KR100876945B1

KR100876945B1 - 패턴 형성 방법, 패턴 형성 장치, 기록 매체의 제조 방법 및 부재의 제조 방법

Info

Publication number: KR100876945B1
Application number: KR1020070090946A
Authority: KR
Inventors: 나오히사 마츠시타
Original assignee: 후지쯔 가부시끼가이샤
Priority date: 2006-09-11
Filing date: 2007-09-07
Publication date: 2009-01-07
Also published as: JP2008065223A; KR20080023643A; DE102007041455A1

Abstract

본 발명은 기판 상에의 미세 패턴 형성시에, 감광성 수지가 반응하는 부위를 보다 미소하게 제어하는 동시에, 감광성 수지층의 두께 관리를 보다 간이화할 수 있는 패턴 형성 방법을 실현하는 것을 목적으로 한다.

특히 극단(極短) 펄스 레이저를 그 초점이 기판과 감광성 수지층의 계면에 위치하도록 집광하고 감광성 수지층을 반응시켜 미세 패턴을 형성한다. 이때, 극단 펄스 레이저는 기판측으로부터 조사된다.

Description

패턴 형성 방법, 패턴 형성 장치, 기록 매체의 제조 방법 및 부재의 제조 방법{PATTERN FORMING METHOD, PATTERN FORMING DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING RECORDING MEDIUM, AND METHOD FOR MANUFACTURING MEMBER}

본 발명은 기판 상에의 미세 패턴 형성 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 미세 패턴을 가진 기판의 제조 방법에 관한 것이다.

최근, 여러 분야에 있어서, 각종 기판 상에 미세 패턴을 형성하는 것이 요망되고 있고, 보다 폭이 가는 패턴의 형성이 요구되고 있다.

기판 상에의 미세 패턴의 형성에 있어서, 요구되는 패턴이 형성된 유리 마스크를 감광성 수지가 도포된 기판 상에 적재하고, 유리 마스크 위에서 병행 광선을 조사하여 기판 상의 감광성 수지를 노광·현상함으로써, 유리 마스크에 형성된 패턴과 동일한 패턴을 기판 상에 형성하는 방법이 널리 이용되고 있다.

그러나, 이러한 패턴 형성 방법으로는, 기본적으로 마스크 사이즈와 동일 치수의 패턴밖에 기판 상에 형성할 수 없고, 패턴 형성상 제약이 있었다. 또한, 유리 마스크를 이용한 패턴 형성으로는, 형성할 수 있는 패턴의 최소 폭은 1 ㎛ 정도의 것이었다. 그런데, 최근에는 나노미터 사이즈의 패턴 형성이 강하게 요망되고 있 고, 유리 마스크를 이용한 패턴 형성 방법으로는 이러한 요망에 응하기 어려웠다.

이외에, 기판 상에 도포된 감광성 수지에 대하여 레이저광이나 전자빔 등의 각종 에너지빔을 집광 조사하고, 감광성 수지를 주사함으로써 미세 패턴을 형성하는 방법이 알려져 있다. 이러한 패턴 형성 방법에서는, 미리 패턴이 형성된 유리 마스크 등을 이용할 필요가 없기 때문에, 형성 가능한 패턴의 제약은 작고, 임의의 패턴을 형성할 수 있다.

도 1은 종래의 레이저광을 이용한 패턴 형성을 설명하는 도면이다. 도 1에 도시하는 패턴 형성 방법에서는, 레이저광을 집광 렌즈에 의해 집광하고, 감광성 수지에 조사시킨다. 레이저광이 조사된 감광성 수지의 영역은 빛과 반응함으로써 경화한다. 한편, 레이저광이 조사되지 않은 감광성 수지의 영역은 빛과 반응하지 않기 때문에 경화하지 않는다.

레이저광에 의해 원하는 패턴 묘화가 종료된 후에는, 현상 처리를 실시함으로써 감광성 수지의 미경화 부분이 제거되고, 이에 따라 기판 상에 요구되는 미세 패턴이 형성된다.

[특허 문헌 1] 일본 특허 공개 제2006-106277호 공보

[특허 문헌 2] 일본 특허 공개 제2002-160079호 공보

도 1에 도시한 레이저광을 이용한 패턴 형성 방법에서는 형성되는 패턴의 사이즈가 조사되는 레이저광의 조사 스폿 직경과 거의 같아진다. 여기서, 도 1에 도 시한 패턴 형성 방법의 경우, 최소 패턴 폭은 집광 렌즈의 회절 한계값인 수 ㎛ 정도의 큰 것으로 되어 버린다.

한편, 전자빔을 이용한 노광·패턴 형성에서는, 나노미터 사이즈의 패턴 형성이 가능하다. 그러나 패턴 형성에 요구되는 노광 장치 등의 설비 가격이 매우 비싸기 때문에, 비용면에서 단점이 생겨 버린다.

또한, 지금까지의 패턴 형성 방법으로 감광성 수지를 감광시키는 경우, 레이저광 등을 조사할 때에는 감광성 수지의 표면 부분(레이저광의 입사측)으로부터 감광성 수지의 경화가 시작되어 버린다. 패턴은 기판 표면에 형성되는 것이기 때문에, 감광성 수지가 기판 표면에 달라붙은 상태에서 패턴 형성을 안정적으로 행해야 하다. 이를 위해서는 감광성 수지와 기판과의 경계면에 도달할 때까지 레이저광이 충분히 조사되어야 하지만, 감광성 수지층이 너무 두꺼우면 레이저광의 조사가 불충분하게 되어 버리고, 경계면에 레이저광이 충분히 조사되지 않게 될 가능성이 있기 때문에, 감광성 수지층의 두께를 엄밀히 관리해야 한다고 하는 문제도 있다.

본 발명은 상기와 같은 과제에 감안하여, 보다 미세한 패턴의 형성을 보다 저비용으로 행할 수 있는 것을 목적으로 한다.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 패턴이 형성되는 기판 상에 감광성 부재를 배치하는 공정과, 극단 펄스 레이저를 집광하는 공정과, 집광된 극단 펄스 레이저를 기판측으로부터 그 초점이 기판과 감광성 부재의 계면에 위치하도록 위치 결정하여 조사하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명은 홈형 패턴이 형성되는 기판 상에 감광성 부재를 배치하는 공정과, 기판과 감광성 부재의 계면에 초점이 위치하도록, 펄스 레이저광을 패턴이 형성되는 기판 영역에 위치 결정하는 공정과, 기판측으로부터, 기판을 투과하도록 계면을 향해 펄스 레이저를 조사하는 공정과, 감광성 부재 중, 펄스 레이저에 반응한 부분과, 반응하지 않는 부분 중 한 쪽을 선택적으로 제거하는 공정을 포함한 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명은, 패턴이 형성되는, 감광성 부재가 배치된 기판이 적재되는 적재부와, 펄스 레이저를 발진시키는 발진기와, 발진기로부터 발진된 펄스 레이저를 집광하는 집광 수단과, 발진기의 온·오프를 제어하는 동시에, 기판과 펄스 레이저를 상대적으로 이동시키는 제어부를 포함하고, 펄스 레이저의 초점이 감광성 부재와 기판의 계면에 위치하면서, 기판측으로부터 계면을 향해 조사되는, 패턴 형성 장치인 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명은 기판 상에 감광성 부재를 배치하는 공정과, 집광된 극단 펄스 레이저를 기판측에서 기판과 상기 감광성 부재의 계면에 초점이 위치하도록 조사하여 기판 상에 패턴을 형성하는 공정과, 극단 펄스 레이저 조사에 의해 반응한 감광성 부재의 영역과, 반응하지 않는 감광성 부재의 영역 중 한 쪽을 선택적으로 제거하는 공정과, 감광성 부재가 제거된 기판 상에, 금속층을 형성하는 공정과, 금속층을 기판으로부터 박리하는 공정과, 금속층을 형(型)으로 하여 기록 매체 상에 패턴을 형성하는 공정을 포함하는 기록 매체의 제조 방법인 것을 특징으로 한다.

그리고, 본 발명은, 패턴이 형성되는 부재 상에 감광성 부재를 도포하는 공 정과, 부재와 감광성 부재의 계면에, 부재측으로부터 상기 부재를 투과하도록 펄스 레이저를 조사하는 공정과, 펄스 레이저의 조사에 의해, 감광성 부재의 반응한 영역과 반응하지 않는 영역 중 한 쪽을 선택적으로 제거하는 공정을 포함하는 부재의 제조 방법인 것을 특징으로 한다.

상기한 구성에 의해, 본 발명에서는 보다 미세한 홈 등의 패턴을 보다 저비용으로 기판 상에 형성하는 것이 가능해진다.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한, 레이저광을 이용한 패턴 형성 방법을 간략적으로 도시한 도면이다. 본 실시예에서는, 감광성 수지를 노광시키는 광원으로서 극단(極短) 펄스 레이저광을 이용한다.

극단 펄스 레이저는 펨토초 내지 피코초라고 하는 극단 발광 시간·펄스 폭을 갖는 것을 특징으로 하는 레이저이고, 그 펄스 폭이 짧기 때문에 10¹⁰ W/cm² 이상의 매우 높은 강도를 얻을 수 있다. 이러한 극단 펄스 레이저를 재료 가공에 이용한 경우, 조사한 영역으로부터의 열확산이 거의 없고, 레이저광이 조사된 영역에만 흡수되기 때문에, 주위에의 열영향이 없고, 고품질의 가공이 가능하게 된다.

또한, 극단 펄스 레이저를 이용한 경우, 다광자 흡수 프로세스를 통하기 때문에, 레이저광이 모든 물질에 흡수되고, 가공시의 물질 의존성이 적다고 하는 특징을 갖는다.

또한, 극단 펄스 레이저로는, 플라즈마를 통한 에너지의 교환에 의한 재료 변질의 프로세스를 통하지 않기 때문에, 안정된 가공 형상을 얻을 수 있다고 하는 장점도 있다.

본 실시예는 상기 특징 중 다광자 흡수 프로세스를 활용한 것이다. 다광자 흡수 프로세스에서는 극단 펄스 레이저를 렌즈 등의 집광 광학계를 이용하여 미세한 스폿에 집광시킨 경우, 도 2에 도시되는 바와 같이 초점 위치 근방만을 선택적으로 가공할 수 있다. 이 때문에 집광 광학계의 회절 한계로 정해지는 최소 스폿 직경보다 더 작은 영역만 가공이 가능하게 된다. 극단 펄스 레이저광을 이용한 경우의 최소 가공 직경은 수 10 내지 수 100 나노미터가 된다고 알려져 있다. 이와 관련된 기술은 일본 특허 공개 제2006-106277호 공보에 개시되어 있다.

본 실시예에서는, 이러한 극단 펄스 레이저광을 집광 조사하여, 레이저광에 대하여 투명한 광경화성 수지 등의 감광성 수지를 피가공재로 하여 그 재료 내부에 초점을 설정함으로써 스폿 직경보다 작은 영역만을 경화시킨다. 그리고, 기판 상에 형성된 감광성 수지층과 기판의 계면 부분에 초점이 오도록 극단 펄스 레이저광을 집광 조사하도록 설정하여, 극단 펄스 레이저광의 조사가 종료된 후에 미경화 수지층을 세정 제거, 또는 현상 처리함으로써, 기판 표면에 나노미터 사이즈의 미세 패턴을 형성한다.

이하, 도면을 이용하여 보다 구체적인 패턴 형성 순서에 대해서 설명한다.

도 3은 본 실시예에 의한 디스크형 부재에의 패턴 형성의 순서를 설명하는 도면이다. 여기서, 디스크형 부재는 동심원 형상의 홈이 형성되는 것이며, 보다 구 체적으로는, 홈이 형성된 자기 기록 매체의 형태로서 이용되는 것을 상정한다.

도 3의 (a)에 도시하는 바와 같이, 패턴이 형성되는 유리 원반(기판)은 회전축 상에 고정된다. 유리 원반은 평탄하고 그 두께가 균일하도록 가공된 것이다. 회전축은 벨트에 의해 접속된 모터에 의해서, 도시하는 화살표 방향으로 회전한다. 여기서, 유리 원반을 회전시키면서, 유리 원반의 표면에 액체 상태에서의 감광성 수지를 적하한다. 원반이 회전하는 것에 의해, 유리 원반 표면에 균일한 감광성 수지층이 형성된다(b).

계속해서, 유리 원반 표면에 감광성 수지층이 형성된 상태에서 유리 원반을 회전시키면서, 유리 원반 표면과 감광성 수지층의 계면에 초점을 맞추도록, 극단 펄스 레이저를 위치 정렬한 후에 조사한다(c). 극단 펄스 레이저는, 도시한 화살표(1) 방향으로, 유리 원반에 대하여 상대적으로 이동 가능하게 되어 있고, 유리 원반의 원하는 위치에 극단 펄스 레이저를 위치 결정한 후, 극단 펄스 레이저를 조사시킨다. 이에 따라 극단 펄스 레이저가 조사된 부분의 감광성 수지층이 반응·경화한다.

도 4는 극단 펄스 레이저를 유리 원반에 조사하고 있는 상태에서의 주요부를 확대한 도면이다. 극단 펄스 레이저는 집광 렌즈에 의해 집광되고, 그 초점이 감광성 수지와 유리 원반의 계면에 닿도록 세팅된다. 극단 펄스 레이저가 조사된 감광성 수지층 부분은 레이저광과 반응하여 경화한다. 한편, 극단 펄스 레이저가 조사되지 않은 감광성 수지층의 부분은 미반응/미경화부로서 남는다.

본 실시예에 있어서, 극단 펄스 레이저는 유리 원반측으로부터, 바꿔 말하면 감광성 수지층이 형성되어 있지 않은 측으로부터 조사된다. 감광성 수지층은 그 두께가 균일하도록 형성되어 있지만, 미소한 범위에서는 감광성 수지층의 두께가 불균일하게 될 가능성이 매우 높다. 따라서, 감광성 수지층측으로부터 극단 펄스 레이저를 조사한 경우, 부분에 따라 극단 펄스 레이저의 조사가 불충분하게 될 가능성이 있다.

이에 대하여, 유리 원반의 두께는 감광성 수지층보다 더 높은 정밀도로 균일하게 할 수 있다. 유리 원반 측으로부터 극단 펄스 레이저를 조사하는 것에 의해, 감광성 수지층 두께의 불균일로부터 발생하는 굴절에 의한 집광 위치의 변화의 영향을 받지 않고, 감광성 수지를 충분히 감광시킬 수 있으며, 보다 안정된 치수의 경화 패턴을 형성할 수 있다.

또한, 본 실시예에서는 극단 펄스 레이저가 유리 원반측으로부터 조사되기 때문에, 유리 원반 측으로부터 감광성 수지를 감광시킬 수 있고, 감광성 수지는 우선 유리 원반에 접한 측으로부터 경화하기 시작한다. 이 때문에 감광성 수지층 두께의 관리는, 종래의 패턴 형성 방법과 비교하여 그 엄밀함을 낮게 하는 것이 가능해진다.

이와 같이 감광성 수지를 경화시키는 것에 의해, 도 3의 (d)와 같이 감광성 수지층에 경화부와 미경화부가 형성된다. 이 후, 감광성 수지층의 미경화부를 세정 제거함으로써, 도 3의 (f)에 도시하는 바와 같이, 동심원 형상의 홈이 형성된 원반을 제조할 수 있다.

도 3의 예에서는 동심원 형상의 홈을 형성하였지만, 원반 회전을 동기시켜 극단 펄스 레이저를 유리 원반의 반경 방향을 따라 일정 속도로 유리 원반에 대하여 상대적으로 이동시킴으로써, 나선형의 홈을 유리 원반 상에 형성하는 것이 가능해진다.

도 5는 도 3과 도 4에 도시한 순서로 홈이 형성된 원반을 이용한, 자기 기록 매체(자기 디스크)의 기판을 제조하는 순서를 도시한 도면이다. 도 5의 예에서 대상으로 하는 자기 기록 매체에는, 매체 표면에 동심원 형상의 홈이 형성되어 있다. 이 홈을 형성하기 위해 본 실시예에 의한 패턴 형성 방법이 이용된다.

도 5의 (a)는 도 3과 도 4에 도시한 공정으로 홈이 형성된 유리 원반을 도시하고 있다. 유리 원반 위에는 감광성 수지가 빛에 반응하여 형성된 경화부가 적재되어 있다.

계속해서, 도 5의 (b)에 도시하는 바와 같이, (a)에 도시된 유리 원반 위에, 일례로서 니켈층을 형성한다. 니켈층은 스퍼터링이나 도금 등에 의해 형성된다. 다음에, 유리 원반 상에 형성된 니켈층을 유리 원반으로부터 박리한다(c). 박리된 니켈층은 스탬퍼로서 이용된다.

그 후, 박리된 니켈층을 형(型)으로서 이용하여 자기 기록 매체 상에 홈을 형성한다(d). 그리고 니켈층을 기록 매체로부터 분리한다. 또한 기록 매체 상에 자기 기록층, 각종 코팅을 실시함으로써 자기 기록 매체가 생성된다.

상기한 예에서는 기록 매체로서 자기 기록 매체에 관한 사항을 설명하였지만, 기록 매체 종별은 자기 기록 매체에 한정되지 않는다. 매체 표면에 홈 등의 패턴을 형성해야 하는 기록 매체이면, 도 5에서 설명하는 기록 매체의 제조 방법을 응용하는 것은 용이하고, 예컨대 광학적인 기록을 행하는 기록 매체의 제조 등에도 적용 가능하다.

또한, 상기한 예에서는 원반 상의 기판에 홈을 형성하는 구성을 설명하였지만, 홈을 형성하는 대상은 회전하는 원반형의 기판에 한정되지 않는다. 도 6은 기판을 회전시키지 않고, 기판 상에 홈을 형성하는 순서를 도시한 도면이다.

도 6의 (a)는 순서의 원리적인 구성을 도시하는 도면이다. 도 6의 (a)에서는 유리 기판 상에 감광성 수지층을 형성한다. 이러한 기판에 대하여, 광파이버에서 광원으로부터 유도된 극단 펄스 레이저를 집광 렌즈에 의해 집광하고, 유리 기판과 감광성 수지층의 계면에 초점이 위치하도록 조사한다. 이 후, 극단 펄스 레이저광과 유리 기판을 상대적으로 이동시킴으로써, 임의의 패턴으로 감광성 수지를 경화하는 것이 가능해진다.

도 6의 (b)는 워크(유리 기판)를 이동시키기 위한 장치 구성을 도시하는 도면이다. 도 6의 (b)의 예에서는 유리 기판이 창이 있는 XY 테이블 상에 적재되어 있다. 여기서, 유리 기판 상에 형성되어야 하는 패턴에 대응하는 정보가 부가된 CAD 데이터가 NC 장치에 공급된다. NC 장치는 CAD 데이터에 표시된 패턴을 따라 XY 테이블을 이동시킨다.

한편, NC 장치는 XY 테이블의 이동에 맞춰, 레이저 출사구가 유리 기판의 패턴이 형성되어야 하는 위치에 있을 때에 레이저 발진기를 온으로 하고, 유리 기판의 원하는 부분을 향해 극단 펄스 레이저광을 조사한다. 또한, 패턴을 형성할 필요가 없는 유리 기판 부분이 레이저 출사구에 위치하고 있는 경우에, NC 장치는 레이 저 발진부를 오프로 한다. 이러한 구성에 의해 유리 기판 상에 임의의 패턴을 묘화할 수 있다.

극단 펄스 레이저광의 초점이 유리 기판과 감광성 수지의 계면에 위치하도록 극단 펄스 레이저를 조사하는 것은 도 3에 표시된 실시예와 마찬가지이다(도 7 참조).

도 6의 (c)는 워크가 아니라 레이저광을 이동시키기 위한 장치 구성예를 도시하는 도면이다. 도 6의 (c)의 예에서는 집광 렌즈를 포함하는 레이저 출사구가 평면 방향으로 이동 가능한 기구에 부착되어 있다. 한편, 워크/유리 기판은 워크 고정 프레임에 고정되어 있다. 도 6의 (b)의 예와 마찬가지로, NC 장치에는 유리 기판 상에 형성되는 패턴에 대응하는 데이터가 부가된 CAD 데이터가 공급되고, NC 데이터는 CAD 데이터를 따라 레이저 출사구를 이동시킨다. 이에 맞춰, NC 장치는 유리 기판의 패턴이 형성되어야 하는 곳에 레이저 출사구가 위치하고 있을 때에 레이저 발진기를 온으로 하고, 이외의 경우에는 레이저 발진기를 오프로 한다.

상기한 예에서는, 광경화성 수지를 이용하여 기판 상에 홈을 형성하는 예에 대해서 설명하였다. 이 외에도, 반도체 장치의 제조에 이용되는 포토레지스트와 같이, 기판에의 도포 후에 베이킹을 행하여 포토레지스트를 경화시킨 후에 노광을 행하는 재료나, 또는 드라이 필름과 같이 고체 상태의 감광성 재료를 이용하여도 극단 펄스 레이저에 의한 미세 패턴의 형성은 가능하다.

(부기 1)

기판 상에 패턴을 형성하는 패턴 형성 방법에 있어서,

기판 상에 감광성 부재를 배치하는 공정과,

극단 펄스 레이저를 집광하는 공정과,

집광된 극단 펄스 레이저를 상기 기판측으로부터 그 초점이 상기 기판과 상기 감광성 부재의 계면에 위치하도록 위치 결정하여 조사하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.

(부기 2)

기판 상에 홈형 패턴을 형성하는 패턴 형성 방법에 있어서,

기판 상에 감광성 부재를 배치하는 공정과,

상기 기판과 상기 감광성 부재의 계면에 초점이 위치하도록 극단 펄스 레이저광을 패턴이 형성되는 상기 기판 영역에 위치 결정하는 공정과,

상기 기판측으로부터, 상기 기판을 투과하도록 상기 계면을 향해 상기 극단 펄스 레이저를 조사하는 공정과,

상기 감광성 부재 중, 상기 극단 펄스 레이저에 반응한 부분과, 상기 극단 펄스 레이저에 반응하지 않는 부분 중 한 쪽을 선택적으로 제거하는 공정을 포함한 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.

