JP2008098514A - 基板処理装置、及び基板処理の終点検出方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板処理装置10は、ウエハWにCOR処理及びPHT処理を施す第2のプロセスシップ12を備え、第2のプロセスシップ12は、COR処理を施す第2のプロセスモジュール34と、PHT処理を施す第3のプロセスモジュール36とを有し、第3のプロセスモジュール36は、チャンバ50内の揮発ガスを含む窒素ガス等を排気する第3のプロセスモジュール排気系67を備え、第3のプロセスモジュール排気系67は、チャンバ50とAPCバルブ69の間の本排気管68と連通する分析ユニット200を有し、分析ユニット200は、排気ガス中の揮発ガスの濃度の測定を行い、PHT処理の終点を検出する。
【選択図】図4
Description
(COR処理)
SiO2+4HF → SiF4+2H2O↑
SiF4+2NH3+2HF → (NH4)2SiF6
本実施の形態では、チャンバ38内の圧力が1Torr以下に維持される。
(PHT処理)
(NH4)2SiF6 → SiF4↑+2NH3↑+2HF↑
尚、PHT処理においては、図3に示すように、N2及びH2も若干量発生する。
(COR処理)
SiO2+6HF → H2SiF6+2H2O
(PHT処理)
H2SiF6 → SiF4↑+2HF↑
H2O → H2O↑
本変形例では、チャンバ38,50内の圧力が30Torr以下の高圧に維持される。また、ウエハステージ39は、10〜40℃に維持されるのが好ましく、ステージヒータ51は載置したウエハWを175〜200℃まで直接加熱する。
10,137 基板処理装置
34 第2のプロセスモジュール
36 第3のプロセスモジュール
38,50,201 チャンバ
39 ウエハステージ
51 ステージヒータ
61 第2のプロセスモジュール排気系
67 第3のプロセスモジュール排気系
200,210,300 分析ユニット
204,304 発光分析器
Claims (21)
- 酸化物層が表面に形成された基板に処理を施す基板処理装置であって、前記酸化物層をガス分子と化学反応させて前記表面上に生成物を生成する化学反応処理装置と、前記生成物が前記表面に生成された前記基板を加熱する熱処理装置とを備える基板処理装置において、
前記熱処理装置は前記加熱された基板から発生する発生ガスを分析する発生ガス分析装置を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 前記熱処理装置は前記基板を収容する収容室と、該収容室内のガスを排気するガス排気系とを備え、
前記発生ガス分析装置は前記ガス排気系に設けられることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記発生ガス分析装置は前記収容室内から排気されたガスを取り込むガス取込室と、該ガス取込室内にプラズマを発生させるプラズマ発生装置と、前記プラズマによって励起された前記ガス中の原子又は分子の発光を分光し、該分光した光の強度を測定する分光測定装置とを備えることを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。
- 前記発生ガス分析装置は前記収容室内のガスを排気する排気管と、該排気管内にプラズマを発生させるプラズマ発生装置と、前記プラズマによって励起された前記ガス中の原子又は分子の発光を分光し、該分光した光の強度を測定する分光測定装置とを備えることを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。
- 前記発生ガス分析装置は前記収容室内のガスを排気する排気管と、該排気管内にプラズマを発生させるプラズマ発生装置と、前記排気管内のプラズマ発生中心部より下流のアフタグローを分光し、該分光した光の強度を測定する分光測定装置とを備えることを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。
- 前記発生ガス分析装置は質量分析器を備えることを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。
- 前記発生ガス分析装置はフーリエ変換赤外分光光度計を備えることを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。
- 前記熱処理装置は前記基板を収容する収容室を備え、
前記発生ガス分析装置は前記収容室内に設けられることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記発生ガス分析装置は前記収容室内のガスを取り込むガス取込室と、該ガス取込室内にプラズマを発生させるプラズマ発生装置と、前記プラズマによって励起された前記ガス中の原子又は分子の発光を分光し、該分光した光の強度を測定する分光測定装置とを備えることを特徴とする請求項8記載の基板処理装置。
- 前記発生ガスは、四弗化ケイ素ガス、アンモニアガス、弗化水素ガス、窒素ガス、及び水素ガスの少なくとも1つであることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 前記化学反応処理装置は前記基板を収容する第2の収容室と、該第2の収容室内にアンモニアガスを供給するアンモニアガス供給系と、前記第2の収容室内に弗化水素ガスを供給する弗化水素ガス供給系と、前記第2の収容室内に供給されたアンモニアガス及び弗化水素ガスのうち少なくとも一方を分析する供給ガス分析装置とを備えることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 前記化学反応処理装置は前記基板を収容する第2の収容室と、該第2の収容室内に弗化水素ガスを供給する弗化水素ガス供給系と、前記第2の収容室内に供給された弗化水素ガスを分析する供給ガス分析装置とを備えることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 前記化学反応処理装置は前記第2の収容室内に供給されたガスを排気する供給ガス排気系を備え、
前記供給ガス分析装置は前記供給ガス排気系に設けられることを特徴とする請求項11又は12記載の基板処理装置。 - 前記供給ガス分析装置は前記第2の収容室内から排気されたガスを取り込む第2のガス取込室と、該第2のガス取込室内にプラズマを発生させる第2のプラズマ発生装置と、前記プラズマによって励起された前記ガス中の原子又は分子の発光を分光し、該分光した光の強度を測定する第2の分光測定装置とを備えることを特徴とする請求項13記載の基板処理装置。
- 前記供給ガス分析装置は前記第2の収容室内のガスを排気する第2の排気管と、該第2の排気管内にプラズマを発生させる第2のプラズマ発生装置と、前記プラズマによって励起された前記ガス中の原子又は分子の発光を分光し、該分光した光の強度を測定する第2の分光測定装置とを備えることを特徴とする請求項13記載の基板処理装置。
- 前記供給ガス分析装置は前記第2の収容室内に設けられることを特徴とする請求項11又は12記載の基板処理装置。
- 前記供給ガス分析装置は前記第2の収容室内のガスを取り込む第2のガス取込室と、該第2のガス取込室内にプラズマを発生させる第2のプラズマ発生装置と、前記プラズマによって励起された前記ガス中の原子又は分子の発光を分光し、該分光した光の強度を測定する第2の分光測定装置とを備えることを特徴とする請求項16記載の基板処理装置。
- 酸化物層が表面に形成された基板に処理を施す基板処理装置における当該基板処理の終点検出方法であって、
前記酸化物層をガス分子と化学反応させて前記表面上に生成物を生成する化学反応処理ステップと、
前記生成物が前記表面に生成された前記基板を加熱する熱処理ステップとを有し、
前記熱処理ステップは前記加熱された基板から発生する発生ガスを分析する発生ガス分析ステップを含むことを特徴とする終点検出方法。 - 前記発生ガス分析ステップは、前記発生ガス中の原子又は分子を励起させるプラズマを発生させるプラズマ発生ステップと、前記プラズマによって励起された前記発生ガス中の原子又は分子の発光を分光し、該分光した光の強度を測定する分光測定ステップとを含むことを特徴とする請求項18記載の終点検出方法。
- 前記発生ガス分析ステップは、前記発生ガスを排気する排気管内の当該発生ガス中の原子又は分子を励起させるプラズマを発生させるプラズマ発生ステップと、前記プラズマによって励起された前記発生ガス中の原子又は分子の発光を分光し、該分光した光の強度を測定する分光測定ステップとを含むことを特徴とする請求項18記載の終点検出方法。
- 前記発生ガス分析ステップは、前記発生ガスを排気する排気管内の当該発生ガス中の原子又は分子を励起させるプラズマを発生させるプラズマ発生ステップと、前記排気管内のプラズマ発生中心部より下流のアフタグローを分光し、該分光した光の強度を測定する分光測定ステップとを含むことを特徴とする請求項18記載の終点検出方法。
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