KR100840482B1 - 도포 장치 및 도포 방법 - Google Patents

Abstract

도포 장치는, 스테이지, 노즐, 및 국소 분위기 생성 기구를 구비한다. 스테이지는, 기판을 그 상면에 적재한다. 노즐은 스테이지 상의 공간에 있어서, 그 선단부로부터 도포액을 토출한다. 국소 분위기 생성 기구는, 노즐이 도포액을 토출하는 공간 및 도포액이 도포된 기판의 도포 부위를 포함하는 도포 공간에 대해 국소적으로 소정 기체를 공급하고, 도포액의 도포를 소정의 분위기에서 행한다.

Description

도포 장치 및 도포 방법{APPLYING APPARATUS AND METHOD}

도 1은 본 발명의 일실시 형태에 관한 도포 장치(1)의 주요부 개략 구성을 도시하는 평면도 및 정면도이고,

도 2는 도 1의 도포 장치(1)의 제어 기능 및 공급부를 도시하는 블록도이고,

도 3은 도 1의 도포 장치(1)에 설치되는 국소 분위기 생성 기구의 개략 구성을 도시하는 평면도이고,

도 4는 도 1의 도포 장치(1)에 설치되는 국소 분위기 생성 기구의 개략 구성의 일례를 도시하는 측단면도이고,

도 5는 제3 박스(63)의 외관을 도시하는 사시도이고,

도 6은 질소 투입구의 구조를 도시하는 단면도이고,

도 7은 확산판(731)의 구조를 도시하는 사시도이고,

도 8은 포인트(C)에 있어서의 산소 농도 관리치를 설명하기 위한 그래프이고,

도 9는 국소 분위기 생성 기구에 있어서의 질소 공급의 흐름을 도시하는 블록도이고,

도 10은 도포 장치(1)가 도포 처리를 행할 때의 동작의 일례를 도시하는 플로우 챠트이고,

도 11은 본 발명의 제1의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제1 예를 도시하는 모식도이고,

도 12는 본 발명의 제1의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제2 예를 도시하는 모식도이고,

도 13은 본 발명의 제1의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제3 예를 도시하는 모식도이고,

도 14는 본 발명의 제1의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제4 예를 도시하는 모식도이고,

도 15는 본 발명의 제2의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제1 예를 도시하는 모식도이고,

도 16은 본 발명의 제2의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제2 예를 도시하는 모식도이고,

도 17은 본 발명의 제2의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제3 예를 도시하는 모식도이고,

도 18은 본 발명의 제3의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제1 예를 도시하는 모식도이고,

도 19는 본 발명의 제3의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제2 예를 도시하는 모식도이고,

도 20은 본 발명의 제3의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제3 예를 도시하는 모식도이고,

도 21은 본 발명의 제4의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제1 예를 도시하는 모식도이고,

도 22는 본 발명의 제4의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제2 예를 도시하는 모식도이고,

도 23은 본 발명의 제4의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제3 예를 도시하는 모식도이고,

도 24는 본 발명의 제4의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제4 예를 도시하는 모식도이고,

도 25는 본 발명의 제4의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제5 예를 도시하는 모식도이고,

도 26은 칸막이판(64)에 의해서 국소적인 저산소 분위기를 형성하는 도포 장치(1)의 정면도이고,

도 27은 칸막이판(64)에 의해서 설치되는 국소 분위기 생성 기구의 개략 구성을 도시하는 측단면도이고,

도 28은 본 발명의 제5의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 설치되는 국소 분위기 생성 기구의 개략 구성을 도시하는 측단면도이고,

도 29는 본 발명의 제5의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우를 도시하는 모식도이고,

도 30은 도포 장치(1)가 도포 처리를 행할 때의 동작을 도시하는 플로우 챠트이고,

도 31은 본 발명의 제6의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 설치되는 국소 분위기 생성 기구의 개략 구성을 도시하는 측단면도이고,

도 32는 도 31의 배면측 기체 공급부(75)의 개략 구조를 도시하는 사시도이고,

도 33은 도 31의 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우를 도시하는 모식도이고,

도 34는 도 31의 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 변형예를 도시하는 모식도이고,

도 35는 본 발명의 제7의 실시 형태에 관한 도 1의 도포 장치(1)의 국소 분위기 생성 기구의 개략 구성을 도시하는 평면도이고,

도 36은 본 발명의 제7의 실시 형태에 관한 국소 분위기 생성 기구의 개략 구성을 도시하는 측단면도이고,

도 37은 제3 박스(63)의 외관을 도시하는 사시도이고,

도 38은 도 36의 제3 박스(63) 내부의 개략 구성을 도시하는 측단면도이고,

도 39는 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우를 도시하는 모식도이고,

도 40은 본 발명의 제8의 실시 형태에 관한 국소 분위기 생성 기구의 개략 구성을 도시하는 측단면도이고,

도 41은 도 40의 제3 박스(63) 내부의 개략 구성을 도시하는 측단면도이고,

도 42는 본 발명의 제8의 실시 형태에 관한 도포 장치에 설치되는 국소 분위기 생성 기구의 개략 구성을 도시하는 측단면도이고,

도 43은 칸막이 부재의 외관을 도시하는 사시도이고,

도 44는 칸막이 부재의 구성을 도시하는 평면도이고,

도 45는 기판에 대한 도포 처리가 완료한 시점의 칸막이 부재와 기판의 위치 관계를 도시하는 도면이다.

본 발명은, 도포 장치 및 도포 방법에 관한 것으로, 보다 특정적으로는, 스테이지상에 적재한 기판에 노즐로부터 유기 EL 재료 등의 도포액을 토출하여 도포하는 도포 장치 및 도포 방법에 관한 것이다.

종래, 기판 등의 피처리체에 도포액을 도포하는 도포 장치가 각종 개발되어 있다. 예를 들면, 유기 EL(Electro Luminescence) 표시 장치를 제조하는 장치에서는, 스테이지 상에 적재된 유리 기판 등의 기판의 주면에 소정의 패턴 형상으로 정공(正孔) 수송 재료나 유기 EL 재료를 노즐 도포하는 도포 장치가 이용된다. 이 도포 장치에서는, 노즐로부터 도포액(유기 EL 재료나 정공 수송 재료)이 소정의 압력으로 토출된다. 구체적으로는, 도포 장치에 구비된 탱크 등의 공급원에 도포액이 저류되고, 공급원에서 공급되는 도포액을 펌프로 증압하여, 배관 내에 설치된 필터로 이물을 제거한 후, 노즐로 토출된다.

일반적으로, 유기 EL 재료는, 산화함으로써 품질이 열화하는 것이 알려져 있다. 따라서, 유기 EL 재료를 기판에 도포할 때는, 상기 유기 EL 재료의 산화를 방 지해야만 한다. 예를 들면, 일본국 특허공개 2004-164873호 공보(이하, 특허문헌 1로 기재한다)에는, 이러한 유기 EL 재료의 품질 열화를 방지하기 위해서, 산소 농도를 관리하면서 제조하는 기술이 개시되어 있다. 특허문헌 1에서 개시된 제조 장치는, 도공 장치, 건조 장치, 열경화 장치, 기판 적층 장치 등을 챔버내에 배열하고, 상기 챔버 내를 질소 분위기로 하여 제조가 행해진다.

또한, 예를 들면 일본 특허공개 2001-237178호 공보(이하, 특허문헌 2로 기재한다)에는, 유기 EL 재료나 정공 수송 재료를 도포하는 기술 분야와는 다르지만, 노즐로부터 도포액을 토출하면서, 연속하여 한번에 웨이퍼에 도포액을 도포하는 막형성 장치가 개발되어 있다. 상기 막형성 장치는, 상기 특허문헌 2의 도 38에 도시되는 것처럼, 토출 노즐(85)을 지지하는 슬라이더(91)가 가이드축(98a) 및 (98b)에 따라 왕복 이동한다. 또한, 구동 벨트(92)는, 가이드축(98a) 및 (98b)의 병설 방향과 동일한 방향으로 2개의 구동 풀리(93) 및 종동 풀리(94)(상기 특허문헌 2의 도 6 참조)의 사이에 회전 가능하게 걸쳐져 있다. 그리고, 슬라이더(91)는, 구동 벨트(92)에 접속되어 있고, 구동 벨트(92)로부터의 구동력을 받아 가이드축(98a) 및 (98b)에 따라 이동한다. 이러한 구성에 의해서, 상기 막형성 장치의 이동 수단(86)이 구성되어 있다. 한편, 상기 특허문헌 2의 도 36에 도시되는 것처럼, 이동 수단(86)은, 피막 형성체인 웨이퍼(W) 상을 가로로 걸쳐지도록 설치된다. 그리고, 토출 노즐(85)로부터 웨이퍼(W) 상에 도포액을 토출하면서 슬라이더(91)가 왕복 이동함으로써, 웨이퍼(W) 상에 막이 형성된다.

그러나, 상기 특허문헌 1에서 개시된 제조 장치에서는, 복수의 장치를 1개의 챔버 내에 설치하기 때문에, 챔버 내의 용적이 커진다. 즉, 챔버 내를 질소 분위기로 하기 위해서는, 방대한 질소를 공급해야만 한다. 또한, 상기 챔버에 질소를 공급하여 원하는 산소 농도로 유지하기 위해서는, 많은 흡기/배기 펌프나 게이트를 설치할 필요가 있어, 장치 자체가 복잡해진다. 따라서, 제조 비용이나 장치 비용이 증대하는 문제가 있다. 또한, 큰 공간을 질소 분위기로 하는 경우, 사람이 그 공간에 들어감으로써 질식, 등의 위험 요소를 낳게 되어, 안전면에서의 과제도 생긴다.

또한, 풀리간에 걸쳐진 구동 벨트의 한쪽측의 풀리를 구동시키는 경우, 풀리와 구동 벨트의 접촉에 의해서 먼지 발생의 원인이 된다. 그리고, 풀리 부근에서 발생한 미세 먼지는, 구동 벨트에 부착하여 상기 구동 벨트의 동작과 함께 토출 노즐을 지지하는 슬라이더가 왕복 이동하는 공간까지 운반되어, 그 밑에 적재되어 있는 피도포체(예를 들면, 특허문헌 2에 있어서의 웨이퍼(W)) 상에 낙하할 우려가 있다. 즉, 피도포체에 풀리와 구동 벨트와의 접촉에 의해서 발생한 미세 먼지(파티클)가 부착하게 되어, 피도포체에 대한 제조 품질을 현저히 저하시켜 버린다.

한편, 구동 벨트와 풀리가 접촉하는 근방의 공간을 덮는 커버를 설치하고, 상기 커버에 의해서 둘러싸인 폐공간에서 외부로 배기하는 기구를 구비함으로써, 발생하는 미세 먼지를 외부로 배제하는 것을 생각할 수 있다. 그러나, 이러한 배기 설비를 구비해도, 발생한 미세 먼지가 상기 폐공간으로부터 슬라이더가 왕복 이동하는 공간으로 유출되는 것을 완전히 방지하는 것은 불가능하다. 또한, 슬라이더가 왕복 이동하는 공간을 덮는 커버를 설치하고, 상기 커버에 의해서 둘러싸인 폐공간에서 외부로 배기하는 기구를 구비함으로써, 상기 공간에 유출한 미세 먼지를 외부로 배제하는 것을 생각할 수 있다. 그러나, 슬라이더가 왕복 이동하는 공간을 덮는 커버에는, 적어도 토출 노즐이 커버 외부에서 왕복 이동할 수 있는 개구부(예를 들면, 왕복 이동 방향을 장축 방향으로 한 슬릿상의 개구부)를 형성해야만 한다. 따라서, 슬라이더가 왕복 이동하는 공간으로 유출된 미세 먼지가 개구부를 통해 피도포체 상에 낙하할 가능성이 있으므로, 피도포체에 미세 먼지가 부착되는 것을 생각할 수 있다.

그러므로, 본 발명의 목적은, 도포액의 산화를 방지하면서 비용면 및 안전면을 고려한 도포 장치 및 도포 방법을 제공하는 것이다. 또한, 본 발명의 다른 목적은, 피도포체인 기판상에 이물이 낙하하는 것을 방지하는 도포 장치 및 도포 방법을 제공하는 것이다.

상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은, 이하에 기술하는 특징을 가진다.

제1의 국면은, 기판 상에 도포액을 도포하는 도포 장치이다. 도포 장치는, 스테이지, 노즐, 및 국소 분위기 생성 기구를 구비한다. 스테이지는, 기판을 그 상면에 적재한다. 노즐은, 스테이지상의 공간에 있어서, 그 선단부로 도포액을 토출한다. 국소 분위기 생성 기구는, 노즐이 도포액을 토출하는 공간 및 도포액이 도포된 기판의 도포 부위를 포함하는 도포 공간에 대해 국소적으로 소정 기체를 공급하여, 도포액의 도포를 소정의 분위기에서 행한다.

제2의 국면은, 상기 제1의 국면에 있어서, 노즐 이동 기구를, 더 구비한다. 노즐 이동 기구는, 스테이지 상의 공간에 있어서, 그 스테이지면을 횡단하는 방향으로 노즐을 왕복 이동시킨다. 국소 분위기 생성 기구는, 제1 박스 및 제1의 공급구를 구비한다. 제1 박스는, 스테이지를 포위하여 설치되고, 노즐 이동 기구가 배치되는 공간과 그 스테이지가 배치되는 공간을 칸막이한다. 제1의 공급구는, 제1 박스에 설치되고, 그 제1 박스의 내부 공간에 소정 기체를 공급한다.

제3의 국면은, 상기 제2의 국면에 있어서, 제1 박스는, 스테이지가 기판을 적재해 이동하는 공간을 포위하여 설치된다.

제4의 국면은, 상기 제2의 국면에 있어서, 제1 박스의 상면은, 스테이지와 노즐 이동 기구와의 사이에 배치된다. 제1 박스의 상면에는, 노즐 이동 기구측으로부터 그 제1 박스내로 노즐의 적어도 일부가 돌출하여 왕복 이동하는 개구부가 형성된다.

제5의 국면은, 상기 제2의 국면에 있어서, 국소 분위기 생성 기구는, 배기구를 더 구비한다. 배기구는, 제1 박스에 설치되고, 그 제1 박스의 내부 공간내의 기체를 외부로 배출한다.

제6의 국면은, 상기 제5의 국면에 있어서, 제1의 공급구는, 제1 박스가 갖는 한쪽 측면에 설치된다. 배기구는, 제1 박스에 있어서 제1의 공급구가 설치된 한쪽 측면과 서로 마주대하는 다른쪽 측면에 설치된다.

제7의 국면은, 상기 제5의 국면에 있어서, 제1의 공급구 및 배기구는, 제1 박스에 대해 각각 복수 설치된다.

제8의 국면은, 상기 제5의 국면에 있어서, 배기구는, 제1 박스의 저부 근방에 설치된다.

제9의 국면은, 상기 제2의 국면에 있어서, 국소 분위기 생성 기구는, 제2 박스를 더 구비한다. 제2 박스는, 노즐 이동 기구를 포함한 제1 박스의 상부 공간을 포위하여 설치된다.

제10의 국면은, 상기 제9의 국면에 있어서, 국소 분위기 생성 기구는, 배기구를 더 구비한다. 배기구는, 제2 박스에 설치되고, 그 제2 박스의 내부공간 내의 기체를 외부로 배출한다.

제11의 국면은, 상기 제9의 국면에 있어서, 제2 박스에는, 노즐 이동 기구측에서 제1 박스내로 노즐의 적어도 일부가 돌출하여 왕복 이동하는 개구부가 형성된다.

제12의 국면은, 상기 제9의 국면에 있어서, 국소 분위기 생성 기구는, 제3 박스를 더 구비한다. 제3 박스는, 제2 박스 내에 배치되고, 노즐 이동 기구를 포위하여 설치된다.

제13의 국면은, 상기 제12의 국면에 있어서, 제3 박스에는, 노즐 이동 기구측에서 제1 박스내로 노즐의 적어도 일부가 돌출하여 왕복 이동하는 개구부와, 그 제3 박스내의 공간과 그 제3 박스의 외측의 제2 박스내의 공간을 연통하는 개구부가 형성된다.

제14의 국면은, 상기 제12의 국면에 있어서, 국소 분위기 생성 기구는, 별도의 공급구를 더 구비한다. 별도의 공급구는, 제3 박스에 설치되고, 그 제3 박스의 내부 공간에 소정 기체를 공급한다.

제15의 국면은, 상기 제12의 국면에 있어서, 국소 분위기 생성 기구는, 배기구를 더 구비한다. 배기구는, 제3 박스에 설치되고, 그 제3 박스의 내부 공간내의 기체를 외부로 배출한다.

제16의 국면은, 상기 제2의 국면에 있어서, 제1 박스는, 그 상면에 노즐 이동 기구측으로부터 노즐의 적어도 일부가 돌출하여 왕복 이동하는 개구부가 형성된다. 국소 분위기 생성 기구는, 제2 박스, 제1의 배기구, 및 제2의 배기구를, 더 구비한다. 제2 박스는, 노즐 이동 기구를 포위하여 제1 박스의 상부에 설치된다. 제1의 배기구는, 제1 박스에 설치되고, 그 제1 박스의 내부 공간내의 기체를 외부로 배출한다. 제2의 배기구는, 제2 박스에 설치되고, 그 제2 박스의 내부 공간 내의 기체를 외부로 배출한다. 제1 박스내의 소정 공간이 소정 산소 농도에 도달할 때까지, 제1의 공급구로부터 공급된 기체를 제1 및 제2의 배기구로 배출한다. 소정 공간이 소정 산소 농도에 도달하였을 때, 제1의 공급구로부터 공급된 기체를 제2의 배기구로 배출한다.

