JP2006013015A - Cleaning device and cleaning method - Google Patents

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JP2006013015A
JP2006013015A JP2004185751A JP2004185751A JP2006013015A JP 2006013015 A JP2006013015 A JP 2006013015A JP 2004185751 A JP2004185751 A JP 2004185751A JP 2004185751 A JP2004185751 A JP 2004185751A JP 2006013015 A JP2006013015 A JP 2006013015A
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liquid
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rinsing
cleaned
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JP2004185751A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Shinchi
博之 新地
Tomokazu Tanaka
友和 田中
Original Assignee
Hoya Corp
Hoya株式会社
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleaning device and a cleaning method capable of improving cleaning quality and work efficiency for less occupied space. <P>SOLUTION: The cleaning device comprises a cleaning bath body 2 in which an object 10 to be cleaned is housed, a liquid supplying means 4 which selectively supplies a washing liquid or rinsing liquid from the lower part of the cleaning bath body 2, an ultrasonic vibration device 7 for ultrasonic-vibrating the washing liquid or rinsing liquid stored in the cleaning bath body 2, a liquid discharging means 5 which is provided to the lower part of the cleaning bath body 2 to discharge the washing liquid or rinsing liquid, a shower device 6 for jetting the washing liquid or rinsing liquid to the object 10, and an overflow bath 3 provided to the upper part of the cleaning bath body 2. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、洗浄装置及び洗浄方法に関し、特に、電子デバイス等に対し、一つの洗浄槽本体を用いて複数の洗浄・リンス処理を実施でき、洗浄品質・作業効率に優れるとともに、省スペース化することができる洗浄装置及び洗浄方法に関する。   The present invention relates to a cleaning apparatus and a cleaning method, and in particular, it is possible to perform a plurality of cleaning and rinsing processes on an electronic device or the like by using a single cleaning tank body, which is excellent in cleaning quality and work efficiency and saves space. The present invention relates to a cleaning device and a cleaning method.
半導体シリコン・ウエハや液晶パネル等、またはこれらを製造するためのフォトマスク等の電子デバイスは、一般に高度の清浄度を必要とする。特に、電子回路としての機能を損なう危険性のある、微粒子状の汚れ,油性汚れ,イオン性汚れ,腐食性汚れなどは、できる限り除去する必要がある。
これら複数の汚れを洗浄する方法は、各汚れの特性に応じてそれぞれ異なっている。このため、電子デバイス等の洗浄では、被洗浄物をそれぞれの汚れの除去に適した洗浄液(純水を含む。)で洗浄し、この洗浄液をリンス液(純水を含む。)にてすすぎ落としている。
Electronic devices such as semiconductor silicon wafers, liquid crystal panels, etc., or photomasks for manufacturing these, generally require a high degree of cleanliness. In particular, it is necessary to remove particulate dirt, oily dirt, ionic dirt, corrosive dirt, etc. as much as possible, which may impair the function of the electronic circuit.
The method for cleaning the plurality of stains differs depending on the property of each stain. For this reason, in cleaning electronic devices, the object to be cleaned is cleaned with a cleaning liquid (including pure water) suitable for removing each dirt, and this cleaning liquid is rinsed off with a rinsing liquid (including pure water). ing.
ところで、洗浄方法としては、洗浄液に被洗浄物を浸潰(ディップ)して汚れを除去する化学的洗浄方法やシャワーや水流等により汚れを除去する物理的洗浄方法等がある。
また、洗浄剤を希釈した洗浄液を、超音波を利用して振動させながら行う洗浄方法は、物理的洗浄と化学的洗浄の両方の性質を利用している。すなわち、汚れの種類に応じて適切な洗浄液を選択し、超音波振動の物理的作用と洗浄液の化学的作用を組み合わせることで最大限の洗浄効果を上げることができる。さらに、超音波振動している洗浄液に浸漬するだけで洗浄できること,細孔や複雑な形状のものを洗浄できること,洗浄品質の均一化が容易であること等の利点を有している。
このように、超音波振動を利用した洗浄は優れた効果を有しており、これらの効果をさらに高めることを目的として、様々な洗浄装置が提案されている。
By the way, as a cleaning method, there are a chemical cleaning method in which an object to be cleaned is dipped in a cleaning liquid to remove the dirt, a physical cleaning method in which the dirt is removed by a shower, a water flow, or the like.
In addition, a cleaning method in which a cleaning liquid in which a cleaning agent is diluted is vibrated using ultrasonic waves utilizes the properties of both physical cleaning and chemical cleaning. That is, the maximum cleaning effect can be improved by selecting an appropriate cleaning liquid according to the type of dirt and combining the physical action of ultrasonic vibration and the chemical action of the cleaning liquid. Furthermore, there are advantages such as being able to perform cleaning simply by immersing in a cleaning solution that is ultrasonically vibrated, being able to clean pores and complicated shapes, and facilitating uniform cleaning quality.
Thus, cleaning using ultrasonic vibration has excellent effects, and various cleaning apparatuses have been proposed for the purpose of further enhancing these effects.
たとえば、特許文献1の超音波洗浄装置は、超音波振動子を底部に有し、槽内に超音波媒体液(超音波伝達液)を有する外槽の槽内に、石英ガラス製の洗浄槽を設置した二重槽構造を有し、さらに、洗浄槽の底部を傾斜させた構成としてある。
この超音波洗浄装置は、キャビテーションによって超音波媒体液に発生する気泡が、洗浄槽の底部に付着し、超音波の伝達を妨げるといった不具合を防止することができる。
For example, the ultrasonic cleaning device of Patent Document 1 has a quartz glass cleaning tank in an outer tank having an ultrasonic vibrator at the bottom and an ultrasonic medium liquid (ultrasonic transmission liquid) in the tank. It has a double tank structure in which is installed, and the bottom of the washing tank is inclined.
This ultrasonic cleaning apparatus can prevent a problem that bubbles generated in the ultrasonic medium liquid by cavitation adhere to the bottom of the cleaning tank and prevent transmission of ultrasonic waves.
また、洗浄液に浸漬された被洗浄物は、付着した洗浄液をすすぎ落とすこと(リンス)が必要となるが、一般的には、洗浄槽からリンス槽に搬送され、リンス液に浸漬されることによりリンス処理が行なわれる。
リンス槽の代表的なものには、QDR(クイックダンプリンス)槽とオーバーフローリンス槽がある。
QDR槽は、洗浄液が付着した被洗浄物を、リンス槽内に貯められた純水(リンス液)に浸漬した後、槽下部に設けられた排水口を開放し、一気に純水を排出する。そして、同時にリンス槽の上方から、シャワー装置により純水を被洗浄物に吹き付けることにより、被洗浄物に付着した洗浄液をすすぎ落とす構成としてある(特許文献2、図2参照)。
また、オーバーフローリンス槽は、純水をリンス槽の下部に設けられた給水管から注入しリンス槽上方の開口部からオーバーフローさせる槽であり、槽内に被洗浄物を投入し、被洗浄物に付着した洗浄液を上方に流動する純水によりすすぎ流す構成としてある(特許文献2、図3参照)。
In addition, the object to be cleaned immersed in the cleaning liquid needs to be rinsed off (rinsed), but in general, it is transported from the cleaning tank to the rinse tank and immersed in the rinse liquid. A rinse process is performed.
Typical examples of the rinse tank include a QDR (quick dump rinse) tank and an overflow rinse tank.
In the QDR tank, the object to be cleaned, to which the cleaning liquid adheres, is immersed in pure water (rinsing liquid) stored in the rinsing tank, and then the drain port provided in the lower part of the tank is opened to discharge the pure water all at once. At the same time, the cleaning liquid adhering to the object to be cleaned is rinsed off by spraying pure water onto the object to be cleaned with a shower device from above the rinse tank (see Patent Document 2 and FIG. 2).
The overflow rinsing tank is a tank in which pure water is injected from a water supply pipe provided at the lower part of the rinsing tank and is overflowed from the opening above the rinsing tank. The adhering cleaning liquid is rinsed away with pure water flowing upward (see Patent Document 2 and FIG. 3).
さらに、ディップ槽,超音波振動子及びシャワー装置を一体化した洗浄装置も開示されている(特許文献3参照)。この洗浄装置は、洗浄液を噴射する高圧シャワー装置を有し、超音波洗浄を行う超音波洗浄槽と、熱風加熱させる熱風送風装置を有するとともに、内部を減圧する乾燥槽とを備えた構成としてある。
この装置によれば、超音波洗浄を所定時間行った後、洗浄槽本体内の純水を排水し、続いて、高圧シャワー洗浄を行うことができる。
特開平9−24349号公報(第1頁、第3、4図) 特開平5−299404号公報(第2頁、第2、3図) 特開2002−126678号公報(請求項1〜4、第1図)
Furthermore, a cleaning device in which a dip tank, an ultrasonic vibrator, and a shower device are integrated is also disclosed (see Patent Document 3). This cleaning device has a high-pressure shower device for injecting cleaning liquid, and has an ultrasonic cleaning tank that performs ultrasonic cleaning, a hot air blowing device that heats hot air, and a drying tank that depressurizes the inside. .
According to this apparatus, after performing ultrasonic cleaning for a predetermined time, the pure water in the main body of the cleaning tank is drained, and subsequently, high-pressure shower cleaning can be performed.
Japanese Patent Laid-Open No. 9-24349 (first page, FIGS. 3, 4) Japanese Patent Laid-Open No. 5-299404 (Page 2, FIGS. 2, 3) Japanese Patent Laid-Open No. 2002-126678 (Claims 1-4, FIG. 1)
しかしながら、特許文献1に記載された超音波洗浄装置は、被洗浄物から汚れを効果的に落とす(あるいは、剥離させる)ことができるものの、たとえば、超音波洗浄槽からリンス槽に被洗浄物が搬送される際、被洗浄物に付着した洗浄液に落とした汚れが含まれた状態で、汚れがリンス槽に移動する。このため、微少の汚れを含んだリンス液に被洗浄物を浸漬しても、被洗浄物から汚れを完全に除去することはできない。すなわち、洗浄液に拡散した汚れを工程内で回収し、次工程に持ち込まない工夫が必要であり、このような処理が行なわれない限り、洗浄品質を極めて高いレベルにまで向上させることはできない、といった問題があった。   However, although the ultrasonic cleaning apparatus described in Patent Document 1 can effectively remove (or peel off) dirt from the object to be cleaned, for example, the object to be cleaned is transferred from the ultrasonic cleaning tank to the rinse tank. When transported, the dirt moves to the rinsing tank in a state where the dirt that has been dropped is included in the cleaning liquid attached to the object to be cleaned. For this reason, even if the article to be cleaned is immersed in a rinse liquid containing minute dirt, the dirt cannot be completely removed from the article to be cleaned. In other words, it is necessary to devise a method that collects dirt diffused in the cleaning liquid in the process and does not bring it into the next process, and unless such treatment is performed, the cleaning quality cannot be improved to a very high level. There was a problem.
特許文献2に記載されたQDR槽は、リンスに用いる純水が少量ですむ点や、リンス槽の下部に設けられた排水口から純水を全て排出できるため被洗浄物から洗い落とされた汚れが槽内に残留しない点でオーバーフローリンス槽より優れているものの、被洗浄物に対する純水の流動が少ないため、リンス性能ではオーバーフローリンス槽より劣るといった問題があった。
また、特許文献2に記載されたオーバーフローリンス槽は、被洗浄物に対して純水が流動するため、リンス性能ではQDR槽に優るものの、リンスに用いる純水が大量に必要である点や、槽下部から純水の全てを排出しないため、槽内に被洗浄物から洗い落とされた汚れが残留する点で、QDR槽より劣るといった問題があった。
さらに、リンス品質を向上させるために、オーバーフローリンス槽とQDR槽を併設しようとすると、二倍のスペースが必要となり、省スペース化を図ることができないといった問題があった。また、異なるリンス処理毎に各槽内へ被洗浄物を搬入・搬出する作業は、作業効率を悪化させる原因となっていた。
The QDR tank described in Patent Document 2 requires only a small amount of pure water to be used for rinsing, and dirt that has been washed away from the object to be cleaned because all the pure water can be discharged from the drain outlet provided at the bottom of the rinse tank. Although it is superior to the overflow rinse tank in that it does not remain in the tank, there is a problem that the rinse performance is inferior to that of the overflow rinse tank because the flow of pure water to the object to be cleaned is small.
In addition, since the overflow rinse tank described in Patent Document 2 flows pure water with respect to the object to be cleaned, the rinse performance is superior to the QDR tank, but a large amount of pure water is required for rinsing, Since all the pure water is not discharged from the lower part of the tank, there is a problem that it is inferior to the QDR tank in that the dirt washed away from the object to be cleaned remains in the tank.
Furthermore, in order to improve the rinsing quality, if an overflow rinsing tank and a QDR tank are to be provided side by side, there is a problem that twice as much space is required and space saving cannot be achieved. Moreover, the work of carrying in / out the object to be washed into each tank for each different rinsing process has caused the work efficiency to deteriorate.
特許文献3に記載された洗浄装置は、超音波洗浄機能とシャワー機能を備え、多機能化されているものの、オーバーフローリンス機能を有しておらず、被洗浄物に対する純水の流動が少ないためにリンス性能に改善の余地があった。また、洗浄液を効率よくかつ洗浄品質を低下させずに交換する機能を備えていないので、使用する洗浄液の数だけ洗浄槽を設置しなければならず、省スペース化を図ることができないといった問題があった。   Although the cleaning apparatus described in Patent Document 3 has an ultrasonic cleaning function and a shower function and is multi-functional, it does not have an overflow rinse function, and the flow of pure water to the object to be cleaned is small. There was room for improvement in rinse performance. In addition, since it does not have a function to replace the cleaning liquid efficiently and without degrading the cleaning quality, it is necessary to install as many cleaning tanks as the number of cleaning liquids to be used, and space saving cannot be achieved. there were.
特に、近年では、電子デバイスの高精度化にともない、洗浄品質をさらに向上させることを目的として、新たな洗浄液等による洗浄工程が増加する傾向にある。そして、新たな洗浄工程に応じて、たとえば、特許文献3に記載された洗浄槽や特許文献2に記載されたリンス槽を追加したのでは、槽を5〜10槽以上も並設しなければならず、省スペース化を図ることができないといった問題があった。たとえば、洗浄装置がクリーンルーム内に設置される場合には、高価なスペースを有効利用することができないといった切実な問題があった。
さらに、洗浄品質を向上させるためには、単に槽を増加させるだけでは、上述した洗浄槽及びリンス槽が有する問題が解決されないため、顕著な洗浄品質の向上が期待できないといった問題があった。
In particular, in recent years, with the increase in precision of electronic devices, there has been a tendency to increase the number of cleaning steps using a new cleaning liquid for the purpose of further improving the cleaning quality. And according to a new washing | cleaning process, for example, if the washing tank described in patent document 3, and the rinse tank described in patent document 2 are added, unless the tank is arranged in parallel with 5-10 tanks or more In other words, there was a problem that it was not possible to save space. For example, when the cleaning device is installed in a clean room, there is a serious problem that an expensive space cannot be effectively used.
Furthermore, in order to improve the cleaning quality, simply increasing the number of tanks does not solve the problems of the above-described cleaning tank and rinsing tank, and thus there is a problem that a significant improvement in cleaning quality cannot be expected.
本発明は、以上のような従来の技術が有する問題を解決するために提案されたものであり、洗浄品質及び作業効率を向上させ、かつ、省スペース化を実現することのできる洗浄装置及び洗浄方法を提供することを目的とする。   The present invention has been proposed in order to solve the problems of the conventional techniques as described above, and a cleaning apparatus and a cleaning that can improve cleaning quality and work efficiency, and can realize space saving. It aims to provide a method.
上記目的を達成するため、本発明の洗浄装置は、被洗浄物を収納する洗浄槽本体と、この洗浄槽本体の下部から、洗浄液又はリンス液を選択的に供給する液供給手段と、前記洗浄槽本体内に貯めた前記洗浄液又はリンス液を超音波振動させる超音波振動装置と、前記洗浄槽本体の下部に設けられ、前記洗浄液又はリンス液を排出する液排出手段と、前記被洗浄物に、洗浄液又はリンス液を噴射するシャワー装置と、前記洗浄槽本体の上部に設けられたオーバーフロー槽と、を具備した構成としてある。
このようにすると、一つの洗浄槽本体を利用して、超音波洗浄,オーバーフローリンス及びクイックダンプリンスを連続的に行うことができ、省スペース化された状態で高品質の洗浄を行うことができる。
なお、洗浄液とは、洗浄機能を有する液及び純水をいい、リンス液とはリンス機能を有する液及び純水をいう。
In order to achieve the above object, the cleaning apparatus of the present invention comprises a cleaning tank main body for storing an object to be cleaned, a liquid supply means for selectively supplying a cleaning liquid or a rinsing liquid from the lower part of the cleaning tank main body, and the cleaning An ultrasonic vibration device that ultrasonically vibrates the cleaning liquid or rinsing liquid stored in the tank body, a liquid discharge means provided at a lower part of the cleaning tank main body for discharging the cleaning liquid or the rinsing liquid, and the object to be cleaned. , A shower apparatus for injecting a cleaning liquid or a rinsing liquid, and an overflow tank provided at the upper part of the cleaning tank main body.
If it does in this way, ultrasonic cleaning, overflow rinse, and quick dump rinse can be performed continuously using one washing tub body, and high-quality cleaning can be performed in a space-saving state. .
The cleaning liquid refers to a liquid and pure water having a cleaning function, and the rinsing liquid refers to a liquid and pure water having a rinsing function.
また、本発明の洗浄処理装置は、前記超音波振動装置が、前記洗浄槽本体の底部を収納し振動伝達液に浸漬する外槽と、この外槽の下面に設けた超音波振動子とを備えた構成としてある。
このようにすると、たとえば石英ガラス等からなる洗浄槽本体を使用でき、金属製の超音波振動板等から溶出する金属イオンが被洗浄物に付着するといった不具合を防止することができる。
In the cleaning processing apparatus of the present invention, the ultrasonic vibration device includes an outer tank in which a bottom portion of the cleaning tank main body is accommodated and immersed in a vibration transmission liquid, and an ultrasonic vibrator provided on a lower surface of the outer tank. It is as a configuration provided.
If it does in this way, the washing tank main part which consists of quartz glass etc. can be used, for example, and the malfunction that the metal ion eluted from a metal ultrasonic vibration board etc. will adhere to a thing to be washed can be prevented.
また、本発明の洗浄処理装置は、前記洗浄槽本体の下部側壁に排水口が設けられ、この排水口に向けて前記洗浄槽本体の底部が傾斜した構成としてある。
このようにすると、洗浄槽本体の下方に設けた超音波振動装置からの振動を効果的に伝達することができる。
In the cleaning apparatus of the present invention, a drain outlet is provided on the lower side wall of the cleaning tank main body, and the bottom of the cleaning tank main body is inclined toward the drain outlet.
If it does in this way, the vibration from the ultrasonic vibration apparatus provided in the downward direction of the washing tank main body can be transmitted effectively.
また、本発明の洗浄方法は、洗浄槽本体に洗浄液を供給して、被洗浄物を超音波洗浄し、その後、前記洗浄液を排出する洗浄工程と、前記洗浄槽本体にリンス液を供給して、該リンス液をオーバーフローさせるオーバーフローリンス工程と、前記洗浄槽本体から前記リンス液を排出するとともに、前記リンス液を前記被洗浄物に噴射するクイックダンプリンス工程と、を有する方法としてある。
このように、本発明は洗浄方法としても有効であり、超音波洗浄,オーバーフローリンス及びクイックダンプリンスを連続的に行うことができ、高品質の洗浄を行うことができる。特に、超音波洗浄により、汚れを含んだ洗浄液を排出することにより、洗浄槽本体を清浄な状態に維持でき、洗浄品質を向上させることができる。
In the cleaning method of the present invention, the cleaning liquid is supplied to the cleaning tank body, the object to be cleaned is ultrasonically cleaned, and then the cleaning liquid is discharged, and the rinsing liquid is supplied to the cleaning tank body. And an overflow rinsing process for overflowing the rinsing liquid, and a quick dump rinsing process for discharging the rinsing liquid from the cleaning tank body and spraying the rinsing liquid onto the object to be cleaned.
