (zh) | 光電元件特性測量裝置 | |
JP2008513770A (ja) | 血液の有無についての卵の検査 | |
JP4418731B2 (ja) | フォトルミネッセンス量子収率測定方法およびこれに用いる装置 | |
JP2007198883A (ja) | 光ファイバープローブによる分光測定装置 | |
JP5082622B2 (ja) | 分光特性測定装置、分光特性測定システム | |
JP5302133B2 (ja) | 干渉膜厚計 | |
KR101607639B1 (ko) | 시편에서 반사된 빛의 스펙트럼이 광 센서의 측정감도에 최적화되도록 파장영역별로 밝기가 제어되는 광원 모듈 및 이를 이용한 박막두께 측정장치 | |
JP2009287999A (ja) | 蛍光検出システム及びこれを利用した濃度測定方法 | |
JP2006023200A (ja) | 光学プローブ及びそれを用いた分光測定装置 | |
WO2015163100A1 (ja) | 光学測定装置 | |
TWI667464B (zh) | 光學測量裝置及光學測量方法 | |
US11022427B2 (en) | Device and method for measuring thickness | |
KR100845778B1 (ko) | 광투과 에지영역에서의 광투과율을 이용한 실리콘 웨이퍼두께 측정장치 및 그 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111109 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20120203 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130110 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130115 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130313 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130709 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130722 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |