KR100848215B1 - 유기 반도체 물질을 제조하는데 있어서 유기 매트릭스물질의 용도, 유기 반도체 물질 및 전자 부품 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 유기 반도체 물질을 제조하는데 있어서 유기 매트릭스 물질의 용도로서, 유기 매트릭스 물질은 적어도 일부가 스피로비플루오렌 화합물을 포함하며, 유기 매트릭스 물질의 유리전이온도가 120℃ 이상이며, 매트릭스 물질의 최상위 점유 분자 궤도 함수(HOMO: highest occupied molecular orbital)의 최대 에너지값이 5.4eV임을 특징으로 하는 유기 매트릭스 물질의 용도; 및 유기 반도체 물질 및 전자 부품에 관한 것이다.

Description

유기 반도체 물질을 제조하는데 있어서 유기 매트릭스 물질의 용도, 유기 반도체 물질 및 전자 부품 {USE OF AN ORGANIC MATRIX MATERIAL FOR PRODUCING AN ORGANIC SEMICONDUCTOR MATERIAL, ORGANIC SEMICONDUCTOR MATERIAL AND ELECTRONIC COMPONENT}
도 1은 유기 매트릭스 물질 스피로-TTB (F4-TCNQ로 도핑됨)의 수송층의 층 두께에 대한 측면 전류(lateral current)의 의존도를 나타낸다.
도 2는 유기 매트릭스 물질 스피로-iPr-TAD (F4-TCNQ로 도핑됨)의 수송층의 층 두께에 대한 측면 전류의 의존도를 나타낸다.
도 3은 p-도펀트로서의 스피로-TTB (F4 TCNQ로 도핑됨) 및 도핑된 수송층을 갖는 유기 발광 다이오드의 발광 전압 및 전력 효율 전압 특징을 나타낸다.
본 발명은 유기 반도체 물질을 제조하는데 있어서의 유기 매트릭스 물질의 용도, 유기 매트릭스 물질 및 유기 도펀트를 포함하는 유기 반도체 물질, 및 전자 부품에 관한 것이다.
도핑이 유기 반도체의 전기적 특성, 특히 전기 전도율을 변경시킬 수 있다는 것은 알려져 있으며, 이 점은 실리콘 반도체와 같은 무기 반도체의 경우에 있어서도 마찬가지다.
이러한 경우, 매트릭스 물질 중의 전하 캐리어의 발생은 초기의 매우 낮은 전도율을 증가시키며, 사용된 도펀트의 유형에 따라 다르게, 반도체의 페르미 수준(Fermi level)을 변화시킨다. 도핑은 전하수송층의 전도율을 증가시켜 저항 손실을 감소시키며, 콘택트와 유기층 간의 전하 캐리어의 전이를 개선시킨다.
이러한 유기 반도체의 도핑을 위해, 강한 전자 어셉터 예컨대, 테트라시아노퀴논디메탄 (TCNQ) 또는 2,3,5,6-테트라플루오로테트라시아노-1,4-벤조퀴논디메탄 (F4-TCNQ)이 공지되어 있다 [참조: M. Pfeiffer, A. Beyer, T. Fritz, K Leo, Appl.Phys.Lett., 73(22), 3202-3204 (1998) and J.Blochwitz, M. Pfeiffer, T. Fritz, K. Leo, Appl. Phys. Lett., 73(6), 729-732 (1998)]. 전자 도너형 베이스 물질 (홀 수송 물질)에서의 전자 전송 공정 결과에 따라, 이들은 홀로 알려진 것을 생성시키며, 이들의 수 및 이동성은 다소 현저하게 매트릭스 물질의 전도율을 변화시킨다.
공지된 매트릭스 물질로는 예를 들어, 스타버스트(starburst) 화합물, 예컨대, 4,4',4"-트리스(디페닐아미노)트리페닐아민 (TDATA), 4,4',4"-트리스(3-메틸페닐페닐아미노)-트리페닐아민(m-MTDATA) 및 N,N,N',N'-테트라키스(4-메톡시페닐)벤지딘 (MeO-TPD)이 있다.
상기 공지된 매트릭스 물질의 화학 구조는 다음과 같다:
Figure 112005043327211-pat00001
그러나, 이들 화합물은 열적으로 불안정하다. 즉, 이들은 유리전이온도가 낮고, 저온에서 결정화되는 경향이 있으며, 이로 인해 궁극적으로 전자 부품을 불안정하게 한다.
유리전이온도는 물질이 용융 상태로부터 빠르게 냉각되는 경우 분자가 동역학적 이유로 더 이상 움직일 수 없으며, 열역학적 변수 예컨대, 열용량 또는 팽창계수가 전형적인 액체 값에서 전형적인 고체 값으로 급작스럽게 변하는 온도인 것으로 간주된다. 매트릭스 물질의 열 안정도는 유기 반도체 물질이 매트릭스 물질과 함께 사용되는 경우, 고온의 작동 온도하에 이러한 반도체 물질의 통상적인 층 구조에서에 거친 부분이 형성되는 것을 방지하기 위해, 특히 형태론적 이유로 중요하다. 게다가, 열 안정도는 매트릭스 물질내의 도펀트 분산을 제한하기 위해 중요하다.
종래 기술은 또한 열적으로 안정한 매트릭스 물질 예컨대, 2,2',7,7'-테트라키스(N,N-디페닐아미노)-9,9'-스피로비플루오렌(스피로-TAD)을 기술하고 있으나, 이는 이들의 최상위 점유 분자 궤도 함수(HOMO)의 에너지값 위치로 인해 도핑될 수 없다.
Figure 112005043327211-pat00002
(스피로-TAD)
본 발명은 유기 반도체 물질을 제조하는데 있어서 유기 반도체 부품에 사용되도록 높은 홀 전도율을 지닌 홀 수송층을 제공하도록 열적으로 안정적이며, 도핑가능한 유기 매트릭스 물질을 사용하고자 하는 것이다. 또한, 기상 증착에 의해 유기 매트릭스 물질을 도포하여 감압 하에서의 강한 유기 전자 어셉터와의 동시증착(co-evaporation)에 의해 상응하게 높은 홀 전도율을 갖는 층을 제공할 수 있어야 한다.
이러한 목적은 적어도 부분적으로 하기 화학식 (I) 및/또는 화학식 (II)의 스피로비플루오렌 화합물을 포함하는 유기 매트릭스 물질로서,
유기 매트릭스 물질의 유리전이온도가 120℃ 이상이며, 유기 매트릭스 물질의 최상위 점유 분자 궤도 함수(HOMO)의 최대 에너지값이 5.4eV인 유기 매트릭스 물질에 의해 달성된다:
Figure 112005043327211-pat00003
(I; R-스피로-TAD)
Figure 112005043327211-pat00004
(II; 스피로-TM-TAD)
화학식 (I)에서, R은 페닐 라디칼 상의 하나 이상의 치환기이며, 모든 R이 동시에 수소는 아니며,
화학식 (II)에서, R은 수소 이외의 치환기이며, R'는 치환기이다.
따라서, 화학식 (I)에서, 페닐 라디칼에는 하나 이상의 치환기가 제공될 수 있다.
바람직하게는, 화학식 (I) 및 (II)에서 각각의 R 및/또는 R'는 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, 3차-부틸, NH2, N(CH3)2 및 NPh2로 이루어진 군으로부터 선택되며, 화학식 (I)에서 모든 R이 동시에 수소는 아니다.
특히 바람직하게는, 스피로비플루오렌 화합물은
Figure 112005043327211-pat00005
(스피로-TTB);
Figure 112005043327211-pat00006
(스피로-iPr-TAD); 및
Figure 112005043327211-pat00007
(스피로-iPr2N-TAD)로 이루어진 군으로부터 선택된다.
마찬가지로 바람직하게는, 스피로비플루오렌 화합물의 유리전이온도는 120℃ 내지 250℃이며, 화합물의 최상위 점유 분자 궤도 함수의 에너지값은 4.5eV 내지 5.4eV, 바람직하게는 4.8eV 내지 5.2eV이다.
상기 목적은 또한, 유기 매트릭스 물질과 유기 도펀트를 포함하는 유기 반도체 물질에 의해 달성되며, 상기 유기 매트릭스 물질은 적어도 부분적으로 본 발명에 따른 매트릭스 물질로서 사용되는 하나 이상의 화합물을 포함한다.
마찬가지로 바람직하게는, 도펀트는 2,3,5,6-테트라플루오로-7,7,8,8-테트라시아노퀴논디메탄 또는 이들의 유도체이다. 그러나, 유사한 어셉터 작용 및 동일하거나 더 큰 분자량을 갖는 추가의 도펀트가 가능하다 [참조예: DE10357044.6]. 특히 바람직하게는, 도펀트 대 매트릭스 물질의 몰 도핑율은 1:1 내지 1:10,000이다.
상기 목적은 적어도 부분적으로 본 발명에 따른 매트릭스 물질로서 예견되는 스피로비플루오렌 화합물을 포함하는 유기 매트릭스 물질이 사용되는 전자 부품에 의해 추가로 달성된다.
최종적으로, 유기발광다이오드(OLED), 광기전력 전지, 유기 태양 전지, 유기 다이오드 또는 유기 전계효과 트랜지스터 형태의 전자 부품이 제공된다.
본 발명은 유기 반도체 물질을 제조하는데 상기 기술된 유기 매트릭스 물질을 사용하면, 유기 반도체 부품에 사용하기 위한 열적으로 안정적이며 도핑된 홀 수송층을 제공할 수 있다는 놀라운 발견에 기초한 것이다. 상기 매트릭스 물질을 사용함으로써, 기상 증착에 의해 도포되어 감압 하에서의 강한 유기 전자 어셉터와의 동시증착에 의해 높은 홀 전도율을 갖는 층을 유도할 수 있는 홀 수송물질이 제공된다.
기술된 유기 매트릭스 물질이 사용되는 경우, 안정적이고 단독으로 양으로 하전된 양이온 상태의 홀 수송층이 달성된다.
본 발명의 추가의 이점 및 특징은 하기되는 예시적인 유기 매트릭스 물질에 대한 상세한 설명 및 첨부된 도면에 의해 입증된다.
실시예
A. 2,2',7,7'-테트라키스(N,N-디-p-메틸페닐아미노)-9,9'-스피로비플루오렌 (스피로-TTB)의 제조
Figure 112005043327211-pat00008
2,2',7,7'-테트라브로모-9,9'-스피로비플루오렌 (10g, 15.8mmol), 디-p-톨릴아민 (14.2g, 72.1mmol) 및 나트륨 3차-부톡시드 (9.6g, 100mmol)를 질소하에 60℃에서 1h 동안 100ml의 무수 톨루엔 중에서 교반하였다. 후속적으로, 트리-3차-부틸포스핀 (200mg, 1.0mmol, 테트라브로모스피로비플루오렌을 기준으로 하여 6.3%) 및 팔라듐 (II) 아세테이트 (92mg, 0.4mmol, 테트라브로모스피로비플루오렌을 기준으로 하여 2.6%)를 첨가하고, 반응 혼합물을 질소하에 가열하여 환류시켰다. 반응의 진행사항을 박층 크로마토그래피 (용리제: 디클로로메탄 중의 50% 헥산)에 의해 모니터하였다. 2.5h 후, TLC 중에 반응물이 더 이상 검출되지 않았다. 반응 혼합물을 냉각시키고, 물 20ml 중 100mg의 KCN 용액과 혼합하고, 추가로 1h 동안 60℃에서 교반하였다. 실온으로 냉각시킨 후, 상을 분리하고, 유기상을 황산나트륨 상에서 건조시키고, 용매를 제거하였다. 미정제 생성물을 디옥산으로부터 2회 재결정화시킨 후, 헥산 중의 소량의 디클로로메탄으로부터 재침전시키고, 감압 하에서 건조시켰다.
수득량: 약간 녹색을 띠는 분말 15.0g (13.8mmol, 이론치의 87%).
Figure 112005043327211-pat00009
B. 2,2',7,7'-테트라키스(N,N-디-p-이소프로필페닐아미노)-9,9'-스피로플루오렌 (스피로-iPr-TAD)의 제조
4-이소프로필요오도벤젠
Figure 112005043327211-pat00010
4-이소프로필아닐린 (49.5g, 366mmol)을 200ml의 증류수 중에 현탁시키고, 얼음 냉각하에 200ml의 반농축된 황산과 조금씩 혼합하였다. 그 후, 200ml의 증류수중의 아질산나트륨 (25.5g, 370mmol) 용액을, 온도가 2℃ 넘게 상승하지 않는 속도로 적가하였다. 적가가 완료되면, 혼합물을 추가로 20분 동안 2℃에서 교반하였다. 이제, 생성된 투명한 적색을 띠는 디아조늄 염 용액을 200ml의 증류수 중의 요오드화칼륨 (135.0g, 813mmol) 용액에 필터를 통해 첨가하였다. 반응 혼합물을 1h 동안 80℃에서 교반시켰다. 이러한 과정에서, 용액은 활발하게 증기를 발생시키면서 흑색이 되며, 오일 유기상이 분리되었다. 냉각후, 유기상을 제거하고, 수성상을 100ml의 에테르로 4회 더 추출하였다. 혼합된 유기상을 묽은 수산화나트륨 용액 및 증류수로 세척하고, 황산나트륨 상에서 건조시켰다. 용매를 제거한 후, 미정제 생성물을 막-펌프 진공기에서 증류시켰다. 약간 적색을 띠는 표적 생성물을 100-105℃의 온도에 걸쳐 증류시켰다 (15mbar).