(부기 3)

기판 상에 패턴을 형성하기 위해 이용되는 패턴 형성 장치에 있어서,

패턴이 형성되는, 감광성 부재가 배치된 기판이 적재되는 적재부와,

극단 펄스 레이저를 발진시키는 발진기와,

상기 발진기로부터 발진된 극단 펄스 레이저를 집광하는 집광 수단과,

상기 발진기의 온·오프를 제어하는 동시에, 상기 기판과 상기 극단 펄스 레이저를 상대적으로 이동시키는 제어부를 포함하고,

상기 극단 펄스 레이저는 상기 감광성 부재와 상기 기판의 계면에 초점이 위치하도록, 또한 상기 기판측으로부터 상기 계면을 향해 조사되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 장치.

(부기 4)

상기 패턴 형성 장치에 있어서,

상기 기판이 적재된 적재부를 이동시키는 이동 수단을 더 포함하고, 상기 제어부는 상기 이동 수단을 제어하는 것을 특징으로 하는 부기 3에 기재한 패턴 형성 장치.

(부기 5)

상기 패턴 형성 장치에 있어서,

상기 극단 펄스 레이저를 이동시키는 이동 수단을 더 포함하고, 상기 제어부는 상기 이동 수단을 제어하는 것을 특징으로 하는 부기 3에 기재한 패턴 형성 장치.

(부기 6)

상기 패턴 형성 장치에 있어서,

상기 이동 수단에는 상기 집광 수단이 부착되고, 상기 집광 수단의 위치를 이동시키도록 상기 제어부는 상기 이동 수단을 제어하는 것을 특징으로 하는 부기 5에 기재한 패턴 형성 장치.

(부기 7)

기록 매체의 제조 방법에 있어서,

기판 상에 감광성 부재를 배치하는 공정과,

집광된 극단 펄스 레이저를 상기 기판측으로부터 상기 기판과 상기 감광성 부재의 계면에 초점이 위치하도록 조사하고, 상기 기판 상에 패턴을 형성하는 공정과,

상기 극단 펄스 레이저 조사에 의해 반응한 상기 감광성 부재의 영역과, 반응하지 않는 상기 감광성 부재의 영역 중 한 쪽을 선택적으로 제거하는 공정과,

상기 감광성 부재가 제거된 기판 상에 금속층을 형성하는 공정과,

상기 금속층을 상기 기판으로부터 박리하는 공정과,

상기 금속층을 형(型)으로 하여 기록 매체 상에 패턴을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 기록 매체의 제조 방법.

(부기 8)

상기 기록 매체의 제조 방법에 있어서,

상기 기록 매체는 자기 기록 매체이고,

상기 기록 매체 상에 자기 기록층을 형성하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 부기 7에 기재한 기록 매체의 제조 방법.

(부기 9)

패턴이 형성되는 부재의 제조 방법에 있어서,

상기 부재 상에 감광성 부재를 도포하는 공정과,

상기 부재와 상기 감광성 부재의 계면에 상기 부재측으로부터 펄스 레이저를 조사하는 공정과,

상기 펄스 레이저의 조사에 의해, 상기 감광성 부재의 반응한 영역과 반응하지 않는 영역 중 한 쪽을 선택적으로 제거하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 부재의 제조 방법.

(부기 10)

상기 부재의 제조 방법에 있어서,

상기 펄스 레이저 조사의 공정은, 형성하고자 하는 원하는 패턴에 따라서, 상기 부재와 상기 펄스 레이저를 상대적으로 이동시키는 공정과,

상기 패턴에 대응하는 위치에 상기 펄스 레이저가 이동한 경우에, 상기 펄스 레이저를 상기 부재와 상기 감광성 부재의 계면에 조사하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 부기 9에 기재한 부재의 제조 방법.

본 발명은 종래와 비교하여 보다 미세한 패턴을 보다 저비용으로 보다 고정밀도로 형성하는 것을 가능하게 한다.

도 1은 종래의 레이저광을 이용한 패턴 형성 방법을 도시하는 도면.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 패턴 형성 방법을 도시하는 도면.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 디스크형 기판에의 패턴 형성 방법을 도시하는 도면.

