KR102134435B1 - unit for providing liquid and apparatus for processing substrate containing the same - Google Patents

unit for providing liquid and apparatus for processing substrate containing the same Download PDF

Info

Publication number
KR102134435B1
KR102134435B1 KR1020130122876A KR20130122876A KR102134435B1 KR 102134435 B1 KR102134435 B1 KR 102134435B1 KR 1020130122876 A KR1020130122876 A KR 1020130122876A KR 20130122876 A KR20130122876 A KR 20130122876A KR 102134435 B1 KR102134435 B1 KR 102134435B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
liquid
storage tank
liquid storage
liquid supply
suction
Prior art date
Application number
KR1020130122876A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20150043895A (en
Inventor
최동민
이상준
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020130122876A priority Critical patent/KR102134435B1/en
Publication of KR20150043895A publication Critical patent/KR20150043895A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102134435B1 publication Critical patent/KR102134435B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

본 발명은 액 공급유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치를 개시한 것으로서, 액 저장탱크 내의 액을 흡입하는 흡입바디의 단차진 상면 중 낮은 높이에 위치되는 흡입구를 구비하는 것을 특징으로 한다. 이러한 특징에 의하면, 상면 흡입구를 통해 액 저장탱크 바닥의 파티클 등의 유입을 억제시킬 수 있으므로 펌프 성능이 향상될 수 있다.The present invention discloses a liquid supply unit and a substrate processing apparatus including the same, which is characterized by having a suction port located at a lower height among the stepped upper surfaces of the suction body that sucks the liquid in the liquid storage tank. According to this feature, since the inflow of particles, etc., at the bottom of the liquid storage tank can be suppressed through the upper surface intake, pump performance can be improved.

Description

액 공급유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치{unit for providing liquid and apparatus for processing substrate containing the same}A liquid supply unit and a substrate processing apparatus including the same{unit for providing liquid and apparatus for processing substrate containing the same}

본 발명은 액 공급유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid supply unit and a substrate processing apparatus including the same.

일반적으로 반도체 소자 및 평판 표시 장치 등을 제조하는 공정에는 다양한 액들을 이용하여 기판을 처리한다. 기판 처리 장치는 다양한 액을 공급하는 액 공급 장치와 연결된다. 액 공급 장치는 펌프 등을 이용하여 액을 저장하는 액 저장탱크로부터 액을 기판 처리 장치로 공급하고, 사용된 액을 다시 액 저장탱크 또는 액 회수탱크로 회수하는 구조를 가진다.In general, in a process of manufacturing a semiconductor device and a flat panel display device, a substrate is processed using various liquids. The substrate processing apparatus is connected to a liquid supply apparatus that supplies various liquids. The liquid supply device has a structure in which a liquid is supplied from a liquid storage tank for storing liquid to a substrate processing apparatus using a pump or the like, and the used liquid is recovered back into a liquid storage tank or a liquid recovery tank.

이때, 액 저장탱크로부터 기판 처리 장치로 공급되는 액에는 기포 등이 포함되는 경우가 빈번한데, 이는 기판 처리 장치의 공정 불량 및 공정 수율을 저하시키는 원인이 된다.At this time, the liquid supplied from the liquid storage tank to the substrate processing apparatus frequently includes air bubbles or the like, which is a cause of deterioration of process defects and process yield of the substrate processing apparatus.

일반적인 액 저장탱크는 액 공급원으로부터 액 저장탱크로 공급되는 액이 높은 위치에서 공급되므로 위치 에너지가 운동 에너지로 전환되어, 액 저장탱크 내부에서 많은 량의 미세 기포가 발생된다. 또한, 액 저장탱크는 장시간 이용시 탱크 바닥에 파티클(particle) 등이 쌓이게 된다. 따라서 액 저장탱크로부터 펌프 등을 이용하여 액을 처리실에 공급하는 경우, 액 저장탱크 내의 액을 흡입하는 흡입구에 파티클이나 기포가 유입될시 펌프 등의 오작동이 발생할 수 있는 문제점이 있다.In a general liquid storage tank, since the liquid supplied from the liquid supply source to the liquid storage tank is supplied at a high position, the potential energy is converted into kinetic energy, and a large amount of fine bubbles are generated inside the liquid storage tank. In addition, in the liquid storage tank, particles and the like are accumulated on the bottom of the tank when used for a long time. Therefore, when the liquid is supplied from the liquid storage tank to the processing chamber by using a pump or the like, there is a problem that a malfunction such as a pump may occur when particles or bubbles are introduced into the suction port for inhaling the liquid in the liquid storage tank.