Thus, the present invention is also effective as a cleaning method, and ultrasonic cleaning, overflow rinse, and quick dump rinse can be performed continuously, and high-quality cleaning can be performed. In particular, the cleaning tank main body can be maintained in a clean state and the cleaning quality can be improved by discharging the cleaning liquid containing dirt by ultrasonic cleaning.
また、本発明の洗浄方法は、前記洗浄槽本体を使用して、前記洗浄工程,オーバーフローリンス工程及び/又はクイックダンプリンス工程を複数回繰り返す方法としてある。
このようにすると、新たな洗浄液等による洗浄工程が増加した場合であっても、省スペース化された状態で、高品質の洗浄を行うことができる。
The cleaning method of the present invention is a method in which the cleaning step, the overflow rinse step and / or the quick dump rinse step are repeated a plurality of times using the cleaning tank body.
In this way, even when the number of cleaning steps using a new cleaning liquid or the like increases, high-quality cleaning can be performed in a space-saving state.
また、本発明の洗浄方法は、前記洗浄液を排出する際、前記リンス液を前記被洗浄物及び洗浄槽本体に噴射する方法としてある。
このようにすると、被洗浄物及び洗浄槽本体に付着した洗浄液をすすぎ落とすことができ、リンス品質を向上させることができる。
Further, the cleaning method of the present invention is a method of spraying the rinse liquid onto the object to be cleaned and the cleaning tank body when discharging the cleaning liquid.
If it does in this way, the washing | cleaning liquid adhering to the to-be-washed | cleaned object and the washing tank main body can be rinsed off, and rinse quality can be improved.
以上のように、本発明の洗浄装置及び洗浄方法によれば、一つの洗浄槽本体を利用して、異なる洗浄液を用いた超音波洗浄,オーバーフローリンス及びクイックダンプリンスを連続的に行うことができ、省スペース化された状態で高品質の洗浄を行うことができる。   As described above, according to the cleaning apparatus and the cleaning method of the present invention, ultrasonic cleaning, overflow rinsing, and quick dump rinsing using different cleaning liquids can be continuously performed using one cleaning tank body. High-quality cleaning can be performed in a space-saving state.
[洗浄装置]
以下、本発明に係る洗浄装置の好ましい実施形態について、図面を参照して説明する。
図1は、本発明の実施形態に係る洗浄装置の断面及び配管系統を示す概略図である。
洗浄装置1は、洗浄槽本体2,オーバーフロー槽3,液供給手段4,液排出手段5,シャワー装置6及び超音波振動装置7とからなっている。
[Cleaning equipment]
Hereinafter, preferred embodiments of a cleaning apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic view showing a cross section and a piping system of a cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
The cleaning device 1 includes a cleaning tank body 2, an overflow tank 3, a liquid supply means 4, a liquid discharge means 5, a shower device 6, and an ultrasonic vibration device 7.
(洗浄槽本体)
洗浄槽本体2は、電子デバイス等の被洗浄物10を収納する、たとえば石英ガラス等からなるほぼ直方体状の槽である。このように、材質を非金属とすることにより、金属板等から溶出する金属イオンが被洗浄物10に付着するといった不具合を防止することができる。
また、洗浄槽本体2は、側壁の最下部に排水口21が設けてあり、この排水口21に向けて底板22が水平に対して約3〜4°下方に傾斜した構造としてある。このようにすると、槽内の液体を全て排出することができるとともに、超音波振動装置7を作動させた際、キャビテーションにより発生する気泡が底板22に付着しないので、超音波の伝達効率が低下するといった不具合を回避することができる。なお、傾斜角度は、上記約3〜4°に限定されるものではない。
(Cleaning tank body)
The cleaning tank body 2 is a substantially rectangular parallelepiped tank made of, for example, quartz glass, which accommodates an object to be cleaned 10 such as an electronic device. In this way, by using a non-metal material, it is possible to prevent a problem that metal ions eluted from a metal plate or the like adhere to the object to be cleaned 10.
Moreover, the washing tank main body 2 is provided with a drain outlet 21 at the lowest part of the side wall, and the bottom plate 22 is inclined downward about 3 to 4 degrees with respect to the horizontal toward the drain outlet 21. In this way, all the liquid in the tank can be discharged, and bubbles generated by cavitation do not adhere to the bottom plate 22 when the ultrasonic vibration device 7 is operated, so that the transmission efficiency of ultrasonic waves is reduced. Such a problem can be avoided. Note that the inclination angle is not limited to about 3 to 4 °.
洗浄槽本体2は、収納される被洗浄物10より下方に、複数の給水口(図示せず)が配設された給水管23が設けてあり、この給水管23から洗浄液又はリンス液が供給される。
また、図示してないが、被洗浄物10は、一般的に、洗浄槽本体2の内部に設けられた載置台に載置あるいは固定されるが、この構成に限定されるものではなく、たとえば、搬送装置に保持された状態で、洗浄槽本体2に収納される構成としてもよい。
なお、洗浄槽本体2は、一般的に、洗浄液やリンス液の液面を検知する液面計(図示せず)や温度計等が配設されている。
The cleaning tank body 2 is provided with a water supply pipe 23 provided with a plurality of water supply ports (not shown) below the object to be cleaned 10, and the cleaning liquid or the rinse liquid is supplied from the water supply pipe 23. Is done.
Although not shown, the object to be cleaned 10 is generally placed or fixed on a mounting table provided inside the cleaning tank body 2, but is not limited to this configuration. A configuration may be adopted in which the cleaning tank body 2 is accommodated while being held by the transfer device.
The cleaning tank body 2 is generally provided with a liquid level gauge (not shown), a thermometer, etc. for detecting the liquid level of the cleaning liquid or the rinsing liquid.
(オーバーフロー槽)
オーバーフロー槽3は、洗浄槽本体2の上部外縁に設けられた環状の槽であり、オーバーフローリンスを行う際、洗浄槽本体2からオーバーフローするリンス液(純水を含む。)を回収する。回収されたリンス液は、配管53を介して排液ライン52に排出される。
なお、本実施形態では、回収されたリンス液を排液として処理しているが、これに限定されるものではなく、たとえば、循環ポンプ及びフィルター等を介して、再生されたリンス液として、洗浄槽本体2に供給してもよい。
(Overflow tank)
The overflow tank 3 is an annular tank provided at the upper outer edge of the cleaning tank body 2, and collects rinse liquid (including pure water) that overflows from the cleaning tank body 2 when performing overflow rinsing. The collected rinse liquid is discharged to the drain line 52 via the pipe 53.
In the present embodiment, the recovered rinse liquid is processed as waste liquid. However, the present invention is not limited to this. For example, cleaning is performed as a regenerated rinse liquid through a circulation pump and a filter. You may supply to the tank main body 2. FIG.
