KR100636618B1 - Cleaning apparatus for filter in large substrate manufacturing system - Google Patents

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KR100636618B1 KR1020050127004A KR20050127004A KR100636618B1 KR 100636618 B1 KR100636618 B1 KR 100636618B1 KR 1020050127004 A KR1020050127004 A KR 1020050127004A KR 20050127004 A KR20050127004 A KR 20050127004A KR 100636618 B1 KR100636618 B1 KR 100636618B1
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박승현
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Abstract

An apparatus for purifying a filter of a large-area substrate processing system is provided to extend the lifetime of a filter by cleaning a filter by high-pressure cleaning water while the filter for filtering etchant and cleaning water reused after the etchant and the cleaning water are collected is installed. Process water which is collected and reused is stored in a storage tank. The process water stored in the storage tank is pumped by a pump(30). A process water supplying pipe supplies the process water to a bath(10) through a filter(40) by using the operation of the pump. While the supply of the process water is blocked, a filter cleaning apparatus of a large-area substrate processing system includes a cleaning line(51) for supplying cleaning water to the filter and an exhaust line(52) for exhausting the cleaning water having cleaned the filter to the outside. The cleaning line and the exhaust line are connected to the process water supplying line in a manner that the cleaning water is supplied in an opposite direction to a direction that the process water passes through the filter. The cleaning line is directed ramified from a main cleaning water supplying pipe for supplying the cleaning water to cleaning equipment.

Description

대면적 기판 공정시스템의 필터 정화장치{Cleaning apparatus for filter in large substrate manufacturing system}Filtering apparatus for large area substrate processing system

도 1은 본 발명에 따른 대면적 기판 공정시스템의 필터 정화장치의 일실시 구성도이다.1 is a configuration diagram of one embodiment of a filter purifying apparatus for a large-area substrate processing system according to the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 대면적 기판 공정시스템의 필터 정화장치의 다른 실시 구성도이다.2 is another embodiment of the filter purifying apparatus of the large-area substrate processing system according to the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

10:배스 20:식각액 저장탱크10: bath 20: etchant storage tank

30:펌프 40:필터30: pump 40: filter

50:세정수 공급라인 51:세정라인50: washing water supply line 51: washing line

52:유출라인52: outflow line

본 발명은 대면적 기판 공정시스템의 필터 정화장치에 관한 것으로, 특히 화학약품을 필터링하는 필터를 정화할 수 있는 대면적 기판 공정시스템의 필터 정화장치에 관한 것이다.The present invention relates to a filter purifier of a large area substrate processing system, and more particularly, to a filter purifier of a large area substrate processing system capable of purifying a filter for filtering chemicals.

일반적으로, 평판표시소자 등의 표시소자는 대면적 유리 기판의 상부에 표시소자의 픽셀과 구동회로 등을 박막의 증착, 감광막 패턴 형성, 식각, 세정 공정 등 일련의 공정을 통해 제조된다.In general, a display device such as a flat panel display device is manufactured through a series of processes, such as a thin film deposition, photoresist pattern formation, etching, and cleaning process, on a large area glass substrate, on a pixel and a driving circuit of the display device.

위와 같은 공정의 진행을 위하여 평판표시소자의 제조 공정이 이루어지는 배스(bath)의 외측에는 식각액의 공급을 위한 배관, 세정수의 공급을 위한 배관, 가압공기를 공급하기 위한 배관 등이 설치된다.In order to proceed with the above process, a pipe for supplying an etchant, a pipe for supplying washing water, a pipe for supplying pressurized air, and the like are installed outside the bath where the manufacturing process of the flat panel display device is performed.

상기 배관을 통해 공급되는 식각액과 세정수 등은 배스의 하부에 위치하는 저장탱크에 각각 저장되어 식각, 세정 등의 공정에 이용된다.The etchant and the washing water supplied through the pipe are stored in storage tanks located at the lower part of the bath, and used for etching, washing, and the like.