제17의 국면은, 상기 제16의 국면에 있어서, 국소 분위기 생성 기구는, 산소 농도 검출 수단 및 제1의 밸브를, 더 구비한다. 산소 농도 검출 수단은, 제1 박스내의 소정 공간에서의 산소 농도를 검출한다. 제1의 밸브는, 제1의 배기구에 설치된다. 도포 장치는, 제어 수단을, 더 구비한다. 제어 수단은, 산소 농도 검출 수단이 검출한 산소 농도가 소정 산소 농도에 미달일 때에 제1의 밸브 마개를 열고, 산소 농도 검출 수단이 검출한 산소 농도가 소정 산소 농도에 도달했을 때에 제1의 밸브 마개를 닫는다.

제18의 국면은, 상기 제16의 국면에 있어서, 제어 수단을, 더 구비한다. 제어 수단은, 소정 공간이 소정 산소 농도에 도달하였을 때, 노즐 이동 기구에 의한 노즐의 왕복 이동을 개시시켜 기판에 대한 도포 처리를 행한다.

제19의 국면은, 상기 제16의 국면에 있어서, 소정 공간은, 제1 박스내에 있어서의 스테이지상의 공간이다.

제20의 국면은, 상기 제19의 국면에 있어서, 상대 이동 기구를, 더 구비한다. 상대 이동 기구는, 노즐 및 스테이지의 적어도 한쪽을 그 스테이지의 적재면에 평행한 방향으로 상대적으로 이동시킨다. 소정 공간은, 제1 박스 내에서, 노즐이 도포액을 토출하는 공간 및 상대 이동 기구에 의한 스테이지의 상대 이동에 따라 도포액이 도포된 기판의 도포 부위가 상대 이동하는 그 스테이지 상의 공간이다.

제21의 국면은, 상기 제20의 국면에 있어서, 국소 분위기 생성 기구는, 제2의 공급구를, 더 구비한다. 제2의 공급구는, 제1 박스내에 고정 형성되고, 소정 공간에 소정의 기체를 공급하여 그 소정 공간을 통과해 개구부를 향하는 방향으로 그 기체의 흐름을 형성한다.

제22의 국면은, 상기 제20의 국면에 있어서, 제1 박스는, 스테이지가 기판을 적재해 상대 이동하는 공간을 포위하여 설치된다. 국소 분위기 생성 기구는, 제3의 배기구를, 더 구비한다. 제3의 배기구는, 제1 박스의 저부에서, 또한, 스테이지가 상대 이동의 후방 위치에 설치되고, 그 제1 박스의 내부 공간내의 기체를 외 부로 배출한다.

제23의 국면은, 상기 제16의 국면에 있어서, 제1의 공급구 및 제1의 배기구는, 제1 박스에 대해 각각 복수 설치된다.

제24의 국면은, 상기 제1의 국면에 있어서, 도포 장치는, 노즐 이동 기구, 박스, 및 기체막 생성 수단을, 더 구비한다. 노즐 이동 기구는, 스테이지상의 공간에 있어서, 그 스테이지면을 횡단하는 방향으로 노즐을 왕복 이동시킨다. 박스는, 노즐 이동 기구를 포위하여 설치되고, 그 노즐 이동 기구측으로부터 스테이지측 노즐의 적어도 일부가 돌출하여 왕복 이동하는 개구부가 형성된다. 기체막 생성 수단은, 소정의 기체를 분사하는 분사구를 가지고, 박스의 개구부를 막는 띠형상의 기체막을 생성한다.

제25의 국면은, 상기 제24의 국면에 있어서, 기체막 생성 수단은 박스의 내부에 설치된다.

제26의 국면은, 상기 제24의 국면에 있어서, 기체막 생성 수단은, 박스의 외부에 설치된다.

제27의 국면은, 상기 제24의 국면에 있어서, 개구부는, 박스를 구성하는 벽면 중, 상하 방향으로 세워져 설치된 벽면의 1개에 형성된다. 기체막 생성 수단은, 개구부의 상부에 병설되고, 그 기류가 개구부의 상부로부터 하부 방향으로 흐르는 띠형상의 기체막을 생성한다.

제28의 국면은, 상기 제24의 국면에 있어서, 개구부는, 박스를 구성하는 저면에 형성된다. 기체막 생성 수단은, 개구부의 횡부에 병설되고, 그 기류가 개구 부를 막는 수평 방향으로 흐르는 띠형상의 기체막을 생성한다.

제29의 국면은, 상기 제24의 국면에 있어서, 배기구를 더 구비한다. 배기구는, 박스에 설치되고, 그 박스의 내부 공간내의 기체를 외부로 배출한다.

제30의 국면은, 상기 제24의 국면에 있어서, 국소 분위기 생성 기구는, 스테이지측 박스, 공급구 및 배기구를 구비한다. 스테이지측 박스는, 박스의 하부에 스테이지를 포위하여 설치되고, 그 상면에 노즐 이동 기구측에서 노즐의 적어도 일부가 돌출하여 왕복 이동하는 개구부가 형성된다. 공급구는, 스테이지측 박스에 설치되고, 그 스테이지측 박스의 내부 공간에 불활성 가스를 공급한다. 배기구는, 박스에 형성되고, 그 박스의 내부 공간내의 기체를 외부로 배출한다. 기체막 생성 수단은, 분사구로부터 불활성 가스를 분사하여, 박스의 개구부를 막는 띠형상의 기체막을 생성한다.

제31의 국면은, 상기 제1의 국면에 있어서, 도포 장치는, 도포 기구를, 더 구비한다. 도포 기구는, 하방을 향해 도포액을 토출하는 노즐을 갖는다. 국소 분위기 생성 기구는, 박스, 칸막이 부재, 및 제1 가스 공급 수단을 구비한다. 박스는, 내부에 공간을 가지고, 기판을 적재하는 스테이지를 그 공간에 배치한다. 칸막이 부재는, 박스내에 배치되고, 내부에 공간이 형성되는 형상이고 또한 한쪽에 개구부를 가진다. 제1 가스 공급 수단은, 칸막이 부재의 내부 공간에 대해 불활성 가스를 공급한다. 도포 장치는, 스테이지 이동 기구를, 더 구비한다. 스테이지 이동 기구는, 기판이 노즐 밑을 통과하는 동시에 개구부로부터 칸막이 부재의 내부에 진입하도록, 노즐 및 칸막이 부재에 대해 상대적으로 스테이지를 이동 가능하 다.

제32의 국면은, 상기 제31의 국면에 있어서, 도포 기구는, 스테이지에 적재된 기판과 대략 평행한 방향에서 또한 스테이지의 이동 방향과 대략 수직인 방향으로 노즐을 이동 가능한 노즐 이동 기구를 갖고 있다. 이 때, 칸막이 부재의 상면에는, 노즐이 통과하는 위치에 상기 노즐의 이동 방향을 따라서 구멍이 형성된다. 스테이지는, 개구부를 통과하고 나서 노즐의 밑을 통과하도록 이동한다.

제33의 국면은, 상기 제31의 국면에 있어서, 칸막이 부재의 하면에는, 스테이지 이동 기구부가 통과하는 부분에 구멍이 형성된다.

제34의 국면은, 상기 제31의 국면에 있어서, 칸막이 부재는, 기판의 폭보다도 큰 폭을 갖는 차폐판을 그 상면 및 하면으로 한다.

제35의 국면은, 상기 제31의 국면에 있어서, 국소 분위기 생성 기구는, 박스의 내벽으로부터 상기 박스의 내부 공간에 대해 불활성 가스를 공급하는 제2 가스 공급 수단을, 더 구비한다.

제36의 국면은, 스테이지 상에 배치된 노즐로부터 토출된 도포액을 그 스테이지 상면에 적재된 기판에 도포하는 도포 방법이다. 도포 방법은, 국소 분위기 생성 공정을 포함한다. 국소 분위기 생성 공정은, 노즐이 도포액을 토출하는 공간 및 도포액이 도포된 기판의 도포 부위를 포함하는 도포 공간에 대해 국소적으로 소정 기체를 공급하여, 도포액의 도포를 소정의 분위기에서 행한다.

제37의 국면은, 상기 제36의 국면에 있어서, 국소 분위기 생성 공정은, 도포 공간에 대해, 그 도포 공간의 한쪽측에서 소정 기체를 공급하고, 그 도포 공간의 다른쪽측에서 그 도포 공간내의 기체를 배출한다.

제38의 국면은, 상기 제37의 국면에 있어서, 국소 분위기 생성 공정은, 도포 공간의 한쪽측의 복수 개소로부터 소정 기체를 공급하고, 그 도포 공간의 다른쪽측의 복수 개소로 그 도포 공간내의 기체를 배출한다.

제39의 국면은, 상기 제36의 국면에 있어서, 노즐은, 노즐 이동 기구에 지지되어 그 스테이지면을 횡단하는 방향으로 스테이지 상의 공간에서 왕복 이동한다. 국소 분위기 생성 공정은, 도포 공간에 대해, 그 도포 공간의 한쪽측으로부터 소정 기체를 공급하고, 노즐 및 노즐 이동 기구가 배치된 공간을 통과해 스테이지 상부로부터 그 도포 공간내의 기체를 배출한다.

제40의 국면은, 상기 제39의 국면에 있어서, 국소 분위기 생성 공정은, 도포 공간에 대해, 그 도포 공간의 한쪽측으로부터 소정 기체를 공급하고, 그 도포 공간의 다른쪽측과 노즐 및 노즐 이동 기구가 배치된 공간을 통과해 스테이지 상부로부터 각각 그 도포 공간내의 기체를 배출한다.

제41의 국면은, 상기 제39의 국면에 있어서, 국소 분위기 생성 공정은, 도포 공간에 대해, 그 도포 공간의 한쪽측 및 다른쪽측으로부터 각각 소정 기체를 공급하고, 노즐 및 노즐 이동 기구가 배치된 공간을 통과해 스테이지 상부로 그 도포 공간 내의 기체를 배출한다.

제42의 국면은, 상기 제36의 국면에 있어서, 노즐은, 노즐 이동 기구에 지지되어 그 스테이지면을 횡단하는 방향으로 스테이지상의 공간에서 왕복 이동한다. 국소 분위기 생성 공정은, 도포 공간에 추가하여, 노즐 이동 기구가 배치된 공간에 소정 기체를 공급한다.

제43의 국면은, 상기 제36의 국면에 있어서, 노즐은, 스테이지면을 횡단하는 방향으로 그 스테이지 상의 공간을 노즐 이동 기구에 지지되어 왕복 이동한다. 국소 분위기 생성 공정은, 소정 공간이 소정 산소 농도에 도달할 때까지, 그 소정 공간의 한쪽측으로부터 소정 기체를 공급하고, 그 소정 공간의 다른쪽 측과 노즐 및 노즐 이동 기구가 배치된 공간을 통과해 스테이지 상부로 각각 기체를 배출한다. 국소 분위기 생성 공정은, 소정 공간이 소정 산소 농도에 도달하였을 때, 그 소정 공간의 한쪽측으로부터 소정 기체를 공급하고, 노즐 및 노즐 이동 기구가 배치된 공간을 통과해 스테이지 상부로 기체를 배출하는 상태에서 기판에 도포액을 도포한다.

제44의 국면은, 상기 제43의 국면에 있어서, 소정 공간은, 챔버내의 공간에 포함되어 있다. 챔버는, 노즐이 챔버의 외부로부터 소정 공간으로 돌출하기 위한 개구부가 형성되어 있다. 국소 분위기 생성 공정은, 소정 공간이 소정 산소 농도에 도달할 때까지, 챔버의 한쪽측으로부터 소정 기체를 공급하고, 그 챔버의 다른쪽측과 개구부로 각각의 챔버 내의 기체를 배출한다. 국소 분위기 생성 공정은, 소정 공간이 소정 산소 농도에 도달하였을 때, 챔버의 한쪽측으로부터 소정 기체를 공급하고, 개구부로 그 챔버 내의 기체를 배출하는 상태에서 기판에 도포액을 도포한다.

본 발명의 이들 및 다른 목적, 특징, 국면, 효과는, 첨부 도면과 대조하여, 이하의 상세한 설명으로부터 한층 더 분명하게 될 것이다.

<바람직한 실시 형태>

본 발명의 구체적인 각 실시 형태를 설명하기 전에, 도면을 참조하여, 본 발명에 관한 도포 장치의 개요에 대해서 설명한다. 설명을 구체적으로 하기 위해서, 상기 도포 장치가 유기 EL 재료나 정공 수송 재료 등을 도포액으로서 이용하는 유기 EL 표시 장치를 제조하는 도포 장치에 적용된 예를 이용해, 이하의 설명을 행한다. 상기 도포 장치는, 유기 EL 재료나 정공 수송 재료 등을 스테이지 상에 적재된 유리 기판 상에 소정의 패턴 형상으로 도포하여 유기 EL 표시 장치를 제조하는 것이다. 도 1은, 도포 장치(1)의 주요부 개략 구성을 도시하는 평면도 및 정면도이다. 또한, 도포 장치(1)는, 상술한 바와 같이 유기 EL 재료나 정공 수송 재료 등의 복수의 도포액을 이용하는데, 이들의 대표로서 유기 EL 재료를 도포액으로서 설명을 한다.

도 1에 있어서, 도포 장치(1)는, 대략적으로, 기판 적재 장치(2) 및 유기 EL 도포 기구(5)를 구비한다. 유기 EL 도포 기구(5)는, 노즐 이동 기구부(51), 노즐 유닛(50) 및 액 수용부(53L) 및 (53R)를 가진다. 노즐 이동 기구부(51)는, 가이드 부재(511)가 도시하는 X축 방향으로 연장되어 있고, 노즐 유닛(50)을 가이드 부재(511)에 따라 도시하는 X축 방향으로 이동시킨다. 노즐 유닛(50)은 적색, 녹색, 및 청색중 어느 1색의 유기 EL 재료를 토출하는 노즐(52a∼52c)을 병설한 상태로 지지한다. 각 노즐(52a∼52c)로는, 각각 공급부(도 2 참조)로부터 적색, 녹색, 및 청색중 어느 1색의 유기 EL 재료가 공급된다. 이와 같이, 전형적으로는 3개의 노즐(52a∼52c)로부터 동일한 색의 유기 EL 재료가 토출되는데, 설명을 구체적으로 하기 위해서 적색의 유기 EL 재료가 3개의 노즐(52a∼52c)로부터 토출되는 예를 이용한다. 또한, 도포 장치(1)는, 그 주위나 내부가 제1∼제3 박스(61∼63) 등으로 칸막이되어 있는데, 상세한 것은 후술한다.

기판 적재 장치(2)는, 스테이지(21), 선회부(22), 평행 이동 테이블(23), 가이드 수용부(24) 및 가이드 부재(25)를 가지고 있다. 스테이지(21)는, 피도포체가 되는 유리 기판 등의 기판(P)을 그 스테이지 상면에 적재한다. 스테이지(21)의 하부는, 선회부(22)에 의해서 지지되어 있고, 선회부(22)의 회전 동작에 의해서 도시하는 (θ) 방향으로 스테이지(21)가 회전 가능하게 구성되어 있다. 또한, 스테이지(21)의 내부에는, 유기 EL 재료가 도포된 기판(P)을 스테이지면상에서 예비 가열처리하기 위한 가열 기구나 기판(P)의 흡착 기구나 수수(授受) 핀 기구가 설치된다.

유기 EL 도포 기구(5)의 하방을 통과하도록, 가이드 부재(25)가 상기 X축 방향과 수직의 도시하는 Y축 방향으로 연장되어 고정된다. 평행 이동 테이블(23)의 하면에는 가이드 부재(25)와 접하여 가이드 부재(25) 상을 슬라이드 이동하는 가이드 수용부(24)가 고정 설치되어 있다. 또한, 평행 이동 테이블(23)의 상면에는, 선회부(22)가 고정 설치된다. 이에 따라, 평행 이동 테이블(23)이, 예를 들면 리니어 모터(도시하지 않음)로부터의 구동력을 받아 가이드 부재(25)에 따른 도시하는 Y축 방향으로 이동 가능하게 되어, 선회부(22)에 지지된 스테이지(21)의 이동도 가능하게 된다.

수수핀 기구를 통해 스테이지(21) 상에 기판(P)을 적재하여 흡착하고, 평행 이동 테이블(23)이 유기 EL 도포 기구(5)의 하방까지 이동했을 때, 상기 기판(P)이 적색의 유기 EL 재료의 도포를 노즐(52a∼52c)로부터 받는 위치가 된다. 그리고, 제어부(도 2 참조)가 노즐 유닛(50)을 X축 방향으로 왕복 이동시키도록 노즐 이동 기구부(51)를 제어하고, 스테이지(21)를 Y축 방향으로 상기 직선 이동마다 소정 피치만큼 이동시키도록 평행 이동 테이블(23)을 제어하고, 노즐(52a∼52c)로부터 소정 유량의 유기 EL 재료를 토출한다. 또한, 노즐(52a∼52c)의 X축 방향 토출 위치에 있어서, 스테이지(21)에 적재된 기판(P)로부터 일탈하는 양 사이드 공간에는, 기판(P)에서 벗어나 토출된 유기 EL 재료를 받는 액 수용부(53L) 및 (53R)가 각각 고정 설치되어 있다. 노즐 이동 기구부(51)는, 기판(P)의 한쪽 사이드 외측에 설치되어 있는 액 수용부(53)의 상부 공간으로부터, 기판(P)을 횡단하여 기판(P)의 다른쪽 사이드 외측에 설치되어 있는 액 수용부(53)의 상부 공간까지, 노즐 유닛(50)을 왕복 이동시킨다. 또한, 평행 이동 테이블(23)은 노즐 유닛(50)이 액 수용부(53)의 상부 공간에 배치되어 있을 때, 노즐 왕복 이동 방향과는 수직인 소정 방향(도시하는 Y축 방향)으로 소정 피치만큼 스테이지(21)를 이동시킨다. 이러한 노즐 이동 기구부(51) 및 평행 이동 테이블(23)의 동작과 동시에 노즐(52a∼52c)로부터 유기 EL 재료를 액기둥 상태로 토출함으로써, 적색의 유기 EL 재료가 기판(P)에 형성된 스트라이프상의 홈마다 배열된, 소위, 스트라이프 배열이 기판(P) 상에 형성된다.

