KR100900656B1 - 생체 침습 반응 저감 방법, 물질 개질 장치 및 공기 조화기 - Google Patents

생체 침습 반응 저감 방법, 물질 개질 장치 및 공기 조화기 Download PDF

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Abstract

본 발명의 물질 개질 장치에서의 방전 장치 (20)은, 선 또는 침상의 정극(방전 전극 (21)의 방전단 (21b))과 면상의 부극(대향 전극 (22))을 구비한다. 또한, 상기 정극(방전단 (21b))과 부극(대향 전극 (22)) 사이의 방전으로서, 정극(방전단 (21b))이 있는 위치와 부극(대향 전극 (22)) 상의 복수의 위치와의 사이에서의 방전이 거의 동시에 안정적으로 일어나는 스트리머 방전에 의해 발생하여 정극과 부극 사이로부터 확산된 활성종과 접촉시킴으로써, 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시킨다. 이와 같이 나노 구조를 소실시킴으로써, 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조에 기인하는 생체 침습 반응을 저감시킨다.
생체 침습 반응, 나노 구조, 방전 장치

Description

생체 침습 반응 저감 방법, 물질 개질 장치 및 공기 조화기 {Bioinvasive Reaction Reducing Method, Substance Modifying Device, and Air Conditioner}
본 발명은 생체 침습 반응 저감 방법, 물질의 생체 침습 반응을 저감시키기 위해 물질을 개질하는 물질 개질 장치 및 물질 개질 장치를 구비한 공기 조화기에 관한 것이다.
최근, 삼목 화분증 환자수의 증가가 문제가 되고 있는데, 삼목 화분증 환자의 증가에 대해서는 삼목 화분증 환자수의 증가와 디젤 엔진 탑재차수의 증가가 양의 상관 관계를 나타낸다는 것이 보고되어 있다. 디젤 엔진으로부터 배출되는 배기 가스의 미립자 성분은, 디젤 배출 미립자(DEP: Diesel Exhaust Particulates)라고 불리우고 있다. 한편, 대기 중의 부유 입자 중 직경 10 ㎛ 이하의 것은 부유 입자상 물질(SPM: Suspended Particulate Matters)이라고 불리우고 있다.
DEP를 이용한 동물 실험에 있어서, DEP와 함께 삼목 화분을 마우스에 감작시키면, IgE 항체의 생산이 유의하게 증강되는 것이 보고되어 있다(예를 들면, 비특허 문헌 1 참조). 이와 같이 DEP의 아주반트 작용이 증명되었고, 또한 SPM에도 아주반트 작용이 있다는 것이 증명되었다.
여기서, 아주반트 물질에 의한 아주반트 효과에 대하여 설명한다.
항원과 동시 투여함으로써 「항체 생산을 증강시키는 현상」이 「아주반트 효과」라고 불리우는 것이다. 아주반트 효과의 메카니즘으로서는, 아주반트 물질이 체내의 Th1/Th2 균형을 Th2 우위로 치우치게 한다는 것이 알려져 있다. 이하, 이 아주반트 효과에 대하여 생각할 수 있는 기구에 대하여 설명한다.
체내의 방어 반응은 2 계통으로 크게 분류되며, 이들을 각각 담당하는 헬퍼 T 세포(Th)로 1형(Th1)과 2형(Th2)이 있다. Th1과 Th2는 모두 Th0(나이브 헬퍼 T 세포)으로부터 분화하여, Th1은 세포성 면역을 보조하고, Th2는 액성 면역을 보조한다.
어떠한 자극에 대하여 Th1과 Th2 중 어느 쪽이 작용하는가는, 그 사람의 체질(유전적인 것)과 자라온 환경(과거에 노출된 항원의 종류)에 따라 상이하다. 위생 환경이 그다지 좋지 않은 지역에서는 감염증에 이환된 사람이 많기 때문에 Th1 우위인 데 대하여, 위생 환경이 좋은 지역에서는 감염 기회가 적기 때문에 Th2 우위가 되기 쉬운 상황이라고 생각된다. 따라서, 알레르기 증상은 선진국에서 나오기 쉽고, 이것이 도시에서 화분증이 많은 원인 중 하나라고 생각된다.
Th0을 Th1로 분화시킬지, Th2로 분화시킬지는 최초의 항원 자극시의 면역 응답에서 어떠한 사이토카인 환경이 체내에서 구축되는가에 따라 결정된다. 아주반트 물질은, 항원 자극시에 Th2를 분화시키기 쉬운 사이토카인 환경을 만들기 쉽고, 특히 Th2 분화에 필수적인 사이토카인인 IL-4(인터루킨 4)의 생산을 촉진한다고 여겨지고 있다.
한편, 화분 등의 먼지를 제거할 수 있는 공기 청정 장치가 개발되어 있다(예 를 들면, 특허 문헌 1 참조). 이러한 장치에서는 알레르기의 원인이 되는 화분 등의 항원을 제거함으로써 알레르기를 예방할 수 있다.
또한, 입자상 물질(PM)에 대해서는 입자가 작을수록 독성이 크다는 것이 알려져 있다. 예를 들면, 입자상 물질(PM)을 조(粗) 입자(직경 2.5 ㎛ 초과), 미세 입자(직경 0.1 내지 2.5 ㎛), 초미세 입자(직경 0.1 ㎛ 미만)로 분류했을 경우, 초미세 입자(직경 0.1 ㎛ 미만)가 가장 위험하다는 것이 보고되어 있다(예를 들면, 비특허 문헌 2 참조).
그런데, 최근, 나노테크놀로지가 주목받고 있어, 나노입자의 생산량이 비약적으로 증대될 가능성이 있다. 또한, 의도적으로 생산하지 않은 경우에도, 상술한 DEP 등과 같은 나노입자가 환경 중에 존재한다. 향후, 나노테크놀로지에 의해 나노입자의 생산이 증대될 것이 예상되고, 이에 따라 나노입자 노출 가능성이 높아질 것이 예상된다. 한편, 나노입자의 독성에 관한 여러가지 보고가 이루어져 있다. 즉, 나노입자는 물질종에 상관없이 나노 크기의 미세한 구조(나노 구조)를 가짐으로써 독성을 갖는다는 것이 보고되어 있다.
나노입자가 독성을 갖는 이유로서는, 입경이 작으면 동질량의 경우, 표면적이 보다 커진다는 것을 들 수 있다(예를 들면, 비특허 문헌 3 참조). 표면적의 크기와 독성의 크기와의 관련으로서는, 입자 그 자체의 표면 성상이 독성과 관련되어 있다는 것이나, 입경이 작기 때문에 표면적이 커져 입자 표면에의 독성 화학 물질의 흡착이 많아지는 것을 들 수 있다. 또한, 작은 입자 중의 화학 물질의 독성이 큰 입자의 독성보다 강할 가능성이 시사되어 있다. 또한, 일정 크기 이하의 입자 가 되면 화학적 성상이 크게 변할 가능성이 시사되어 있다. 또한, 입자의 크기에 따라 체내 거동이 다르다는 것이 시사되어 있다. 예를 들면, 나노입자는 폐에 침착하는 양이 많고, 이 침착량은 입자 크기에 의존하는 것이 보고되어 있다(예를 들면, 비특허 문헌 4 참조). 또한, 나노입자는 흡입했을 경우, 폐 조직 중에 머무는 양이 많아질 가능성, 림프절로 이행하는 양이 많아질 가능성, 나노입자가 폐를 빠져나가 전신에 영향을 미칠 가능성이 시사되어 있다. 또한, 나노입자에 대한 생체 반응은 보다 큰 입자에 대한 경우와 상이할 가능성이 시사되어 있다.
또한, 입자상 물질(PM)의 아주반트 효과가, 입자 크기가 작을수록 보다 현저하다는 것이 보고되어 있다(예를 들면, 비특허 문헌 5 참조). 이 문헌에서는 나노입자가 항원 관련성 기도 염증이나 면역 글로불린의 생산을 증악시킬 수 있는 것, 및 이것은 보다 작은 입자에 있어서 현저하다는 것이 개시되어 있다. 구체적으로는 OVA(난백 알부민)만, 나노입자만, OVA와 나노입자가 각각 마우스에게 투여되고, 기도 염증 상황이나 면역 글로불린의 생산 등이 조사되고 있다. 또한, 나노입자로서는 CB(카본 블랙)가 사용되고 있으며, 직경 14 nm인 것과 직경 56 nm인 것이 각각 사용되고 있다. 연구 결과, 전체적인 경향으로서 직경 14 nm의 나노입자의 경우, 직경 56 nm의 나노입자의 경우보다 증악이 현저하다는 것이 보고되어 있다. 면역 글로불린의 생산에 대해서는, 직경 14 nm의 경우에 있어서 OVA와 나노입자를 투여했을 경우, OVA만 또는 나노입자만을 투여한 경우와 비교하여 총 IgE, 항원 특이적 IgG1, 항원 특이적 IgE의 수준이 유의하게 높다는 것이 보고되어 있다. 이 OVA와 나노입자를 투여한 경우의 총 IgE, 항원 특이적 IgG1, 항원 특이적 IgE의 수준은, OVA만 또는 나노입자만을 투여한 경우와 비교하여 직경 14 nm인 경우에 직경 56 nm인 경우보다 현저하게 증대되어 있다.
비특허 문헌 1: 모리따 히로시, 나가꾸라 도시까즈, 미야지 요시끼, 오까모또 요시따까편, 「알레르기 내비게이터」, 제1판, 가부시끼가이샤 메디칼 리뷰사, 2001년 5월 15일, p.132-133
비특허 문헌 2: Andre Nel, 대기 오염 관련성 질병: 입자의 영향(Air Pollution-Related Illness: Effects of Particles), Science, 2005년, 308권, pp804-806
비특허 문헌 3: Brown DM, Wilson MR, MacNee W, Stone V, Donaldson K., 초미세 폴리스티렌 입자의 크기에 의존한 염증 유발 효과: 표면적의 역할과 초미세 폴리스티렌 입자의 증강된 활성에서의 산화 스트레스(Size-dependent proinflammatory effects of ultrafine polystyrene particles: a role for surface area and oxidative stress in the enhanced activity of ultrafines.), Toxicol Appl Pharmacol., 2001년, 175권, 3호, pp191-199
비특허 문헌 4: Cassee FR, Muijser H, Duistermaat E, Freijer JJ, Geerse KB, Marijnissen JC, Arts JH., 폐에서의 입자 크기에 의존한 전체 침착량이 래트에서의 염화카드뮴 에어로졸의 흡입 독성을 결정한다. 복수 패스의 선량 측정 모델의 적용(Particle size-dependent total mass deposition in lungs determines inhalation toxicity of cadmium chloride aerosols in rats. Application of a multiple path dosimetry model.), Arch Toxicol., 2002년, 76권, 5-6호, pp277-286
비특허 문헌 5: Ken-ichiro Inoue, Hirohisa Takano, Rie Yanagisawa, Miho Sakurai, Takamichi Ichinose, Kaori Sadakane and Toshikazu Yoshikawa, 마우스에서의 항원 관련성 기도 염증에 대한 나노미립자의 영향(Effects of nano particles on antigen-related airway inflammation in mice), Respiratory Research, 2005년, 6권, 1호, pp106-117
특허 문헌 1: 일본 특허 공개 제2001-349595호 공보(제2 내지 6쪽)
그러나, 화분증 등의 알레르기는 아주반트 물질에 의해 증강되기 때문에, 화분 등의 알레르겐을 분해하여 공기 중의 알레르겐을 저감시켰다고 해도, 아주반트 물질의 존재에 의해 알레르기가 증강되는 경우가 있다. 따라서, 알레르겐을 저감시킬 뿐만 아니라, 공기 중의 아주반트 물질을 불활성화함으로써 보다 효과적으로 알레르기를 예방할 수 있다고 생각된다. 그러나, 공기 중의 아주반트 물질의 불활성화에 의해 알레르기를 예방하는 방법이나 장치에 대하여 개시되어 있는 것은 없다.
또한, 상술한 바와 같이 나노 구조를 갖는 물질은 여러가지 생체 침습 반응을 야기한다는 것이 보고되어 있는데, 이러한 나노 구조를 갖는 물질의 생체 침습 반응을 저감시키기 위한 방법이나, 그를 위한 장치에 대하여 효과적인 것은 보고되어 있지 않다.
본 발명은 나노 구조를 갖는 물질의 생체 침습 반응을 저감시키는 생체 침습 반응 저감 방법, 나노 구조를 갖는 물질의 생체 침습 반응을 저감시키기 위해 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시키는 물질 개질 장치 및 이러한 물질 개질 장치를 구비한 공기 조화기를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 일양태에 따르면, 나노 구조를 갖는 물질을, 플라즈마 방전에 의해 발생하여 상기 플라즈마 방전의 정극과 부극 사이로부터 확산된 활성종과 접촉시킴으로써, 상기 물질의 나노 구조를 소실시켜 상기 물질의 생체 침습 반응을 저감시킨다.
상기와 같이 구성함으로써, 나노 구조를 갖는 물질을, 플라즈마 방전에 의해 발생하여 플라즈마 방전의 정극과 부극 사이로부터 확산된 활성종과 접촉시킴으로써 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시켜, 이러한 물질의 생체 침습 반응을 저감시킬 수 있다. 또한, 「나노 구조를 갖는 물질」이란, 나노 크기의 미세한 구조(나노 구조)를 갖는 물질로서, 나노 크기의 미세한 물질 외에, 물질 표면에 나노 크기의 미세한 구조(나노 구조)를 갖는 물질을 포함한다. 「나노 구조」란, 나노 크기의 미세한 구조로서, 물질 표면의 요철을 형성하는 나노 크기의 미세한 구조를 포함한다. 「나노 구조를 소실시킨다」란, 나노 구조를 갖는 물질에서의 나노 크기의 미세한 구조에 대하여 나노 구조의 요철을 완화시키는 것을 말한다.
상기 물질을 아주반트 물질로 하고, 아주반트 물질을, 플라즈마 방전에 의해 발생하여 플라즈마 방전의 정극과 부극 사이로부터 확산된 활성종과 접촉시켜 아주반트 물질의 나노 구조를 소실시킴으로써 불활성화하여 아주반트 물질의 생체 침습 반응을 저감시킬 수도 있다. 이 경우, 이와 같이 아주반트 물질을 불활성화함으로써 아주반트 효과를 억제하여, 알레르기를 예방할 수 있다.
상기 플라즈마 방전을, 선 또는 침상의 정극과 면상의 부극 사이에서 발생시킨 스트리머 방전으로 할 수도 있다. 이 경우, 스트리머 방전에 의해 발생하는 활성종으로 효과적으로 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시킬 수 있어, 보다 효과적으로 이러한 물질의 생체 침습 반응을 저감시킬 수 있다.
상기 플라즈마 방전에 의해 발생하는 10 eV 이상의 전자 온도를 갖는 활성종에 의해 여기되는 이차적인 활성종에 나노 구조를 갖는 물질을 접촉시킬 수도 있다. 이 경우, 플라즈마 방전에 의해 발생하는 10 eV 이상의 전자 온도를 갖는 활성종에 의해 여기되는 이차적인 활성종이 나노 구조를 갖는 물질과 접촉함으로써, 효과적으로 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시킬 수 있다. 따라서, 보다 효과적으로 이러한 물질의 생체 침습 반응을 저감시킬 수 있다.