아울러 식각 또는 세정에 사용된 식각액 또는 세정수는 상기 저장탱크로 재 수집되어 다시 재활용된다.In addition, the etchant or washing water used for etching or washing is collected again into the storage tank and recycled.

이와 같이 재활용되는 식각액 또는 세정수에는 식각부산물 등의 이물이 포함되어 있으며, 이러한 이물을 제거하기 위하여 필터를 사용하고 있다. 상기 필터는 물리적인 방식의 필터이며, 이물의 양에 따라 사용 수명이 결정된다.The recycled etchant or washing water contains foreign substances such as etching by-products, and a filter is used to remove such foreign substances. The filter is a physical filter, the service life is determined by the amount of foreign matter.

즉, 식각부산물 등의 이물의 양이 많으면 사용 수명이 짧아지며, 공정을 중단하고 필터를 꺼내어 세정하여야 한다.That is, when the amount of foreign matter such as etching by-products is large, the service life is shortened, and the process should be stopped and the filter should be taken out and cleaned.

특히, 식각액에 사용되는 HF용액 또는 ITO를 식각하는 식각액은 사용후 쉽게 고화되는 현상이 있으며, 이에 따라 식각액을 필터링 하는 필터의 수명을 단축시키는 문제점이 있었다.In particular, the etchant for etching the HF solution or ITO used in the etchant has a phenomenon that is easily solidified after use, thereby shortening the life of the filter for filtering the etchant.

상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명은 필터를 교환하지 않고도 필터의 고화를 방지하고, 이물을 제거할 수 있는 대면적 기판 공정시스템의 필터 정화장치를 제공함에 그 목적이 있다.It is an object of the present invention to provide a filter purifying apparatus for a large-area substrate processing system capable of preventing the solidification of the filter and removing foreign substances without replacing the filter.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명 대면적 기판 공정시스템의 필터 정화장치는, 수거 후 재사용되는 공정수를 저장하는 저장탱크와, 상기 저장탱크에 저장된 공정수를 펌핑하는 펌프와, 상기 펌프의 작용에 의해 상기 공정수를 공정이 진행되는 배스에 필터를 통해 공급하는 공정수 공급관을 포함하는 대면적 기판 공정시스템에 있어서, 상기 공정수의 공급이 차단된 상태에서, 상기 필터에 세정수를 공급하는 세정라인과, 상기 필터를 세정한 세정수를 외부로 유출시키는 유출라인을 더 포함한다.The filter purifying apparatus of the large-area substrate processing system of the present invention for achieving the above object includes a storage tank for storing the process water to be reused after collection, a pump for pumping the process water stored in the storage tank, and A large-area substrate processing system comprising a process water supply pipe for supplying the process water through a filter to a bath through which the process is performed, wherein washing water is supplied to the filter while the supply of the process water is blocked. And a rinsing line for discharging the rinsing water for cleaning the filter to the outside.

이와 같이 구성된 본 발명에 따른 대면적 기판 공정시스템의 필터 정화장치의 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.An embodiment of a filter purifying apparatus for a large-area substrate processing system according to the present invention configured as described above will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 대면적 기판 공정시스템의 필터 정화장치 일실시예의 구성도이다.1 is a block diagram of an embodiment of a filter purifier of a large-area substrate processing system according to the present invention.