다음에, 도 2를 참조하여, 도포 장치(1)에 있어서의 제어 기능 및 공급부의 개략 구성에 대해서 설명한다. 또한, 도 2는, 도포 장치(1)의 제어 기능 및 공급 부를 도시하는 블록도이다.

도 2에 있어서, 도포 장치(1)는, 상술한 구성부 외에, 제어부(3), 제1 공급부(54a), 제2 공급부(54b) 및 제3 공급부(54c)를 구비한다. 제1∼제3 공급부(54a∼54c)는, 모두 적색의 유기 EL 재료를 각각 노즐(52a∼52c)에 배관을 통해 공급한다. 또한, 공급원(541a∼541c)으로부터 노즐(52a∼52c)에 이르는 각각의 배관은, PE(폴리에틸렌), PP(폴리프로필렌), 테프론(등록 상표) 등을 재료로 하는 관부재가 이용된다.

제1 공급부(54a)는, 유기 EL 재료의 공급원(541a)과, 공급원(541a)으로부터 유기 EL 재료를 추출하기 위한 펌프(542a)와, 유기 EL 재료의 유량을 검출하는 유량계(543a)를 구비한다. 또한, 제2 공급부(54b)는, 유기 EL 재료의 공급원(541b)과, 공급원(541b)으로부터 유기 EL 재료를 추출하기 위한 펌프(542b)와, 유기 EL 재료의 유량을 검출하는 유량계(543b)를 구비하고 있다. 제3 공급부(54c)는, 유기 EL 재료의 공급원(541c)과, 공급원(541c)으로부터 유기 EL 재료를 추출하기 위한 펌프(542c)와, 유기 EL 재료의 유량을 검출하는 유량계(543c)를 구비하고 있다. 그리고, 제어부(3)는, 제1∼제3 공급부(54a∼54c), 선회부(22), 평행 이동 테이블(23) 및 노즐 이동 기구부(51)의 각각의 동작을 제어한다.

노즐(52a)은 공급부(54a)로부터 공급된 유기 EL 재료 중의 이물을 제거하기 위한 필터부(521a)를 가지고 있다. 노즐(52b)은 공급부(54b)로부터 공급된 유기 EL 재료 중의 이물을 제거하기 위한 필터부(521b)를 가지고 있다. 노즐(52c)은, 공급부(54c)로부터 공급된 유기 EL 재료 중의 이물을 제거하기 위한 필터부(521c) 를 갖고 있다. 또한, 노즐(52a∼52c)은 각각 동일한 구조이므로, 총칭하여 설명하는 경우는 참조 부호「52」를 붙여 설명을 행한다.

여기서, 적색의 유기 EL 재료의 도포를 받는 기판(P)의 표면에는, 유기 EL 재료를 도포해야 할 소정의 패턴 형상에 따른 스트라이프상의 홈이 복수 개 병설되도록 형성되어 있다. 유기 EL 재료로는, 예를 들면, 기판(P) 상의 홈 내에 퍼지도록 유동하는 정도의 점성을 갖는 유기성의 EL 재료가 이용되고, 구체적으로는 각 색 마다의 고분자 타입의 유기 EL 재료가 이용된다. 노즐 유닛(50)은 소정의 지지축 주위에 회전 자유롭게 지지되어 있고, 제어부(3)의 제어에 의해서 상기 지지축 주위에 회전시킴으로써, 도포 피치 간격을 조정할 수 있다.

제어부(3)는, 스테이지(21)에 적재된 기판(P)의 위치나 방향에 따라서, 기판(P)에 형성된 홈의 방향이 상기 X축 방향이 되도록 선회부(22)의 각도를 조정하고, 도포의 스타트 포인트, 즉, 기판(P)에 형성된 홈의 한쪽 단부측에서 도포를 개시하는 도포 개시 위치를 산출한다. 또한, 상기 도포 개시 위치는, 한쪽의 액 수용부(53)의 상부 공간이 된다. 그리고, 제어부(3)는, 상술한 바와 같이 평행 이동 테이블(23) 및 노즐 이동 기구부(51)를 구동시킨다.

상기 도포 개시 위치에 있어서, 제어부(3)는, 각 노즐(52a∼52c)로부터 유기 EL 재료의 토출 개시를 각 펌프(542a∼542c)에 지시한다. 이 때, 제어부(3)는, 스트라이프상의 홈의 각 포인트에 있어서의 유기 EL 재료의 도포량이 균일해지고, 액 기둥 상태로 유기 EL 재료가 토출되도록, 노즐(52a∼52c)의 이동 속도에 따라 그 도포량을 제어하고, 유량계(543a∼543c)로부터의 유량 정보를 피드백하여 제어한 다. 그리고, 제어부(3)는, 기판(P) 상의 홈 내로 유기 EL 재료를 흘려 넣기 위해, 유기 EL 재료를 기판(P) 상의 홈에 따라 이 홈 내에 흘려넣도록 노즐 유닛(50)을 가이드 부재(511)에 따라 이동시키도록 제어한다. 이 동작에 의해서, 액 기둥 상태로 각 노즐(52a∼52c)로부터 토출되는 적색의 유기 EL 재료가 동시에 각각의 홈에 흘러 들어간다.

제어부(3)는, 기판(P) 상을 노즐 유닛(50)이 횡단하여 홈의 다른쪽 단부의 외측에 고정 설치되어 있는 다른쪽의 액 수용부(53) 상에 위치하면, 노즐(52a∼52c)로부터의 유기 EL 재료의 토출을 계속한 채로, 노즐 이동 기구부(51)에 의한 노즐 유닛(50)의 이동을 정지한다. 이 1회의 이동에 의해서, 3열분의 홈으로의 유기 EL 재료의 도포가 완료된다. 구체적으로는, 동일한 색의 유기 EL 재료를 각 노즐(52a∼52c)로부터 토출하므로, 3열마다 1열의 홈을 도포 대상으로 한 합계 3열분의 홈에 유기 EL 재료가 도포된다.

다음에, 제어부(3)는, 평행 이동 테이블(23)을 Y축 정방향으로 소정 거리(예를 들면, 홈 9열분)만큼 피치 이송하고, 다음에 도포 대상이 되는 홈으로의 유기 EL 재료의 도포를 행할 수 있도록 한다. 그리고, 제어부(3)는, 다른쪽의 액 수용부(53)의 상부 공간으로부터 노즐 유닛(50)을 역 방향으로 기판(P) 상을 횡단시켜 한쪽의 액 수용부(53) 상에 위치하면, 노즐(52a∼52c)로부터의 유기 EL 재료의 토출을 계속한 채로, 노즐 이동 기구부(51)에 의한 노즐 유닛(50)의 이동을 정지한다. 이 2회째의 이동에 의해서, 다음 3열분의 홈으로의 유기 EL 재료의 도포가 완료된다. 이러한 동작을 반복함으로써, 적색의 유기 EL 재료가 적색을 도포 대상으 로 한 홈에 흘러 들어간다.

이하, 도 3∼도 10을 참조하여, 도포 장치(1)에 설치되는 국소 분위기 생성 기구에 대해서 설명한다. 또한, 도 3은 도포 장치(1)에 설치되는 국소 분위기 생성 기구의 개략 구성을 도시하는 평면도이다. 도 4는, 도포 장치(1)에 설치되는 국소 분위기 생성 기구의 개략 구성을 도시하는 측단면도이다. 도 5는, 제3 박스(63)의 외관을 도시하는 사시도이다. 도 6은 질소 투입구의 구조를 도시하는 단면도이다. 도 7은 확산판(731)의 구조를 도시하는 사시도이다. 도 8은 포인트(C)에 있어서의 산소 농도 관리치를 설명하기 위한 그래프이다. 도 9는, 국소 분위기 생성 기구에 있어서의 질소 공급의 흐름을 도시하는 블록도이다. 도 10은 도포 장치(1)가 도포 처리를 행할 때의 동작의 일례를 도시하는 플로우 챠트이다.

도 3∼도 5에 있어서, 도포 장치(1)는, 제1 박스(61), 제2 박스(62), 및 제3 박스(63)에 의해서, 각각 외부로부터 차폐되어 설치된다. 제1 박스(61)는, 기판 적재 장치(2)가 도시하는 Y축 방향으로 왕복 이동하는 공간(이하, 챔버 공간으로 기재한다)을 포위하여 외부로부터 차폐하도록 설치된다. 또한, 제1 박스(61)는, 노즐(52)이 챔버 공간으로 돌출하여 왕복 이동하기 위한 개구부(S1)를 제외하고, 챔버 공간과 유기 EL 도포 기구(5)가 설치되는 공간과의 사이를 칸막이하도록 설치된다. 제3 박스(63)는, 유기 EL 도포 기구(5)가 설치되는 공간을 포함하고, 노즐 유닛(50) 등이 도시하는 X축 방향으로 왕복 이동하는 공간(이하, 슬라이더 공간으로 기재한다)을 포위하여 설치된다. 또한, 제3 박스(63)도, 노즐(52)이 슬라이더 공간으로부터 챔버 공간으로 돌출하여 왕복 이동하기 위한 개구부(S1)가 형성되어 있다(도 5 참조). 또한, 제3 박스(63)의 상면에는, 제1∼제3 공급부(54a∼54c)로부터 유기 EL 재료를 각각 노즐(52a∼52c)에 공급하기 위한 배관(도시하지 않음)을 통과시키기 위한 개구부(S2)가 형성된다. 또한, 노즐 유닛(50)에 정압(靜壓) 베어링이 설치되는 경우, 상기 정압 베어링에 기체를 공급하기 위한 배관도 개구부(S2)를 통해서 접속된다. 제2 박스(62)는, 제1 박스(61)의 상부 공간을 포위하여 설치된다. 제2 박스(62)의 내부에는, 유기 EL 도포 기구(5) 및 제3 박스(63)가 설치되고, 제2 박스(62)에도 노즐(52)이 슬라이더 공간으로부터 챔버 공간으로 돌출하여 왕복 이동하기 위한 개구부(S1)가 형성되어 있다. 또한, 제2 박스(62)로 포위된 공간 내, 슬라이더 공간을 제외한 공간을 박스 공간으로 기재한다. 이와 같이, 도포 장치(1)는, 제1∼제3 박스(61∼63)에 의해서, 챔버 공간, 슬라이더 공간, 및 박스 공간으로 각각 칸막이되어 설치된다. 또한, 제1∼제3 박스(61∼63)는, 모두 상면이 형성되어 있는데, 도 3에 있어서는 내부와의 관계를 알기 쉽게 하기 위해서 상면이나 하면을 생략하고, 사선 또는 교선 영역으로 측벽만을 도시한다.

제1∼제3 박스(61∼63)에는, 그 내부 공간에 질소 등의 불활성 가스(이하, 간단히 질소로 기재한다)를 공급하기 위한 공급관(71)과, 그 내부 공간의 기체를 배출하기 위한 배기관(72)이 접속된다. 도 3 및 도 4의 예에서는, 공급관(71)이 제1 박스(61)의 Y축 부방향측의 벽면(이하, Y축 부방향측의 벽면을 전면으로 한다)에 접속되어 있다. 또한, 도 4의 예에서는, 복수의 공급관(71a∼71c)이 제1 박스(61)의 벽면에 접속되어 있다. 또한, 배기관(72)이 제2 박스(62)의 Y축 정방향측의 벽면(이하, Y축 정방향측의 벽면을 배면으로 기재한다)에 접속되어 있다. 이와 같이 공급관(71) 및 배기관(72)을 접속한 경우, 공급관(71)으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간으로 공급되고, 개구부(S1)를 통해 슬라이더 공간으로 유입되고, 개구부(S2)를 통과해 박스 공간으로 유입한 후, 배기관(72)으로부터 유출하는 흐름이 된다.

또한, 제1 박스(61)에는, 기판(P)의 반입 및 반출을 하기 위한 투입구(611)가 형성된다. 투입구(611)는, 회전축을 중심으로 회전(도시 화살표 방향)하는 게이트에 의해 개폐 가능하게 되어 있다. 기판(P)은, 투입구(611)가 개방된 상태에서, 반송 로봇(도시하지 않음)에 의해 챔버 공간내에 반입되어, 스테이지(21) 상에 적재된다. 또한, 도포 장치(1)에 의해서 도포 처리가 행해질 때는, 상기 게이트를 폐쇄하여 챔버 공간내가 외부로부터 차폐된다.

제1 박스(61)와 공급관(71a) 및 (71b)을 접속하는 부근에는, 확산부(73)가 설치된다. 구체적으로, 확산부(73)는, 공급관(71a) 및 (71b)으로부터 제1 박스(61)의 내부 공간에 유입하는 입구 부근의 상기 내부 공간측에 설치된다. 도 6 및 도 7에 도시하는 바와 같이, 확산부(73)는, 확산판(731) 및 펀칭 메탈(732)을 포함하고 있다. 확산판(731)은, 공급관(71a) 및 (71b)으로부터 상기 내부 공간으로 유입하는 질소를 방해하는 위치에 고정 설치된 판상 부재이고, 그 주위에 소정의 간극이 형성되어 있다. 공급관(71a) 및 (71b)로부터 상기 내부 공간에 유입하는 질소는, 확산판(731)에 의해서 방해되어 직접적으로 상기 내부 공간에 유입하지 않고, 확산판(731)의 주위로 흐르는 방향을 바꿔 유동한다. 펀칭 메탈(732)은, 다수의 구멍이 블랭킹 가공된 판상 부재이고, 확산판(731)에 대해 상기 내부 공간측에 고정 설치된다. 또한, 펀칭 메탈(732)은 확산판(731)의 주위에서 유동하는 질소의 유동로 상에 배치된다. 즉, 공급관(71a) 및 (71b)으로부터 공급된 질소는, 반드시 펀칭 메탈(732)에 형성된 구멍을 통과해 상기 내부 공간내로 유입되게 된다. 따라서, 확산부(73)에서는, 공급관(71a) 및 (71b)으로부터 공급된 질소를 확산하여 제1∼제3 박스(61∼63) 내에 공급할 수 있다.

또한, 투입구(611) 부근에 공급관(71c)이 접속되어 있다. 일반적으로, 투입구(611) 부근은, 기판(P)의 반입/반출 시의 개폐에 의해서 외부 기체가 침입하기 쉬워 산소 농도가 높아지기 쉬운데, 그러한 개소에 질소를 공급함으로써, 침입한 산소를 확산할 수 있다. 또한, 공급관(71c)으로부터 내부 공간에 유입하는 입구 부근은, 그 유로가 구부러져 있어, 상기 입구 부근에 확산부는 설치되지 않는다.

배기관(72)과 제1∼제3 박스(61∼63)의 접속부에는, 펀칭 메탈(733)이 설치된다. 이 펀칭 메탈(733)은 배기관(72)의 내부 공간측에 고정 설치되고, 배기관(72)을 향해 유동하는 기체의 유동로 상에 배치된다. 즉, 배기관(72)으로 배출되는 기체는, 반드시 펀칭 메탈(733)에 형성된 구멍을 통과해 배출되게 된다. 이와 같이, 배출구 부근에 펀칭 메탈(733)을 배치함으로써, 기체가 배출되는 개소가 집중하는 것을 방지할 수 있어, 내부 공간 전체의 기체를 균형있게 배출할 수 있다.

공급관(71)으로부터 제1∼제3 박스(61∼63) 내에 질소를 공급하면서 제1∼제3 박스(61∼63) 내의 기체를 배기관(72)으로 배출함으로써, 제1∼제3 박스(61∼63) 내부가 질소 분위기로 되고, 내부의 산소 농도가 저하한다. 이에 따라, 도포 장치(1)는, 유기 EL 재료를 기판(P)에 도포할 때의 산화를 방지할 수 있다. 여기서, 유기 EL 재료의 산화를 방지하기 위해서는 챔버 공간내 전체 산소 농도를 저하시키면 되는데, 가장 산소 농도를 저하시키지 않으면 안되는 공간은, 노즐(52)로부터 유기 EL 재료를 토출하는 공간 및 도포후의 기판(P)면이 Y축 정방향측에 순차 이송되는 공간(도 4에 도시하는 포인트 C)이다. 예를 들면, 유기 EL 재료를 기판(P)에 도포할 때의 산소 농도 상한을 산소 농도 관리치로 한 경우, 적어도 포인트(C)에 있어서의 산소 농도가 산소 농도 관리치를 만족하지 않으면 안된다.