도 4는 도 3에 도시한 패턴 형성 방법의 주요부 확대도.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 의한 자기 기록 매체의 제조 방법을 도시하는 도면.

도 6은 본 발명의 다른 실시예에 의한 패턴 형성 방법을 도시하는 도면.

도 7은 도 6에 도시된 패턴 형성 방법의 주요부 확대도.

Claims

기판 상에 패턴을 형성하는 패턴 형성 방법에 있어서,

기판 상에 감광성 부재를 배치하는 공정과;

극단(極短) 펄스 레이저를 집광하는 공정과;

집광된 극단 펄스 레이저를 상기 기판의 감광성 부재가 배치되지 않은 측면으로부터, 그 초점이 상기 기판과 상기 감광성 부재의 계면에 위치하도록 위치 결정하여 조사하는 공정

을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
기판 상에 홈형 패턴을 형성하는 패턴 형성 방법에 있어서,

기판 상에 감광성 부재를 배치하는 공정과;

상기 기판과 상기 감광성 부재의 계면에 초점이 위치하도록 펄스 레이저광을 패턴이 형성되는 상기 기판 영역에 위치 결정하는 공정과;

상기 기판의 감광성 부재가 배치되지 않은 측면으로부터, 상기 기판을 투과하도록 상기 계면을 향해 상기 펄스 레이저를 조사하는 공정과;

상기 감광성 부재 중, 상기 펄스 레이저에 반응한 부분과, 상기 펄스 레이저에 반응하지 않는 부분 중 한 쪽을 선택적으로 제거하는 공정

을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
기판 상에 패턴을 형성하기 위해 이용되는 패턴 형성 장치에 있어서,

패턴이 형성되는, 감광성 부재가 배치된 기판이 적재되는 적재부와;

극단 펄스 레이저를 발진시키는 발진기와;

상기 발진기로부터 발진된 극단 펄스 레이저를 집광하는 집광 수단과;

상기 발진기의 온·오프를 제어하고, 상기 기판과 상기 극단 펄스 레이저를 상대적으로 이동시키는 제어부

를 포함하고,

상기 극단 펄스 레이저는 상기 감광성 부재와 상기 기판의 계면에 초점이 위치하도록, 또한 상기 기판의 감광성 부재가 배치되지 않은 측면으로부터 상기 계면을 향해 조사되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 장치.
기록 매체의 제조 방법에 있어서,

기판 상에 감광성 부재를 배치하는 공정과;

집광된 극단 펄스 레이저를 상기 기판의 감광성 부재가 배치되지 않은 측면으로부터, 상기 기판과 상기 감광성 부재의 계면에 초점이 위치하도록 조사하여 상기 기판 상에 패턴을 형성하는 공정과;

상기 극단 펄스 레이저 조사에 의해 반응한 상기 감광성 부재의 영역과, 반응하지 않는 상기 감광성 부재의 영역 중 한 쪽을 선택적으로 제거하는 공정과;

상기 감광성 부재가 제거된 기판 상에 금속층을 형성하는 공정과;

상기 금속층을 상기 기판으로부터 박리하는 공정과;

상기 금속층을 형(型)으로 하여 기록 매체 상에 패턴을 형성하는 공정

을 포함하는 것을 특징으로 하는 기록 매체의 제조 방법.
패턴이 형성되는 부재의 제조 방법에 있어서,

상기 부재 상에 감광성 부재를 도포하는 공정과;

상기 부재와 상기 감광성 부재의 계면에 상기 부재의 감광성 부재가 배치되지 않은 측면으로부터 상기 부재를 투과하도록 펄스 레이저를 조사하는 공정과;

상기 펄스 레이저의 조사에 의해, 상기 감광성 부재의 반응한 영역과 반응하지 않는 영역 중 한 쪽을 선택적으로 제거하는 공정

을 포함하는 것을 특징으로 하는 부재의 제조 방법.