KR100924931B1 - Cleaning device and method of cleaning substrate - Google Patents

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Abstract

세정장비 및 기판세정방법에서, 챔버의 내부에는 기판을 세정하기 위한 공간이 제공되고, 챔버의 내부 공간에는 기판 상으로 세정액을 공급하기 위한 세정유닛이 구비된다. 한편, 챔버 외부에는 세정액이 저장되어 있는 탱크가 구비된다. 탱크는 챔버로부터 기판의 1차 세정 후 회수된 세정액이 저장되는 제1 저장공간 및 2차 세정 후 회수된 세정액이 저장되는 제2 저장공간으로 이루어진다. 제1 및 제2 저장공간은 두 저장공간 사이에 구비된 격벽에 의해서 분리되고, 격벽에는 세정액이 이동될 수 있도록 홀이 형성되며, 홀에는 세정액에 포함된 파티클을 필터링하는 필터가 장착된다. 탱크에 저장된 세정액을 세정유닛으로 공급하기 위하여 제2 저장공간과 세정유닛 사이에는 공급배관이 설치된다. 따라서, 세정장비의 구성을 단순화시킬 수 있다.In the cleaning equipment and the substrate cleaning method, a space for cleaning the substrate is provided in the chamber, and a cleaning unit for supplying the cleaning liquid onto the substrate is provided in the interior space of the chamber. On the other hand, a tank in which the cleaning liquid is stored is provided outside the chamber. The tank includes a first storage space in which the cleaning liquid recovered after the first cleaning of the substrate from the chamber is stored, and a second storage space in which the cleaning liquid recovered after the second cleaning is stored. The first and second storage spaces are separated by partition walls provided between the two storage spaces, and holes are formed in the partition walls so that the cleaning liquid can be moved, and the holes are equipped with a filter for filtering particles contained in the cleaning liquid. In order to supply the cleaning liquid stored in the tank to the cleaning unit, a supply pipe is installed between the second storage space and the cleaning unit. Therefore, the configuration of the cleaning equipment can be simplified.

Description

세정장비 및 기판세정방법{CLEANING DEVICE AND METHOD OF CLEANING SUBSTRATE}CLEANING DEVICE AND METHOD OF CLEANING SUBSTRATE}

본 발명은 세정장비 및 기판세정방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 전체적인 구성을 단순화시킬 수 있는 기판의 세정장비 및 이를 이용한 기판세정방법에 관한 것이다.The present invention relates to a cleaning device and a substrate cleaning method, and more particularly, to a cleaning device of the substrate that can simplify the overall configuration and a substrate cleaning method using the same.

기판 처리 장치는 반도체 제조용 웨이퍼 및 평판 디스플레이 제조용 유리 기판 등의 기판을 처리하는 장치이다. 이 중 평판 디스플레이 제조용 유리기판을 처리하는 장치는 서로 연속적으로 연결된 다수의 챔버로 이루어진다.A substrate processing apparatus is an apparatus which processes substrates, such as a wafer for semiconductor manufacture and a glass substrate for flat panel display manufacture. Among them, a device for processing a glass substrate for manufacturing a flat panel display includes a plurality of chambers continuously connected to each other.

다수의 챔버 중에는 외부로부터 기판을 제공받는 도입 챔버가 포함되고, 일련의 과정을 거쳐서 기판을 가공하는 다수의 처리 챔버가 포함된다.The plurality of chambers includes an introduction chamber receiving a substrate from the outside, and a plurality of processing chambers for processing the substrate through a series of processes.

처리 챔버는 도입 챔버로부터 기판을 입력받아서 기판을 세정 또는 에칭한다. 그러기 위해서 처리 챔버 내에는 기판을 일정한 속도로 이동시키는 이송 유닛 및 기판 상에 처리액(세정액 또는 에칭액)을 공급하기 위한 분사 유닛이 구비된다.The processing chamber receives the substrate from the introduction chamber to clean or etch the substrate. To this end, the processing chamber is provided with a transfer unit for moving the substrate at a constant speed and an injection unit for supplying the processing liquid (cleaning liquid or etching liquid) onto the substrate.