이를 참조하면, 배스(10)에서 사용된 식각액을 밸브(VRE1)를 구비하는 회수관(11)을 통해 회수하여 저장하는 식각액 저장탱크(20)와, 상기 식각액 저장탱크에 저장된 식각액을 배스(10) 측으로 펌핑하는 펌프(30)와, 밸브(VS1,BS2)를 구비하여 상기 펌프(30)로부터 펌핑된 식각액을 배스(10)의 분사노즐로 공급하는 식각액공급관(31)과, 상기 밸브(VS1,VS2) 사이의 식각액공급관(31)마련되어 상기 식각액을 필터링하는 필터(40)와, 밸브(VDI1)를 구비하여 세정장치에 세정수를 공급하는 세정수공급라인(50)으로부터 분기되어 상기 식각액의 유입방향에 대하여 역방향으로 필터(40)에 세정수를 공급하는 세정라인(51)과, 밸브(VDR1)를 구비하여 필터(40)를 세정한 세정수를 외부로 유출시키는 유출라인(52)을 포함한다.Referring to this, the etchant storage tank 20 for recovering and storing the etchant used in the bath 10 through the recovery pipe 11 having the valve VRE1 and the etchant stored in the etchant storage tank 10 Etching liquid supply pipe 31 having a pump 30 for pumping to the side, valves (VS1, BS2) to supply the etching liquid pumped from the pump 30 to the injection nozzle of the bath (10), and the valve (VS1) And an etching solution supply pipe 31 between the VS2 and the filter 40 for filtering the etching solution, and branched from the washing water supply line 50 having a valve VDI1 to supply the washing water to the washing apparatus. A washing line 51 for supplying the washing water to the filter 40 in a reverse direction to the inflow direction, and an outflow line 52 having the valve VDR1 for outflowing the washing water for washing the filter 40 to the outside. Include.

이하, 상기와 같이 구성된 본 발명에 따른 대면적 기판 공정시스템의 필터 정화장치의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the configuration and operation of the filter purifier of the large-area substrate processing system according to the present invention configured as described above will be described in more detail.

먼저, 세정수 공급시에는 상기 식각액 공급관(31)에 마련된 식각액 밸브(VS1, VS2)가 모두 열려 있는 상태이며, 식각액 저장탱크(20)에 저장되어 있는 식각액은 펌프(30)의 작용에 의하여 식각액 공급관(31)을 통해 배스(10)의 분사노즐로 공급된다.First, when the washing water is supplied, all of the etchant valves VS1 and VS2 provided in the etchant supply pipe 31 are open, and the etchant stored in the etchant storage tank 20 is etched by the action of the pump 30. It is supplied to the injection nozzle of the bath 10 through the supply pipe 31.

상기 식각액 공급관(31)을 통해 공급되는 식각액은 필터(40)를 거쳐 필터링된다.The etchant supplied through the etchant supply pipe 31 is filtered through the filter 40.

상기 배스(10)에는 식각대상막이 형성된 대면적 기판이 이송수단을 통해 이송되고 있으며, 상기 분사노즐은 이송되는 기판의 식각대상막 상부에 공급된 식각액을 분사하여 식각처리한다.A large area substrate on which the etching target film is formed is transferred to the bath 10 through a transfer means, and the injection nozzle sprays the etching liquid supplied on the etching target film of the substrate to be transferred.

상기 식각에 사용된 식각액은 배스(10)의 하부에 모여 상기 회수관(11)을 통해 식각액 저장탱크(20)에 모이게 된다.The etchant used for etching is collected in the lower portion of the bath 10 and collected in the etchant storage tank 20 through the recovery pipe 11.

상기 식각액 저장탱크(20)에 저장된 사용된 식각액은 펌프(30)를 통해 다시 식각액 공급관(31)과 필터(40)를 통해 상기 배스(10)에 재공급되는 과정을 반복한다.The used etchant stored in the etchant storage tank 20 is repeatedly supplied to the bath 10 through the etchant supply pipe 31 and the filter 40 through the pump 30 again.

상기의 식각액 공급과정이 수 내지 수십회 반복되면 상기 필터(40)는 재사용되는 식각액에 포함된 이물 또는 식각액 자체의 고화에 의해 더 이상 사용할 수 없게 된다.When the etching solution supply process is repeated several to several tens of times, the filter 40 may no longer be used by the solidification of the foreign matter or the etching solution itself contained in the etching solution to be reused.

이와 같이 필터(40)의 교체시기 이전 또는 교체시기가 도래하면, 필터(40)를 세정한다.In this way, when the replacement time of the filter 40 comes or the replacement time arrives, the filter 40 is cleaned.