포인트(C)에 있어서의 산소 농도가 산소 농도 관리치를 만족한 상태에서 도포 처리를 행하기 위해서는, 포인트(C)에 있어서의 산소 농도를 산소 농도 관리치 이하로 저하시킨 후, 도포 처리를 개시하지 않으면 안된다. 따라서, 기판(P)을 반입하고 나서 포인트(C)에 있어서의 산소 농도가 산소 농도 관리치 이하로 저하하기까지의 시간(도 8에 도시하는 「도달 시간」)을 단축함으로써, 도포 장치(1)를 효율적으로 가동시킬 수 있다. 또한, 도포 처리 중에 있어서, 포인트(C)에 있어서의 산소 농도가 산소 농도 관리치를 넘는 것을 방지하지 않으면 안되므로(도 8에 도시하는 「도포 처리 시간」), 도포 처리 중에 있어서도 공급관(71)으로부터의 질소 공급 및 배기관(72)으로의 기체 배출이 계속된다. 여기서, 노즐 유닛(50)이나 노즐(52)이 X축 방향으로 왕복 이동함으로써, 슬라이더 공간내의 기체나 개구부(S1) 부근의 기체가 교반된다. 따라서, 예를 들면 슬라이더 공간내에 산소가 잔존하는 경우, 상기 산소가 교반에 의해서 포인트(C)로 유출하여 포인트(C)에 있어서의 산소 농도를 상승시키는 경우가 있다. 즉, 포인트(C)에 있어서의 산소 농도의 관리에 있어서는, 도포 처리전 및 도포 처리중의 유체 밸런스를 고려할 필요가 있다. 후술하는 실시예에 있어서는, 슬라이더 공간내나 박스 공간내도 저산소 분위기로 치환함으로써, 도포 처리중에 있어서의 산소 농도의 상승을 방지한다.

또한, 포인트(C)에 있어서의 산소 농도를 안정시키기 위해서는, 제1∼제3 박스(61∼63) 내의 압력도 중요하다. 예를 들면, 제1∼제3 박스(61∼63)가 외부에 대해 완전 밀폐 구조가 아닌 경우, 제1∼제3 박스(61∼63) 내의 압력이 대기압 미만(즉, 외부보다 낮은 압력)으로 유지되면 외부의 기체가 제1∼제3 박스(61∼63) 내에 유입한다. 따라서, 본 실시 형태에서는, 제1∼제3 박스(61∼63) 내의 압력을 대기압 이상(즉, 외부와 동일 또는 높은 압력)으로 유지할 수 있도록, 도포 처리전 및 도포 처리중의 유체 밸런스가 조정된다. 이에 따라, 제1∼제3 박스(61∼63)가 외부에 대해 완전 밀폐 구조가 아니라도, 포인트(C)에 있어서의 산소 농도의 관리를 행할 수 있다. 이와 같이, 제1∼제3 박스(61∼63) 내는, 국소적인 분위기를 관리하는 것이 가능해지고, 특히 저하시킨 내부의 산소 농도를 관리하는 것이 가능해진다.

도 9에 있어서, 국소 분위기 생성 기구는, 상술한 구성부 외에, 질소 봄베(bombe)(81), 필터(83), 압력 조정부(84), 공급측의 유량 조정부(85), 배기측의 유량 조정부(86) 및 흡인부(87)를 구비하고, 서로 배관 등으로 접속되어 있다. 여기서, 질소 봄베(81), 필터(83), 압력 조정부(84), 및 유량 조정부(85)가, 공급관(71)으로부터 질소를 공급하기 위한 공급계에 상당한다. 한편, 유량 조정부(86) 및 흡인부(87)가, 배기관(72)으로부터 기체를 배출하기 위한 배기계에 상당한다. 또한, 이들 기구는, 도포 장치(1)에 내장해도 되고, 도포 장치(1)의 외부 장치로서 설치해도 된다. 도포 장치(1)의 외부 장치로서 설치하는 경우, 설치 장소에 미리 설치되는 설비(예를 들면, 공장의 질소 공급 장치나 흡인 장치)를 이용해도 된다.

질소 봄베(81)에는, 액체 질소 등이 그 내부에 저장되어 있다. 질소 봄베(81)로부터 질소는, 기체 상태로 추출되고, 공장의 용력(用力)으로서 공급되어 필터(83)로 유동한다. 필터(83)는, 유동하는 질소 중의 이물을 제거하여 압력 조정부(84) 및 유량 조정부(85)에 이송한다. 그리고, 압력 조정부(84)에 의해서 도포 장치(1)로 공급하는 질소 압력이 조정되어, 유량 조정부(85)에 의해서 도포 장치(1)로 공급하는 질소 유량이 조정된 후, 공급관(71)에 질소가 공급된다. 한편, 흡인부(87)는, 배기관(72)으로부터 기체를 흡인하여 제1∼제3 박스(61∼63) 내의 기체를 외부로 배출한다. 그리고, 유량 조정부(86)에 의해서, 배기관(72)으로부터 기체를 흡인하여 외부로 배출하는 유량이 조정된다. 사용자는 압력 조정부(84), 유량 조정부(85) 및 유량 조정부(86)에 설치된 유로의 좁아짐이나 설정치 등을 조정함으로써, 상술한 도포 장치(1)에 대한 유체 밸런스를 조정할 수 있다.

다음에, 도 4 및 도 10을 참조하여, 도포 장치(1)가 도포 처리를 행할 때의 동작에 대해서 설명한다. 우선, 투입구(611)가 개방된다(단계 S51). 다음에, 개방된 투입구(611)로부터 반송 로봇 등에 의해서 기판(P)이 반입되고, 스테이지(21) 상에 기판(P)이 적재된다(단계 S52). 그리고, 투입구(611)가 폐쇄되고(단계 S53), 챔버 공간이 외부로부터 차폐된 공간이 된다.

다음에, 공급관(71)으로부터 제1∼제3 박스(61∼63)내로 질소의 공급이 개시되고, 배기관(72)으로 제1∼제3 박스(61∼63) 내의 기체의 배출이 개시된다(단계 S54). 그리고, 제1∼제3 박스(61∼63)내(예를 들면, 포인트(C))의 산소 농도가 산소 농도 관리치 이하에 도달했을 때(단계 S55에서 Yes), 기판(P)에 대해 도포 처리가 행해진다(단계 S56).

기판(P)에 대한 도포 처리가 종료하였을 때(단계 S57에서 Yes), 공급관(71)으로부터의 질소의 공급이 정지되고, 배기관(72)으로의 기체의 배출이 정지된다(단계 S58). 다음에, 투입구(611)가 개방되고(단계 S59), 개방된 투입구(611)로부터 스테이지(21) 상에 적재된 도포 처리후의 기판(P)이 반송 로봇 등에 의해서 반출된다(단계 S60). 그리고, 도포 처리를 계속하는 경우(단계 S61에서 Yes), 상기 단계 S52로 되돌아가 동작이 반복된다. 한편, 도포 처리를 종료하는 경우(단계 S61에서 No), 상기 플로우 챠트에 의한 동작을 종료한다.

(제1의 실시 형태)

이하, 도면을 참조하여, 본 발명의 제1의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 대해서 설명한다. 제1의 실시 형태는, 챔버 공간에는 배기관을 설치하지 않고 박스 공간 또는 슬라이더 공간에 배기관을 설치한 도포 장치(1)이다. 또한, 도포 장치(1)의 개요에 대해서는 설명을 생략하고, 주로 제1의 실시 형태의 특징인 공급관 및 배기관의 접속 개소에 대해서 설명을 한다. 또한, 도 11은 제1의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제1의 예를 도시하는 모식도이다. 도 12는, 제1의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제2의 예를 도시하는 모식도이다. 도 13은, 제1의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제3의 예를 도시하는 모식도이다. 도 14는, 제1의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제4의 예를 도시하는 모식도이다. 또한, 도 11∼도 14에 있어서는, 설명을 간단히 하기 위해서, 각각의 도포 장치(1)에 대해서, 제1∼제3 박스(61∼63), 챔버 공간, 박스 공간, 및 챔버 공간만을 도시하여 간략화하고 있다.

도 11에 있어서, 제1 박스(61)의 전면에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71)을 통해 질소가 챔버 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Ci1 ; 공급 Ci1으로 한다). 또한, 제2 박스(62)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 박스 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Bo ; 배출 Bo로 한다). 예를 들면, 공급 Ci1은 도 4에 도시한 공급관(71a)에 상당하고, 배출 Bo는 도 4에 도시한 배기관(72)에 상당한다.

공급 Ci1으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 개구부 S1→슬라이더 공간→개구부 S2→박스 공간으로 유동하고, 배출 Bo로 배출된다. 따라서, 도 11에 도시한 접속 양태에서는, 공급 Ci1→챔버 공간→개구부 S1→슬라이더 공간→개구부 S2→박스 공간→배출 Bo라는 역류가 없는 일련의 플로우를 형성할 수 있어, 챔버 공간을 효율적으로 질소 분위기로 변화시킬 수 있다. 또한, 상기 접속 양태에서는, 챔버 공간의 한쪽측으로부터 공급된 질소가 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 빠지는 흐름이 형성되어 있다. 즉, 노즐 유닛(50)의 왕복 이동에 의해서 슬라이더 공간내의 기체가 교반되어도, 챔버 공간→개구부 S1→슬라이더 공간의 기체 플로우가 형성되므로, 슬라이더 공간내의 기체가 챔버 공간으로 유출하는 일은 적다. 따라서, 가령 슬라이더 공간에 산소가 잔존한다고 해도 챔버 공간으로 산소 가 유출하는 것을 방지할 수 있어, 도 8에서 도시한 도포 처리 시간 중의 산소 농도가 상승하는 것을 방지할 수 있다.

도 12에 있어서, 제1 박스(61)의 전면 및 배면에 공급관(71)이 각각 접속되고, 2개의 공급관(71)을 통해 질소가 챔버 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Ci1, Ci2 ; 공급 Ci1, Ci2로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 전면에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71)을 통해 질소가 슬라이더 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Si ; 공급 Si로 한다). 또한, 제2 박스(62)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 박스 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Bo ; 배출 Bo로 한다). 도 12에 도시하는 접속 양태에서는 공급구가 3개소 형성되는데, 모두 도 6을 참조하여 설명한 구조와 동일한 접속 방식으로 공급관(71)이 각각 접속된다.

공급 Ci1 및 Ci2로부터 공급된 질소는, 챔버 공간내에서 합류하여 개구부 S1로부터 슬라이더 공간으로 유입되고, 상기 슬라이더 공간내에서 공급 Si로부터 공급된 질소와 합류한다. 그리고, 합류한 질소는, 슬라이더 공간→개구부 S2→박스 공간으로 유동하여, 배출 Bo로 배출된다. 따라서, 상기 접속 양태에서는, 챔버 공간의 한쪽측 및 다른쪽측으로부터 각각 공급된 질소가 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 빠지는 흐름이 형성되어 있다. 이와 같이, 제1 박스(61)의 전후로부터 질소를 공급함으로써, 챔버 공간내의 산소 농도의 편차를 저감할 수 있어, 포인트(C)에 있어서의 산소 농도가 안정된다.

도 13에 있어서, 제1 박스(61)의 전면 및 배면에 공급관(71)이 각각 접속되고, 2개의 공급관(71)을 통해 질소가 챔버 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Ci1, Ci2 ; 공급 Ci1, Ci2로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 전면에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71)을 통해 질소가 슬라이더 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Si ; 공급 Si로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 슬라이더 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 So ; 배출 So로 한다). 도 13에 도시하는 접속 양태에서는 배출구가 제3 박스(63)에 설치되는데, 배기관(72)이 직접 제3 박스(63)에 접속되는 것을 의미하고, 예를 들면 배기관(72)이 외부로부터 박스 공간내를 관통 장착되어 제3 박스(63)에 접속된다. 또한, 제3 박스(63)의 배면에 접속되는 배기관(72)에 대해서는, 도 4를 참조하여 설명한 구조와 동일한 접속 방식으로 접속되고, 이하도 동일하다.

공급 Ci1 및 Ci2로부터 공급된 질소는, 챔버 공간내에서 합류하여 개구부 S1로부터 슬라이더 공간으로 유입되고, 상기 슬라이더 공간내에서 공급 Si로부터 공급된 질소와 합류한다. 그리고, 합류한 질소는, 배출 So로 배출된다. 따라서, 상기 접속 양태에서는, 챔버 공간의 한쪽측 및 다른쪽측으로부터 각각 공급된 질소가 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 빠지는 흐름이 형성되어 있다. 여기서, 박스 공간내는, 질소 플로우의 유로에 포함되지 않으므로, 적극적인 질소 분위기로의 치환은 행해지지 않는다. 그러나, 슬라이더 공간으로부터 개구부 S2를 통해 질소의 유출이 있으므로, 박스 공간에서는 장치 외부 공간보다 산소 농도가 저하한다. 따라서, 적극적인 질소 분위기로의 치환이 행해지지 않아도, 제2 박스(62)를 설치함으로써 외부 공간과 동일한 산소가 슬라이더 공간으로 유입하는 것을 방지할 수 있다.

도 14를 참조하여 설명하는 접속 양태는, 제3 박스(63)를 생략한 예이다. 즉, 유기 EL 도포 기구(5)는, 박스 공간내에 설치되게 된다. 도 14에 있어서, 제1 박스(61)의 전면에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71)을 통해 질소가 챔버 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Ci1 ; 공급 Ci1으로 한다). 또한, 제2 박스(62)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 박스 공간 내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Bo ; 배출 Bo로 한다). 예를 들면, 도 14에 도시한 공급관(71) 및 배기관(72)의 접속 개소는 도 4에서 도시한 공급관(71a) 및 배기관(72)이고, 도 4에서 도시한 구조에 대해 제3 박스(63)를 생략한 양태로 된다.

공급 Ci1으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 개구부 S1→박스 공간으로 유동하여, 배출 Bo로 배출된다. 따라서, 도 14에 도시한 접속 양태에서는 공급 Ci1→챔버 공간→개구부 S1→박스 공간→배출 Bo라는 역류가 없는 일련의 플로우를 형성할 수 있어, 챔버 공간을 효율적으로 질소 분위기로 변화시킬 수 있다. 또한, 상기 접속 양태에서는, 챔버 공간의 한쪽측으로부터 공급된 질소가 개구부 S1를 통과해 박스 공간으로 빠지는 흐름이 형성되어 있다. 즉, 또한, 노즐 유닛(50)의 왕복 이동에 의해서 슬라이더 공간내의 기체가 교반되어도, 챔버 공간→개구부 S1→슬라이더 공간의 기체 플로우가 형성되어 있으므로, 슬라이더 공간내의 기체가 챔버 공간으로 유출되는 일은 적다. 따라서, 가령 슬라이더 공간에 산소가 잔존하고 있다고 해도 챔버 공간으로 산소가 유출되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 도 14에 도시한 접속 양태에서는, 제3 박스(63)를 생략하여 공급관 및 배기관을 최소한으로 한 가장 단순한 국소 분위기 생성 기구를 구성할 수 있다.

(제2의 실시 형태)

이하, 도면을 참조하여, 본 발명의 제2의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 대해서 설명한다. 제2의 실시 형태는, 챔버 공간에는 배기관을 설치하지 않고 박스 공간 및 슬라이더 공간에 각각 배기관을 설치한 도포 장치(1)이다. 또한, 도포 장치(1)의 개요에 대해서는 설명을 생략하고, 주로 제2의 실시 형태의 특징인 공급관 및 배기관의 접속 개소에 대해서 설명을 한다. 또한, 도 15는, 제2의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제1의 예를 도시하는 모식도이다. 도 16은, 제2의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제2의 예를 도시하는 모식도이다. 도 17은, 제2의 실시형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소유동 플로우의 제3의 예를 도시하는 모식도이다. 또한, 도 15∼도 17에 있어서도, 설명을 간단히 하기 위해서, 각각의 도포 장치(1)에 대해서, 제1∼제3 박스(61∼63), 챔버 공간, 박스 공간, 및 챔버 공간만을 도시하여 간략화하고 있다.

도 15에 있어서, 제1 박스(61)의 전면에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71)을 통해 질소가 챔버 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Ci1 ; 공급 Ci1으로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 전면에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71)을 통해 질소가 슬라이더 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Si ; 공급 Si로 한다). 또한, 제2 박스(62)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 박스 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Bo;배출 Bo로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 슬라이더 공간내의 기체가 배출된다(도시 하는 화살표 So; 배출 So로 한다). 도 15에 도시하는 접속 양태에서는 공급구가 2개소 형성되는데, 모두 도 6을 참조하여 설명한 구조와 동일한 접속 방식으로 공급관(71)이 각각 접속된다. 또한, 도 15에 도시하는 접속 양태에서는 배출구가 제3 박스(63)에 설치되는데, 상술한 바와 같이 배기관(72)이 직접 제3 박스(63)에 접속되는 것을 의미하고, 이하도 동일하다. 또한, 제1 박스(61)의 배면 및 제3 박스(63)의 배면에 각각 접속되는 배기관(72)에 대해서는, 도 4를 참조하여 설명한 구조와 동일한 접속 방식으로 접속되고, 이하도 동일하다.

공급 Ci1으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 개구부 S1로부터 슬라이더 공간으로 유입되고, 상기 슬라이더 공간내에서 공급 Si로부터 공급된 질소와 합류한다. 그리고, 합류한 질소는, 배출 So로 배출되거나, 또는 개구부 S2로부터 박스 공간으로 유입하여 배출 Bo로 배출된다. 따라서, 상기 접속 양태에서는, 챔버 공간의 한쪽측으로부터 공급된 질소가 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 빠지는 흐름이 형성되어 있다.

도 16에 있어서, 제1 박스(61)의 배면에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71)을 통해 질소가 챔버 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Ci2;공급 Ci2으로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 전면에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71)을 통해 질소가 슬라이더 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Si; 공급 Si로 한다). 또한, 제2 박스(62)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 박스 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Bo; 배출 Bo로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 슬라이더 공간내의 기체가 배출된다(도시 하는 화살표 So; 배출 So로 한다). 도 16에 도시하는 접속 양태에서는, 공급구가 2개소 형성되는데, 도 6을 참조하여 설명한 구조와 동일한 접속 방식으로 접속된다.