수득량: 약간 적색을 띠는 액체 75.3g (310mmol, 이론치의 83%)
Figure 112005043327211-pat00011
N-아세틸-4-이소프로필아닐린
Figure 112005043327211-pat00012
아세트산 무수물 (26.0g, 254mmol)을 80ml의 클로로포름 중의 4-이소프로필아닐린(17.2g, 127mmol) 용액에 서서히 적가하였다. 이러한 과정에서, 반응 혼합물에 강한 열이 발생하였다. 적가 완료 후, 혼합물을 실온에서 추가로 2h 동안 교반하였다. 반응 혼합물을 농축 건조시키고, 생성된 적색을 띠는 백색 고형물을 헥산으로부터 재결정화하였다.
수득량: 백색 고형물 21.1g (120mmol, 이론치의 94%)
Figure 112005043327211-pat00013
융점: 107℃ [문헌 (Dyall, Aus.J.Chem. 17, 1964,419): 104-105℃]
N-아세틸-N,N-디(4-이소프로필페닐)아민
Figure 112005043327211-pat00014
4-이소프로필요오도벤젠(29.2g, 118mmol), N-아세틸-4-이소프로필아닐린(21.0g, 118mmol), 구리 분말 (15.0g, 237mmol), 탄산칼륨 (65.4g, 474mmol) 및 18-크라운-6 (2.9g, 12mmol)을 200ml의 1,2-디클로로벤젠 중에서 가열하여 환류시켰다. 반응을 박층 크로마토그래피 (용리제: 디클로로메탄 중의 10% THF)에 의해 모니터하였다. 48h 후, 여전히 고온인 반응 혼합물을 여과하고, 여과 잔류물을 충분히 세척하고, 용매를 회전 증발기에서 제거하였다. 미정제 생성물을 디클로로메탄 중의 10% THF를 사용하여 실리카겔 상에서 크로마토그래피하였다. 생성물 분획을 농축 건조시키고, 헥산으로부터 재결정화시키고, 감압 하에서 건조시켰다.
수득량: 약간 갈색을 띠는 고형물 14.31g (48mmol, 이론치의 41%)
Figure 112005043327211-pat00015
N,N-디-(4-이소프로필페닐)아민
Figure 112005043327211-pat00016
N-아세틸-N,N-디(4-이소프로필페닐)아민 (5.4g, 18.4mmol)을 100ml의 20% 수성 에탄올 중에서 가열하여 환류시켰다. 반응을 박층 크로마토그래피에 의해 모니터하였다. 30h 후, TLC 중에서 어떠한 반응물도 검출되지 않았다. 에탄올 용액을 증류수에 붓고, 갈색을 띠는 침전물을 흡입에 의해 여과해 내고, 디클로로메탄 중에 용해시키고, 황산나트륨 상에서 건조시켰다. 용액을 농축시키고, 헥산 중의 50% 디클로로메탄을 이용하여 짧은 실리카겔 칼럼을 통해 크로마토그래피하였다. 생성물 분획을 농축 건조시키고, 생성물을 감압 하에서 건조시켰다.
수득량: 약간 갈색을 띠는 고형물 4.0g (16mmol, 이론치의 86%)
Figure 112005043327211-pat00017
2,2',7,7'-테트라키스(N,N-디-p-이소프로필페닐아미노)-9,9'-스피로비플루오렌 (스피로-iPr-TAD)
Figure 112005043327211-pat00018
2,2',7,7'-테트라브로모-9,9'-스피로비플루오렌 (1.7g, 2.6mmol), N,N-디-4-이소프로필페닐아민 (3.0g, 12.0mmol) 및 나트륨 3차-부톡시드 (1.6g, 17mmol)를 질소하에 60℃에서 1h 동안 100ml의 무수 톨루엔 중에서 교반시켰다. 그 후, 트리-3차-부틸포스핀 (4.8mg, 0.24mmol, 테트라브로모스피로비플루오렌을 기준으로 하여 9.2%) 및 팔라듐(II) 아세테이트 (27mg, 0.12mmol, 테트라브로모스피로비플루오렌을 기준으로 하여 4.6%)를 첨가하고, 반응 혼합물을 질소하에 가열하여 환류시켰다. 반응의 진행과정을 박층 크로마토그래피 (용리제: 헥산 중의 20% 디클로로메탄)에 의해 모니터하였다. 3.5h 후, TLC 중에서 어떠한 반응물도 검출되지 않았다. 반응 혼합물을 냉각시키고, 20ml의 물 중의 100mg KCN 용액과 혼합하고, 60℃에서 추가로 1h 동안 교반시켰다. 실온으로 교반시킨 후, 상을 분리하고, 유기상을 황산나트륨 상에서 건조시키고, 용매를 제거하였다. 미정제 생성물을 디옥산으로부터 2회 재결정화시킨 후, 감압 하에서 건조시켰다.
수득량: 약간 황색을 띠는 미세 결정질 분말 2.8g (2.1mmol, 이론치의 81%)
Figure 112005043327211-pat00019
두개의 유기 물질 스피로-TTB 및 스피로-iPr-TAD를 F4-TCNQ로 각각 도핑시키고, 전도율을 측정하였다. 이러한 측정을 위해, 도핑된 층을 약 5mm 폭의 컨택트(인듐 틴 옥사이드, ITO로 이루어짐)에 걸쳐 감압 하에서 동시증착에 의해 도포하였으며, 상기 컨택트는 유기 기판에 1mm의 간격을 두어 적용하였다. 컨택트를 전류-전압 측정 장치에 외부적으로 연결시켜, 고정된 인가 전압하에서 측면 전류를 측정할 수 있게 하였다. 이러한 측면 전류로부터, 층의 전도율은 단순 저항 관계에 의해 계산된다. 전도율은 하기 식에 의해 결정될 수 있다:
전도율 = (측면 전류 * 간격)/(폭 * 층 두께)
도 1 및 2는 각각 두개의 도핑된 매트릭스 물질의 층 두께에 따른 측면 전류의 증가를 나타낸다. 2.5% F4-TCNQ로 도핑된 스피로-TTB의 50nm-두께 층의 전도율은 약 1.6E-5S/cm이며, 5% F4-TCNQ로 도핑된 스피로-iPr-TAD의 50nm-두께 층의 전도율은 약 8E-7S/cm이다.
본 발명에 따라 사용되는 바와 같이, 유기 매트릭스 물질을 갖는 OLED 형태 의 본 발명의 전자 부품의 한 구체예가 제조될 수 있으며, 기판을 통해 방출되는 일반적인 디자인의 경우 하기 층 배열을 포함한다:
1. 캐리어 기판: 유리,
2. 기저부 전극 (음극 A): ITO,
3. p-도핑된 홀-주입 및 -수송층: 스피로-TTB: F4-TCNQ (2.5% 몰 도핑 농도)
4. 물질의 밴드 위치가, 물질을 둘러싸는 층의 밴드 위치에 매칭되는 물질의 얇은 홀측 중개층: 스피로-TAD,
5. 발광층 (이미터(emitter) 염료로 도핑될 수 있음): TCTA (4,4',4"-트리스(N-카르바졸릴)트리페닐아민): Irppy 3 (팩-트리스(2-페닐피리딘)이리듐),
6. 물질의 밴드 위치가, 물질을 둘러싸는 층의 밴드 위치에 매칭되는 물질의 얇은 전자측 중개층: BPhen (4,7-디페닐-1,10-페난트롤린),
7. n-도핑된 전자-주입- 및 -수송층: 세슘으로 도핑된 BPhen (약 1:1 몰 농도),
8. 상부 전극 (양극 K): 알루미늄, 및
9. 환경적 영향을 배제하기 위한 캡슐화: 유리로 커버됨.