본 발명의 별도의 양태에 따르면, 물질 개질 장치가, 플라즈마 방전을 행하는 플라즈마 방전 수단을 구비하고, 나노 구조를 갖는 물질을, 상기 플라즈마 방전 수단에 의한 플라즈마 방전에 의해 발생하여 상기 플라즈마 방전 수단의 정극과 부극 사이로부터 확산된 활성종과 접촉시킴으로써, 상기 물질의 나노 구조를 소실시킨다.
상기와 같이 구성함으로써, 플라즈마 방전을 행하는 플라즈마 방전 수단을 구비한 물질 개질 장치에 의해, 나노 구조를 갖는 물질을, 상기 플라즈마 방전 수단에 의한 플라즈마 방전에 의해 발생하여 플라즈마 방전 수단의 정극과 부극 사이로부터 확산된 활성종과 접촉시킴으로써, 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시킨다. 이와 같이 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시킴으로써, 이러한 물질의 생체 침습 반응을 저감시킬 수 있다.
상기 물질을 아주반트 물질로 하고, 아주반트 물질을, 상기 물질 개질 장치의 플라즈마 방전 수단에 의한 플라즈마 방전에 의해 발생하여 플라즈마 방전 수단의 정극과 부극 사이로부터 확산된 활성종과 접촉시킴으로써, 아주반트 물질의 나노 구조를 소실시켜 불활성화할 수도 있다. 이 경우, 이와 같이 아주반트 물질을 불활성화함으로써 아주반트 효과를 억제하여, 알레르기를 예방할 수 있다.
상기 플라즈마 방전 수단을, 선 또는 침상의 정극과 면상의 부극을 구비한 것으로 하고, 상기 플라즈마 방전은, 상기 정극과 부극 사이에서 발생시킨 스트리머 방전으로 할 수도 있다. 이 경우, 스트리머 방전에 의해 발생하는 활성종으로 효과적으로 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시킬 수 있어, 보다 효과적으로 이러한 물질의 생체 침습 반응을 저감시킬 수 있다.
상기 플라즈마 방전에 의해 발생하는 10 eV 이상의 전자 온도를 갖는 활성종에 의해 여기되는 이차적인 활성종에 나노 구조를 갖는 물질을 접촉시킬 수도 있다. 이 경우, 플라즈마 방전에 의해 발생하는 10 eV 이상의 전자 온도를 갖는 활성종에 의해 여기되는 이차적인 활성종이 나노 구조를 갖는 물질과 접촉함으로써, 효과적으로 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시킬 수 있다. 따라서, 보다 효과적으로 이러한 물질의 생체 침습 반응을 저감시킬 수 있다.
상기 물질 개질 장치가 알레르겐을 제거하는 알레르겐 제거 수단을 더 구비할 수도 있다. 이 경우, 알레르겐의 제거를 행할 수 있다. 물질 개질 장치에 의해 아주반트 물질의 불활성화와 알레르겐의 제거를 행함으로써 효과적으로 알레르기를 예방할 수 있다.
상기 물질 개질 장치가 송풍 수단을 더 구비하고, 상기 송풍 수단에 의해 활성종의 확산을 보조할 수도 있다. 이 경우, 송풍 수단에 의해 활성종의 확산을 보조함으로써, 활성종과 물질의 효과적인 접촉 기회를 촉진할 수 있다. 따라서, 플라즈마 방전부로부터 벗어난 곳에서도 물질 개질을 촉진할 수 있고, 예를 들면 하류에 배치된 필터 상 등에 포착되어 있는 물질을 재비산시키기 전에 보다 확실히 개질할 수 있다.
본 발명의 별도의 양태에 따르면, 공기 조화기가 상기 물질 개질 장치를 구비할 수도 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 형태의 물질 개질 장치에서의 방전 장치의 개략적인 구성을 나타내는 단면도이다.
도 2는 실시예 1에서의 실험 장치의 설명도이다.
도 3은 실시예 1에서의 실험 결과를 나타내는 그래프이다.
도 4는 실시예 2에서의 실험 결과를 나타내는 그래프이다.
도 5는 미처리 디젤 배기 입자(DEP)의 주사 전자 현미경 사진이다.
도 6은 스트리머 처리를 행한 디젤 배기 입자(DEP)의 주사 전자 현미경 사진 이다.
도 7은 대향 전극의 방전 전극측의 면에 놓고 스트리머 방전을 행한 경우의 디젤 배기 입자(DEP)의 주사 전자 현미경 사진이다.
<발명을 실시하기 위한 최선의 형태>
이하, 본 발명을 구체화한 일 실시 형태를 도 1을 이용하여 설명한다. 본 실시 형태에서는 나노 구조를 갖는 물질의 생체 침습 반응을 저감시키는 생체 침습 반응 저감 방법, 나노 구조를 갖는 물질의 생체 침습 반응을 저감시키기 위해 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시키는 물질 개질 장치로서 설명한다. 또한, 「생체 침습 반응」은 동물에 대한 것뿐만 아니라, 식물 등 어떠한 생물의 생체에 대한 생체 침습 반응도 포함하는 것이다.
상술한 바와 같이 나노 구조(나노 크기의 미세한 구조)를 갖는 물질은, 나노 크기의 미세한 구조를 갖고 있기 때문에 생체 침습 반응을 야기한다. 또한, 상술한 바와 같이, 야기되는 생체 침습 반응은 나노 구조가 보다 미세한 경우에 보다 커진다.
이러한 나노 구조(나노 크기의 미세한 구조)를 갖는 물질에는, 디젤 배출 미립자(DEP) 등의 아주반트 물질도 포함된다. 아주반트 물질은 항원에 대한 면역 응답을 수식하고, IgE 항체의 생산을 증강시킨다. 따라서, 화분증 등의 알레르기도 아주반트 물질에 의해 증강된다.
상술한 바와 같이, 아주반트 물질은 항원 자극시에 Th2를 분화시키기 쉬운 사이토카인 환경을 만들기 쉽고, 특히 Th2 분화에 필수적인 사이토카인인 IL-4(인 터루킨 4)의 생산을 촉진하는 것이라고 여겨지고 있다.
IL-4의 생산원으로서 유력한 것이 NK1.1+T 세포라고 불리우는 T 세포의 일종이다. 또한, 아주반트 물질이, 상기 NK1.1+T 세포를 활성화하여 IL-4를 생산시킨다고 여겨지고 있다. 아주반트 물질에 의한 NK1.1+T 세포의 활성화 메카니즘은 현시점에서 불명확하지만, NK1.1+T 세포를 활성화시키는 아주반트 물질의 부위를 불활성화함으로써, 아주반트 물질에 의한 NK1.1+T 세포의 활성화를 방해할 수 있다고 여겨진다.
<플라즈마 방전에 의한 나노 구조의 소실>
본 발명은 플라즈마 방전에 의해 발생하는 활성종으로 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시킴으로써, 나노 구조를 갖는 물질의 생체 침습 반응을 저감시키는 것을 특징으로 한다. 즉, 플라즈마 방전에 의해 반응성이 높은 활성종(고속 전자, 이온, 라디칼, 그 밖의 여기 분자 등)을 발생시키고, 나노 구조를 갖는 물질을 상기 활성종과 통기 접촉시킴으로써, 나노 구조를 갖는 물질의 나노 크기의 미세한 구조(나노 구조)를 소실시킨다. 또한, 나노 구조를 소실시킴으로써, 나노 크기의 미세한 구조에 기인하는 생체 침습 반응을 저감시킨다. 예를 들면, 아주반트 물질을 상기 활성종과 통기 접촉시켜 아주반트 물질의 나노 구조를 소실시킴으로써 불활성화하여 아주반트 효과를 억제한다. 효과적으로 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시키기 위해서는, 플라즈마 방전의 정극과 부극 사이로부터 확산된 활성종이, 나노 구조를 갖는 물질과 접촉하는 구성으로 한다.
상기 플라즈마 방전은, 나노 구조를 갖는 물질의 생체 침습 반응의 저감을 위해 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시키기 위해(예를 들면, 아주반트 물질을 불활성화하기 위해) 상기 활성종을 효과적으로 발생시키는 것이 바람직하다. 이러한 플라즈마 방전으로서, 선 또는 침상의 정극과 면상의 부극 사이의 방전이고, 정극이 있는 위치와 부극 상의 복수의 위치 사이에서의 방전이 거의 동시에 안정적으로 발생하는 스트리머 방전을 이용하는 것이 가능하다.
또한, 나노 구조를 갖는 물질의 생체 침습 반응의 저감을 위해, 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시키기 위해서는(예를 들면, 아주반트 물질을 불활성화하기 위해서는), 상기 플라즈마 방전에 의해 발생하는 활성종에 고속 전자 등 10 eV 이상의 전자 온도를 갖는 활성종이 포함되어 있는 것이 바람직하다. 이러한 플라즈마 방전에 의해 발생하는 고속 전자 등 10 eV 이상의 전자 온도를 갖는 활성종에 의해 여기되어 여기 질소 분자 등 이차적인 활성종이 더 발생한다. 나노 구조를 소실시키기 위해서는, 이러한 이차적으로 발생한 활성종을 주로 사용하는 구성으로 하는 것이 바람직하다. 즉, 나노 구조를 갖는 물질에 고속 전자 등의 고에너지의 활성종이 직접 접촉하는 것이 아니라, 고속 전자 등의 고에너지의 활성종에 의해 여기되는 이차적인 활성종에 나노 구조를 갖는 물질을 접촉시키는 것이, 나노 구조를 소실시키는 데 있어서 바람직하다. 플라즈마 방전부에서 나노 구조를 갖는 물질에 스트리머 방전을 직접 조사하면, 고에너지의 활성종 농도가 높아 격렬히 반응하기 때문에 물질의 형상에 변화는 보이지만 나노 구조는 소멸하지 않는 것에 대하여, 방전부로부터 벗어난 곳에서는 고에너지의 활성종이기는 하지만 농도가 낮아 방전부보다 산화 분해 반응이 완만히 진행되기 때문에 나노 구조만을 소멸시킨다고 여겨진다.
또한, 스트리머 방전에서는 에너지가 높은 고속 전자가 대량 발생하기 때문에, 여기 질소 분자 등 에너지가 높은 이차적인 활성종을 대량 생성할 수 있고, 플라즈마 방전부로부터 어느 정도 벗어난 곳에서도 충분한 효과를 얻을 수 있다. 나노 구조를 갖는 물질을 이러한 이차적으로 발생한 활성종에 접촉시키기 위해서는, 이러한 이차적인 활성종이 플라즈마 방전의 정극과 부극 사이로부터 확산되어, 나노 구조를 갖는 물질과 접촉하는 구성으로 한다.
이하, 스트리머 방전에 의해 나노 구조를 갖는 물질의 생체 침습 반응을 저감시키기 위해 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시키는 물질 개질 장치의 구성을 설명한다. 또한, 플라즈마 방전에 의해 나노 구조를 소실시키기 위해 상기 활성종을 효과적으로 발생시킬 수 있으면 되며, 본 발명에서의 플라즈마 방전은 스트리머 방전으로 한정되지 않는다.
<본 실시 형태의 물질 개질 장치의 구성>
본 실시 형태의 물질 개질 장치는 박스형 케이싱 본체를 구비하고, 이 케이싱 본체에는 피처리 가스를 도입하기 위한 공기 흡입구와, 피처리 가스가 유출되는 공기 토출구가 형성되어 있다. 또한, 상기 케이싱 본체에는, 피처리 가스를 유통시키기 위한 팬과, 상기 피처리 가스의 유통 경로와, 플라즈마 방전 수단으로서의 방전 장치 (20)이 설치되어 있다.
이어서, 상기 방전 장치 (20)에 대하여 상세하게 설명한다.
도 1은 본 실시 형태의 물질 개질 장치의 방전 장치 (20)의 개략적인 구성을 나타내는 단면도이다.
이 방전 장치 (20)은 저온 플라즈마를 생성하기 위한 방전 전극 (21) 및 대향 전극 (22)를 구비하고 있다. 방전 전극 (21)은, 방전 기판 (21a)와, 이 방전 기판 (21a)에 거의 직교하도록 고정된 복수의 방전단 (21b)(정극)로 구성되어 있다. 방전 기판 (21a)는 면 직각 방향으로 공기가 통과하는 다수의 개구부를 갖고 있다. 본 실시 형태에 있어서, 방전단 (21b)는 침상 형태로 되어 있다. 방전단 (21b)는 선상 형태일 수도 있고, 선 또는 침상의 방전단 (21b)를 평판상으로 얇게 할 수도 있다. 상기 방전 전극 (21)의 방전단 (21b)와 대치하는 대향 전극 (22)(부극)는 판상(면상)이고, 면 직각 방향으로 공기가 통과하는 다수의 개구부를 갖고 있다. 방전 전극 (21)은, 방전 기판 (21a)가 대향 전극 (22)와 거의 평행하고, 방전단 (21b)가 대향 전극 (22)와 거의 직각이 되도록 배치되어 있다.
또한, 방전 장치는, 상기 방전 전극 (21) 및 대향 전극 (22)에 방전 전압을 인가하기 위한 전원 수단을 구비하고 있다. 방전 전압의 인가에 의해 방전 전극 (21)과 대향 전극 (22) 사이에서 생기는 스트리머 방전에 의해, 방전장에 저온 플라즈마가 생성된다. 저온 플라즈마에 의해 고속 전자, 이온, 오존, 히드록시라디칼 등의 라디칼이나, 그 밖의 여기 분자(여기 산소 분자, 여기 질소 분자, 여기 수분자 등) 등이 생성된다.
이어서, 스트리머 방전의 메카니즘에 대하여 설명한다. 여기서는 스트리머 방전에서의 전자 및 하전 입자(양이온)의 이동 개념에 대하여 설명한다.
스트리머 방전시에는 방전 전극 (21)로부터 대향 전극 (22)를 향하여 리더라 고 불리우는 미소 아크가 발생한다. 리더의 선단 부분에서는 강한 전위 구배에 의해 공기가 전자와 하전 입자로 전리되어 있다. 또한, 하전 입자가 대향 전극 (22)측까지 도달하면, 1회의 방전이 종료된다.
이 때, 전리에 의해 발생한 전자는 방전 전극 (21)을 향하여 이동하고, 하전 입자는 대향 전극 (22)로 이동한다(A). 여기서, 전리에 의해 생성된 상기 하전 입자는, 상기 전자와 비교하면 상대적으로 질량이 크기 때문에, 이동 속도는 전자보다 하전 입자쪽이 느리다. 따라서, 1회의 방전시에 있어서, 양 전극 (21, 22) 사이에는 하전 입자가 일시적으로 잔류하게 된다(B). 또한, 이 잔류한 하전 입자가 완전히 대향 전극 (22)로 이동하면, 양 전극 (21, 22)의 사이는 원래의 전계로 되돌아가 다시 방전이 개시된다(C). 스트리머 방전시에는 이 (A)→(B)→(C)의 사이클이 반복되며, 이 사이클에서 발생하는 하전 입자의 간헐적인 이동에 의해 스트리머 방전에서는 전류가 펄스상으로 흐르고 있다.
<운전 작동>
이어서, 상기 물질 개질 장치의 운전 작동에 대하여 설명한다.
이 물질 개질 장치에 통전을 행하면 팬이 기동되고, 공기(피처리 가스)가 공기 흡인구로부터 흡인되어, 유통 경로에 도입된다.
또한, 유통 경로에 도입된 피처리 가스는 방전 장치 (20)에 도입된다. 방전 장치 (20)의 방전 전극 (21)과 대향 전극 (22)의 사이에는 스트리머 방전에 의해 저온 플라즈마가 발생하고, 상기 저온 플라즈마에 기인하는 반응성이 높은 활성종(고속 전자, 이온, 라디칼, 그 밖의 여기 분자 등)이 발생한다. 또한, 고속 전자 등의 고에너지의 활성종에 의해 여기되어 이차적인 활성종이 발생한다. 이러한 스트리머 방전에 의해 발생한 활성종은, 방전 전극 (21)과 대향 전극 (22)의 사이로부터 방전 장치 (20)의 하류측으로 확산된다. 특히 고속 전자 등의 고에너지의 활성종에 대해서는, 이차적으로 발생한 활성종이 방전 전극 (21)과 대향 전극 (22)의 사이로부터 방전 장치 (20)의 하류측으로 확산된다. 한편, 피처리 가스는, 상기 저온 플라즈마 발생 영역(방전장)을 통과하고, 피처리 가스 중의 나노 구조를 갖는 물질은, 방전 장치 (20)의 하류측 근방에 있어서 스트리머 방전에 의해 발생하여 방전 전극 (21)과 대향 전극 (22)의 사이로부터 확산된 활성종과 통기 접촉한다. 특히, 방전 장치 (20)에서 발생하고 있는 고속 전자 등의 고에너지의 활성종에 대해서는, 이 고에너지의 활성종이 직접 접촉하는 것이 아니라, 이차적으로 발생한 활성종이 접촉한다. 이에 따라 나노 구조가 소실되어, 나노 구조를 갖는 물질의 생체 침습 반응이 저감된다.
예를 들면, 피처리 가스 중의 아주반트 물질은, 상기 활성종과 통기 접촉함으로써 나노 구조가 소실되어 불활성화된다. 이에 따라, 아주반트 물질의 아주반트 효과가 억제된다. 이와 같이, 상기 물질 개질 장치는 도입된 공기(피처리 가스) 중에 아주반트 물질이 포함되는 경우에는, 아주반트 물질의 나노 구조를 소실시켜 불활성화하여, 아주반트 물질의 생체 침습 반응을 저감시킴으로써 알레르기 예방 장치로서 기능한다.
또한, 활성종과 통기 접촉함으로써, 후술하는 도 5(미처리 DEP)에 나타낸 나노 크기의 미세한 구조가 도 6(스트리머 처리 후의 DEP(나노 구조 소실))에 나타낸 바와 같이 완화된다. 이와 같이, 상기 물질 개질 장치는 스트리머 방전에 의해 발생하는 활성종을 이용하여 나노 구조를 갖는 물질에서의 나노 크기의 미세한 구조를 완화시킴으로써, 나노 크기의 미세한 구조를 소실시킨다.
이상의 처리에 의해 정화된 피처리 가스는, 케이싱 본체의 공기 토출구로부터 배출된다.
이상, 본 실시 형태에 따르면, 이하에 나타낸 효과를 얻을 수 있다.
ㆍ상기 실시 형태에서는 나노 구조를 갖는 물질을, 플라즈마 방전에 의해 발생하여 플라즈마 방전의 정극과 부극 사이로부터 확산된 활성종과 접촉시킴으로써, 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시켜 이러한 물질의 생체 침습 반응을 저감시킨다. 이에 따라, 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조에 기인하는 생체 침습 반응을 저감시킬 수 있다. 이와 같이 플라즈마 방전에 의해 발생하는 활성종을 이용하여 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시킴으로써, 나노 구조를 갖는 물질의 생체 침습 반응을 저감시킬 수 있다.
ㆍ상기 실시 형태에서는 플라즈마 방전에 의해 발생하는 활성종으로 아주반트 물질을 불활성화한다. 따라서, 아주반트 물질의 불활성화에 의해 알레르기를 예방할 수 있다. 즉, 아주반트 물질을, 플라즈마 방전에 의해 발생하여 플라즈마 방전의 정극과 부극 사이로부터 확산된 활성종과 접촉시킴으로써, 아주반트 물질의 나노 구조를 소실시켜 불활성화할 수 있다. 이에 따라, 아주반트 효과를 억제하여 알레르기를 예방할 수 있다.
ㆍ상기 실시 형태에서는 물질 개질 장치에서의 방전 장치는, 선 또는 침상의 정극(방전 전극 (21)의 방전단 (21b))과 면상의 부극(대향 전극 (22))을 구비한다. 또한, 이 정극(방전단 (21b))과 부극(대향 전극 (22)) 사이의 방전으로서, 정극(방전단 (21b))이 있는 위치와 부극(대향 전극 (22)) 상의 복수의 위치 사이에서의 방전이 거의 동시에 안정적으로 발생하는 스트리머 방전에 의해 발생하는 활성종으로 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시킨다. 이와 같이 스트리머 방전에 의해 발생하는 활성종으로 효과적으로 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시킬 수 있어, 보다 효과적으로 이러한 물질의 생체 침습 반응을 저감시킬 수 있다. 예를 들면, 이러한 스트리머 방전에 의해 발생하는 활성종으로 아주반트 물질의 나노 구조를 소실시킴으로써 불활성화하여 아주반트 효과를 억제할 수 있다. 이와 같이 스트리머 방전에 의해 발생하는 활성종으로 아주반트 물질을 불활성화함으로써 알레르기를 예방할 수 있다.
ㆍ상기 실시 형태에서는 플라즈마 방전에 의해 발생하는 활성종에 고속 전자 등 10 eV 이상의 전자 온도를 갖는 활성종이 포함되도록 함으로써, 10 eV 이상이라는 매우 높은 전자 온도를 갖는 활성종의 작용에 의해 효과적으로 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시킬 수 있다. 즉, 플라즈마 방전에 의해 발생하는 10 eV 이상의 전자 온도를 갖는 활성종에 의해 여기되는 이차적인 활성종이 나노 구조를 갖는 물질과 접촉함으로써, 효과적으로 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시킬 수 있다. 이에 따라, 보다 효과적으로 이러한 물질의 생체 침습 반응을 저감시킬 수 있다. 예를 들면, 이러한 활성종의 작용에 의해, 보다 효과적으로 아주반트 물질을 불활성화하여 아주반트 물질의 아주반트 효과를 억제할 수 있다. 이에 따라, 효과적으로 알레르기를 예방할 수 있다.
ㆍ상기 실시 형태에서는 유통 경로에 도입된 공기(비처리 가스)는 필터 등을 통하지 않고 방전 장치 (20)에 도입되어, 공기 중의 나노 구조를 갖는 물질이 방전 장치 (20)에 도입된다. 따라서, 공기 중의 나노 구조를 갖는 물질이 방전 장치 (20) 근방에서 활성종과 통기 접촉한다. 이와 같이 공기 중의 나노 구조를 갖는 물질을 활성종과 통기 접촉시킬 수 있기 때문에, 공기 중의 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시킴으로써, 이러한 물질의 생체 침습 반응을 저감시킬 수 있다.
ㆍ상기 실시 형태에서는 송풍 수단으로서의 팬에 의해 활성종의 확산을 보조함으로써, 활성종과 물질의 효과적인 접촉 기회를 촉진할 수 있다. 따라서, 플라즈마 방전부로부터 벗어난 곳에서도 물질 개질을 촉진할 수 있다. 이에 따라, 보다 효과적으로 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시킬 수 있어, 보다 효과적으로 이러한 물질의 생체 침습 반응을 저감시킬 수 있다.
또한, 상기 실시 형태는 이하와 같이 변경할 수도 있다.