본 발명은 액 저장탱크 바닥의 파티클 등의 유입을 방지하는 액 공급유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a liquid supply unit that prevents inflow of particles, etc., from the bottom of a liquid storage tank and a substrate processing apparatus including the same.

또한, 본 발명은 액 저장탱크 내에서 기포 등의 발생을 감소시키는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. In addition, an object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus that reduces the occurrence of bubbles and the like in a liquid storage tank.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problem to be solved by the present invention is not limited to this, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다. 상기 기판 처리 장치는 처리실, 액 저장탱크, 상기 액 저장 탱크로부터 상기 처리실에 액을 공급하는 액 공급부재 및 상기 처리실로부터 배출되는 액을 상기 액저장 탱크에 공급하는 액 배출부재를 포함하되, 상기 액 공급부재는, 상기 액 저장탱크 내부에 위치되며, 상기 액 저장탱크 내의 액을 흡입하는 흡입구를 가지는 흡입바디와, 상기 흡입바디에 연결되는 액 공급라인과, 상기 액 공급라인에 설치되는 흡입부재를 가지되, 상기 흡입구는 상기 흡입바디의 상면에 형성된다. The present invention provides a substrate processing apparatus. The substrate processing apparatus includes a processing chamber, a liquid storage tank, a liquid supply member for supplying liquid from the liquid storage tank to the processing chamber, and a liquid discharge member for supplying liquid discharged from the processing chamber to the liquid storage tank, wherein the liquid The supply member is located inside the liquid storage tank, the suction body having a suction port for suctioning the liquid in the liquid storage tank, a liquid supply line connected to the suction body, and a suction member installed in the liquid supply line There are, however, the suction port is formed on the upper surface of the suction body.

일 예에 의하면, 상기 흡입바디의 상면은 단차지게 제공되고, 상기 흡입구는 상기 단차의 상면 중 낮은 높이에 위치된다.According to an example, the upper surface of the suction body is provided stepwise, and the suction port is located at a lower height among the upper surfaces of the step.

일 예에 의하면, 상기 액 배출부재는 상기 액 저장탱크 내로 삽입되는 배출라인을 포함하되, 상기 배출라인의 끝단은 상기 흡입바디의 반대측을 향하는 방향으로 제공된다.According to one example, the liquid discharge member includes a discharge line inserted into the liquid storage tank, the end of the discharge line is provided in a direction toward the opposite side of the suction body.

본 발명은 액 공급유닛을 제공한다. 상기 액 공급유닛은 액 저장탱크와 상기 액 저장탱크로부터 처리실에 액을 공급하는 액 공급부재를 포함하되, 상기 액 공급부재는, 상기 액 저장탱크 내부에 위치되며, 상기 액 저장탱크 내의 액을 흡입하는 흡입구를 가지는 흡입바디와, 상기 흡입바디에 연결되는 액 공급라인과, 상기 액 공급라인에 설치되는 흡입부재를 가지되, 상기 흡입구는 상기 흡입바디의 상면에 형성된다. The present invention provides a liquid supply unit. The liquid supply unit includes a liquid storage tank and a liquid supply member for supplying liquid to the processing chamber from the liquid storage tank, wherein the liquid supply member is located inside the liquid storage tank, and suctions the liquid in the liquid storage tank It has a suction body having a suction port, a liquid supply line connected to the suction body, and a suction member installed in the liquid supply line, wherein the suction port is formed on the upper surface of the suction body.

일 예에 의하면, 상기 흡입바디의 상면은 단차지게 제공되고, 상기 흡입구는 상기 단차의 상면 중 낮은 높이에 위치된다.According to an example, the upper surface of the suction body is provided stepwise, and the suction port is located at a lower height among the upper surfaces of the step.

본 발명은 액 저장탱크 내에 탱크 내 액이 흡입되는 상면 흡입구를 구비하여 액 저장탱크 바닥의 파티클 등의 유입을 방지할 수 있는 효과가 있다.The present invention has an effect capable of preventing the inflow of particles, etc., at the bottom of the liquid storage tank by having an upper surface inlet through which liquid in the tank is sucked in the liquid storage tank.

또한, 본 발명은 상면 흡입구를 통해 이물질 등의 유입을 억제시킬 수 있으므로 펌프 성능이 향상될 수 있다. In addition, the present invention can suppress the inflow of foreign substances and the like through the upper surface intake, the pump performance can be improved.

또한, 본 발명은 처리실에서 사용된 액을 회수하는 경우 회수라인의 끝단을 흡입구의 반대측 방향으로 형성하여 액 저장탱크 내에서 기포 등의 발생을 억제시킬 수 있다.In addition, the present invention can suppress the generation of bubbles and the like in the liquid storage tank by forming the end of the recovery line in the opposite direction of the suction port when recovering the liquid used in the treatment chamber.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2는 도 1의 액 공급유닛의 다른 실시예를 도시한 도면이다.
도 3은 도 1의 액 배출부재의 다른 실시예를 도시한 도면이다.1 is a view schematically showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a view showing another embodiment of the liquid supply unit of FIG. 1.
3 is a view showing another embodiment of the liquid discharge member of FIG.

이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액 공급유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다. 따라서 도면에서의 도시된 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장된 것이다. Hereinafter, a liquid supply unit and a substrate processing apparatus including the same according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In describing the present invention, when it is determined that detailed descriptions of related known configurations or functions may obscure the subject matter of the present invention, detailed descriptions thereof will be omitted. Therefore, the shape of the illustrated components in the drawings is exaggerated to emphasize a clearer description.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치(10)를 개략적으로 도시한 도면이다. 도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치(10)는 처리실(100), 액 저장탱크(200), 액 공급부재(300) 및 액 배출부재(400)를 포함한다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 각 구성에 대해 상세히 설명한다.1 is a view schematically showing a substrate processing apparatus 10 according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, the substrate processing apparatus 10 according to an embodiment of the present invention includes a processing chamber 100, a liquid storage tank 200, a liquid supply member 300, and a liquid discharge member 400. Hereinafter, each configuration will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

처리실(100)은 기판 처리 공정이 진행되는 공간을 제공한다. 처리실(100) 내에는 기판 이송 유닛(110)이 각각 설치되며, 기판 이송 유닛(110)은 처리실(100)간 또는 처리실(100) 내에서 기판(s)을 일방향으로 이동시킨다. 처리실(100)은 대체로 직육면체 형상을 가지며, 서로 인접하게 배치된다. 처리실(100)의 일 측벽에는 기판이 유입되는 유입구가 제공되고, 이와 마주보는 타 측벽에는 처리실(100)로부터 기판이 유출되는 유출구가 제공된다. 각 처리실(100) 내에서는 기판(s)에 대해 소정 공정이 진행된다. 각 처리실(100) 내에서는 각각 식각공정, 세정공정 등이 진행될 수 있다. 처리실(100)에서는 액 공급라인(320)과 연결되는 액 공급 장치를 이용하여 기판으로 액을 공급하여 공정을 처리한다. 액 공급장치는 노즐 등이 동원될 수 있다.The processing chamber 100 provides a space in which the substrate processing process is performed. The substrate transfer units 110 are respectively installed in the processing chamber 100, and the substrate transfer units 110 move the substrate s in one direction between the processing chambers 100 or within the processing chamber 100. The processing chamber 100 has a substantially rectangular parallelepiped shape, and is disposed adjacent to each other. One side wall of the processing chamber 100 is provided with an inlet through which the substrate is introduced, and another side wall facing the other side is provided with an outlet through which the substrate is discharged from the processing chamber 100. In each processing chamber 100, a predetermined process is performed on the substrate s. In each treatment chamber 100, an etching process, a cleaning process, and the like may be performed, respectively. In the processing chamber 100, a liquid is supplied to the substrate using a liquid supply device connected to the liquid supply line 320 to process the process. The liquid supply device may be a nozzle or the like.

액 저장탱크(200)는 순수(DI) 등 여러 종류의 케미컬들을 저장한다. 액 저장탱크(200)는 액 공급부재(300)를 통해 처리실(100)에 액을 공급한다. 또한, 액 저장탱크(200)는 액 배출부재(400)를 통해 처리실(100)로부터 배출되는 액을 공급받는다.The liquid storage tank 200 stores various types of chemicals such as pure water (DI). The liquid storage tank 200 supplies liquid to the processing chamber 100 through the liquid supply member 300. In addition, the liquid storage tank 200 receives the liquid discharged from the processing chamber 100 through the liquid discharge member 400.

액 공급부재(300)는 액 저장탱크(200)로부터 흡입된 액을 처리실(100)에 공급한다. 액 공급부재(300)는 흡입바디(310), 액 공급라인(320), 그리고 흡입부재(330)를 포함한다. 흡입바디(310)는 액 저장탱크(200) 내부에 위치한다. 흡입바디(310)는 액 저장탱크(200)의 일측 하단에서 내측으로 돌출형성되는 것이 바람직하다. 흡입바디(310)는 액 저장탱크(200) 내의 액을 흡입하는 흡입구(311)를 가진다. 흡입바디(310)의 상면은 단차지게 제공된다. 흡입구(311)는 상기 단차의 상면 중 낮은 높이에 위치된다. 액 공급라인(320)은 일단은 흡입바디(310)에 연결되고 타단은 처리실(100)에 연결된다. 흡입부재(330)는 액 공급라인(320)의 적절한 위치에 설치된다. 흡입부재(330)로는 펌프가 사용될 수 있다. The liquid supply member 300 supplies the liquid sucked from the liquid storage tank 200 to the processing chamber 100. The liquid supply member 300 includes a suction body 310, a liquid supply line 320, and a suction member 330. The suction body 310 is located inside the liquid storage tank 200. The suction body 310 is preferably formed to protrude inward from the bottom of one side of the liquid storage tank (200). The suction body 310 has a suction port 311 for sucking the liquid in the liquid storage tank 200. The upper surface of the suction body 310 is provided stepwise. The inlet 311 is located at a lower height among the upper surfaces of the step. The liquid supply line 320 has one end connected to the suction body 310 and the other end connected to the processing chamber 100. The suction member 330 is installed at an appropriate position on the liquid supply line 320. A pump may be used as the suction member 330.

상기와 같이, 본 발명의 실시예에 의하면 액 저장탱크(200) 내부에 탱크 내 액이 흡입되는 상면 흡입구(311)를 구비하여 액 저장탱크(200) 바닥의 파티클 등의 직접적인 유입을 방지할 수 있다. 특히, 본 발명의 실시예에 의하면 흡입바디(310)를 단차지게 형성하고, 흡입구(311)를 낮은 면에 형성함으로써 액 흡입속도를 증가시킬 수 있다. 또한, 본 발명의 실시예에 의하면 단차를 통해 파티클 등이 걸러지게 하는 효과를 기대할 수 있다. 또한, 본 발명의 실시예에 의하면 상면 흡입구를 통해 이물질 등의 유입을 억제시킬 수 있으므로 펌프 성능이 향상될 수 있는 장점이 있다.As described above, according to an embodiment of the present invention, the liquid storage tank 200 has a top suction port 311 through which liquid in the tank is sucked, so that particles such as particles at the bottom of the liquid storage tank 200 can be directly prevented. have. In particular, according to the embodiment of the present invention, the suction body 310 is formed stepwise, and the suction port 311 is formed on the lower surface to increase the liquid suction speed. In addition, according to an embodiment of the present invention, an effect of filtering particles or the like through a step can be expected. In addition, according to an embodiment of the present invention, since the inflow of foreign substances or the like can be suppressed through the upper surface intake, there is an advantage that the pump performance can be improved.

도 2는 본 발명의 액 공급유닛의 다른 실시예를 도시한 것이다. 본 발명의 다른 실시예에 따른 흡입바디(310')는 단차가 없이 형성될 수 있다. 더불어, 흡입구(311') 역시 단차가 없는 상면에 형성될 수 있다. 이러한 실시예 역시 액 저장탱크(200) 바닥의 이물질 등이 직접적으로 흡입구(311')로 유입되는 것을 감소시킬 수 있다.Figure 2 shows another embodiment of the liquid supply unit of the present invention. The suction body 310' according to another embodiment of the present invention may be formed without a step. In addition, the suction port 311' may also be formed on the upper surface without a step. In this embodiment, it is possible to reduce the inflow of foreign substances or the like directly at the bottom of the liquid storage tank 200 into the intake port 311'.

액 배출부재(400)는 처리실(100)에서 각 처리 공정에서 사용된 후에 배출되는 액을 액 저장탱크(200)에 공급한다. 액 배출부재(400)는 액 저장탱크(200) 내로 삽입되는 배출라인(410)을 포함한다. 배출라인의 끝단(411)은 흡입바디(310)의 반대측을 향하는 방향으로 제공된다.
The liquid discharge member 400 supplies liquid discharged after being used in each treatment process in the treatment chamber 100 to the liquid storage tank 200. The liquid discharge member 400 includes a discharge line 410 inserted into the liquid storage tank 200. The end 411 of the discharge line is provided in a direction toward the opposite side of the suction body 310.

도 3은 본 발명의 액 배출부재의 다른 실시예를 도시한 도면이다. 도 3과 같이 배출라인의 끝단(411')은 상방을 향해 굽어지게 형성될 수 있다. 따라서 배출라인의 끝단(411')을 통해 배출되는 액의 방향은 흡입구(311)를 통해 흡입되는 액의 방향과 정반대방향이 된다.3 is a view showing another embodiment of the liquid discharge member of the present invention. 3, the end 411' of the discharge line may be formed to be bent upward. Therefore, the direction of the liquid discharged through the end 411 ′ of the discharge line becomes the opposite direction to the direction of the liquid sucked through the suction port 311.

따라서, 본 발명은 처리실에서 사용된 액을 회수하는 경우 회수라인의 끝단을 흡입구의 반대측 방향으로 형성하여 액 저장탱크(200) 내에서 기포 등의 발생을 억제시킬 수 있는 효과가 있다. Therefore, the present invention has an effect of suppressing the generation of air bubbles and the like in the liquid storage tank 200 by forming the end of the recovery line in the opposite direction of the suction port when recovering the liquid used in the processing chamber.

액 공급유닛(20)은 액 저장탱크(200)와 액 공급부재(300)를 포함한다. 액 공급부재(300)는 액 저장탱크(200)로부터 처리실(100)에 액을 공급한다. 액 공급부재(300)는 액 저장탱크(200) 내부에 위치되며 액 저장탱크(200) 내의 액을 흡입하는 흡입구(311)를 가지는 흡입바디(310)와, 흡입바디(310)에 연결되는 액 공급라인(320)과 액 공급라인에 설치되는 흡입부재(330)를 가지되, 흡입구(3110는 흡입바디(310)의 상면에 형성된다. 또한, 흡입바디(310)의 상면은 단차지게 형성되고, 흡입구(311)는 상기 단차의 상면 중 낮은 높이에 위치된다. The liquid supply unit 20 includes a liquid storage tank 200 and a liquid supply member 300. The liquid supply member 300 supplies liquid from the liquid storage tank 200 to the processing chamber 100. The liquid supply member 300 is located inside the liquid storage tank 200 and has a suction body 310 having a suction port 311 for suctioning the liquid in the liquid storage tank 200, and a liquid connected to the suction body 310 Having a supply line 320 and a suction member 330 installed in the liquid supply line, the suction port 3110 is formed on the upper surface of the suction body 310. In addition, the upper surface of the suction body 310 is formed stepwise , Inlet 311 is located at a lower height of the upper surface of the step.