필터(40)의 세정은 상기 식각액 공급관(31)의 밸브(VS1, VS2)를 모두 닫아 식각액이 필터(40)로 유입되지 않도록 한다.Cleaning of the filter 40 closes the valves VS1 and VS2 of the etchant supply pipe 31 so that the etchant does not flow into the filter 40.

그 다음, 세정라인(51)의 밸브(VDI1)를 열어 세정수공급라인(50)의 세정수가 상기 필터(40)에 역방향으로 유입되도록 한다. 이때 유출라인(52)의 밸브(VDR1)가 열려있어, 상기 세정라인(51)을 통해 역방향으로 필터(40)에 공급된 세정수는 그 유출라인(52)을 통해 외부로 배출된다.Then, the valve VDI1 of the washing line 51 is opened to allow the washing water of the washing water supply line 50 to flow in the filter 40 in the reverse direction. At this time, the valve VDR1 of the outlet line 52 is opened, and the washing water supplied to the filter 40 in the reverse direction through the washing line 51 is discharged to the outside through the outlet line 52.

상기 필터(40)에 식각액이 지나는 방향에 대한 역방향으로 공급된 세정수는 필터(40)에 필터링된 이물을 필터(40)와 분리하며, 필터(40)에 잔존하는 쉽게 고화되는 식각액을 제거하게 된다.The washing water supplied in the reverse direction to the direction in which the etchant passes through the filter 40 separates the foreign matter filtered by the filter 40 from the filter 40 and removes the easily solidified etchant remaining in the filter 40. do.

상기 세정수의 예로는 탈이온수(DI Water)를 사용할 수 있으며, 세정수의 주 공급관인 세정수 공급라인(50)에서 직접 분기되어 세정수를 필터에 공급함으로써, 강한 압력의 세정수를 필터(40)로 공급할 수 있게 된다.Deionized water (DI Water) may be used as an example of the washing water, and branched directly from the washing water supply line 50, which is a main supply pipe of the washing water, to supply the washing water to the filter, thereby filtering the washing water with a strong pressure. 40) can be supplied.

이에 따라 필터(40)의 세정효과는 더욱 높아지게 되며, 세정된 필터(40)는 교체하지 않고 재사용이 가능하여, 필터(40)의 수명을 연장시킬 수 있게 된다.Accordingly, the cleaning effect of the filter 40 is further increased, and the cleaned filter 40 may be reused without replacing, thereby extending the life of the filter 40.

또한, 사용된 필터의 교환을 위해 필요한 시간에 비하여 필터(40)의 세정에 필요한 시간이 덜 소요되며, 이에 따라 식각공정의 중단 시간을 줄일 수 있어 생산성을 높일 수 있게 된다.In addition, the time required for cleaning the filter 40 is less than the time required for the replacement of the used filter, thereby reducing the downtime of the etching process, thereby increasing productivity.

상기한 세정과정은 수회의 식각액 공급 사이클 후, 1회의 세정과정을 거치도록 설정함으로써 필터(40)의 성능 저하를 방지하고, 그 수명을 연장시켜 사용할 수 있다.The cleaning process described above may be performed after one etching process supply cycle, thereby preventing performance degradation of the filter 40 and extending its life.

도 2는 본 발명에 따른 대면적 기판 공정시스템의 필터 정화장치 다른 실시 예의 구성도이다.Figure 2 is a block diagram of another embodiment of the filter purifier of the large-area substrate processing system according to the present invention.