○ 상기 실시 형태에서는 나노 구조를 갖는 물질의 생체 침습 반응을 저감시키기 위해 나노 구조를 갖는 물질의 나노 구조를 소실시키는 물질 개질 장치에 대하여 설명하였다. 이 물질 개질 장치는 아주반트 물질의 나노 구조를 소실시킴으로써 불활성화하여, 아주반트 물질의 아주반트 효과를 억제하여 알레르기를 예방함으로써 알레르기 예방 장치로서 기능하였다. 이러한 알레르기 예방 장치로서 기능하는 물질 개질 장치는, 아주반트 물질을 불활성화함과 동시에 알레르겐을 제거함 으로써 알레르기를 예방하는 것일 수도 있다. 상술한 바와 같이 알레르기는 알레르겐에 의해 야기되는 것이기 때문에, 아주반트 물질을 불활성화함과 동시에 알레르겐을 제거할 수 있다면, 보다 효과적으로 알레르기를 예방할 수 있다.
이러한 물질 개질 장치의 예를 이하에 구체적으로 설명한다. 또한, 이하에 설명하는 물질 개질 장치에서의 알레르겐 제거 수단은 일례이며, 이것으로 한정되는 것이 아니다.
예를 들면, 상기 물질 개질 장치에, 알레르겐 제거 수단으로서 이온화부와 집진 필터(정전 필터)를 더 구비한다.
이온화부는 진애를 대전시켜서, 이 진애를 이온화부의 하류측에 배치되어 있는 정전 필터에 의해 포집하기 위한 것이다. 정전 필터는 상류측의 면에 있어서 이온화부에 의해 대전된 진애를 포집한다.
공기가 물질 개질 장치의 케이싱 본체 내에 도입되면, 공기가 이온화부로 유입되고, 이온화부에 있어서 이온화선과 이의 대향 전극 사이에서의 방전에 의해 진애가 플러스로 대전된다. 알레르겐(진드기ㆍ화분 등)은, 이 이온화부에 의해 플러스로 대전된다. 이 대전된 진애를 포함하는 실내 공기는 정전 필터로 유입된다. 또한, 정전 필터에 있어서, 이들 대전된 진애가 포집된다. 즉, 알레르겐은 이 정전 필터에서 포집된다.
또한, 이온화부와 정전 필터를 상기 실시 형태의 방전 장치와 조합하여 배치함으로써, 알레르겐의 제거와 아주반트 물질의 불활성화를 동시에 행할 수 있도록 할 수도 있다. 구체적으로는 이온화부를 방전 장치보다 상류에 배치하고, 정전 필 터를 방전 장치의 대응 전극측에 배치한다. 이 경우, 스트리머 방전에 의해 발생하는 저온 플라즈마에 포함되는 활성종이 실내 공기와 접촉하여 실내 공기 중의 유해 물질이나 악취 물질을 분해한다. 이 때, 아주반트 물질이 분해된다. 또한, 플러스로 대전된 알레르겐도 어느 정도 분해된다. 또한, 플러스로 대전된 알레르겐은 정전 필터에서 포집된다. 또한, 스트리머 방전에 의한 활성종에 의해 활성화되는 촉매를 이용하여 알레르겐을 더 분해할 수도 있다.
○ 상기 실시 형태에서 발생하는 활성종에, 어느 정도 장시간 나노 구조를 갖는 물질이 통기 접촉하도록, 활성종과 효율적으로 통기 접촉하는 장소에 나노 구조를 갖는 물질을 포착해 두는 구조를 물질 개질 장치에 구비할 수도 있다. 예를 들면, 방전 장치의 하류측으로 떨어져 나노 구조를 갖는 물질을 포착할 수 있는 필터 등을 구비한다. 또한, 하류에 배치된 필터 상 등에 나노 구조를 갖는 물질을 포착함과 동시에, 송풍 수단에 의해 활성종의 확산을 보조한다. 이에 따라, 활성종과 물질의 효과적인 접촉 기회를 더 촉진할 수 있고, 하류에 배치된 필터 상 등에 포착되어 있는 물질을 재비산시키기 전에 보다 확실히 개질할 수 있다. 이에 따라, 보다 효과적으로 나노 구조를 소실시킬 수 있어, 보다 효과적으로 나노 구조를 갖는 물질의 생체 침습 반응을 저감시킬 수 있다.
○ 상기 실시 형태의 물질 개질 장치를 구비한 공기 조화기를 구성할 수도 있다. 이 공기 조화기에 있어서, 물질 개질 장치는 알레르겐 제거 수단을 구비할 수도 있다. 또한, 이 공기 조화기에 있어서, 물질 개질 장치는 송풍 수단을 구비함과 동시에 방전 장치의 하류측으로 떨어져 나노 구조를 갖는 물질을 포착할 수 있는 필터 등을 구비할 수도 있다. 또한, 공기 조화기는 공기 청정기나 가습기를 포함하는 것으로 한다.
이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에 의해 전혀 한정되는 것이 아니다.
<실시예 1>
이하, 상기 실시 형태를 구체화한 실시예(플라즈마 방전에 의한 아주반트 효과 억제 실험) 및 비교예에 대하여 설명한다. 이 아주반트 효과 억제 실험에서는 플라즈마 방전 중, 상술한 스트리머 방전을 이용하였다.
(실험 장치)
실험에는 도 2에 나타낸 실험 장치 (30)을 사용하였다. 이 실험 장치 (30) 내에는, 도 1에 나타낸 상술한 방전 장치 (20)이 구비되어 있고, 위쪽에 방전 전극 (21)이, 방전 기판 (21a)가 거의 수평이 되고 방전단 (21b)가 아래쪽을 향하도록 설치되며, 이와 대치하여 아래쪽으로 대향 전극 (22)가 거의 수평이 되도록 설치되어 있다. 실험 장치 (30)의 상부에는 송풍 장치 (31)이 설치되어 있고, 이 송풍 장치 (31)로부터 공기가 실험 장치 (30) 내로 밀려 들어간다. 실험 장치 (30) 내에 들어간 공기는, 실험 장치 (30) 내의 방전 장치 (20)을 통과하여 실험 장치 (30)의 아래쪽으로 밀려나간다. 이 실험 장치 (30)을 투명 아크릴제의 챔버 내에서 운전하였다.
이 실험 장치 (30)에 있어서, 방전 장치 (20)의 하류측에는 실험용 샬레 (35)를 설치하는 것이 가능하다. 본 실시예에서는 후술하는 바와 같이 수산화알루미늄 겔의 건조 분말을 넣은 샬레 (35)가 설치된다.
(아주반트 물질의 스트리머 처리)
본 아주반트 효과 억제 실험에서는 아주반트 물질로서 수산화알루미늄 겔의 건조 분말을 이용하였다. 이 수산화알루미늄 겔의 건조 분말을 넣은 샬레 (35)를 실험 장치 (30)에 설치하여 스트리머 방전을 16 시간 행하였다. 이 스트리머 방전은 전압 5.4 kV, 전류 5.5 μA가 되도록 하여 행하였다.
(감작 동물의 제조)
면역 동물로서 5 주령의 암컷 BDF1계 마우스를 이용하였다. 또한, 알레르겐으로서 난백 알부민(OVA)을 사용하였다.
그룹 1(5 개체)은 20 ㎍의 난백 알부민을 1 ㎖의 생리 식염수에 용해한 것을 복강 내에 투여하였다. 그룹 2(6 개체)는 20 ㎍의 난백 알부민과 2 mg의 수산화알루미늄 겔의 건조 분말을 1 ㎖의 생리 식염수에 용해한 것을 복강 내에 투여하였다(비교예). 그룹 3(5 개체)은 20 ㎍의 난백 알부민과 상기 스트리머 처리를 행한 2 mg의 수산화알루미늄 겔의 건조 분말을 1 ㎖의 생리 식염수에 용해한 것을 복강 내에 투여하였다(실시예).