액 공급유닛(20)을 구성하는 액 저장탱크(200) 및 액 공급부재(300)와 관련된 상세한 설명은 상기 기판 처리 장치(10)에서의 설명과 중복되므로 생략한다. The detailed description related to the liquid storage tank 200 and the liquid supply member 300 constituting the liquid supply unit 20 is omitted because it overlaps with the description in the substrate processing apparatus 10.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. The above description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those skilled in the art to which the present invention pertains may make various modifications and variations without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical spirit of the present invention, but to explain, and the scope of the technical spirit of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be interpreted by the claims below, and all technical spirits within the scope equivalent thereto should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

10 : 기판 처리 장치 20 : 액 공급유닛
100 : 처리실 200 : 액 저장탱크
300 : 액 공급부재 310 : 흡입바디
311 : 흡입구 320 : 액 공급라인
330 : 흡입부재 400 : 액 배출부재
410 : 배출라인 411 : 배출라인 끝단10: substrate processing apparatus 20: liquid supply unit
100: processing chamber 200: liquid storage tank
300: liquid supply member 310: suction body
311: suction port 320: liquid supply line
330: suction member 400: liquid discharge member
410: discharge line 411: end of the discharge line

Claims (5)

기판 처리 장치에 있어서,
처리실;
액 저장탱크;
상기 액 저장 탱크로부터 상기 처리실에 액을 공급하는 액 공급부재; 및
상기 처리실로부터 배출되는 액을 상기 액저장 탱크에 공급하는 액 배출부재;를 포함하되,
상기 액 공급부재는,
상기 액 저장탱크 내부에 위치되며, 상기 액 저장탱크 내의 액을 흡입하는 흡입구를 가지는 흡입바디와;
일단이 상기 흡입바디에 연결되고 타단이 상기 처리실에 연결되는 액 공급라인과;
상기 액 공급라인에 설치되는 흡입부재를 가지되, 상기 흡입구는 상기 흡입바디의 상면에 형성되는 기판 처리 장치.In the substrate processing apparatus,
Treatment room;
Liquid storage tank;
A liquid supply member for supplying liquid from the liquid storage tank to the processing chamber; And
It includes; a liquid discharge member for supplying the liquid discharged from the processing chamber to the liquid storage tank;
The liquid supply member,
A suction body located inside the liquid storage tank and having a suction port for suctioning liquid in the liquid storage tank;
A liquid supply line having one end connected to the suction body and the other end connected to the processing chamber;
A substrate processing apparatus having a suction member installed in the liquid supply line, wherein the suction port is formed on an upper surface of the suction body. 제 1항에 있어서,
상기 흡입바디의 상면은 단차지게 제공되고,
상기 흡입구는 상기 단차의 상면 중 낮은 높이에 위치되는 기판 처리 장치.According to claim 1,
The upper surface of the suction body is provided stepwise,
The suction port is a substrate processing apparatus located at a lower height of the upper surface of the step. 제 1항에 있어서,
상기 액 배출부재는 상기 액 저장탱크 내로 삽입되는 배출라인을 포함하되,
상기 배출라인의 끝단은 상기 흡입바디의 반대측을 향하는 방향으로 제공되는 기판 처리 장치.According to claim 1,
The liquid discharge member includes a discharge line that is inserted into the liquid storage tank,
An end of the discharge line is a substrate processing apparatus provided in a direction toward the opposite side of the suction body. 액 공급유닛에 있어서,
상기 액 공급유닛은,
액 저장탱크와,
상기 액 저장탱크로부터 처리실에 액을 공급하는 액 공급부재를 포함하되,
상기 액 공급부재는,
상기 액 저장탱크 내부에 위치되며, 상기 액 저장탱크 내의 액을 흡입하는 흡입구를 가지는 흡입바디와;
상기 흡입바디에 연결되는 액 공급라인과;
상기 액 공급라인에 설치되는 흡입부재를 가지되, 상기 흡입구는 상기 흡입바디의 상면에 형성되는 액 공급유닛.In the liquid supply unit,
The liquid supply unit,
Liquid storage tank,
A liquid supply member for supplying a liquid from the liquid storage tank to the processing chamber,
The liquid supply member,
A suction body located inside the liquid storage tank and having a suction port for suctioning liquid in the liquid storage tank;
A liquid supply line connected to the suction body;
A liquid supply unit having a suction member installed on the liquid supply line, wherein the suction port is formed on an upper surface of the suction body. 제 4항에 있어서,
상기 흡입바디의 상면은 단차지게 제공되고,
상기 흡입구는 상기 단차의 상면 중 낮은 높이에 위치되는 액 공급유닛.The method of claim 4,
The upper surface of the suction body is provided stepwise,
The suction port is a liquid supply unit located at a lower height of the upper surface of the step.
KR1020130122876A 2013-10-15 2013-10-15 unit for providing liquid and apparatus for processing substrate containing the same KR102134435B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130122876A KR102134435B1 (en) 2013-10-15 2013-10-15 unit for providing liquid and apparatus for processing substrate containing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130122876A KR102134435B1 (en) 2013-10-15 2013-10-15 unit for providing liquid and apparatus for processing substrate containing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150043895A KR20150043895A (en) 2015-04-23
KR102134435B1 true KR102134435B1 (en) 2020-07-15