이를 참조하면, 본 발명에 따른 대면적 기판 공정시스템의 필터 정화장치는 필터(40)를 역방향 세정과 순방향 세정이 가능하도록 필터(40)의 양단에 각각 밸브(VDI1, VDI2)가 마련되어 세정수를 필터(40)에 공급하는 제1 및 제2세정라인(53,54)와, 밸브(VDR1, VDR2)를 각각 구비하여 필터(40)를 세정한 세정수를 외부로 유출시키는 제1 및 제2세정라인(55,56)을 포함한다.Referring to this, in the filter purifier of the large-area substrate processing system according to the present invention, valves VDI1 and VDI2 are respectively provided at both ends of the filter 40 to enable reverse cleaning and forward cleaning of the filter 40. First and second washing lines 53 and 54 and valves VDR1 and VDR2 supplied to the filter 40 and valves VDR1 and VDR2, respectively, to discharge the washing water that has washed the filter 40 to the outside. Cleaning lines 55, 56.

이와 같은 구조는 상기 도 1의 실시예의 구성과 유사하나 필터(40)의 세정을 식각액이 필터(40)를 지나는 방향과 동일한 순방향과, 그 식각액의 경로와는 역방향으로의 세정이 가능하도록 한 구조이며, 그 세정과정을 보다 상세히 설명한다.Such a structure is similar to that of the embodiment of FIG. 1, but the cleaning of the filter 40 is performed such that the cleaning solution can be cleaned in the same forward direction as the direction in which the etching liquid passes through the filter 40 and in the opposite direction to the path of the etching liquid. The cleaning process will be described in more detail.

먼저, 제2세정라인(54)의 밸브(VDI2)가 열린상태이고, 제1세정라인(53)의 밸브(VDI1)가 닫힌 상태에서는 상기 제2세정라인(54)을 통해 세정수 공급라인(50)의 세정수가 필터(40)에 식각액의 공급방향인 순방향으로 공급된다.First, when the valve VDI2 of the second cleaning line 54 is open, and the valve VDI1 of the first cleaning line 53 is closed, the washing water supply line through the second cleaning line 54 is formed. The washing water of 50) is supplied to the filter 40 in the forward direction, which is the supply direction of the etching liquid.

이때 필터(40)의 세정에 사용된 세정수는 밸브(VDR2)가 열린 제2유출라인(56)을 통해 외부로 유출된다.At this time, the washing water used to clean the filter 40 flows out through the second outflow line 56 in which the valve VDR2 is opened.

이와 반대로 제1세정라인(53)의 밸브(VDI1)가 열린상태고, 제2세정라인(53)의 밸브(VDI2)가 닫힌 상태에서는 상기 제1세정라인(53)을 통해 세정수 공급라인(50)의 세정수가 필터(40)에 식각액의 공급방향과는 역방향으로 공급된다. On the contrary, when the valve VDI1 of the first cleaning line 53 is open and the valve VDI2 of the second cleaning line 53 is closed, the washing water supply line is formed through the first cleaning line 53. The washing water of 50) is supplied to the filter 40 in the reverse direction to the supply direction of the etching liquid.

이때 필터(40)의 세정에 사용된 세정수는 밸브(VDR1)가 열린 제1유출라인(55)을 통해 외부로 유출된다.At this time, the washing water used to clean the filter 40 flows out through the first outflow line 55 in which the valve VDR1 is opened.

이와 같이 필터(40)에 식각액이 지나는 방향에 대하여 순방향과 역방향으로 세정수를 공급하는 작용을 수회 반복 실행하여 상기 필터(40)에 흡착되어 있는 이물과 식각액을 흔들어 필터(40)로부터 보다 용이하게 이탈되도록 함으로써, 세정의 효과를 높일 수 있게 된다.As described above, the washing water is repeatedly supplied to the filter 40 in the forward and reverse directions with respect to the direction in which the etching liquid passes, and the foreign substances and the etching liquid adsorbed to the filter 40 are shaken more easily from the filter 40. By making it deviate, the effect of washing | cleaning can be heightened.

이와 같이 본 발명은 세정공정에 사용되는 세정수를 공급하는 세정수 공급라인으로부터 직접 분기된 세정라인을 이용하여 필터를 장착된 상태에서 세정하여 재사용이 가능하도록 함으로써, 필터의 수명을 증가시킬 수 있게 된다.As described above, the present invention uses the washing line branched directly from the washing water supply line for supplying the washing water used in the washing process, so that the filter can be cleaned and reused so as to increase the life of the filter. do.