각 그룹에 대하여 2 주간의 간격으로 2회, 상기 투여를 행하였다.
(면역 측정)
또한, 2 주일 후 채혈하여, 혈청 중의 총 IgE 양을 ELISA법으로 측정하였다. 이 ELISA법에서는 BD사 제조의 OptEIA 키트를 사용하였다. 이하에, 프로토콜을 나 타낸다.
(1) PBS(인산 완충액 pH 7.2)에 의해 5 ㎍/mL로 희석한 캡처(Capture) 항체(항마우스 IgE 항체)를 플레이트에 100 μL/웰이 되도록 첨가하고, 실온에서 1 시간 정치하였다. 그 후, 플레이트를 PBS-T(0.05 ％ Tween-20 함유 인산 완충액 pH 7.2)로 3회 세정하였다.
(2) 플레이트에 블로킹 버퍼(1 ％ BSA 함유 PBS)를 250 μL/웰이 되게 첨가하고, 실온에서 1 시간 정치하였다. 그 후, 플레이트를 PBS-T로 1회 세정하였다.
(3) PBS에 의한 2배 희석 계열의 표준 물질(스탠다드)과, 여러가지 농도로 희석한 샘플(피검물(혈청))을 제조하고, 각각의 웰에 100 μL 첨가하여 실온에서 1 시간 정치하였다. 그 후, 플레이트를 PBS-T로 3회 세정하였다.
(4) 표지 항체(비오틴 표지 항마우스 IgE 항체)와 퍼옥시다제 표지 아비딘(Avidin-HRP)을 각각 2 ㎍/mL의 PBS로 희석하고, 플레이트에 100 μL/웰이 되도록 첨가하여 실온에서 1 시간 정치하였다. 그 후, 플레이트를 PBS-T로 3회 세정하였다.
(5) TMB(100 μL/웰)를 첨가하여 실온에서 40 분간 반응시킨 후, 정지액(2 M 염산)(100 μL/웰)을 첨가하여 정색 반응을 종료하였다. 또한, 파장 450 nm에서 흡광도를 측정하고, 표준 물질을 첨가한 웰의 측정치에 의해 제작한 표준 곡선에 기초하여 샘플의 정량을 행하였다.
하기 표 1은 혈청 중의 총 IgE 농도에 관한 실험 결과이다. 데이터는 각 샘플에서의 총 IgE 농도, 각 그룹에서의 평균 및 표준 편차를 나타낸다. 도 3은 각 그룹에 대하여 실험 결과를 나타내는 그래프이다. 데이터는 각 그룹에서의 평균±표준 편차를 나타낸다.
Figure 112007062477940-pct00001
표 1 및 도 3에 나타낸 바와 같이, 그룹 2(비교예)의 20 ㎍의 난백 알부민과 2 mg의 수산화알루미늄 겔의 건조 분말로 감작한 마우스는, 그룹 1의 20 ㎍의 난백 알부민만으로 감작한 마우스보다 높은 IgE 농도를 나타내었다. 이 그룹 2(비교예)의 마우스의 경우의 IgE 농도에 대하여, 그룹 3(실시예)의 20 ㎍의 난백 알부민과 스트리머 처리를 행한 2 mg의 수산화알루미늄 겔의 건조 분말로 감작시킨 마우스는 보다 낮은 IgE 농도를 나타내었다. 이와 같이 수산화알루미늄 겔의 건조 분말에 스트리머 처리를 행한 경우, 수산화알루미늄 겔의 건조 분말의 아주반트 효과가 감소된 것이 시사되었다.
<실시예 2>
디젤 배기 입자(DEP)에 스트리머 방전에 의해 스트리머를 조사하고, DEP가 갖는 아주반트 효과가 저감되는 것을 검증하였다.
실험 장치로서는 상기 실시예 1에 나타낸 실험 장치 (30)과 동일한 것을 사용하였다. 본 실시예에서는, 방전 장치 (20)의 하류측에 설치한 샬레 (35)에는 후술하는 바와 같이 DEP를 넣었다.
(아주반트 물질인 DEP의 스트리머 처리)
본 아주반트 효과 억제 실험에서는 아주반트 물질로서 DEP를 사용하였다. 이 DEP를 넣은 샬레 (35)를 실험 장치 (30)에 설치하여 스트리머 방전을 16 시간 행하였다. 이 스트리머 방전은 전압 5.4 kV, 전류 5.5 μA가 되도록 하여 행하였다.
(감작 동물의 제조)
면역 동물로서 5 주령의 암컷 BDF1계 마우스(닛본 구레아사 제조)를 이용하였다. 알레르겐으로서 난백 알부민(OVA)(코스모 바이오사 제조)을 사용하였다. 또한, 아주반트 물질로서는 상술한 바와 같이 DEP(국립 환경 연구소로부터 분여)를 사용하였다.
투여군으로서는 이하의 3 그룹(4 개체/그룹)에 대하여, 마취하에 복강 내 주사에 의해 각각 이하와 같이 투여를 행하였다. 그룹 1은 20 ㎍의 난백 알부민을 1 ㎖의 생리 식염수에 용해한 것을 투여하였다. 그룹 2는 20 ㎍의 난백 알부민과 2 mg의 미처리의 DEP를 1 ㎖의 생리 식염수에 용해한 것을 투여하였다(비교예). 그룹 3은 20 ㎍의 난백 알부민과 2 mg의 상기 스트리머 처리를 행한 DEP를 1 ㎖의 생리 식염수에 용해한 것을 투여하였다(실시예).
면역 스케줄로서는, 각 그룹에 대하여 마우스의 예비 사육을 1 주일간 행한 후, 상기 투여(초회 면역)를 행하고, 2 주일 후에 2회째 상기 투여(면역)와 채혈을 행하고, 또한 2 주일 후에 3회째의 상기 투여(면역)와 채혈을 행하였다. 또한, 그로부터 2 주일 후에 전채혈을 행하였다.
(면역 측정)
상기의 전채혈을 행한 후, 혈청 중의 총 IgE 양을 ELISA법으로 측정하였다. 이 ELISA법에 의한 측정은 BD사 제조의 OptEIA 키트를 사용하고, 상기 실시예 1에 나타낸 프로토콜에 의해 행하였다.
표 2는 혈청 중의 총 IgE 농도에 관한 실험 결과이다. 데이터는 각 샘플에서의 총 IgE 농도, 각 그룹에서의 평균 및 표준 편차를 나타낸다. 도 4는 각 그룹에 대하여 실험 결과를 나타낸 그래프이다. 데이터는 각 그룹에서의 평균±표준 편차를 나타낸다.
Figure 112007062477940-pct00002
표 2 및 도 4에 나타낸 바와 같이, 그룹 2(비교예)의 난백 알부민(20 ㎍)과 미처리의 DEP(2 mg)로 감작시킨 경우, 그룹 1의 난백 알부민(20 ㎍)만으로 감작시킨 경우보다 높은 IgE 농도를 나타내었다. 이 그룹 2(비교예)의 IgE 농도에 대하여, 그룹 3(실시예)의 난백 알부민(20 ㎍)과 스트리머 처리를 행한 DEP(2 mg)로 감작시킨 경우에는 보다 낮은 IgE 농도를 나타내었다. 이것은 그룹 1의 경우와 거의 동일한 수준이었다. 이와 같이 스트리머 처리에 의해 DEP가 갖는 아주반트 효과가 저감된 것이 시사되었다.