이와 같이 생성된 유기 발광 다이오드에 대해 발광 전압 및 전류효율 전압 특징을 시험하였으며, 이의 결과는 도 3에 도시되어 있다. 유기 홀 수송층의 도핑으로 인해, 매우 급경사의 전류-전압 특징이 나타나며, 이에 따라 매우 급경사의 발광 전압 특성 (왼손축)이 나타난다. 100cd/m2 및 1000cd/m2의 발광은 2.75V 및 3.1V의 전압을 달성하였다. 도핑된 홀 및 전자 수송층과 두개의 중개층의 동일한 배열로 인해, 광 생성의 전류 효율도 마찬가지로 매우 높으며, 이는 넓은 광도 범위에 걸쳐 일정하다: 46cd/A 및 45cd/A. 안정적인 홀 수송층으로 인해, 이러한 OLED는 광전자 특성에서의 감소없이 비교적 고온 (100℃ 이하)에서 안정적으로 작동될 수 있다.
상기 상세한 설명, 청구범위 및 도면에 기술된 본 발명의 특징들은 이의 상이한 구체예에서 본 발명을 실행하는데 있어서 개별적으로 또는 임의로 조합되어 요구된다.

Claims (10)

  1. 홀 수송층을 지닌 유기 반도체 물질을 제조하는 방법으로서,
    상기 홀 수소층이 도펀트와 유기 매트릭스 물질의 동시증착(co-evaporation)에 의해 제조되고, 상기 유기 매트릭스 물질은 일부 또는 전부가 하기 화학식 (I) 및/또는 하기 화학식 (II)의 스피로비플루오렌 화합물을 포함하며, 상기 유기 매트릭스 물질의 유리전이온도가 120℃ 이상이며, 유기 매트릭스 물질의 최상위 점유 분자 궤도 함수(HOMO: highest occupied molecular orbital)의 최대 에너지값이 5.4eV인 방법:
    Figure 112008015169813-pat00028
    (I; R-스피로-TAD)
    Figure 112008015169813-pat00021
    (II; 스피로-TM-TAD)
    상기 화학식(I) 및 (II)에서,
    각각의 R 및/또는 R'은 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, 3차-부틸, NH2, N(CH3)2 및 NPh2로 이루어진 군으로부터 선택되며, 이때 상기 화학식 (I)에서 모든 R은 동시에 수소가 아니고, 상기 화학식 (II)에서 R은 수소가 아니다.
  2. 삭제
  3. 제 1항에 있어서, 스피로비플루오렌 화합물이
    Figure 112007067888626-pat00022
    (스피로-TTB);
    Figure 112007067888626-pat00023
    (스피로-iPr-TAD); 및
    Figure 112007067888626-pat00024
    (스피로-iPr2N-TAD)로 구성된 군으로부터 선택됨을 특징으로 하는 방법.
  4. 제 1항에 있어서, 스피로비플루오렌 화합물의 유리전이온도가 120℃ 내지 250℃이며, 화합물의 최상위 점유 분자 궤도 함수의 에너지값이 4.5eV 내지 5.4eV임을 특징으로 하는 방법.
  5. 도펀트로 도핑된 유기 매트릭 물질의 홀 수송층을 함유하는 유기 반도체 물질로서, 유기 매트릭스 물질의 일부 또는 전부가 제 1항에 따른 화학식(I) 및/또는 화학식(II)의 하나 이상의 스피로비플루오렌 화합물을 포함함을 특징으로 하는 유기 반도체 물질.
  6. 제 5항에 있어서, 도펀트가 2,3,5,6-테트라플루오로-7,7,8,8-테트라시아노퀴논디메탄 또는 이들의 유도체임을 특징으로 하는 유기 반도체 물질.
  7. 제 5항에 있어서, 도펀트 대 매트릭스 물질의 몰 도핑율이 1:1 내지 1:10,000임을 특징으로 하는 유기 반도체 물질.
  8. 유기 도펀트로 도핑된 유기 매트릭스 물질의 홀 수송층을 함유하는 유기 반도체 물질을 지닌 전자 부품으로서, 유기 매트릭스 물질의 일부 또는 전부가 제 1항에 따른 화학식(I) 및/또는 화학식(II)의 하나 이상의 스피로비플루오렌 화합물을 포함함을 특징으로 하는 전자 부품.
  9. 제 8항에 있어서, 유기 발광 다이오드 (OLED), 광기전력 전지, 유기 태양 전지, 유기 다이오드 또는 유기 전계효과 트랜지스터 형태의 전자 부품.
  10. 제 4항에 있어서, 화합물의 최상위 점유 분자 궤도 함수의 에너지값이 4.8eV 내지 5.2eV임을 특징으로 하는 방법.
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