이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예들을 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시 예들에 한정되지 않으며 본 발명의 개념을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능하다.The present invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above-described embodiments and has ordinary skill in the art to which the present invention pertains without departing from the concept of the present invention. Various changes and modifications are possible by the user.

예를 들어, 식각액의 공급뿐만 아니라 회수되어 재활용되는 세정수를 필터링하는 필터에도 본 발명을 적용하여 필터를 세정함으로써, 필터의 수명을 연장시킬 수 있다.For example, by applying the present invention to the filter for filtering the washing water that is recovered and recycled as well as the supply of the etching liquid, it is possible to extend the life of the filter.

상기한 바와 같이 본 발명은 수거 후 재사용되는 식각액 및 세정수를 필터링 하는 필터를 설치된 상태 그대로 고압의 세정수를 이용하여 세정한 후, 재사용함이 가능하여 필터의 수명을 연장시키는 효과가 있다.As described above, the present invention has the effect of extending the life of the filter can be reused after washing the filter using the high pressure washing water as it is installed to filter the etching liquid and the washing water reused after collection.

또한, 본 발명은 필터를 세정하기 위하여 필터를 분리하고, 세정된 필터를 재설치할 필요가 없어 공정의 중단시간을 최소화하여 생산성을 향상시키는 효과가 있다. In addition, the present invention has the effect of improving the productivity by minimizing the downtime of the process because it is not necessary to remove the filter and reinstall the cleaned filter to clean the filter.

Claims (4)

수거 후 재사용되는 공정수를 저장하는 저장탱크와, 상기 저장탱크에 저장된 공정수를 펌핑하는 펌프와, 상기 펌프의 작용에 의해 상기 공정수를 공정이 진행되는 배스에 필터를 통해 공급하는 공정수 공급관을 포함하는 대면적 기판 공정시스템에 있어서, A process tank supply pipe for supplying the process water through the filter to the storage tank for storing the process water to be reused after collection, the pump for pumping the process water stored in the storage tank, and the process by the action of the pump In the large-area substrate processing system comprising: 상기 공정수의 공급이 차단된 상태에서, 상기 필터에 세정수를 공급하는 세정라인과, 상기 필터를 세정한 세정수를 외부로 유출시키는 유출라인을 포함하는 대면적 기판 공정시스템의 필터 세정장치.And a washing line for supplying washing water to the filter and an outlet line for flowing out the washing water for cleaning the filter to the outside in a state where the supply of the process water is cut off. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 세정라인과 유출라인은 상기 필터에 공정수가 지나는 방향의 역방향으로 세정수를 공급하도록 공정수 공급관에 연결되는 것을 특징으로 하는 대면적 기판 공정시스템의 필터 세정장치.And the cleaning line and the outlet line are connected to a process water supply pipe to supply the washing water in a direction opposite to the direction in which the process water passes through the filter. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 세정라인과 유출라인은 상기 필터에 공정수가 지나는 방향에 대하여 역방향과 순방향으로 교번하여 세정수를 공급할 수 있도록 한쌍씩 공정수 공급관에 연결되는 것을 특징으로 하는 대면적 기판 공정시스템의 필터 세정장치.And the cleaning line and the outflow line are connected to the process water supply pipe in pairs so as to supply the washing water alternately in the reverse direction and the forward direction with respect to the direction in which the process water passes through the filter. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 세정라인은 세정수를 세정장비에 공급하는 메인 세정수 공급관에서 직접 분기되는 것을 특징으로 하는 대면적 기판 공정시스템의 필터 세정장치.The cleaning line is a filter cleaning device of a large-area substrate processing system, characterized in that branched directly from the main washing water supply pipe for supplying the washing water to the cleaning equipment.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104056798A (en) * 2014-05-21 2014-09-24 上海和辉光电有限公司 Device and method for recycling and supplying cleaning liquid

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