(나노 구조의 소실을 나타내는 주사 전자 현미경 사진)
상술한 바와 같이 스트리머 처리를 행하기 전후에 있어서, 디젤 배기 입자(DEP)의 주사 전자 현미경 사진을 촬영하였다. 이것을 도 5(미처리 DEP), 도 6(스트리머 처리 후의 DEP)에 나타내었다. 도 5의 미처리 DEP에 있어서 관찰되는 DEP 표면의 요철을 형성하는 미세한 구조(나노 구조)가, 도 6의 스트리머 처리 후의 DEP에서는 소실되어 있다는 것을 알 수 있다. 즉, 스트리머 처리 후의 DEP에서는 나노 크기의 미세한 구조에 의한 요철이 완화되어 있어, 나노 구조가 소실되어 있다.
<비교예>
대향 전극 (22)의 방전 전극 (21)측의 면에 직접 디젤 배기 입자(DEP)를 두어 스트리머 방전(15 분간)을 행한 경우에 대하여, 처리 후의 주사 전자 현미경 사진을 촬영하였다. 이것을 도 7에 나타내었다. 이 경우, DEP는 파열된 상태가 되어, 처리 전보다도 미세한 구조를 갖고 있다. 대향 전극 (22)의 방전 전극 (21)측의 면에 DEP를 둔 경우, 이 DEP에 고에너지의 고속 전자가 직접 접촉하는 상태가 된다. 이와 같이 고에너지의 고속 전자가 직접 접촉함으로써 DEP가 파열되어, 나노 구조가 소실되기는 커녕 더 미세한 구조가 되었다.
또한, 상기 실시예 2에서는 스트리머 방전을 행할 때, 방전 장치 (20)의 하류측으로 떨어져 DEP를 두고 있어, 고에너지의 고속 전자가 직접 접촉하는 것이 아니다. 따라서, 이 경우의 DEP에 대한 영향은, 고속 전자에 의해 이차적으로 발생한 활성종이 확산하여 DEP와 접촉함에 따른 것이다. 이 경우, 도 6에 나타낸 바와 같이 나노 구조가 소실되었다.

Claims (11)

  1. 나노 구조를 갖는 물질의 생체 침습 반응을 저감시키는 생체 침습 반응 저감 방법으로서,
    나노 구조를 갖는 아주반트 물질을, 플라즈마 방전에 의해 발생하여 상기 플라즈마 방전의 정극과 부극 사이로부터 확산된 활성종과 접촉시킴으로써, 상기 아주반트 물질의 나노 구조를 소실시켜 상기 아주반트 물질의 생체 침습 반응을 저감시키는 것을 특징으로 하는 생체 침습 반응 저감 방법.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서, 상기 플라즈마 방전이 선 또는 침상의 정극과 면상의 부극 사이에서 발생시킨 스트리머 방전인 것을 특징으로 하는 생체 침습 반응 저감 방법.
  4. 제1항 또는 제3항에 있어서, 상기 플라즈마 방전에 의해 발생하는 10 eV 이상의 전자 온도를 갖는 활성종에 의해 여기되는 이차적인 활성종에 상기 아주반트 물질을 접촉시키는 것을 특징으로 하는 생체 침습 반응 저감 방법.
  5. 나노 구조를 갖는 아주반트 물질의 생체 침습 반응을 저감시키기 위해 나노 구조를 갖는 아주반트 물질을 개질하는 물질 개질 장치로서,
    플라즈마 방전을 행하는 플라즈마 방전 수단을 구비하고,
    나노 구조를 갖는 아주반트 물질을, 상기 플라즈마 방전 수단에 의한 플라즈마 방전에 의해 발생하여 상기 플라즈마 방전 수단의 정극과 부극 사이로부터 확산된 활성종과 접촉시킴으로써, 상기 아주반트 물질의 나노 구조를 소실시키는 것을 특징으로 하는 물질 개질 장치.
  6. 삭제
  7. 제5항에 있어서, 상기 플라즈마 방전 수단이 선 또는 침상의 정극과 면상의 부극을 구비하고,
    상기 플라즈마 방전이 상기 정극과 부극 사이에서 발생시킨 스트리머 방전인 것을 특징으로 하는 물질 개질 장치.
  8. 제5항에 있어서, 상기 플라즈마 방전에 의해 발생하는 10 eV 이상의 전자 온도를 갖는 활성종에 의해 여기되는 이차적인 활성종에 상기 아주반트 물질을 접촉시키는 것을 특징으로 하는 물질 개질 장치.
  9. 제5항에 있어서, 알레르겐을 제거하는 알레르겐 제거 수단을 더 구비한 것을 특징으로 하는 물질 개질 장치.
  10. 제5항에 있어서, 송풍 수단을 더 구비하고, 상기 송풍 수단에 의해 활성종의 확산을 보조하는 것을 특징으로 하는 물질 개질 장치.
  11. 제5항, 제7항, 제8항, 제9항 및 제10항 중 어느 한 항에 기재된 물질 개질 장치를 구비한 것을 특징으로 하는 공기 조화기.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007083681A1 (ja) * 2006-01-20 2007-07-26 Kyushu University, National University Corporation カーボンナノ材料の可溶化方法
CN104428012B (zh) * 2012-06-27 2016-11-09 松下知识产权经营株式会社 放电单元以及使用了其的空气净化装置
TWI587906B (zh) * 2015-07-16 2017-06-21 Plasma mesh structure
CN114046596B (zh) * 2021-11-17 2022-09-23 重庆大学 基于trp生化指标检测的室内空气质量控制系统及方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004089260A (ja) * 2002-08-29 2004-03-25 Sharp Corp ウイルスの感染率を低下させる方法、病原性細菌および／または芽胞形成菌を殺菌する方法およびそれらの方法を実行する装置
JP2004225983A (ja) * 2003-01-22 2004-08-12 Sharp Corp エアカーテン発生装置、医療または健康用装置、食品保存庫、動物または植物飼育装置、乗物および空間分離方法
JP2005021319A (ja) * 2003-07-01 2005-01-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 空気浄化装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH629684A5 (de) * 1977-05-12 1982-05-14 Manfred R Burger Verfahren und elektrostatische filtervorrichtung zur reinigung von gasen.
JPS60132661A (ja) * 1983-12-20 1985-07-15 Nippon Soken Inc 空気清浄器
JP2904328B2 (ja) * 1992-11-24 1999-06-14 三菱電機株式会社 微生物繁殖防止装置
JPH1021586A (ja) * 1996-07-02 1998-01-23 Sony Corp Ｄｃスパッタリング装置
US6455014B1 (en) * 1999-05-14 2002-09-24 Mesosystems Technology, Inc. Decontamination of fluids or objects contaminated with chemical or biological agents using a distributed plasma reactor
JP4134490B2 (ja) 2000-06-07 2008-08-20 松下電器産業株式会社 空気清浄装置
WO2001095998A1 (en) * 2000-06-10 2001-12-20 Hak Soo Kim Method and apparatus for removing pollutants using photoelectrocatalytic system
JP2004190528A (ja) * 2002-12-10 2004-07-08 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 排気浄化装置
CN1835805B (zh) * 2003-08-29 2011-03-30 大金工业株式会社 气体处理装置
JP4244022B2 (ja) * 2004-04-28 2009-03-25 日新電機株式会社 ガス処理装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004089260A (ja) * 2002-08-29 2004-03-25 Sharp Corp ウイルスの感染率を低下させる方法、病原性細菌および／または芽胞形成菌を殺菌する方法およびそれらの方法を実行する装置
JP2004225983A (ja) * 2003-01-22 2004-08-12 Sharp Corp エアカーテン発生装置、医療または健康用装置、食品保存庫、動物または植物飼育装置、乗物および空間分離方法
JP2005021319A (ja) * 2003-07-01 2005-01-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 空気浄化装置

Also Published As

Publication number Publication date
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EP1864711A4 (en) 2011-01-19
KR20070102720A (ko) 2007-10-19
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CN101128258B (zh) 2011-01-26
AU2006229002A1 (en) 2006-10-05
JP3841106B1 (ja) 2006-11-01
WO2006103817A1 (ja) 2006-10-05

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