공급 Ci2으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 개구부 S1로부터 슬라이더 공간에 유입하고, 상기 슬라이더 공간내에서 공급 Si로부터 공급된 질소와 합류한다. 그리고, 합류한 질소는, 배출 So로 배출되거나, 또는 개구부 S2로부터 박스 공간에 유입하여 배출 Bo로 배출된다. 따라서, 상기 접속 양태에서는, 챔버 공간의 다른쪽측으로부터 공급된 질소가 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 빠지는 흐름이 형성되어 있다.

도 17에 있어서, 제1 박스(61)의 전면 및 배면에 공급관(71)이 각각 접속되고, 2개의 공급관(71)을 통해 질소가 챔버 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Ci1, Ci2; 공급 Ci1, Ci2로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 전면에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71)을 통해 질소가 슬라이더 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Si; 공급 Si로 한다). 또한, 제2 박스(62)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 박스 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Bo, 배출 Bo로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 슬라이더 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 So; 배출 So로 한다). 도 17에 도시하는 접속 양태에서는 공급구가 3개소 형성되는데, 도 6을 참조하여 설명한 구조와 동일한 접속 방식으로 접속된다.

공급 Ci1 및 Ci2로부터 공급된 질소는, 챔버 공간내에서 합류하여 개구부 S1 로부터 슬라이더 공간으로 유입하고, 상기 슬라이더 공간내에서 공급 Si로부터 공급된 질소와 합류한다. 그리고, 합류한 질소는, 배출 So로 배출되거나, 또는 개구부 S2로부터 박스 공간으로 유입하여 배출 Bo로 배출된다. 따라서, 상기 접속 양태에서는, 챔버 공간의 한쪽측 및 다른쪽측으로부터 각각 공급된 질소가 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 빠지는 흐름이 형성되어 있다. 이와 같이, 제1 박스(61)의 전후로부터 질소를 공급함으로써, 챔버 공간내의 산소 농도의 불균형을 저감할 수 있어, 포인트(C)에 있어서의 산소 농도가 안정된다.

(제3의 실시형태)

이하, 도면을 참조하여, 본 발명의 제3의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 대해서 설명한다. 제3의 실시 형태는, 챔버 공간에도 배기관을 설치하고, 박스 공간 또는 챔버 공간에 배기관을 설치한 도포 장치(1)이다. 또한, 도포 장치(1)의 개요에 대해서는 설명을 생략하고, 주로 제3의 실시 형태의 특징인 공급관 및 배기관의 접속 개소에 대해서 설명을 한다. 또한, 도 18은 제3의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제1의 예를 도시하는 모식도이다. 도 19는, 제3의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제2의 예를 도시하는 모식도이다. 도 20은, 제3의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제3의 예를 도시하는 모식도이다. 또한, 도 18∼도 20에 있어서도, 설명을 간단히 하기 위해서, 각각의 도포 장치(1)에 대해서, 제1∼제3 박스(61∼63), 챔버 공간, 박스 공간, 및 챔버 공간만을 도시하여 간략화한다.

도 18에 있어서, 제1 박스(61)의 전면에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71) 을 통해 질소가 챔버 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Ci1; 공급 Ci1으로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 전면에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71)을 통해 질소가 슬라이더 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Si, 공급 Si로 한다). 또한, 제1 박스(61)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 챔버 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Co; 배출 Co로 한다). 또한, 제2 박스(62)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 박스 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Bo; 배출 Bo로 한다). 도 18에 도시하는 접속 양태에서는 공급구가 2개소 형성되는데, 도 6을 참조하여 설명한 구조와 동일한 접속 방식으로 접속된다. 또한, 제1 박스(61)의 배면에 접속되는 배기관(72)에 대해서도, 도 4를 참조하여 설명한 구조와 동일한 접속 방식으로 접속되고, 이하도 동일하다.

공급 Ci1으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 제1 박스(61)의 배면에 있는 배출 Co로 배출된다. 또한, 공급 Ci1으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 개구부 S1로부터 슬라이더 공간에 유입되고, 상기 슬라이더 공간내에서 공급 Si로부터 공급된 질소와 합류한다. 그리고, 슬라이더 공간내에서 합류한 질소는, 개구부 S2로부터 박스 공간으로 유입하여 배출 Bo로 배출된다. 따라서, 상기 접속 양태에서는, 챔버 공간의 한쪽측으로부터 공급된 질소가 챔버 공간의 다른쪽측으로 및 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 각각 빠지는 흐름이 형성되어 있다. 이와 같이, 제3의 실시 형태에서는, 챔버 공간에 질소를 공급하면서 직접적으로 챔버 공간내의 기체를 배출하기 때문에, 챔버 공간내에 있어서의 기체가 질소 분위기로 치환되는 속도가 빨라진다. 즉, 도 4에 도시한 포인트(C)에 있어서의 산소 농도의 저하도 신속하게 행해지므로, 도 8에 도시한 도달 시간을 단축할 수 있다.

도 19에 있어서, 제1 박스(61)의 전면에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71)을 통해 질소가 챔버 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Ci1;공급 Ci1으로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 전면에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71)을 통해 질소가 슬라이더 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Si; 공급 Si로 한다). 또한, 제1 박스(61)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 챔버 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Co; 배출 Co로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 슬라이더 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 So; 배출 So로 한다). 도 19에 도시하는 접속 양태에서는 공급구가 2개소 형성되는데, 도 6을 참조하여 설명한 구조와 동일한 접속 방식으로 접속된다.

공급 Ci1으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 제1 박스(61)의 배면에 있는 배출 Co로 배출된다. 또한, 공급 Ci1으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 개구부 S1로부터 슬라이더 공간으로 유입되고, 상기 슬라이더 공간내에서 공급 Si로부터 공급된 질소와 합류한다. 그리고, 슬라이더 공간내에서 합류한 질소는, 배출 So로 배출된다. 따라서, 상기 접속 양태에서는, 챔버 공간의 한쪽측으로부터 공급된 질소가 챔버 공간의 다른쪽측으로 및 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 각각 빠지는 흐름이 형성되어 있다. 여기서, 박스 공간내는, 질소 플로우의 유로에 포함되지 않으므로, 적극적인 질소 분위기로의 치환은 행해지지 않는다. 그러나, 슬라이더 공간으로부터 개구부 S2를 통해 질소의 유출이 있 으므로, 박스 공간에서는 장치 외부 공간보다 산소 농도가 저하한다. 따라서, 적극적인 질소 분위기로의 치환이 행해지지 않아도, 제2 박스(62)를 설치함으로써 외부 공간과 동일한 산소가 슬라이더 공간으로 유입하는 것을 방지할 수 있다.

도 20을 참조하여 설명하는 접속 양태는, 제3 박스(63)를 생략한 예이다. 즉, 유기 EL 도포 기구(5)는, 박스 공간내에 설치되게 된다. 도 20에 있어서, 제1 박스(61)의 전면에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71)을 통해 질소가 챔버 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Ci1; 공급 Ci1으로 한다). 또한, 제2 박스(62)의 전면에 있어서의 유기 EL 도포 기구(5)가 설치되어 있는 부근에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71)을 통해 질소가 박스 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Si;공급 Si로 한다). 또한, 제1 박스(61)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 챔버 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Co;배출 Co로 한다). 또한, 제2 박스(62)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 박스 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Bo; 배출 Bo로 한다). 도 20에 도시하는 접속 양태에서는 공급구가 2개소 형성되는데, 도 6을 참조하여 설명한 구조와 동일한 접속 방식으로 접속된다.

공급 Ci1으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 제1 박스(61)의 배면에 있는 배출 Co로 배출된다. 또한, 공급 Ci1으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입한 후, 개구부 S1로부터 박스 공간으로 유입하고, 상기 박스 공간내에서 공급 Si로부터 공급된 질소와 합류한다. 그리고, 박스 공간내에서 합류한 질소는, 배출 Bo로 배출된다. 따라서, 상기 접속 양태에서는, 챔버 공간의 한쪽측으로 부터 공급된 질소가 챔버 공간의 다른쪽측으로 및 개구부 S1를 통과해 박스 공간으로 각각 빠지는 흐름이 형성되어 있다. 도 20에 도시한 접속 양태에서는, 제3 박스(63)를 생략하면서, 챔버 공간 및 박스 공간에 배기관을 설치한 제3의 실시 형태에 관한 국소 분위기 생성 기구를 구성할 수 있다.

(제4의 실시 형태)

이하, 도면을 참조하여, 본 발명의 제4의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 대해서 설명한다. 제4의 실시 형태는, 챔버 공간에도 배기관을 설치하고, 박스 공간 및 챔버 공간에 각각 배기관을 설치한 도포 장치(1)이다. 또한, 도포 장치(1)의 개요에 대해서는 설명을 생략하고, 주로 제4의 실시 형태의 특징인 공급관 및 배기관의 접속 개소에 대해서 설명을 한다. 또한, 도 21은, 제4의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제1의 예를 나타내는 모식도이다. 도 22는, 제4의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제2의 예를 도시하는 모식도이다. 도 23은 제4의 실시형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제3의 예를 도시하는 모식도이다. 도 24는, 제4의 실시형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제4의 예를 도시하는 모식도이다. 도 25는 제4의 실시형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우의 제5의 예를 도시하는 모식도이다. 또한, 도 21∼도 25에 있어서도, 설명을 간단히 하기 위해서, 각각의 도포 장치(1)에 대해서, 제1∼제3 박스(61∼63), 챔버 공간, 박스 공간 및 챔버 공간만을 도시하여 간략화하고 있다.

도 21에 있어서, 제1 박스(61)의 전면에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71) 을 통해 질소가 챔버 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Ci1; 공급 Ci1으로 한다). 제1 박스(61)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 챔버 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Co; 배출 Co로 한다). 또한, 제2 박스(62)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 박스 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Bo; 배출 Bo로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 슬라이더 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 So; 배출 So로 한다). 예를 들면, 공급 Ci1은, 도 4에 도시하는 공급관(71a)에 상당한다.

공급 Ci1로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 제1 박스(61)의 배면에 있는 배출 Co로 배출된다. 또한, 공급 Ci1으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입한 후, 개구부 S1로부터 슬라이더 공간으로 유입된다. 그리고, 슬라이더 공간내에 유입한 질소는, 배출 So로 배출되거나, 또는 개구부 S2로부터 박스 공간으로 유입하여 배출 Bo로 배출된다. 따라서, 상기 접속 양태에서는, 챔버 공간의 한쪽측으로부터 공급된 질소가 챔버공간의 다른쪽측으로 및 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 각각 빠지는 흐름이 형성되어 있다. 이와 같이, 제4의 실시형태에서도, 챔버 공간에 질소를 공급하면서 직접적으로 챔버 공간내의 기체를 배출하기 때문에, 챔버 공간내에서의 기체가 질소 분위기로 치환되는 속도가 빨라진다. 또한, 내부공간에서 배출되는 유로도 다수 설치되므로, 내부 공간 전체가 질소 분위기로 치환되는 속도가 빨라진다. 즉, 도 4에 도시한 포인트(C)에 있어서의 산소 농도의 저하도 신속하게 행해지므로, 도 8에 도시한 도달 시간을 단축할 수 있다.

도 22에 있어서, 제1 박스(61)의 전면에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71)을 통해 질소가 챔버 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Ci1; 공급 Ci1으로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 전면에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71)을 통해 질소가 슬라이더 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Si; 공급 Si로 한다). 제1 박스(61)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 챔버 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Co; 배출 Co로 한다). 또한, 제2 박스(62)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 박스 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Bo; 배출 Bo로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 슬라이더 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 So; 배출 So로 한다). 도 22에 도시하는 접속 양태에서는 공급구가 2개소 형성되는데, 도 6을 참조하여 설명한 구조와 동일한 접속 방식으로 접속된다.

공급 Ci1으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 제1 박스(61)의 배면에 있는 배출 Co로 배출된다. 또한, 공급 Ci1으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 개구부 S1로부터 슬라이더 공간에 유입되고, 상기 슬라이더 공간내에서 공급 Si로부터 공급된 질소와 합류한다. 그리고, 슬라이더 공간내에서 합류한 질소는, 배출 So로 배출되거나, 또는 개구부 S2로부터 박스 공간에 유입하여 배출 Bo로 배출된다. 따라서, 상기 접속 양태에서는, 챔버 공간의 한쪽측으로부터 공급된 질소가 챔버 공간의 다른쪽측으로 및 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 각각 빠지는 흐름이 형성되어 있다.

도 23에 있어서, 제1 박스(61)의 전면에 복수의 공급관(71)이 접속되고, 복 수의 공급관(71)을 통해 질소가 챔버 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Ci1×n; 공급 Ci1×n으로 한다). 예를 들면, 공급 Ci1×n은, 도 4에 도시한 공급관(71a∼71c)에 상당한다. 구체적으로는, 가로로 병렬하여 접속되는 3개의 공급관(71a) 및 가로로 병렬하여 접속되는 3개의 공급관(71b)으로 구성되는 합계 6개의 공급관(71)이 제1 박스(61)의 전면에 접속된다. 이들 공급관(71)은, 도 6을 참조하여 설명한 구조와 동일한 접속 방식으로 접속된다. 또한, 상기 6개의 공급관(71)에 공급관(71c)을 추가해 제1 박스(61)의 전면에 접속해도 된다.

또한, 제1 박스(61)의 배면에 복수의 배기관(72)이 접속되고, 복수의 배기관(72)을 통해 챔버 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Co×n; 배출 Co×n으로 한다). 예를 들면, 제1 박스(61)의 전면에 접속되는 공급관(71)과 동일하게 합계 6개의 배기관(72)이 제1 박스(61)의 배면에 접속된다. 또한, 제1 박스(61)의 배면에 접속되는 복수의 배기관(72)에 대해서는, 도 4를 참조하여 설명한 구조와 동일한 접속 방식으로 접속되고, 이하도 동일하다. 또한, 제2 박스(62)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 박스 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Bo; 배출 Bo로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 슬라이더 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 So; 배출 So로 한다).

공급 Ci1×n으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 제1 박스(61)의 배면에 있는 배출 Co×n으로부터 배출된다. 또한, 공급 Ci1×n으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 개구부 S1로부터 슬라이더 공간으로 유입한다. 그리고, 슬라이더 공간내에 유입된 질소는, 배출 So로 배출되거나, 또는 개구부 S2로부터 박스 공간으로 유입하여 배출 Bo로 배출된다. 따라서, 상기 접속 양태에서는, 챔버 공간의 한쪽측의 복수 개소로부터 공급된 질소가 챔버 공간의 다른쪽측의 복수 개소로 및 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 각각 빠지는 흐름이 형성되어 있다. 이와 같이, 도 23에 도시한 접속 양태에서는, 복수의 공급관을 통해 챔버 공간에 질소를 공급하면서 직접적으로 챔버 공간내의 기체를 복수의 배기관으로 배출하므로, 챔버 공간내에 유입/배출되는 기체량이 많아져, 챔버 공간내에 있어서의 기체가 질소 분위기로 치환되는 속도가 더욱 빨라진다. 즉, 도 4에 도시한 포인트(C)에 있어서의 산소 농도의 저하도 더욱 신속하게 행해지므로, 도 8에 도시한 도달 시간을 더욱 단축할 수 있다.

도 24에 있어서, 제1 박스(61)의 전면에 복수 개 공급관(71)이 접속되고, 복수 개 공급관(71)을 통해 질소가 챔버 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Ci1×n; 공급 Ci1×n으로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 전면에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71)을 통해 질소가 슬라이더 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Si ; 공급 Si로 한다). 제1 박스(61)의 배면에 복수의 배기관(72)이 접속되고, 복수의 배기관(72)을 통해 챔버 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Co×n, 배출 Co×n으로 한다). 또한, 제2 박스(62)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 박스 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Bo; 배출 Bo로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 슬라이더 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 So; 배출 So로 한다). 또한, 도 24에서 도 시한 공급 Ci1×n 및 배출 Co×n은, 도 23에 도시한 접속 양태와 동일하고, 도 24에서 도시하는 접속 양태는 도 23에 도시한 접속 양태에 대해 공급 Si를 추가한 양태이다.

공급 Ci1×n으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 제1 박스(61)의 배면에 있는 배출 Co×n으로부터 배출된다. 또한, 공급 Ci1×n으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 개구부 S1로부터 슬라이더 공간에 유입되고, 상기 슬라이더 공간내에서 공급 S1로부터 공급된 질소와 합류한다. 그리고, 슬라이더 공간내에서 합류한 질소는 배출 So로 배출되거나, 또는 개구부 S2로부터 박스 공간에 유입되어 배출 Bo로 배출된다. 따라서, 상기 접속 양태에서는, 챔버 공간의 한쪽측의 복수 개소로부터 공급된 질소가 챔버 공간의 다른쪽측의 복수 개소로 및 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 각각 빠지는 흐름이 형성되어 있다.

도 25에 있어서, 제1 박스(61)의 전면 상부 및 배면 상부에 공급관(71)이 각각 접속되고, 2개의 공급관(71)을 통해 질소가 챔버 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Ci1u, Ci2u; 공급 Ci1u, Ci2u로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 전면에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71)을 통해 질소가 슬라이더 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Si; 공급 Si로 한다). 또한, 제1 박스(61)의 전면 저부 근방 및 배면 저부 근방에 배기관(72)이 각각 접속되고, 2개의 배기관(72)을 통해 챔버 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Co1d, Co2d; 배출 Co1d, Co2d로 한다). 또한, 제2 박스(62)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 박스 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Bo; 배출 Bo로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 슬라이더 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 So; 배출 So로 한다). 도 17에 도시하는 접속 양태에서는 공급구가 3개소 형성되는데, 도 6을 참조하여 설명한 구조와 동일한 접속 방식으로 접속된다.

공급 Ci1u 및 Ci2u로부터 공급된 질소는, 챔버 공간내에 유입되어 배출 Co1d 및 Co2d로 배출된다. 또한, 공급 Ci1u 및 Ci2u로부터 공급된 질소는, 챔버 공간내에서 합류하여 개구부 S1로부터 슬라이더 공간에 유입하여, 상기 슬라이더 공간내에서 공급 S1로부터 공급된 질소와 합류한다. 그리고, 슬라이더 공간내에서 합류한 질소는, 배출 So로 배출되거나, 또는 개구부 S2로부터 박스 공간으로 유입하여 배출 Bo로 배출된다. 따라서, 상기 접속 양태에서는, 챔버 공간의 한쪽측 및 다른쪽측으로부터 각각 공급된 질소가, 챔버 공간의 한쪽측으로, 다른쪽측의 복수 개소로, 및 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 각각 빠지는 흐름이 형성되어 있다. 도 25에 도시한 접속 양태에서는, 챔버 공간으로 배출하는 배기관(72)이, 제1 박스(61)의 저부에 설치된다. 이에 따라, 챔버 공간내에 낙하하는 미세 먼지를 챔버 공간외로 배출할 수 있어, 챔버 공간내의 미세 먼지 대책으로서의 효과도 기대할 수 있다.

이와 같이, 본 발명의 도포 장치는, 노즐이 도포액을 토출하는 공간 및 도포액이 도포된 기판(도포 부위)이 이송되는 공간을 포함하는 도포 공간에 대해 국소적으로 질소를 공급하여, 도포액의 도포를 저산소 분위기로 행함으로써, 도포 처리에 있어서의 도포액의 산화를 방지하고 있다. 따라서, 한정된 공간을 저산소 분위 기로 치환하기 때문에, 치환을 위해 공급되는 질소 등의 소비량을 억제할 수 있다. 또한, 공간내의 유체 밸런스를 조정함으로써, 박스 자체를 완전 밀폐 구조로 할 필요가 없으므로, 장치 자체의 구성도 단순해진다. 또한, 한정된 범위의 공간을 저산소 분위기로 하기 때문에, 사람이 그 공간에 들어가는 것에 의한 질식, 등의 위험 요소를 배제할 수 있다. 또한, 도포 처리 시에 노즐 등이 왕복 이동함으로써 국소적인 저산소 분위기가 저해되는 것을 생각할 수 있는데, 상기 왕복 이동을 위한 공간도 저산소 분위기로 치환함으로써 노즐 동작 중에 있어서의 산소 농도의 상승을 방지하므로, 안정된 품질을 확보할 수 있다.

또한, 상술한 실시 형태에서는, 국소적으로 저산소 분위기로 하는 공간을 박스로 포위함으로써 형성했는데, 다른 구성에 의해서 국소 분위기를 생성해도 상관없다. 이하, 도 26 및 도 27을 참조하여, 다른 구성에 의해서 국소적인 저산소 분위기를 형성하는 일례를 설명한다. 또한, 도 26은 칸막이판(64)에 의해서 국소적인 저산소 분위기를 형성하는 도포 장치(1)의 정면도이다. 도 27은, 칸막이판(64)에 의해서 설치되는 국소 분위기 생성 기구의 개략 구성을 도시하는 측단면도이다.

도 26 및 도 27에 있어서, 도포 장치(1)는, 칸막이판(64)에 의해서, 기판 적재 장치(2)가 설치되는 공간과 유기 EL 도포 기구(5)가 설치되는 공간으로 칸막이된다. 칸막이판(64)은, 노즐(52)이 기판(P)측으로 돌출하여 왕복 이동하기 위한 개구부 S4를 제외하고, 상기 2개의 공간을 칸막이하도록 설치된다.

칸막이판(64)의 전후에는, 칸막이판(64)의 하부 공간에 질소 등의 불활성 가스를 공급하기 위한 공급관(71)과, 칸막이판(64)의 하부 공간의 기체를 배출하기 위한 배기관(72)이 접속된다. 도 27의 예에서는, 공급관(71)이 칸막이판(64)의 Y축 부방향측(전측)의 하부에 접속되어 있다. 또한, 배기관(72)이 제2 박스(62)의 Y축 정방향측(후측)의 하부에 접속되어 있다. 이와 같이 공급관(71) 및 배기관(72)을 접속한 경우, 공급관(71)으로부터 공급된 질소는, 칸막이판(64)의 하부 공간에 공급되고, 상기 하부 공간으로부터 배기관(72)으로 배출되거나, 또는 개구부 S4를 통과해 칸막이판(64)의 상부 공간으로 유출하는 흐름이 된다. 또한, 공급관(71)의 개구부에는, 도 6을 이용해 설명한 확산부와 동일한 확산부를 설치하는 것이 바람직하다. 또한, 배기관(72)의 개구부에는, 펀칭 플레이트를 설치하는 것이 바람직하다.

공급관(71)으로부터 칸막이판(64)의 하부 공간에 질소를 공급하면서 상기 하부 공간의 기체를 배기관(72)으로 배출함으로써, 상기 하부 공간이 질소 분위기로 되어 산소 농도가 저하한다. 이에 따라, 도포 장치(1)는, 유기 EL 재료를 기판(P)에 도포할 때의 산화를 방지할 수 있다. 여기서, 상술한 실시 형태와 동일하게 유기 EL 재료의 산화를 방지하기 위해서, 가장 많이 산소 농도를 저하시키지 않으면 안되는 공간은, 노즐(52)로부터 유기 EL 재료를 토출하는 공간 및 도포후의 기판(P)면이 Y축 정방향측으로 순차 이송되는 공간(도 27에 도시하는 포인트 C)이다. 따라서, 상술한 실시형태와 동일하게, 유기 EL 재료를 기판(P)에 도포할 때의 산소 농도 상한을 산소 농도 관리치로 한 경우, 적어도 포인트(C)에 있어서의 산소 농도가 산소 농도 관리치를 만족하도록 질소의 유동 밸런스를 조정하면 된다.

또한, 상술한 실시 형태에 있어서는, 기판(P)을 반입하고 나서 포인트(C)에 있어서의 산소 농도가 산소 농도 관리치 이하로 저하하기까지의 도달시간을 단축하는 효과가 뛰어난 실시예와, 도포 처리 시간중에 있어서의 포인트(C)의 산소 농도가 안정되는 효과가 뛰어난 실시예가 있다. 구체적으로는, 전자의 효과를 높이기 위해서는 챔버 공간으로부터 직접 배출하는 것이 요구되고, 후자의 효과를 높이기 위해서는 챔버 공간으로부터 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간(박스 공간)으로의 기체 유동을 적극적으로 형성하는 것이 요구된다.

또한, 상술한 박스 공간이나 슬라이더 공간에 설치되는 공급관 및 배기관(즉, 공급 Si, 배출 So, 배출 Bo)은, 각각 복수 개여도 상관없다. 상술한 것 같은 유체 밸런스를 조정하면, 1개의 배관이나 복수 라인의 배관이라도 본 발명의 효과를 얻을 수 있다.

(제5의 실시 형태)

이하, 도 28을 참조하여, 본 발명의 제5의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 설치되는 국소 분위기 생성 기구에 대해서 설명한다. 여기서, 상기 국소 분위기 생성 기구는, 상술한 국소 분위기 생성 기구에 대해 산소 농도 검지부(88)를 설치한 양태이다. 상기 국소 분위기 생성 기구에 있어서의 다른 구성 요소는, 상술한 국소 분위기 생성 기구와 동일하므로, 동일한 구성 요소에 동일한 참조 부호를 붙여 상세한 설명을 생략한다. 또한, 도 28은 본 발명의 제5의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 설치되는 국소 분위기 생성 기구의 개략 구성을 도시하는 측단면도이다.

도 28의 예에서는, 공급관(71)이 제1 박스(61)의 Y축 부방향측의 벽면(이하, Y축 부방향측의 벽면을 전면으로 한다) 및 제3 박스(63)의 전면에 접속되어 있다. 도 28의 예에서는, 복수의 공급관(71a∼71c)이 제1 박스(61)의 벽면에 접속되고, 공급관(71d)이 제3 박스(63)의 벽면에 접속되어 있다.

또한, 배기관(72)이 제1 박스(61)의 Y축 정방향측의 벽면(이하, Y축 정방향측의 벽면을 배면으로 기재한다), 제2 박스(62)의 배면, 및 제3 박스(63)의 배면에 접속되어 있다. 도 28의 예에서는, 복수의 배기관(72a) 및 (72b)이 제1 박스(61)의 벽면에 접속되고, 배기관(72d)이 제2 박스(62)의 벽면에 접속되고, 배기관(72c)이 제3 박스(63)의 벽면에 접속되어 있다.

도 28에 도시하는 바와 같이 공급관(71) 및 배기관(72)을 접속한 경우, 공급관(71a∼71c)으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간으로 공급되어 그 배면의 배기관(72a) 및 (72b)로부터 유출된다. 또한, 공급관(71a∼71c)으로부터 공급된 질소는, 개구부(S1)를 통과해 슬라이더 공간으로 유입하고, 공급관(71d)으로부터 공급된 질소와 합류한다. 그리고, 합류한 질소는, 슬라이더 공간 배면의 배기관(72c)으로 유출되거나, 혹은 개구부(S2)를 통과해 박스 공간에 유입된 후, 배기관(72d)으로 유출되는 흐름이 된다.

또한, 제1 박스(61)에는, 기판(P)의 반입 및 반출을 하기 위한 투입구(611)가 형성된다. 투입구(611)는, 회전축을 중심으로 회전(도시 화살표 방향)하는 게이트에 의해 개폐 가능하게 되어 있다. 기판(P)은, 투입구(611)가 개방된 상태에서, 반송 로봇(도시하지 않음)에 의해 챔버 공간내에 반입되고, 스테이지(21) 상에 적재된다. 또한, 도포 장치(1)에 의해서 도포 처리가 행해질 때는, 상기 게이트를 폐쇄하여 챔버 공간내가 외부로부터 차폐된다.

제1 박스(61)와 공급관(71a) 및 (71b)을 접속하는 부근 및 제3 박스(63)와 공급관(71d)을 접속하는 부근에는, 확산부(73)가 설치된다. 구체적으로, 확산부(73)는, 공급관(71a, 71b) 및 (71d)로부터 내부 공간에 유입되는 입구 부근의 상기 내부 공간측에 설치된다. 도 6 및 도 7에 도시한 바와 같이, 확산부(73)는, 확산판(731) 및 펀칭 메탈(732)을 포함한다. 확산판(731)은, 공급관(71a, 71b) 및 (71d)로부터 상기 내부 공간으로 유입되는 질소를 방해하는 위치에 고정 설치된 판상 부재이고, 그 주위에 소정의 간극이 형성되어 있다. 공급관(71a, 71b) 및 (71d)으로부터 상기 내부 공간으로 유입되는 질소는, 확산판(731)에 의해서 방해되어 직접적으로 상기 내부 공간에 유입되지 않고, 확산판(731)의 주위에 흐르는 방향을 바꿔 유동한다. 펀칭 메탈(732)은 다수의 구멍이 블랭킹 가공된 판상 부재이고, 확산판(731)에 대해 상기 내부 공간측에 고정 설치된다. 또한, 펀칭 메탈(732)은, 확산판(731)의 주위에서 유동하는 질소의 유동로 상에 배치된다. 즉, 공급관(71a, 71b) 및 (71d)으로부터 공급된 질소는, 반드시 펀칭 메탈(732)에 형성된 구멍을 통과해 상기 내부 공간내로 유입되게 된다. 따라서, 확산부(73)에서는, 공급관(71a, 71b) 및 (71d)으로부터 공급된 질소를 확산하여 제1∼제3 박스(61∼63) 내에 공급할 수 있다.

상기 제1의 예와 동일하게, 공급관(71)으로부터 제1∼제3 박스(61∼63) 내에 질소를 공급하면서 제1∼제3 박스(61∼63) 내의 기체를 배기관(72)으로 배출함으로써, 제1∼제3 박스(61∼63) 내부가 질소 분위기로 되고, 내부의 산소 농도가 저하 한다. 이에 따라, 도포 장치(1)는, 유기 EL 재료를 기판(P)에 도포할 때의 산화를 방지할 수 있다. 여기서, 유기 EL 재료의 산화를 방지하기 위해서는 챔버 공간내 모든 산소 농도를 저하시키면 되는데, 가장 산소 농도를 많이 저하시키지 않으면 안되는 공간은, 노즐(52)로부터 유기 EL 재료를 토출하는 공간 및 도포후의 기판(P)면이 Y축 정방향측으로 순차 이송되는 공간(도 28에 도시하는 포인트 C)이다. 예를 들면, 유기 EL 재료를 기판(P)에 도포할 때의 산소 농도 상한을 산소 농도 관리치(예를 들면, 10ppm)로 한 경우, 적어도 포인트(C)에 있어서의 산소 농도가 산소 농도 관리치를 만족하지 않으면 안된다. 또한, 제1 박스(61)내에는, 상기 포인트(C)에 있어서의 산소 농도를 검출하는 산소 농도 검지부(88)가 설치된다. 산소 농도 검지부(88)는, 포인트(C)에 있어서의 산소 농도의 검출 결과를 도시하지 않는 표시 장치에 표시하여 도포 장치의 사용자에게 통지하거나, 상기 검출 결과를 도포 장치의 제어부(예를 들면, 제어부(3)(도 2 참조))에 출력하기도 한다.

후술하는 실시예에 있어서는, 슬라이더 공간내나 박스 공간내도 저산소 분위기로 치환하거나, 슬라이더 공간내에서 유출하는 기체가 상기 포인트(C)측으로 흐르지 않도록 함으로써, 도포 처리중의 상기 포인트(C)에 있어서의 산소 농도의 상승을 방지한다.

이하, 도 29 및 도 30을 참조하여, 본 발명의 제5의 실시형태에 관한 도포 장치(1)에 대해서 설명한다. 제5의 실시형태는, 도포 처리중에 있어서, 챔버 공간으로부터 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간(박스 공간)으로의 기체 유동을 적극적으로 형성하고, 포인트(C)의 산소 농도를 안정시키는 양태이다. 또한, 도 29는, 제5의 실시형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우를 도시하는 모식도이다. 도 30은 도포 장치(1)가 도포 처리를 행할 때의 동작을 도시하는 플로우 챠트이다. 또한, 도 29에 있어서는, 설명을 간단히 하기 위해서, 도포 장치(1)에 대해서, 제1∼제3 박스(61∼63), 챔버 공간, 박스 공간, 및 챔버 공간만을 도시하여 간략화하고 있다.

도 29에 있어서, 제1 박스(61)의 전면에 복수의 공급관(71)이 접속되고, 복수의 공급관(71)을 통해 질소가 챔버 공간에 공급된다(도시하는 화살표 C1×n; 공급 Ci×n으로 한다). 그리고, 제1 박스(61)와 접속하는 각 공급관(71)에 각각 밸브 Vci(밸브 Vci×n으로 한다)가 설치된다. 예를 들면, 공급 Ci×n은, 도 28에 도시한 공급관(71a∼71c)에 상당한다. 구체적으로는, 가로로 병렬하여 접속되는 3개의 공급관(71a) 및 가로로 병렬하여 접속되는 3개의 공급관(71b)으로 구성되는 합계 6개의 공급관(71)이 제1 박스(61)의 전면에 접속된다. 이들 공급관(71)은, 도 6을 참조하여 설명한 구조와 동일한 접속 방식으로 접속된다. 또한, 상기 6개의 공급관(71)에 공급관(71c)을 추가해 제1 박스(61)의 전면에 접속해도 상관없다. 또한, 제3 박스(63)의 전면에 밸브 Vsi가 설치된 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71)을 통해 질소가 슬라이더 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Si; 공급 Si로 한다). 예를 들면, 공급 Si는, 도 28에 도시한 공급관(71d)에 상당한다.

또한, 제1 박스(61)의 배면에 복수의 배기관(72)이 접속되고, 복수의 배기관(72)을 통해 챔버 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Co×n; 배출 Co×n으로 한다). 그리고, 각 배기관(72)에 각각 밸브 Vco(밸브 Vco×n으로 한다)가 설치 된다. 예를 들면, 배출 Co×n은, 도 28에 도시한 배기관(72a) 및 (72b)에 상당한다. 예를 들면, 제1 박스(61)의 전면에 접속되는 공급관(71)과 동일하게 합계 6개의 배기관(72)이 제1 박스(61)의 배면에 접속된다. 또한, 제1 박스(61)의 배면에 접속되는 복수의 배기관(72)에 대해서는, 도 28을 참조하여 설명한 구조와 동일한 접속 방식으로 접속된다. 또한, 제2 박스(62)의 배면에 밸브(Vbo)가 설치된 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 박스 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Bo; 배출 Bo로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 배면에 밸브(Vso)가 설치된 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 슬라이더 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 So; 배출 So로 한다).

다음에, 도 29 및 도 30을 참조하여, 도포 장치(1)가 도포 처리를 행할 때의 동작에 대해서 설명한다. 이들 동작은, 도포 장치의 제어부(예를 들면, 제어부(3)(도 2 참조))가 행해도 되고, 도포 장치의 사용자가 각 동작을 행해도 되고, 단계마다 상기 제어부 또는 도포 장치의 사용자가 행해도 상관없다.

우선, 투입구(611)가 개방된다(단계 S71). 다음에, 개방된 투입구(611)로부터 반송 로봇 등에 의해서 기판(P)이 반입되고, 스테이지(21) 상에 기판(P)이 적재된다(단계 S72). 그리고, 투입구(611)가 폐쇄되고(단계 S73), 챔버 공간이 외부로부터 차폐된 공간이 된다.

다음에, 밸브 Vci×n, Vsi, Vco×n, Vbo, 및 Vso의 마개가 열린다(단계 S74). 그리고, 공급관(71)으로부터 제1∼제3 박스(61∼63)내로 질소의 공급이 개시되고, 배기관(72)에 제1∼제3 박스(61∼63)내의 기체의 배출이 개시된다(단계 S75). 그리고, 산소 농도 검지부(88)에 의한 산소 농도 검지 결과에 의거해, 제1∼제3 박스(61∼63)내(예를 들면, 포인트 C)의 산소 농도가 산소 농도 관리치 이하에 도달하는 것을 기다린다(단계 S76).

여기서, 단계 S75 및 S76에 있어서 공급 Ci×n로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 제1 박스(61)의 배면에 있는 배출 Co×n로 배출된다. 또한, 공급 Ci×n으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 개구부 S1로부터 슬라이더 공간에 유입된다. 그리고, 슬라이더 공간내에 유입된 질소는, 공급 Si로부터 공급된 질소와 합류한다. 합류한 질소는, 배출 So로 배출되거나, 또는 개구부 S2로부터 박스 공간에 유입하여 배출 Bo로 배출된다. 따라서, 밸브 Vci×n, Vsi, Vco×n, Vbo, 및 Vso의 마개를 연 상태에서는, 챔버 공간의 한쪽측의 복수 개소로부터 공급된 질소가 챔버 공간의 다른쪽측의 복수 개소로 및 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 각각 빠지는 흐름이 형성되어 있다. 이와 같이, 밸브 Vci×n, Vsi, Vco×n, Vbo, 및 Vso의 마개를 연 상태에서는, 복수의 공급관을 통해 챔버 공간에 질소를 공급하면서 직접적으로 챔버 공간내의 기체를 복수의 배기관으로 배출하므로, 챔버 공간내에 유입/배출되는 기체량이 많아져, 챔버 공간내에 있어서의 기체가 질소 분위기로 치환되는 속도가 빨라진다. 즉, 도 28에 도시한 포인트(C)에 있어서의 산소 농도의 저하도 신속하게 행해지므로, 도 8에 도시한 도달 시간을 단축할 수 있다.

그리고, 제1∼제3 박스(61∼63)내의 산소 농도가 산소 농도 관리치 이하에 도달하였을 때(단계 S76에서 Yes), 밸브 Vco×n 마개가 닫혀진다(밸브 Vci×n, Vsi, Vbo, 및 Vso는 마개가 열린 상태가 계속된다)(단계 S77). 그리고, 기판(P)에 대해 도포 처리가 행해진다(단계 S78). 이 때, 도포 장치의 제어부가 산소 농도 검지부(88)로부터의 산소 농도의 검출 결과를 취득하는 경우, 상기 제어부는, 상기 검출 결과를 이용해 포인트(C)의 산소 농도가 산소 농도 관리치 이하인지 여부를 판단할 수 있다. 그리고, 제어부는, 산소 농도 관리치 이하라고 판단한 경우, 밸브 Vco×n의 마개를 닫는다. 한편, 산소 농도 검지부(88)가 산소 농도의 검출 결과를 표시 장치에 표시하여 도포 장치의 사용자에게 통지하는 경우, 통지된 사용자가 밸브 Vco×n의 마개를 닫는다. 이와 같이, 산소 농도 관리치로의 도달 판정 및 밸브 Vco×n의 마개를 닫는 것을, 도포 장치의 제어부에 의해서 자동적으로 행해도 되고, 상기 도포 장치의 사용자가 행해도 상관없다.

여기서, 단계 S78에 있어서 공급 Ci×n으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 개구부 S1로부터 슬라이더 공간으로 유입된다. 그리고, 슬라이더 공간으로 유입된 질소는, 공급 Si로부터 공급된 질소와 합류한다. 합류한 질소는, 배출 So로 배출되거나, 또는 개구부 S2로부터 박스 공간에 유입하여 배출 Bo로 배출된다. 따라서, 밸브 Vco×n의 마개를 닫거나, 및 밸브 Vci×n, Vsi, Vbo, 및 Vso의 마개를 연 상태에서는, 챔버 공간의 한쪽측으로부터 공급된 질소가 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간에 빠지는 흐름이 강하게 형성되어 있다. 즉, 노즐 유닛(50)의 왕복 이동에 의해서 슬라이더 공간내의 기체가 교반되어도, 챔버 공간→개구부 S1→슬라이더 공간의 기체 플로우가 형성되어 있으므로, 슬라이더 공간내의 기체가 챔버 공간으로 유출되는 경우가 적고, 개구부 S1로부터 포인트(C)로의 방향으로 기 체가 흐르지 않는다. 따라서, 가령 슬라이더 공간에 산소가 잔존하고 있다고 해도 챔버 공간(포인트(C))에 산소가 유출하는 것을 방지할 수 있어, 도 8에 도시한 도포 처리 시간중의 산소 농도가 상승하는 것을 방지할 수 있다.

다음에, 기판(P)에 대한 도포 처리가 종료하였을 때(단계 S79에서 Yes), 공급관(71)으로부터의 질소의 공급이 정지되고, 배기관(72)으로의 기체의 배출이 정지된다(단계 S80). 다음에, 투입구(611)가 개방되고(단계 S81), 개방된 투입구(611)로부터 스테이지(21) 상에 적재된 도포 처리후의 기판(P)이 반송 로봇 등에 의해서 반출된다(단계 S82). 그리고, 도포 처리를 계속하는 경우(단계 S83에서 Yes), 상기 단계 S72로 되돌아가 동작이 반복된다. 한편, 도포 처리를 종료하는 경우(단계 S83에서 No), 상기 플로우 챠트에 의해 동작을 종료한다.

상술한 바와 같이, 기판(P)을 반입하고 나서 포인트(C)에 있어서의 산소 농도가 산소 농도 관리치 이하로 저하하기까지의 도달 시간을 단축하는 효과가 뛰어난 접속 양태와, 도포 처리 시간중에 있어서의 포인트(C)의 산소 농도가 안정되는 효과가 뛰어난 접속 양태가 있다. 구체적으로, 전자의 효과를 높이기 위해서는 챔버 공간으로부터 직접 배출하는 것이 요구되고, 후자의 효과를 높이기 위해서는 챔버 공간으로부터 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간(박스 공간)으로의 기체 유동을 적극적으로 형성하거나, 개구부 S1로부터 포인트(C)로의 기체 유동이 없도록 하는 것이 요구된다. 따라서, 상술한 동작에서는, 이들 효과를 양립시키기 위해서, 복수의 접속 양태를 조합하여 이용한다.

이와 같이, 제5의 실시형태에 관한 도포 장치는, 노즐이 도포액을 토출하는 공간 및 도포액이 도포된 기판(도포 부위)이 이송되는 공간을 포함하는 도포 공간에 대해 국소적으로 질소를 공급하여, 도포액의 도포를 저산소 분위기에서 행함으로써, 도포 처리에 있어서의 도포액의 산화를 방지한다. 따라서, 한정된 공간을 저산소 분위기로 치환하기 때문에, 치환을 위해 공급되는 질소 등의 소비량을 억제할 수 있다. 또한, 상기 도포 장치는, 기판(P)을 반입하고 나서 포인트(C)에 있어서의 산소 농도가 산소 농도 관리치 이하로 저하하기까지의 도달 시간을 단축하는 효과가 뛰어난 접속 양태와, 도포 처리 시간중에 있어서의 포인트(C)의 산소 농도가 안정되는 효과가 뛰어난 접속 양태를 바꿈으로써, 양자의 효과를 양립시킨다.

(제6의 실시형태)

이하, 도 31∼도 33을 참조하여, 본 발명의 제6의 실시형태에 관한 도포 장치(1)에 대해서 설명한다. 또한, 도 31은, 제6의 실시형태에 관한 도포 장치(1)에 설치되는 국소 분위기 생성 기구의 개략 구성을 도시하는 측단면도이다. 도 32는, 배면측 기체 공급부(75)의 개략 구조를 도시하는 사시도이다. 도 33은 상기 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우를 도시하는 모식도이다. 도 33에 있어서는, 설명을 간단히 하기 위해서, 도포 장치(1)에 대해서, 제1∼제3 박스(61∼63), 배면측 기체 공급부(75), 챔버 공간, 박스 공간, 및 챔버 공간만을 도시하여 간략화하고 있다. 또한, 제6의 실시 형태는, 제5의 실시형태에 대해, 배면측 기체 공급부(75) 및 그 배면측 기체 공급부(75)로 기체를 공급하는 공급계를 더 설치함으로써, 포인트(C)의 배면측으로부터 개구부 S1으로의 기체 유동을 적극적으로 형성하고, 포인트(C)의 산소 농도를 안정시키는 양태이다. 제6의 실시 형태에 있어서의 다른 구성 요소는, 상술한 제5의 실시형태와 동일하므로, 동일한 구성 요소에는 동일한 참조 부호를 붙여 상세한 설명을 생략한다.

도 31에 있어서, 배면측 기체 공급부(75)는, 제1 박스(61)의 내부에 고정 설치된다. 그리고, 배면측 기체 공급부(75)에는, 다른 공급관(71a∼71d)과 동일하게 질소를 공급하는 공급관(71e)이 접속된다. 배면측 기체 공급부(75)는, 기판 적재 장치(2)가 도포 처리에 수반해 도시하는 Y축 정방향측으로 이동했을 때(도 31의 상태), 기판(P)을 적재한 스테이지(21) 상면과 근접하는 위치에 고정 설치된다.

도 32에 도시하는 바와 같이, 배면측 기체 공급부(75)는, 본체(751), 확산판(752) 및 펀칭 메탈(753)을 구비한다. 또한, 도 32는, 본체(751)의 상면을 생략하고, 그 내부 구조를 도시한다. 본체(751)는, 제1 박스(61)의 상면 내부의 X축 방향으로 연장하여 설치되는 속이 빈 장척체(長尺體)이고, 그 일부가 펀칭 메탈(753)로 구성되어 있다. 그리고, 적어도 1개의 공급관(71e)(도 32에서는, 3개)이 본체(751)에 접속되고, 공급관(71e)으로부터 본체(751) 내부에 질소가 공급된다. 확산판(752)은, 공급관(71e)으로부터 본체(751) 내부에 유입되는 질소를 방해하는 위치에 고정 설치된 판상 부재이고, 그 주위에 소정의 간극이 형성되어 있다. 공급관(71e)으로부터 본체(751) 내부로 유입되는 질소는, 확산판(752)에 의해서 방해되어 직접적으로 본체(751) 내부에 유입되지 않고, 확산판(752)의 주위로 흐르는 방향을 바꾸어 유동한다. 펀칭 메탈(753)은, 다수의 구멍이 블랭킹 가공된 판상 부재이고, 본체(751)의 Y축 부방향측(즉, 전면측) 측면을 형성하고 있다.

본체(751)의 장척 치수(즉, 펀칭 메탈(753)의 장폭)는 스테이지(21)의 X축 방향의 폭 이상으로 구성된다. 또한, 본체(751)의 높이 치수(즉, 펀칭 메탈(753)의 단폭)는, 포인트(C)에 있어서의 스테이지(21)와 제1 박스(61) 상면과의 간극 이상으로 구성된다. 따라서, 배면측 기체 공급부(75)를 스테이지(21) 상면과 근접하는 제1 박스(61) 내부 상면에 고정 설치함으로써, 본체(751) 내부에 공급된 질소는, 펀칭 메탈(732)에 형성된 구멍을 통과해 포인트(C)를 Y축 부방향으로 유동한다. 예를 들면, 도 31에 도시하는 바와 같이, 기판 적재 장치(2)가 도포 처리에 수반해 도시하는 Y축 정방향측으로 이동했을 때, 배면측 기체 공급부(75)로부터 공급되는 질소는, 스테이지(21) 상에 적재된 도포후의 기판(P)의 상면에 따라 개구부(S1)측으로 유동한다. 또한, 기판 적재 장치(2)가 Y축 정방향측으로 이동하지 않아도, 배면측 기체 공급부(75)로부터 공급되는 질소는, 배면측으로부터 포인트(C)를 통과해 개구부(S1)측으로 유동한다. 즉, 배면측 기체 공급부(75)로부터 공급되는 질소는, 챔버 공간내의 포인트(C)에 국소적으로 공급되어 개구부 S1측으로 향하는 흐름을 형성한다.

도 33에 있어서, 배면측 기체 공급부(75)에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71)을 통해 질소가 챔버 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Cir; 공급 Cir로 한다). 그리고, 배면측 기체 공급부(75)와 접속하는 공급관(71)에 밸브 Vcir(밸브 Vcir로 한다)가 설치된다. 예를 들면, 공급 Ccir는, 도 31에 도시한 공급관(71e)에 상당한다. 다른 공급 및 배기에 대해서는, 도 29를 이용해 설명한 제5의 실시형태와 동일하므로, 상세한 설명을 생략한다.

다음에, 제6의 실시형태에 관한 도포 장치(1)가 도포 처리를 행할 때의 동작 에 대해서 설명한다. 우선, 제5의 실시형태와 동일하게, 투입구(611)로부터 기판(P)이 반입되고, 스테이지(21) 상에 기판(P)이 적재된다. 그리고, 투입구(611)가 폐쇄되어, 챔버 공간이 외부로부터 차폐된 공간이 된다.

다음에, 밸브 Vci×n, Vsi, Vcir, Vco×n, Vbo, 및 Vso의 마개가 열린다. 그리고, 공급관(71)으로부터 제1∼제3 박스(61∼63)내로 질소의 공급이 개시되고, 배기관(72)으로 제1∼제3 박스(61∼63) 내의 기체의 배출이 개시된다. 이 때, 배면측 기체 공급부(75)로부터도 질소가 국소적으로 포인트(C)에 공급된다(공급 Cir). 그리고, 산소 농도 검지부(88)에 의한 산소 농도 검지 결과에 의거해, 제1∼제3 박스(61∼63)내(예를 들면, 포인트 C)의 산소 농도가 산소 농도 관리치 이하에 도달하는 것을 기다린다.

여기서, 공급 Ci×n으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 공급 Cir로부터 공급된 질소와 합류한다. 그리고, 챔버 공간내에서 합류한 질소는, 제1 박스(61)의 배면에 있는 배출 Co×n로부터 배출된다. 또한, 챔버 공간내에서 합류한 질소는, 개구부 S1으로부터 슬라이더 공간으로 유입된다. 그리고, 슬라이더 공간내에 유입된 질소는, 공급 Si로부터 공급된 질소와 합류한다. 슬라이더 공간내에서 합류한 질소는, 배출 So로 배출되거나, 또는 개구부 S2로부터 박스 공간으로 유입하여 배출 Bo로 배출된다. 따라서, 밸브 Vci×n, Vsi, Vcir, Vco×n, Vbo, 및 Vso의 마개를 연 상태에서는, 챔버 공간의 전면측 및 배면측의 복수 개소로부터 각각 공급된 질소가 챔버 공간의 배면측의 복수 개소로 및 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 각각 빠지는 흐름이 형성되어 있다. 이와 같이, 밸브 Vci×n, Vsi, Vcir, Vco×n, Vbo, 및 Vso의 마개를 연 상태에서는, 복수의 공급관을 통해 챔버 공간에 질소를 공급하면서 직접적으로 챔버 공간내의 기체를 복수의 배기관으로부터 배출하기 때문에, 챔버 공간내에 유입/배출되는 기체량이 많아져, 챔버 공간내에 있어서의 기체가 질소 분위기로 치환되는 속도가 빨라진다. 즉, 도 31에 도시한 포인트(C)에 있어서의 산소 농도의 저하도 신속히 행해지므로, 도 8에 도시한 도달 시간을 단축할 수 있다.

그리고, 제1∼제3 박스(61∼63) 내의 산소 농도가 산소 농도 관리치 이하에 도달하였을 때, 밸브 Vco×n의 마개가(밸브 Vci×n, Vsi, Vclr, Vbo, 및 Vso의 마개는 열린 상태가 계속된다) 닫힌다. 그리고, 기판(P)에 대해 도포 처리가 행해진다. 이 때, 상술한 제5의 실시형태와 동일하게, 도포 장치의 제어부가 산소 농도 검지부(88)로부터의 산소 농도의 검출 결과를 취득하고 있는 경우, 상기 제어부는, 상기 검출 결과를 이용해 포인트(C)의 산소 농도가 산소 농도 관리치 이하인지 여부를 판단할 수 있다. 그리고, 제어부는, 산소 농도 관리치 이하라고 판단한 경우, 밸브 Vco×n의 마개를 닫는다. 한편, 산소 농도 검지부(88)가 산소 농도의 검출 결과를 표시 장치에 표시하여 도포 장치의 사용자에게 통지하는 경우, 통지된 사용자가 밸브 Vco×n의 마개를 닫는다. 이와 같이, 산소 농도 관리치로의 도달 판정 및 밸브 Vco×n의 마개 폐쇄를, 도포 장치의 제어부에 의해서 자동적으로 행해도 되고, 상기 도포 장치의 사용자가 행해도 상관없다.