(液供給手段)
液供給手段4は、リンス液としての純水を供給する純水供給ライン41と、洗浄液Aを供給する洗浄液A供給ライン42と、洗浄液Bを供給する洗浄液B供給ライン43と、各供給ライン41,42,43の先端に設けた電磁弁410,420,430と、これら電磁弁410,420,430とフィルター44とを接続した接続配管45と、給水管23の先端に接続されたフィルター44とからなっている。
このようにすると、供給する洗浄液やリンス液(本実施形態では、洗浄液A,B,純水)に応じた電磁弁410,420,430を開くことにより、各洗浄液やリンス液を自在に供給することができる。
(Liquid supply means)
The liquid supply means 4 includes a pure water supply line 41 that supplies pure water as a rinse liquid, a cleaning liquid A supply line 42 that supplies the cleaning liquid A, a cleaning liquid B supply line 43 that supplies the cleaning liquid B, and each supply line 41. , 42, 43, solenoid valves 410, 420, 430 provided at the tips of the valves, connection piping 45 connecting the solenoid valves 410, 420, 430 and the filter 44, and a filter 44 connected to the tips of the water supply pipe 23, It is made up of.
If it does in this way, each cleaning liquid and rinse liquid will be supplied freely by opening the electromagnetic valves 410, 420, and 430 according to the cleaning liquid and rinse liquid (in this embodiment, cleaning liquid A, B, pure water) to be supplied. be able to.
また、洗浄液としては、酸性溶液,アルカリ性溶液,機能水(たとえば、オゾン水,水素水,脱気水など)等が使用され、リンス液としては、一般的に、純水等が使用される。
なお、本実施形態では、各洗浄液やリンス液を一つの給水管23から供給する構成としてあるが、これに限定されるものではなく、たとえば、各供給ライン41,42,43に、それぞれフィルター44及び給水管23を設ける構成としてもよい。
また、使用する洗浄液やリンス液は、上記三つの液に限定されるものではなく、たとえば、四つ以上の液を使用することもできる。
Further, an acidic solution, an alkaline solution, functional water (for example, ozone water, hydrogen water, degassed water, etc.) is used as the cleaning liquid, and pure water or the like is generally used as the rinsing liquid.
In this embodiment, the cleaning liquid and the rinsing liquid are supplied from one water supply pipe 23. However, the present invention is not limited to this. For example, each of the supply lines 41, 42, and 43 has a filter 44, respectively. In addition, the water supply pipe 23 may be provided.
Moreover, the washing | cleaning liquid and rinse liquid to be used are not limited to said three liquids, For example, four or more liquids can also be used.
(液排出手段)
液排出手段5は、洗浄槽本体2の排水口21に設けられた電磁弁からなる排液弁51と、この排液弁51と接続された排液ライン52と、排液ライン52とオーバーフロー槽3とを接続する配管53とからなっている。
なお、本実施形態では、使用した純水,洗浄液A,Bを区別することなく排液として処理しているが、区別して排液処理を行う構成としてもよい。
(Liquid discharge means)
The liquid discharge means 5 includes a drain valve 51 made of an electromagnetic valve provided at the drain port 21 of the cleaning tank body 2, a drain line 52 connected to the drain valve 51, a drain line 52, and an overflow tank. 3 is connected to the pipe 53.
In the present embodiment, the used pure water and the cleaning liquids A and B are treated as drainage without being distinguished from each other. However, the drainage treatment may be performed separately.
(シャワー装置)
シャワー装置6は、リンス液を被洗浄物10に噴射するシャワーノズル61と、このシャワーノズル61にリンス液を供給するシャワーライン62と、昇圧ポンプ(図示せず)とからなっている。このように、シャワー装置6を備えることにより、クイックダンプリンスを行うことができる。
また、シャワーノズル61が洗浄槽本体2の内壁にもリンス液を吹きかける構成としてもよく、このようにすると、洗浄液A,Bを排出する際、洗浄槽本体2の内壁にリンス液を吹きかけて汚れを排出することができ、洗浄品質を向上させることができる。
(Shower device)
The shower device 6 includes a shower nozzle 61 that injects a rinsing liquid onto the object to be cleaned 10, a shower line 62 that supplies the rinsing liquid to the shower nozzle 61, and a booster pump (not shown). Thus, quick dump rinse can be performed by providing the shower device 6.
In addition, the shower nozzle 61 may be configured to spray the rinsing liquid on the inner wall of the cleaning tank body 2. In this manner, when the cleaning liquids A and B are discharged, the rinsing liquid is sprayed on the inner wall of the cleaning tank body 2 and becomes dirty. Can be discharged, and the cleaning quality can be improved.
(超音波振動装置)
超音波振動装置7は、約500kHz〜1.5MHzの超音波振動子71と、外槽72とからなっている。
外槽72は、振動伝達液として水が張られており、この水に洗浄槽本体2の底部が浸漬した状態で収納される。
超音波振動子71は、外槽72の底面に設けられており、超音波振動を発すると、外槽72の底板,水(振動伝達液)及び洗浄槽本体2の底板22を介して、洗浄槽本体2内の洗浄液を振動させることができる。また、本実施形態では、超音波振動の伝達経路に、たとえば、排水口21や排液弁51が位置しないので、これらにより振動特性が低下するといった不具合を回避することができる。
(Ultrasonic vibration device)
The ultrasonic vibration device 7 includes an ultrasonic vibrator 71 having a frequency of about 500 kHz to 1.5 MHz and an outer tub 72.
The outer tank 72 is filled with water as a vibration transmission liquid, and is stored in a state where the bottom of the cleaning tank main body 2 is immersed in this water.
The ultrasonic vibrator 71 is provided on the bottom surface of the outer tub 72. When ultrasonic vibration is generated, the ultrasonic vibrator 71 is cleaned through the bottom plate of the outer tub 72, water (vibration transmission liquid), and the bottom plate 22 of the cleaning tub main body 2. The cleaning liquid in the tank body 2 can be vibrated. Further, in the present embodiment, for example, the drain port 21 and the drain valve 51 are not located in the transmission path of the ultrasonic vibration, so that it is possible to avoid the problem that the vibration characteristics are lowered due to these.
(制御手段)
また、上記液供給手段4,液排出手段5,シャワー装置6及び超音波振動装置7は、マニュアル操作により作動させることも可能であるが、シーケンサ等の制御手段(図示せず)を設けて、所定のプログラムにより自動運転させるとよい。このようにすると、作業効率を向上させることができるとともに、人為的ミスを防止することができる。
(Control means)
In addition, the liquid supply means 4, the liquid discharge means 5, the shower device 6 and the ultrasonic vibration device 7 can be operated by manual operation, but are provided with control means (not shown) such as a sequencer, It is advisable to automatically operate according to a predetermined program. In this way, work efficiency can be improved and human error can be prevented.