일반적으로, 세정을 위한 챔버는 기판을 2회에 걸쳐서 세정하고, 1차 세정 후 회수된 세정액을 1차 탱크에 저장하고, 2차 세정후 회수된 세정액을 2차 탱크에 저장한다. 각각의 탱크에 저장된 세정액은 다시 배관을 통해서 분사 유닛으로 각각 공급되어 세정을 위해서 사용된다.In general, the chamber for cleaning cleans the substrate twice, stores the cleaning liquid recovered after the first cleaning in the primary tank, and stores the cleaning liquid recovered after the secondary cleaning in the secondary tank. The cleaning liquid stored in each tank is again supplied to the injection unit through a pipe and used for cleaning.

그러나, 2회에 걸쳐서 세정하는 경우 종래에는 챔버 외부에 두 개의 탱크를 구비하고, 두 개의 탱크를 각각의 분사유닛에 연결시키기 위한 두 개의 공급 배관을 필요로 한다. 따라서, 세정을 위한 장비 구성이 복잡할 뿐 아니라, 작업 공간 활용도가 저하되는 문제가 발생한다.However, when washing twice, conventionally, two tanks are provided outside the chamber, and two supply pipes for connecting the two tanks to the respective injection units are required. Therefore, not only the configuration of equipment for cleaning is complicated, but also a problem that the utilization of the work space is lowered.

따라서, 본 발명의 목적은 전체적인 구성을 단순화시키기 위한 기판 세정장비를 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a substrate cleaning apparatus for simplifying the overall configuration.

본 발명의 다른 목적은 상기한 세정장비를 이용하여 기판을 세정하는 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method for cleaning a substrate using the cleaning equipment described above.

본 발명의 일 측면에 따른 세정장비는 챔버, 세정유닛 및 탱크를 포함한다. 상기 챔버의 내부에는 기판을 세정하기 위한 공간이 제공되고, 상기 세정 유닛은 상기 챔버 내에 구비되어 상기 기판 상으로 세정액을 공급한다. 상기 탱크는 1차 세정 후 회수된 세정액이 저장되는 제1 저장공간 및 2차 세정 후 회수된 세정액이 저장되는 제2 저장공간으로 이루어진다. 상기 제1 및 제2 저장공간은 두 저장공간 사이에 구비된 격벽에 의해서 분리된다.Cleaning equipment according to an aspect of the present invention includes a chamber, a cleaning unit and a tank. A space for cleaning a substrate is provided inside the chamber, and the cleaning unit is provided in the chamber to supply a cleaning liquid onto the substrate. The tank includes a first storage space in which the cleaning liquid recovered after the first cleaning is stored, and a second storage space in which the cleaning liquid recovered after the second cleaning is stored. The first and second storage spaces are separated by partition walls provided between the two storage spaces.

본 발명의 다른 측면에 따른 기판세정방법에서, 챔버 내의 기판이 1차적으로 세정되면, 1차 세정에 이용된 세정액은 탱크의 제1 저장공간으로 회수된다. 이후, 상기 챔버 내의 기판은 2차적으로 세정되고, 2차 세정에 이용된 세정액은 상기 탱크의 제2 저장공간으로 회수된다. 상기 제1 저장공간으로 회수된 상기 세정액은 메쉬형 필터를 통과함으로써 필터링되어 상기 제2 저장공간 측으로 유입된다. 여기서, 상기 제2 저장공간에 저장된 상기 세정액은 상기 기판 세정을 위하여 다시 상기 챔버 내에 구비된 세정 유닛으로 제공된다.In the substrate cleaning method according to another aspect of the present invention, when the substrate in the chamber is primarily cleaned, the cleaning liquid used for the first cleaning is recovered to the first storage space of the tank. Thereafter, the substrate in the chamber is secondarily cleaned, and the cleaning liquid used for the second cleaning is recovered to the second storage space of the tank. The cleaning liquid recovered to the first storage space is filtered by passing through the mesh filter and flows into the second storage space. Here, the cleaning liquid stored in the second storage space is provided to the cleaning unit provided in the chamber again for cleaning the substrate.