Family

ID=53036304

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130122876A KR102134435B1 (en) 2013-10-15 2013-10-15 unit for providing liquid and apparatus for processing substrate containing the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102134435B1 (en)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100924931B1 (en) * 2007-11-07 2009-11-05 세메스 주식회사 Cleaning device and method of cleaning substrate
KR20100061035A (en) * 2008-11-28 2010-06-07 세메스 주식회사 Apparatus and method for treating substrate
KR200463866Y1 (en) * 2010-03-04 2012-12-04 최준홍 A chemical liquid supply system of wide acrop duster

Also Published As

Publication number Publication date
KR20150043895A (en) 2015-04-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20150136185A1 (en) Apparatus of cleaning substrate
US9839876B2 (en) Air cleaning device using water as filter
KR101609512B1 (en) Wet Scrubber
KR102134435B1 (en) unit for providing liquid and apparatus for processing substrate containing the same
KR100627886B1 (en) Wet scrubber
KR101732273B1 (en) Dust Collector having Air Guide Panel
JP5660903B2 (en) Processing equipment
US10918977B2 (en) Suction nozzle and fluid recovery apparatus
KR101306082B1 (en) Clean equipment for organic and inorganic material
CN104549862A (en) Treatment device of paint fog after paint spraying of furniture
CN104785061B (en) For the treating column of purifying and stive waste gas, equipment and system
KR200437869Y1 (en) Vibration isolation nozzle in structure for air conditioner
KR102026867B1 (en) Debris removal device
CN213728180U (en) Silicon chip welt belt cleaning device is used in diode production
KR20130034565A (en) Air cleaning device using water film
KR101302650B1 (en) Etching tank having filtering function
KR20190097646A (en) A dust collector for using air bubble
TWM563916U (en) Pre-filter for gas filtration device
JP2009189979A (en) Suspended matter removing apparatus
KR20030074542A (en) The mote removing device of LCD panel
CN103190869B (en) A kind of container bottle for water absorption type cleaner
KR200332664Y1 (en) The mote removing device of LCD panel
KR101506873B1 (en) Apparatus for cleaning a semiconductor wafer
CN106968953B (en) Environment-friendly type vacuum pump set
CN103047118A (en) Vacuum pump dust deposition and filter device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant