KR100908686B1 - 노광 장치의 조명 광학계 - Google Patents
노광 장치의 조명 광학계 Download PDFInfo
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- 238000005286 illumination Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
- H01L21/0274—Photolithographic processes
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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Abstract
Description
서로 이격되어 대향하는 아크 램프를 구성하는 음극과 양극 사이의 중앙부가 중심축 상의 제1 초점에 위치 정렬되고, 상기 아크 램프에서 출사된 광이 제1 초점 후방 측의 타원형 미러에서 반사되어 중심축 상에 위치하는 제1 초점 전방 측의 제2 초점에 광원 상을 형성하며, 상기 제2 초점에서 상기 아크 램프 쪽으로 이격되는 위치에 배치되어 광을 평행화 및 굴절시키는 콜리메이션 렌즈, 및 상기 콜리메이션 렌즈와 상기 제2 초점 사이의 위치 또는 상기 제2 초점의 전방 측의 위치에 배치되어 상기 콜리메이션 렌즈를 통과한 광을 입사받아 다중 광원 상을 형성하도록 하는 FEL(Fly Eye Lens)를 구비하는 노광 장치의 조명 광학계에 있어서,
상기 아크 램프를 구성하는 상기 음극과 상기 양극 중 어느 하나가 상기 제1 초점에 위치하도록, 중심축 상에서 상기 아크 램프의 정렬 상태가 변경되는 경우,
각각, 상기 콜리메이션 렌즈는 상기 제2 초점으로부터 이격되는 전방 측에 위치하도록, 상기 FEL는 상기 콜리메이션 렌즈로부터 이격되는 전방 측에 위치하도록 정렬 상태가 변경되는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 조명 광학계를 제공한다.
서로 이격되어 대향하는 음극과 양극을 구비하는 중심축 상의 제1 초점에 위치되는 아크 램프에서 출사된 광이 제1 초점 후방 측의 타원형 미러에서 반사되어 중심축 상에 위치하는 제1 초점 전방 측의 제2 초점에 광원 상을 형성하며, 상기 제2 초점 전방 측에 배치되어 광을 평행화시키는 콜리메이션 렌즈를 구비하는 노광 장치의 조명 광학계에 있어서,
상기 아크 램프를 구성하는 상기 음극과 상기 양극 중 어느 하나가 상기 제1 초점에 위치하도록 정렬되는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 조명 광학계를 제공한다.
Claims (10)
- 서로 이격되어 대향하는 아크 램프를 구성하는 음극과 양극 사이의 중앙부가 중심축 상의 제1 초점에 위치 정렬되고, 상기 아크 램프에서 출사된 광이 제1 초점 후방 측의 타원형 미러에서 반사되어 중심축 상에 위치하는 제1 초점 전방 측의 제2 초점에 광원 상을 형성하며, 상기 제2 초점에서 상기 아크 램프 쪽으로 이격되는 위치에 배치되어 광을 평행화 및 굴절시키는 콜리메이션 렌즈, 및 상기 콜리메이션 렌즈와 상기 제2 초점 사이의 위치 또는 상기 제2 초점의 전방 측의 위치에 배치되어 상기 콜리메이션 렌즈를 통과한 광을 입사받아 다중 광원 상을 형성하도록 하는 FEL(Fly Eye Lens)를 구비하는 노광 장치의 조명 광학계에 있어서,상기 아크 램프를 구성하는 상기 음극과 상기 양극 중 어느 하나가 상기 제1 초점에 위치하도록, 중심축 상에서 상기 아크 램프의 정렬 상태가 변경되는 경우,각각, 상기 콜리메이션 렌즈는 상기 제2 초점으로부터 이격되는 전방 측에 위치하도록, 상기 FEL는 상기 콜리메이션 렌즈로부터 이격되는 전방 측에 위치하도록 정렬 상태가 변경되는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 조명 광학계.
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- 제 1항에 있어서,상기 음극의 첨단부와 상기 양극의 첨단부 중 어느 하나가 상기 제1 초점에 위치하도록 정렬되는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 조명 광학계.
- 제 1 항에 있어서,상기 아크 램프가 중심축을 따라 선형 이동됨에 따른 상기 아크 램프의 상기 제1 초점에 대한 상대적인 위치 변경에 연동하여, 상기 콜리메이션 렌즈의 상기 제2 초점에 대한 상대적인 위치 변경이 이루어지도록 상기 콜리메이션 렌즈가 중심축을 따라 선형 이동되는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 조명 광학계.
- 제 6 항에 있어서,상기 콜리메이션 렌즈의 선형 이동 시 상기 콜리메이션 렌즈와 상기 FEL은 서로 간의 간격을 유지한 채로 함께 선형 이동되는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 조명 광학계.
- 서로 이격되어 대향하는 음극과 양극을 구비하는 중심축 상의 제1 초점에 위치되는 아크 램프에서 출사된 광이 제1 초점 후방 측의 타원형 미러에서 반사되어 중심축 상에 위치하는 제1 초점 전방 측의 제2 초점에 광원 상을 형성하며, 상기 제2 초점 전방 측에 배치되어 광을 평행화시키는 콜리메이션 렌즈를 구비하는 노광 장치의 조명 광학계에 있어서,상기 아크 램프를 구성하는 상기 음극과 상기 양극 중 어느 하나가 상기 제1 초점에 위치하도록 정렬되는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 조명 광학계.
- 제 8 항에 있어서,상기 음극의 첨단부와 상기 양극의 첨단부 중 어느 하나가 상기 제1 초점에 위치하도록 정렬되는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 조명 광학계.
- 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,상기 타원형 미러에서 반사되는 모든 광이 집속과정에서 중심축을 가로지른 후 발산되는 위치에 상기 콜리메이션 렌즈가 배치되는 것을 특징으로 하는 노광 장치의 조명 광학계.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080009207A KR100908686B1 (ko) | 2008-01-29 | 2008-01-29 | 노광 장치의 조명 광학계 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080009207A KR100908686B1 (ko) | 2008-01-29 | 2008-01-29 | 노광 장치의 조명 광학계 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR100908686B1 true KR100908686B1 (ko) | 2009-07-22 |
Family
ID=41337830
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080009207A KR100908686B1 (ko) | 2008-01-29 | 2008-01-29 | 노광 장치의 조명 광학계 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100908686B1 (ko) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20060065709A (ko) * | 2003-08-22 | 2006-06-14 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 조명 장치 및 이것을 구비한 프로젝터 |
-
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- 2008-01-29 KR KR1020080009207A patent/KR100908686B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20060065709A (ko) * | 2003-08-22 | 2006-06-14 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 조명 장치 및 이것을 구비한 프로젝터 |
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Date | Code | Title | Description |
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A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20080129 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
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|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20090629 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20090714 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
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PG1601 | Publication of registration | ||
PR1001 | Payment of annual fee |
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FPAY | Annual fee payment |
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PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20130709 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140616 Year of fee payment: 6 |
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PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20140616 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
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FPAY | Annual fee payment |
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PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20150522 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160614 Year of fee payment: 8 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20160614 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180716 Year of fee payment: 10 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20180716 Start annual number: 10 End annual number: 10 |
|
PC1903 | Unpaid annual fee |
Termination category: Default of registration fee Termination date: 20200425 |