이와 같은 세정장비 및 기판세정방법에 따르면, 하나의 탱크를 구비하고, 탱크 내에 격벽을 형성하는 두 개의 저장공간으로 분리하여 두 개의 저장공간에 1차 및 2차 세정 후 회수된 세정액을 각각 저장함으로써, 탱크의 개수를 감소시킬 수 있다.According to the cleaning equipment and the substrate cleaning method as described above, by having one tank and separating into two storage spaces forming partition walls in the tank, the storage liquid recovered after the first and second cleaning are stored in two storage spaces, respectively. The number of tanks can be reduced.

또한, 두 개의 저장공간 내의 세정액이 이동할 수 있도록 격벽에 홀을 형성하고, 홀에 메쉬형 필터를 설치함으로써 공급배관은 두 개의 저장공간 중 하나의 저장공간하고만 연결될 수 있고, 그 결과 세정장비 내에 구비된 배관 수를 전체적으로 감소시킬 수 있다.In addition, by forming a hole in the partition wall so that the cleaning liquid in the two storage spaces can be moved, and by installing a mesh filter in the hole, the supply pipe can be connected only to one of the two storage spaces, and as a result, in the cleaning equipment The number of pipes provided can be reduced as a whole.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 세정장비의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of the cleaning equipment according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 세정장비(100)는 챔버(110), 제1 및 제2 세정노즐(121, 122), 탱크(130), 공급 배관(140), 제1 및 제2 회수배관(151, 152), 이송유닛(160)을 포함한다.Referring to FIG. 1, the cleaning equipment 100 includes a chamber 110, first and second cleaning nozzles 121 and 122, a tank 130, a supply pipe 140, and a first and second recovery pipe 151. 152, a transfer unit 160.

챔버(110)는 기판(10)을 세정하기 위한 공간을 제공한다. 구체적으로, 챔버(110)는 상기 기판(10)을 1차적으로 세정하기 위한 1차 세정부(111) 및 1차 세정후 상기 기판(10)을 2차적으로 세정하기 위한 2차 세정부(112)로 이루어진다. 상기 1차 세정부(111)와 2차 세정부(112)를 격벽에 의해서 분리될 수 있고, 격벽에는 기 판(10)이 이동할 수 있는 통로가 형성될 수 있다. 또한, 챔버(110)의 양 측벽에는 기판(10)이 유입 또는 유출될 수 있는 기판 출입구(110a)가 형성된다.The chamber 110 provides a space for cleaning the substrate 10. In detail, the chamber 110 may include a first cleaning part 111 for primarily cleaning the substrate 10 and a second cleaning part 112 for secondarily cleaning the substrate 10 after the first cleaning. ) The primary cleaning part 111 and the secondary cleaning part 112 may be separated by a partition wall, and a path through which the substrate 10 may move may be formed in the partition wall. In addition, substrate sidewalls 110a through which the substrate 10 may flow in or out may be formed at both sidewalls of the chamber 110.

1차 및 2차 세정부(111, 112) 각각에는 상기 기판(10)을 이동시키는 이송유닛(160)이 구비된다. 챔버(110) 외부로부터 제공된 기판(10)은 이송유닛(160)을 통해 1차 세정부(111)로 유입되고, 2차 세정부(112)를 거쳐서 다시 외부로 배출된다.Each of the first and second cleaning units 111 and 112 is provided with a transfer unit 160 for moving the substrate 10. The substrate 10 provided from the outside of the chamber 110 flows into the primary cleaning unit 111 through the transfer unit 160 and is discharged to the outside again through the secondary cleaning unit 112.

또한, 1차 및 2차 세정부(111, 112)에는 제1 및 제2 세정노즐(121, 122)이 각각 구비된다. 상기 제1 및 제2 세정노즐(121, 122)은 공급된 세정액을 기판(10) 상으로 분사하여 상기 기판(10)을 세정하는 역할을 수행한다.In addition, the first and second cleaning nozzles 111 and 112 are provided with first and second cleaning nozzles 121 and 122, respectively. The first and second cleaning nozzles 121 and 122 serve to clean the substrate 10 by spraying the supplied cleaning liquid onto the substrate 10.

한편, 탱크(130)는 1차 세정 후 회수된 세정액(131a)이 저장되는 제1 저장공간(131) 및 2차 세정 후 회수된 세정액(131b)이 저장되는 제2 저장공간(132)으로 이루어진다. 상기 제1 및 제2 저장공간(131, 132)은 그 사이에 구비된 격벽(133)에 의해서 분리된다. 도 1에 도시된 바와 같이, 격벽(133)은 탱크(130)의 바닥벽으로부터 상방향으로 연장되고, 탱크(130)의 상부벽으로부터 이격되게 제공된다.Meanwhile, the tank 130 includes a first storage space 131 in which the cleaning liquid 131a recovered after the first cleaning is stored, and a second storage space 132 in which the cleaning liquid 131b recovered after the second cleaning is stored. . The first and second storage spaces 131 and 132 are separated by partition walls 133 provided therebetween. As shown in FIG. 1, the partition 133 extends upward from the bottom wall of the tank 130 and is provided to be spaced apart from the top wall of the tank 130.

상기 제1 및 제2 저장공간(131, 132) 각각은 제1 및 제2 회수배관(151, 152)에 각각 연결된다. 구체적으로, 제1 회수배관(151)은 1차 세정부(111)로부터 회수된 세정액을 제1 저장공간(131)으로 제공하고, 제2 회수배관(152)은 2차 세정부(112)로부터 회수된 세정액을 제2 저장공간(132)으로 제공한다. 도 1에 도시된 바와 같이, 1차 세정 후 회수되어 제1 저장공간(131)에 저장된 세정액(131a)에는 대체적으로 큰 파티클이 포함될 수 있고, 2차 세정 후 회수되어 제2 저장공간(132)에 저장된 세정액(131b)에는 대체적으로 작은 파티클이 포함될 수 있다.Each of the first and second storage spaces 131 and 132 is connected to the first and second recovery pipes 151 and 152, respectively. Specifically, the first recovery pipe 151 provides the cleaning liquid recovered from the primary cleaning unit 111 to the first storage space 131, and the second recovery pipe 152 from the secondary cleaning unit 112. The recovered cleaning liquid is provided to the second storage space 132. As shown in FIG. 1, the cleaning liquid 131a that is recovered after the first cleaning and stored in the first storage space 131 may include large particles, and may be recovered after the second cleaning to recover the second storage space 132. The cleaning liquid 131b stored in the substrate may generally include small particles.

이와 같이, 하나의 탱크(130)에 격벽(133)을 설치하여 종전에 두 개의 탱크 를 구비한 것과 동일한 효과를 달성할 수 있고, 세정장비(100)의 공간 활용도를 향상시킬 수 있다.In this way, by installing the partition wall 133 in one tank 130 can achieve the same effect as previously provided with two tanks, it is possible to improve the space utilization of the cleaning equipment (100).

본 발명의 일 예로, 상기 탱크(130)에 저장된 세정액을 제1 및 제2 세정 노즐(121, 122)로 공급하기 위한 공급배관(140)은 상기 제2 저장공간(132)에 연결된다. 즉, 상기 공급배관(140)은 대체적으로 작은 파티클이 포함되어 있는 상기 제2 저장공간(132)에 저장된 세정액을 상기 제1 및 제2 세정노즐(121, 122)로 공급한다. 이와 같이, 하나의 탱크(130)를 구비하는 경우 하나의 공급배관(140)을 설치하고, 상기한 공급배관(140)을 제2 저장공간(132)에 연결시킴으로써, 세정장비(100)에서 배관 수를 전체적으로 감소시킬 수 있다.As an example of the present invention, a supply pipe 140 for supplying the cleaning liquid stored in the tank 130 to the first and second cleaning nozzles 121 and 122 is connected to the second storage space 132. That is, the supply pipe 140 supplies the cleaning liquid stored in the second storage space 132, which generally includes small particles, to the first and second cleaning nozzles 121 and 122. As such, when one tank 130 is provided, one supply pipe 140 is installed, and the supply pipe 140 is connected to the second storage space 132 to provide a pipe in the cleaning equipment 100. The number can be reduced overall.

도면에 도시하지는 않았지만, 상기 공급배관(140)의 중간에는 상기 공급배관(140)을 통해 이동하는 상기 세정액을 필터링하기 위한 필터가 더 설치될 수 있다. 본 발명의 일 예로, 상기 필터에는 하우징 필터가 이용될 수 있다. 또한, 상기 공급배관(140)의 중간에는 상기 세정액의 유량을 체크하기 위한 유량계 및 상기 세정액을 펌핑하기 위한 펌프 등도 더 설치될 수 있다.Although not shown in the drawings, a filter for filtering the cleaning liquid moving through the supply pipe 140 may be further installed in the middle of the supply pipe 140. As an example of the present invention, a housing filter may be used for the filter. In addition, a flow meter for checking the flow rate of the cleaning liquid and a pump for pumping the cleaning liquid may be further installed in the middle of the supply pipe 140.

도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 탱크의 단면도이고, 도 3은 도 2에 도시된 격벽 및 메쉬형 필터의 측면도이다.2 is a cross-sectional view of a tank according to another embodiment of the present invention, Figure 3 is a side view of the partition and mesh filter shown in FIG.

도 2 및 도 3을 참조하면, 탱크(130)에서 제1 및 제2 저장공간(131, 132)을 분리시키는 격벽(133)에는 두 저장공간(131, 132) 사이에서 세정액이 이동될 수 있는 통로로써 하나 이상의 홀(133a)을 제공한다. 본 발명의 일 예로, 도 3에서는 상기 격벽(133)에 직사각형 형태로 하나의 홀(133a)이 제공된 것을 도시하였다.2 and 3, the cleaning liquid may be moved between the two storage spaces 131 and 132 in the partition wall 133 separating the first and second storage spaces 131 and 132 from the tank 130. The passage provides one or more holes 133a. As an example of the present invention, FIG. 3 illustrates that the partition 133 is provided with one hole 133a in a rectangular shape.

상기 탱크(130)에는 상기 격벽(133)에 제공된 홀(133a)에 대응하는 크기로 형성되어 상기 홀(133a)을 통해 이동하는 세정액에 포함된 파티클을 필터링하기 위한 메쉬형 필터(134)가 더 구비된다. 구체적으로, 상기 메쉬형 필터(134)는 홀(133a)에 대응하는 위치에서 상기 격벽(133)에 결합되어 제1 저장공간(131)에 저장된 세정액(131a)에 포함된 대체적으로 큰 파티클이 제2 저장공간(132) 측으로 이동하지 못하도록 필터링하는 역할을 수행한다. 따라서, 상기 메쉬형 필터(134)에 제공된 다수의 필터 홀(134a)은 상기 제1 저장공간(131)에 저장된 세정액(131a) 내의 파티클보다 작은 사이즈로 형성되는 것이 바람직하다.The tank 130 further includes a mesh filter 134 formed to have a size corresponding to the hole 133a provided in the partition wall 133 and filtering particles included in the cleaning liquid moving through the hole 133a. It is provided. In detail, the mesh filter 134 is coupled to the barrier rib 133 at a position corresponding to the hole 133a and is formed of a generally large particle included in the cleaning liquid 131a stored in the first storage space 131. 2 filters to prevent movement to the storage space 132 side. Accordingly, the plurality of filter holes 134a provided in the meshed filter 134 may be formed to have a smaller size than particles in the cleaning liquid 131a stored in the first storage space 131.

상기와 같은 구조를 갖는 탱크(130)에서, 제2 저장공간(132)에 저장된 세정액(131b)은 공급배관(140)을 통해 제1 및 제2 세정노즐(121, 122, 도 1에 도시됨)로 공급되고, 공급된 만큼 제1 저장공간(132)에 저장된 세정액(131a)이 메쉬형 필터(134)를 통과하여 제2 저장공간(132)으로 계속해서 이동한다. 따라서, 세정액이 단계적으로 반복하여 이동할 수 있고, 그 결과 세정액의 재활용이 가능하다.In the tank 130 having the above structure, the cleaning liquid 131b stored in the second storage space 132 is shown in the first and second cleaning nozzles 121, 122 and FIG. 1 through the supply pipe 140. ), The cleaning liquid 131a stored in the first storage space 132 passes through the mesh filter 134 and continues to move to the second storage space 132 as much as supplied. Therefore, the cleaning liquid can be moved repeatedly step by step, and as a result, the cleaning liquid can be recycled.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 세정장비의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of the cleaning equipment according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 탱크의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a tank according to another embodiment of the present invention.

도 3은 도 2에 도시된 격벽 및 메쉬형 필터의 측면도이다.FIG. 3 is a side view of the barrier rib and mesh filter illustrated in FIG. 2.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

100 : 세정장치 110 : 챔버100: cleaning device 110: chamber

111 : 1차 세정부 112 : 2차 세정부111: primary cleaning unit 112: secondary cleaning unit

121, 122 : 제1 및 제2 세정노즐 130 : 탱크121, 122: first and second cleaning nozzles 130: tank

131, 132 : 제1 및 제2 저장공간 140 : 공급배관131, 132: first and second storage space 140: supply piping

151, 152 : 제1 및 제2 회수배관 160 : 이송유닛151, 152: first and second recovery piping 160: transfer unit

Claims (8)

기판을 1차 세정하는 1차 세정부 및 상기 기판을 2차 세정하는 2차 세정부를 갖는 챔버;A chamber having a primary cleaning unit for primary cleaning of the substrate and a secondary cleaning unit for secondary cleaning of the substrate; 상기 기판 상으로 세정액을 공급하는 세정 노즐;A cleaning nozzle for supplying a cleaning liquid onto the substrate; 상기 챔버로부터 상기 세정액을 회수받아 저장하는 탱크를 포함하되,Including a tank for receiving and storing the cleaning liquid from the chamber, 상기 탱크는 그 내부 공간을 상기 1차 세정부로부터 상기 세정액을 회수받아 저장하는 제1 저장공간과 상기 2차 세정부로부터 상기 세정액을 회수받아 저장하는 제2 저장공간으로 구획하는 격벽을 포함하고,The tank includes a partition partitioning an inner space into a first storage space for recovering and storing the cleaning solution from the first cleaning unit and a second storage space for recovering and storing the cleaning solution from the secondary cleaning unit. 상기 격벽은 상기 탱크의 바닥벽으로부터 상방향으로 연장되고, 상기 탱크의 상부벽으로부터 이격되는 것을 특징으로 하는 세정장비.And the partition wall extends upwardly from the bottom wall of the tank and is spaced apart from the top wall of the tank. 내부에 기판을 세정하기 위한 공간이 제공되는 챔버;A chamber provided therein with a space for cleaning the substrate; 상기 챔버 내에 구비된 상기 기판 상으로 세정액을 공급하는 세정 노즐; 및A cleaning nozzle for supplying a cleaning liquid onto the substrate provided in the chamber; And 1차 세정 후 회수된 세정액이 저장되는 제1 저장공간 및 2차 세정 후 회수된 세정액이 저장되는 제2 저장공간으로 이루어지는 탱크를 포함하되,A tank comprising a first storage space for storing the cleaning liquid recovered after the first cleaning and a second storage space for storing the cleaning liquid recovered after the second cleaning, 상기 탱크는:The tank is: 상기 제1 및 제2 저장공간을 분리하며, 상기 세정액이 이동되는 홀이 형성된 격벽; 및A partition wall separating the first and second storage spaces and having a hole in which the cleaning liquid is moved; And 상기 홀에 대응하는 크기로 제공되어 상기 제1 저장공간의 세정액에 포함된 큰 입자들을 필터링하여 상기 제2 저장공간으로 제공하는 메쉬형 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 세정장비.And a mesh filter provided in a size corresponding to the hole to filter the large particles included in the cleaning liquid of the first storage space and provide the filtered particles to the second storage space. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 제2 저장공간과 상기 챔버 사이에 구비되어 상기 제2 저장공간의 세정액을 상기 챔버로 제공하는 공급 배관을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정장비.And a supply pipe provided between the second storage space and the chamber to provide a cleaning liquid of the second storage space to the chamber. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 세정 노즐은:The cleaning nozzle is: 상기 챔버 내에 구비되고, 상기 공급 배관으로부터 상기 세정액을 공급받아서 상기 기판에 1차적으로 세정액을 공급하는 제1 세정 노즐; 및A first cleaning nozzle provided in the chamber and receiving the cleaning liquid from the supply pipe and supplying the cleaning liquid to the substrate primarily; And 상기 챔버 내에 구비되고, 상기 공급 배관으로부터 상기 세정액을 공급받아서 상기 기판에 2차적으로 세정액을 공급하는 제2 세정 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 세정장비.And a second cleaning nozzle provided in the chamber and receiving the cleaning liquid from the supply pipe and supplying the cleaning liquid to the substrate. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 탱크는 하나의 몸체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 세정장비.The tank is cleaning equipment, characterized in that consisting of a single body. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 챔버로부터 상기 제1 저장공간으로 상기 세정액을 제공하는 제1 회수배관; 및A first recovery pipe for providing the cleaning liquid from the chamber to the first storage space; And 상기 챔버로부터 상기 제2 저장공간으로 상기 세정액을 제공하는 제2 회수배관을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정장비.And a second recovery pipe for supplying the cleaning liquid from the chamber to the second storage space. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 챔버 내에 구비되어 상기 기판을 이송시키는 이송유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정장비.And a transfer unit provided in the chamber to transfer the substrate. 챔버 내의 기판을 1차적으로 세정하는 단계;Primarily cleaning the substrate in the chamber; 1차 세정 후 세정액을 탱크의 제1 저장공간으로 회수하는 단계;Recovering the cleaning liquid to the first storage space of the tank after the first cleaning; 상기 챔버 내의 기판을 2차적으로 세정하는 단계;Secondary cleaning the substrate in the chamber; 2차 세정 후 세정액을 상기 탱크의 제2 저장공간으로 회수하는 단계;Recovering the cleaning liquid to the second storage space of the tank after the second cleaning; 상기 제1 저장공간으로 회수된 상기 세정액을 필터링하여 상기 제2 저장공간 측으로 유입시키는 단계; 및Filtering the washing liquid recovered into the first storage space and introducing the washing solution into the second storage space; And 상기 제2 저장공간에 저장된 상기 세정액을 상기 기판 세정을 위하여 상기 챔버 내에 구비된 세정 유닛으로 제공하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판세정방법.And providing the cleaning liquid stored in the second storage space to a cleaning unit provided in the chamber for cleaning the substrate.
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