次に、上記構成からなる本実施形態の洗浄装置1の動作について、図面を参照して説明する。
図2は、本発明の実施形態に係る洗浄装置の動作を説明するための概略フローチャート図である。
同図において、まず、洗浄槽本体2に被洗浄物10がセットされ(ステップS1)、洗浄液A(例えば、アンモニア過水)の超音波洗浄が選択され、制御手段の洗浄スイッチがオンされる。
なお、本実施形態では、洗浄槽本体2に洗浄液Aが貯まる前に、被洗浄物10を洗浄槽本体2にセットしているが、洗浄槽本体2に洗浄液Aを貯めてから、被洗浄物10を洗浄槽本体2にセットしてもよい。
Next, operation | movement of the washing | cleaning apparatus 1 of this embodiment which consists of the said structure is demonstrated with reference to drawings.
FIG. 2 is a schematic flowchart for explaining the operation of the cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention.
In the figure, first, the object to be cleaned 10 is set in the cleaning tank body 2 (step S1), ultrasonic cleaning of the cleaning liquid A (for example, ammonia water) is selected, and the cleaning switch of the control means is turned on.
In this embodiment, the cleaning object 10 is set in the cleaning tank body 2 before the cleaning liquid A is stored in the cleaning tank body 2. However, after the cleaning liquid A is stored in the cleaning tank body 2, the cleaning object A is stored in the cleaning tank body 2. 10 may be set in the cleaning tank body 2.
次に、洗浄スイッチがオンされると、排液弁51が閉じられ、続いて、電磁弁420が開かれ、洗浄液Aが、洗浄液A供給ライン42からフィルター44を通って給水管23に流れ出し、給水管23から洗浄槽本体2に供給される(ステップS2)。続いて、洗浄液Aが、被洗浄物10が完全に浸漬される水位に達すると、制御手段が、液面計からの検出信号を入力し、電磁弁420を閉める。
なお、洗浄液Aの種類によっては(たとえば、洗浄液Aが機能水等である場合には)、電磁弁420を閉めずに、オーバーフロー状態としてもよい。
Next, when the cleaning switch is turned on, the drain valve 51 is closed, and then the electromagnetic valve 420 is opened. The cleaning liquid A flows from the cleaning liquid A supply line 42 through the filter 44 to the water supply pipe 23, It is supplied from the water supply pipe 23 to the cleaning tank body 2 (step S2). Subsequently, when the cleaning liquid A reaches a water level at which the article to be cleaned 10 is completely immersed, the control means inputs a detection signal from the liquid level gauge and closes the electromagnetic valve 420.
Depending on the type of cleaning liquid A (for example, when cleaning liquid A is functional water or the like), the solenoid valve 420 may not be closed and an overflow state may be set.
次に、超音波振動子71が作動し、洗浄槽本体2に供給された洗浄液Aが所定時間だけ超音波振動し、被洗浄物10を超音波洗浄する(ステップS3)。
この超音波洗浄により、洗浄液Aに対応した汚れが被洗浄物10から洗い落とされる(あるいは、剥離する)ので、洗浄後の洗浄液Aには、汚れが含まれている。
Next, the ultrasonic vibrator 71 is operated, and the cleaning liquid A supplied to the cleaning tank body 2 is ultrasonically oscillated for a predetermined time to ultrasonically clean the object to be cleaned 10 (step S3).
By this ultrasonic cleaning, dirt corresponding to the cleaning liquid A is washed away (or peeled off) from the object 10 to be cleaned, so that the cleaning liquid A after cleaning contains dirt.
次に、排液弁51が開かれ、洗浄液Aが排出される(ステップS4)とともに、シャワー装置6が作動し、シャワーノズル61から純水が被洗浄物10に噴射される。
このようにすると、洗浄液Aが排水口21を通って排液ライン52に排出されるとともに、被洗浄物10に付着した洗浄液Aが純水によりすすぎ落とされるので、被洗浄物10に付着した洗浄液Aに含まれる汚れが廃棄され、洗浄液Aに拡散した汚れが被洗浄物10に再付着する確率を低減でき、洗浄品質を向上させることができる。
Next, the drain valve 51 is opened, the cleaning liquid A is discharged (step S4), the shower device 6 is operated, and pure water is jetted from the shower nozzle 61 to the object 10 to be cleaned.
In this way, the cleaning liquid A is discharged to the drainage line 52 through the drain port 21 and the cleaning liquid A adhering to the object to be cleaned 10 is rinsed off with pure water. The probability that the dirt contained in A is discarded and the dirt diffused in the cleaning liquid A reattaches to the object to be cleaned 10 can be reduced, and the cleaning quality can be improved.
また、シャワー装置6は、洗浄槽本体2の内壁にも純水を吹きかけており、洗浄槽本体2の内壁に付着した洗浄液Aをすすぎ落とすことができるので、被洗浄物10から洗い落とした汚れをほぼ全て排液ライン52に排出することができる。
さらに、好ましくは、電磁弁410を短時間だけ開いて、接続配管45内の洗浄液Aを、純水供給ライン41からの純水とともに洗浄槽本体2に流し、シャワー装置6からの純水とともに、排液ライン52に排出するとよい。このようにすると、接続配管45に残っている洗浄液Aを除去することができる。
続いて、シャワー装置6を停止し、噴射した純水が排液ライン52に排出されてから、排液弁51を閉じる。これにより、洗浄槽2の槽内,被洗浄物10の表面及び接続配管45から、洗浄液Aを排出することができる。
The shower device 6 also sprays pure water on the inner wall of the cleaning tank body 2 and can rinse off the cleaning liquid A adhering to the inner wall of the cleaning tank body 2. Almost all can be discharged to the drainage line 52.
Further, preferably, the electromagnetic valve 410 is opened for a short time, and the cleaning liquid A in the connection pipe 45 is caused to flow into the cleaning tank body 2 together with the pure water from the pure water supply line 41, together with the pure water from the shower device 6, It is good to discharge to the drainage line 52. In this way, the cleaning liquid A remaining in the connection pipe 45 can be removed.
Subsequently, the shower device 6 is stopped, and after the injected pure water is discharged to the drain line 52, the drain valve 51 is closed. Thereby, the cleaning liquid A can be discharged from the tank of the cleaning tank 2, the surface of the object 10 to be cleaned, and the connection pipe 45.
次に、純水供給ライン41の電磁弁410を開いて、洗浄槽本体2に純水を供給することにより、被洗浄物10は、下方から上方に流れる純水によって、所定時間だけオーバーフローリンスされる(ステップS5)。なお、洗浄槽本体2からオーバーフローした純水は、配管53を介して排液ライン52に排水される。   Next, the electromagnetic valve 410 of the pure water supply line 41 is opened and pure water is supplied to the cleaning tank main body 2, whereby the object to be cleaned 10 is overflow rinsed for a predetermined time with pure water flowing upward from below. (Step S5). The pure water overflowed from the cleaning tank main body 2 is drained to the drainage line 52 through the pipe 53.
次に、電磁弁410を閉じ、排液弁51を開いて、洗浄槽本体2内の純水を排液ライン52に排出するとともに、シャワー装置6を作動させ、被洗浄物10に純水を噴射し、クイックダンプリンスを実施する(ステップS6)。
続いて、シャワー装置6を停止し、洗浄槽本体2内の純水が排液ライン52に排液されたところで、排液弁51を閉じる。
Next, the electromagnetic valve 410 is closed, the drainage valve 51 is opened, the pure water in the cleaning tank body 2 is discharged to the drainage line 52, the shower device 6 is operated, and the pure water is supplied to the object 10 to be cleaned. Inject and perform quick dump rinse (step S6).
Subsequently, the shower device 6 is stopped, and when the pure water in the cleaning tank body 2 is drained to the drain line 52, the drain valve 51 is closed.
次に、洗浄液B(例えば、オゾン水)の超音波洗浄が選択され、洗浄液Aの代わりに洗浄液Bを使用して、上記ステップS2〜S6までの工程が同様に実施され(ステップS7〜11)、被洗浄物10は、洗浄液Bによって超音波洗浄され、続いて、オーバーフローリンス及びクイックダンプリンスが行われる。
最後に、被洗浄物10が洗浄槽本体2から搬出される(ステップS12)ことにより、洗浄液A,Bの超音波洗浄が終了する。
Next, ultrasonic cleaning of the cleaning liquid B (for example, ozone water) is selected, and using the cleaning liquid B instead of the cleaning liquid A, the above steps S2 to S6 are similarly performed (steps S7 to 11). The object to be cleaned 10 is ultrasonically cleaned with the cleaning liquid B, followed by overflow rinse and quick dump rinse.
Finally, the object 10 to be cleaned is carried out of the cleaning tank main body 2 (step S12), whereby the ultrasonic cleaning of the cleaning liquids A and B is completed.
このように、洗浄装置1によれば、一つの洗浄槽本体2を用いて、洗浄液A,Bの超音波洗浄を連続的に行うことができ、省スペース化を図ることができる。さらに、各超音波洗浄において洗浄液A,Bに拡散した汚れを、まず、洗浄槽本体2から除去し、その後に、オーバーフローリンスとクイックダンプリンスを行うので、洗浄品質を向上させることができる。
また、同一の洗浄槽本体で別種の洗浄液を用いて洗浄処理するため、生産及び作業効率を向上させることができる。
As described above, according to the cleaning apparatus 1, the cleaning liquids A and B can be continuously ultrasonically cleaned using the single cleaning tank body 2, and space saving can be achieved. Furthermore, since the dirt diffused in the cleaning liquids A and B in each ultrasonic cleaning is first removed from the cleaning tank main body 2 and then overflow rinse and quick dump rinse are performed, the cleaning quality can be improved.
In addition, since the same cleaning tank body is cleaned using a different type of cleaning liquid, production and work efficiency can be improved.
[洗浄方法]
また、本発明は、洗浄方法の発明としても有効であり、本発明に係る洗浄方法は、上記洗浄槽本体2に洗浄液を供給して、被洗浄物10を超音波洗浄し、その後、洗浄液を排出する洗浄工程と、洗浄槽本体2にリンス液を供給して、該リンス液をオーバーフローさせるオーバーフローリンス工程と、洗浄槽本体2からリンス液を排出するとともに、リンス液を被洗浄物10に噴射するクイックダンプリンス工程と、を有する方法としてある。
このように、本発明は洗浄方法としても有効であり、特に、超音波洗浄により汚れを含んだ洗浄液を排出することによって、洗浄槽本体を清浄な状態に維持でき、洗浄品質を向上させることができる。
[Cleaning method]
The present invention is also effective as an invention of a cleaning method. The cleaning method according to the present invention supplies a cleaning liquid to the cleaning tank main body 2, ultrasonically cleans the article 10 to be cleaned, and then supplies the cleaning liquid. A cleaning process to be discharged, an overflow rinsing process for supplying the rinsing liquid to the cleaning tank body 2 and overflowing the rinsing liquid, and discharging the rinsing liquid from the cleaning tank body 2 and spraying the rinsing liquid onto the object to be cleaned 10 And a quick dump rinsing step.
Thus, the present invention is also effective as a cleaning method, and in particular, by discharging the cleaning liquid containing dirt by ultrasonic cleaning, the cleaning tank body can be maintained in a clean state, and the cleaning quality can be improved. it can.
また、洗浄槽本体2を使用して、洗浄工程,オーバーフローリンス工程及び/又はクイックダンプリンス工程を複数回繰り返す方法としてもよい。このようにすると、洗浄槽本体2を使用して、たとえば、洗浄液Aによる超音波洗浄,純水によるオーバーフローリンスとクイックダンプリンス,洗浄液Bによる超音波洗浄,純水によるオーバーフローリンスとクイックダンプリンスを連続的に行うことができ、省スペース化された状態で、高品質の洗浄を行うことができる。   Moreover, it is good also as a method of using the washing tank main body 2 and repeating a washing | cleaning process, an overflow rinse process, and / or a quick dump rinse process in multiple times. In this way, the cleaning tank body 2 is used, for example, ultrasonic cleaning with the cleaning liquid A, overflow rinsing and quick dump rinsing with pure water, ultrasonic cleaning with the cleaning liquid B, overflow rinsing and quick dump rinsing with pure water. It can be performed continuously, and high-quality cleaning can be performed in a space-saving state.
また、本発明の洗浄方法は、洗浄液を排出する際、リンス液を被洗浄物10及び洗浄槽本体2の内壁に噴射する方法としてもよい。このようにすると、被洗浄物10に付着した洗浄液及び洗浄槽本体2の内壁に付着した洗浄液を流し落とし、排液ライン52に排出することができるので、これらの洗浄液に含まれる汚れを除去することができるので、リンス性能を向上させることができる。   Further, the cleaning method of the present invention may be a method of spraying the rinse liquid onto the object to be cleaned 10 and the inner wall of the cleaning tank body 2 when discharging the cleaning liquid. In this way, the cleaning liquid adhering to the object to be cleaned 10 and the cleaning liquid adhering to the inner wall of the cleaning tank main body 2 can be washed off and discharged to the drain line 52, so that the dirt contained in these cleaning liquids is removed. Therefore, the rinsing performance can be improved.
このように、本発明にかかる洗浄方法によれば、洗浄及びリンスを連続して同一の洗浄槽本体2を使用して行うことができ、洗浄装置1の設置場所を省スペース化することができる。
また、超音波洗浄後、汚れた洗浄液を洗浄槽本体2の最下部に設けた排水口21から全て排出するため、被洗浄物10から洗い落とされた汚れが洗浄槽本体2の底部に残留しないので、洗浄品質を向上させることができる。
As described above, according to the cleaning method of the present invention, the cleaning and rinsing can be performed continuously using the same cleaning tank body 2, and the space for installing the cleaning device 1 can be saved. .
In addition, after the ultrasonic cleaning, all the dirty cleaning liquid is discharged from the drain port 21 provided at the lowermost part of the cleaning tank body 2, so that the dirt washed off from the object to be cleaned 10 does not remain at the bottom of the cleaning tank body 2. Therefore, the cleaning quality can be improved.
以上、本発明の洗浄装置及び洗浄方法について、好ましい実施形態を示して説明したが、本発明に係る洗浄装置及び洗浄方法は、上述した実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の範囲で種々の変更実施が可能であることは言うまでもない。
たとえば、超音波振動子71を作動させないで、ディップ洗浄槽としても使用できる。
While the cleaning apparatus and the cleaning method of the present invention have been described with reference to the preferred embodiments, the cleaning apparatus and the cleaning method according to the present invention are not limited to the above-described embodiments, and the scope of the present invention. Needless to say, various modifications can be made.
For example, it can be used as a dip cleaning tank without operating the ultrasonic transducer 71.
以上説明したように、本発明の洗浄装置及び洗浄方法は、電子デバイスの洗浄に限定されるものではなく、たとえば、高度の清浄度を必要とする光学機器や医療器具等の洗浄にも好適に利用することができる。   As described above, the cleaning apparatus and the cleaning method of the present invention are not limited to cleaning of electronic devices, and are suitable for cleaning optical instruments and medical instruments that require high cleanliness, for example. Can be used.
本発明の実施形態に係る洗浄装置の断面及び配管系統を示す概略図である。It is the schematic which shows the cross section and piping system of the washing | cleaning apparatus which concern on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る洗浄装置の動作を説明するための概略フローチャート図である。It is a schematic flowchart figure for demonstrating operation | movement of the washing | cleaning apparatus which concerns on embodiment of this invention.
符号の説明Explanation of symbols
1 洗浄装置
2 洗浄槽本体
3 オーバーフロー槽
4 液供給手段
5 液排出手段
6 シャワー装置
7 超音波振動装置
10 被洗浄物
21 排水口
22 底板
23 給水管
41 純水供給ライン
42 洗浄液A供給ライン
43 洗浄液B供給ライン
44 フィルター
45 接続配管
51 排液弁
52 排液ライン
53 配管
61 シャワーノズル
62 シャワーライン
71 超音波振動子
72 外槽
410,420,430 電磁弁
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cleaning apparatus 2 Cleaning tank main body 3 Overflow tank 4 Liquid supply means 5 Liquid discharge means 6 Shower apparatus 7 Ultrasonic vibration apparatus 10 To-be-washed object 21 Drain outlet 22 Bottom plate 23 Water supply pipe 41 Pure water supply line 42 Cleaning liquid A supply line 43 Cleaning liquid B supply line 44 Filter 45 Connection pipe 51 Drain valve 52 Drain line 53 Pipe 61 Shower nozzle 62 Shower line 71 Ultrasonic vibrator 72 Outer tank 410, 420, 430 Solenoid valve

Claims (6)

  1. 被洗浄物を収納する洗浄槽本体と、
    この洗浄槽本体の下部から、洗浄液又はリンス液を選択的に供給する液供給手段と、
    前記洗浄槽本体内に貯めた前記洗浄液又はリンス液を超音波振動させる超音波振動装置と、
    前記洗浄槽本体の下部に設けられ、前記洗浄液又はリンス液を排出する液排出手段と、
    前記被洗浄物に、洗浄液又はリンス液を噴射するシャワー装置と、
    前記洗浄槽本体の上部に設けられたオーバーフロー槽と、
    を具備したことを特徴とする洗浄装置。
    A cleaning tank main body for storing an object to be cleaned;
    Liquid supply means for selectively supplying a cleaning liquid or a rinsing liquid from the lower part of the cleaning tank body,
    An ultrasonic vibration device for ultrasonically vibrating the cleaning liquid or the rinsing liquid stored in the cleaning tank body;
    A liquid discharging means provided at a lower portion of the cleaning tank body, for discharging the cleaning liquid or the rinse liquid;
    A shower device for injecting a cleaning liquid or a rinsing liquid onto the object to be cleaned;
    An overflow tank provided at the top of the cleaning tank body;
    A cleaning apparatus comprising:
  2. 前記超音波振動装置が、前記洗浄槽本体の底部を収納し振動伝達液に浸漬する外槽と、この外槽の下面に設けた超音波振動子とを備えたことを特徴とする請求項1記載の洗浄装置。   The ultrasonic vibration device includes an outer tank that houses a bottom portion of the cleaning tank main body and is immersed in a vibration transmission liquid, and an ultrasonic vibrator provided on a lower surface of the outer tank. The cleaning device described.
  3. 前記洗浄槽本体の下部側壁に排水口が設けられ、この排水口に向けて前記洗浄槽本体の底板が傾斜したことを特徴とする請求項1又は2記載の洗浄装置。   The cleaning apparatus according to claim 1 or 2, wherein a drain outlet is provided in a lower side wall of the cleaning tank main body, and a bottom plate of the cleaning tank main body is inclined toward the drain outlet.
  4. 洗浄槽本体に洗浄液を供給して、被洗浄物を超音波洗浄し、その後、前記洗浄液を排出する洗浄工程と、
    前記洗浄槽本体にリンス液を供給して、該リンス液をオーバーフローさせるオーバーフローリンス工程と、
    前記洗浄槽本体から前記リンス液を排出するとともに、前記リンス液を前記被洗浄物に噴射するクイックダンプリンス工程と、
    を有することを特徴とする洗浄方法。
    A cleaning step of supplying a cleaning liquid to the cleaning tank body, ultrasonically cleaning the object to be cleaned, and then discharging the cleaning liquid;
    Supplying an rinsing liquid to the main body of the washing tank, and an overflow rinsing step for overflowing the rinsing liquid;
    A quick dump rinse step of discharging the rinse liquid from the cleaning tank body and spraying the rinse liquid onto the object to be cleaned,
    A cleaning method characterized by comprising:
  5. 前記洗浄槽本体を使用して、前記洗浄工程,オーバーフローリンス工程及び/又はクイックダンプリンス工程を複数回繰り返すことを特徴とする請求項4記載の洗浄方法。   The cleaning method according to claim 4, wherein the cleaning step, the overflow rinsing step and / or the quick dump rinsing step are repeated a plurality of times using the cleaning tank body.
  6. 前記洗浄液を排出する際、前記リンス液を前記被洗浄物及び洗浄槽本体に噴射することを特徴とする請求項4又は5記載の洗浄方法。   6. The cleaning method according to claim 4, wherein when the cleaning liquid is discharged, the rinse liquid is sprayed onto the object to be cleaned and the main body of the cleaning tank.
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