여기서, 공급 Ci×n으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 개구부 S1로부터 슬라이더 공간으로 유입된다. 또한, 공급 Cir로부터 공급된 질소는, 챔 버 공간의 포인트(C)를 유동한 후, 개구부 S1로부터 슬라이더 공간으로 유입된다. 그리고, 슬라이더 공간으로 유입된 질소는, 공급 Si로부터 공급된 질소와 합류한다. 합류한 질소는, 배출 So로 배출되거나, 또는 개구부 S2로부터 박스 공간으로 유입하여 배출 Bo로 배출된다. 따라서, 밸브 Vco×n의 마개 폐쇄 및 밸브 Vci×n, Vsi, Vcir, Vbo, 및 Vso의 마개 개방 상태에서는, 공급 Ci×n으로부터 공급된 질소가 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 빠지는 흐름이 강하게 형성되어 있다. 또한, 공급 Cir로부터 공급된 질소가 포인트(C)로부터 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 빠지는 흐름도 형성되어 있다. 즉, 노즐 유닛(50)의 왕복 이동에 의해서 슬라이더 공간내의 기체가 교반되어도, 챔버 공간→개구부 S1→슬라이더 공간의 기체 플로우가 형성되어 있으므로, 슬라이더 공간내의 기체가 챔버 공간으로 유출되는 경우는 적다. 또한, 슬라이더 공간내의 기체가 챔버 공간으로 유출된 경우라도, 포인트(C)로부터 개구부 S1으로 향하는 질소의 흐름이 형성되어 있으므로, 슬라이더 공간으로부터의 기체가 챔버 공간의 전면 방향, 즉 도포전의 기판(P)이 적재되어 있는 방향으로 흐른다. 따라서, 가령 슬라이더 공간에 산소가 잔존하고 있다고 해도 포인트(C)로 산소가 유출하는 것을 방지할 수 있어, 도 8에서 도시한 도포 처리 시간 중의 산소 농도가 상승하는 것을 방지할 수 있다. 즉, 기판(P)에 도포후의 도포액이 산화하는 것을 방지할 수 있다.

이와 같이, 제6의 실시형태에서는, 제5의 실시형태에 있어서의 효과에 추가해, 도포 처리중에 있어서의 포인트(C)의 산소 농도의 상승을 방지할 수 있다. 또한, 상술한 동작에서는, 배면측 기체 공급부(75)로부터 항상 질소가 공급되는데, 도포 동작 일부의 기간에서만 배면측 기체 공급부(75)로부터 질소를 공급해도 상관없다. 적어도 기판(P)에 대한 도포 처리중에 있어서 배면측 기체 공급부(75)로부터 질소를 포인트(C)에 공급하면, 다른 기간에 있어서 밸브 Vcir의 마개를 닫아도 상관없다.

또한, 도 34에 도시하는 바와 같이, 제1 박스(61)의 저면 부근에 배기를 더 형성해도 상관없다. 도 34에 있어서, 제1 박스(61)의 전면측 저부 근방에 배기관(72)이 더 접속되고, 배기관(72)을 통해 챔버 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Cou; 배출 Cou로 한다). 그리고, 제1 박스(61)의 전면측 저부 근방에 접속되는 배기관(72)에 밸브 Vcou(밸브 Vcou로 한다)가 설치된다.

도포 처리전에 밸브 Vci×n, Vsi, Vcir, Vco×n, Vcou, Vbo, 및 Vso의 마개를 연 경우, 공급 Ci×n로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입하여 공급 Cir로부터 공급된 질소와 합류한 후, 제1 박스(61)의 배면에 있는 배출 Co×n 및 배출 Cou로 배출된다. 또한, 챔버 공간내에서 합류한 질소는, 개구부 S1로부터 슬라이더 공간으로 유입한다. 그리고, 슬라이더 공간내에 유입한 질소는, 공급 Si로부터 공급된 질소와 합류한다. 슬라이더 공간내에서 합류한 질소는, 배출 So로 배출되거나, 또는 개구부 S2로부터 박스 공간으로 유입하여 배출 Bo로 배출된다. 따라서, 도포 처리전에 챔버 공간내의 기체가 상기 챔버 공간의 저부에 설치된 배출 Cou로부터 배출되는 흐름이 형성되어 있다. 이에 따라, 상술한 효과에 추가해 챔버 공간내에 낙하하는 미세 먼지를 챔버 공간외로 배출할 수 있어, 챔버 공간내의 미세 먼지 대책으로서의 효과를 기대할 수 있다.

한편, 도포 처리중에 밸브 Vco×n의 마개 폐쇄 및 밸브 Vci×n, Vsi, Vcir, Vcou, Vbo, 및 Vso의 마개 개방의 경우, 공급 Ci×n로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 개구부 S1로부터 슬라이더 공간으로 유입 또는 배출 Cou로 배출된다. 또한, 공급 Cir로부터 공급된 질소는, 챔버 공간의 포인트(C)를 유동한 후, 개구부 S1로부터 슬라이더 공간에 유입된다. 그리고, 슬라이더 공간으로 유입된 질소는, 공급 Si로부터 공급된 질소와 합류한다. 합류된 질소는, 배출 So로 배출되거나, 또는 개구부 S2로부터 박스 공간으로 유입하여 배출 Bo로 배출된다. 따라서, 밸브 Vco×n의 마개를 닫거나, 및 밸브 Vci×n, Vsi, Vcir, Vcou, Vbo, 및 Vso의 마개를 연 상태에서는, 공급 Ci×n으로부터 공급된 질소가 배출 Cou로 배출되는 흐름이 형성되어 있는데, 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 빠지는 흐름이 도포 처리전보다 강하게 형성되어 있다. 또한, 공급 Cir로부터 공급된 질소가 포인트(C)로부터 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 빠지는 흐름도 형성되어 있다. 배출 Cou가 설치되어도, 챔버 공간→개구부 S1→슬라이더 공간의 기체 플로우가 형성되어 있으므로, 슬라이더 공간내의 기체가 챔버 공간으로 유출되는 경우는 적다. 또한, 슬라이더 공간내의 기체가 챔버 공간으로 유출한 경우라도, 포인트(C)로부터 개구부 S1를 향하는 질소의 흐름이 형성되어 있고, 유출한 기체가 챔버 공간 전방으로 흘러 배출 Cou로 배출된다. 즉, 도포 처리중 및 도포 처리후의 도포액이 존재하는 공간(개구부 S1보다 Y축 정방향측이 되는 챔버 공간 후방)으로 슬라이더 공간으로부터 유출한 기체가 흐르지 않기 때문에, 슬라이더 공간으로부터의 기체가 챔버 공간의 전면 방향, 즉 도포전의 기판(P)이 적재되어 있는 방향으로 흐른다. 따라서, 가령 슬라이더 공간에 산소가 잔존하고 있다고 해도 포인트(C)에 산소가 유출하는 것을 방지할 수 있고, 도 8에서 도시한 도포 처리 시간 중의 산소 농도가 상승하는 것을 방지할 수 있다. 즉, 기판(P)에 도포후의 도포액이 산화하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 도포 처리중에 있어서도, 챔버 공간내의 기체가 상기 챔버 공간의 저부에 설치된 배출 Cou로 배출되는 흐름이 형성되어 있으므로, 도포 처리중에 챔버 공간내에 낙하하는 미세 먼지를 챔버 공간외로 배출할 수 있어, 챔버 공간내의 미세 먼지 대책으로서의 효과를 기대할 수 있다.

또한, 상술한 제5 및 제6의 실시 형태에 있어서의 박스 공간이나 슬라이더 공간에 설치되는 공급관 및 배기관(즉, 공급 Si, 배출 So, 배출 Bo)은, 각각 복수 개여도 상관없다. 또한, 챔버 공간에 설치된 공급관 및 배기관(즉, 공급 Ci×n, 배출 Co×n)은, 각각 1개의 배관이어도 상관없다. 상술한 것과 같은 유체 밸런스를 조정하면, 1개의 배관이나 복수 개의 배관이라도 본 발명의 효과를 얻을 수 있다.

또한, 상술한 제5 및 제6의 실시 형태에 있어서의 슬라이더 공간에 설치되는 공급관(즉, 공급 Si)은, 설치않아도 된다. 공급 Si가 없는 경우, 슬라이더 공간에서 합류하는 질소가 없어질 뿐이고, 상술한 유체 밸런스를 조정하면 동일한 효과를 얻을 수 있는 것은 말할 필요도 없다.

또한, 상술한 제5 및 제6의 실시 형태에 있어서의 제3 박스(63), 배출 So, 및 공급 S1를 생략해도 상관없다. 즉, 유기 EL 도포 기구(5)는, 제2 박스(62)로 포위되는 박스 공간내에 설치되게 된다. 이 경우, 도포 처리전에 대해서는, 챔버 공간에 공급된 질소는, 배출 Co×n로 배출, 또는 개구부 S1→박스 공간으로 유동하여 배출 Bo로 배출된다. 또한, 도포 처리중에 대해서는, 챔버 공간에 공급된 질소는, 개구부 S1→박스 공간으로 유동하여, 배출 Bo로 배출된다. 즉, 제3 박스(63), 배출 So, 및 공급 Si를 설치하지 않아도, 챔버 공간에 공급된 질소가 개구부 S1를 통과해 박스 공간으로 빠지는 흐름이 형성되어 있다. 즉, 노즐 유닛(50)의 왕복 이동에 의해서 박스 공간내의 기체가 교반되어도, 챔버 공간→개구부 S1→박스 공간의 기체 플로우가 형성되어 있으므로, 박스 공간내의 기체가 챔버 공간으로 유출하는 경우는 적다. 따라서, 가령 박스 공간에 산소가 잔존하고 있다고 해도 챔버 공간으로 산소가 유출하는 것을 방지할 수 있다.

또한, 상기 단계 S76 등의 동작에서는, 산소 농도 검지부(88)에 의한 산소 농도 검지 결과가 산소 농도 관리치 이하를 표시하는 것을 기다려, 그 후에 도포 처리가 개시되는 순서를 나타냈는데, 다른 방법으로 도포 처리를 개시해도 상관없다. 예를 들면, 미리 도포 장치에 공급하는 질소의 유량이나 압력과 포인트(C)가 산소 농도 관리치 이하로 되는 도달 시간(도 8 참조)의 관계를 조사해 놓는다. 그리고, 실제로 공급하는 질소의 유량이나 압력과 공급 시간을 이용해, 포인트(C)에 있어서의 산소 농도 관리를 행해도 상관없다. 이 경우, 질소의 공급을 개시한 후에 소정의 시간(도달 시간)이 경과하는 것을 기다려, 그 후에 도포 처리를 개시하게 된다.

(제7의 실시 형태)

이하, 도 35∼도 38을 참조하여, 본 발명의 제7의 실시형태에 관한 도포 장 치(1)에 설치되는 국소 분위기 생성 기구에 대해서 설명한다. 또한, 도 35는, 상기 국소 분위기 생성 기구의 개략 구성을 도시하는 평면도이다. 도 36은, 상기 국소 분위기 생성 기구의 개략 구성을 도시하는 측단면도이다. 도 37은, 그 전면의 일부를 절결하여 제3 박스(63)의 외관을 도시하는 사시도이다. 도 38은, 제3 박스(63) 내부의 개략 구성을 도시하는 측단면도이다. 도 6은, 질소 투입구의 구조를 도시하는 단면도이다. 또한, 상술한 국소 분위기 생성 기구와 동일한 구성 요소에 대해서는, 동일한 참조 부호를 붙여 상세한 설명을 생략한다.

도 35∼도 38에 있어서, 도포 장치(1)는, 제1 박스(61), 제2 박스(62), 및 제3 박스(63)에 의해서, 각각 외부로부터 차폐되어 설치된다. 제1 박스(61)는, 기판 적재 장치(2)가 도시하는 Y축 방향으로 왕복 이동하는 공간(이하, 챔버 공간으로 기재한다)을 포위하여 외부로부터 차폐하도록 설치된다. 또한, 제1 박스(61)는, 노즐(52)이 챔버 공간으로 돌출하여 왕복 이동하기 위한 개구부 S1를 제외하고, 챔버 공간과 유기 EL 도포 기구(5)가 설치되는 공간과의 사이를 칸막이하도록 설치된다.

제3 박스(63)는, 유기 EL 도포 기구(5)가 설치되는 공간을 포함하고, 노즐 유닛(50) 등이 도시하는 X축 방향으로 왕복 이동하는 공간(이하, 슬라이더 공간으로 기재한다)을 포위하여 설치된다. 또한, 제3 박스(63)도, 노즐(52)이 슬라이더 공간으로부터 챔버 공간으로 돌출하여 왕복 이동하기 위한 개구부 S1가 형성되어 있다(도 37 및 도 38 참조). 또한, 제7의 실시형태에서는, 제3 박스(63)에 있어서 Z축 방향으로 세워져 설치된 Y축 부방향측의 벽면(이하, Y축 부방향측의 벽면을 전 면으로 한다)에 개구부 S1가 형성되어 있다. 그리고, 개구부 S1의 상부의 제3 박스(63) 전면 내벽에 에어막 생성 기구(9)가 설치된다.

또한, 제3 박스(63)의 상면에는, 제1∼제3 공급부(54a∼54c)로부터 유기 EL 재료를 각각 노즐(52a∼52c)에 공급하기 위한 배관(도시하지 않음)을 통과시키기 위한 개구부 S2가 형성된다. 또한, 노즐 유닛(50)에 정압 베어링이 설치되는 경우, 상기 정압 베어링에 기체를 공급하기 위한 배관은, 제3 박스(63)의 측벽에 형성되는 개구를 통해서 접속된다.

제2 박스(62)는, 제1 박스(61)의 상부 공간을 포위하여 설치된다. 제2 박스(62)의 내부에는, 유기 EL 도포 기구(5) 및 제3 박스(63)가 설치되고, 제2 박스(62)에도 노즐(52)이 슬라이더 공간으로부터 챔버 공간으로 돌출하여 왕복 이동하기 위한 개구부 S1가 형성되어 있다. 또한, 제2 박스(62)로 포위된 공간 내, 슬라이더 공간을 제외한 공간을 박스 공간으로 기재한다. 이와 같이, 도포 장치(1)는, 제1∼제3 박스(61∼63)에 의해서, 챔버 공간, 슬라이더 공간, 및 박스 공간에 각각 칸막이되어 설치된다. 또한, 제1∼제3 박스(61∼63)는, 모두 상면이 형성되어 있는데, 도 35에 있어서는 내부와의 관계를 알기쉽게 하기 위해서, 상면이나 하면을 생략하고, 사선 또는 교선 영역에서 측벽만을 도시한다.

제1∼제3 박스(61∼63)에는, 그 내부 공간에 질소 등의 불활성 가스(이하, 간단히 질소로 기재한다)를 공급하기 위한 공급관(71)과, 그 내부 공간의 기체를 배출하기 위한 배기관(72)이 접속된다. 본 실시예에서는, 공급관(71)이 제1 박스(61)의 전면 및 제3 박스(63)에 설치된 에어막 생성 기구(9)에 접속되어 있다. 도 36의 예에서는, 복수의 공급관(71a∼71c)이 제1 박스(61)의 벽면에 접속되고, 공급관(71d)이 제3 박스(63)의 에어막 생성 기구(9)에 접속되어 있다. 또한, 도 35에서는, 공급관(71d)을 생략하고 있다.

또한, 배기관(72)이, 제2 박스(62)의 Y축 정방향측의 벽면(이하, Y축 정방향측의 벽면을 배면으로 기재한다) 및 제3 박스(63)의 배면에 접속되어 있다. 도 36의 예에서는, 배기관(72d)이 제2 박스(62)의 벽면에 접속되고, 배기관(72c)이 제3 박스(63)의 벽면에 접속되어 있다. 또한, 도 35에서는, 배기관(72c)을 생략하고 있다.

도 36에 도시하는 바와 같이 공급관(71) 및 배기관(72)을 접속한 경우, 공급관(71a∼71c)으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간으로 공급되어 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 유입한다. 그리고, 슬라이더 공간으로 유입된 질소는, 공급관(71d)으로부터 에어막 생성 기구(9)에 공급된 질소와 합류한다. 그리고, 합류한 질소는, 슬라이더 공간의 배면의 배기관(72c)으로부터 유출되거나, 혹은 개구부 S2를 통과해 박스 공간으로 유입된 후, 배기관(72d)으로부터 유출하는 흐름으로 된다.

도 36∼도 38에 도시하는 바와 같이, 에어막 생성 기구(9)는, 제3 박스(63)에 형성된 개구부 S1 전면을 차단하는 에어막(도 38에 도시하는 NC)을 생성한다. 구체적으로는, 노즐(52)이 개구부 S1로부터 챔버 공간으로 돌출하여 X축 방향으로 왕복 이동하므로, 개구부 S1는, X축 방향을 장축 방향으로 한 슬릿상으로 형성되어 있다. 그리고, 에어막 생성 기구(9)는, 개구부 S1와 동일하게 X축 방향으로 연장 설치되고, 개구부 S1의 상부로부터 Z축 부방향으로 흐르는 에어막을 생성한다. 에어막 생성 기구(9)에는, 개구부 S1의 상부 전체 길이에 걸쳐 Z축 부방향을 향해 개구한 슬릿상의 분사구가 형성되어 있고, 상기 분사구로부터 에어가 띠형상으로 분사된다. 바람직하게는, 에어막 생성 기구(9)는, 제3 박스(63)의 내부에 설치된다.

여기서, 상술한 바와 같이, 에어막 생성 기구(9)에는 공급관(71d)이 접속되어 있고, 에어막 생성 기구(9)의 분사구로부터 분사되는 기체는 공급관(71d)으로부터 공급되는 질소이다. 따라서, 개구부 S1를 차단하도록 생성되는 에어막은, 엄밀하게는 공기의 막이 아니라 질소 등의 불활성 가스로 구성된 띠형상의 기체막이다. 이하의 설명에 있어서는, 에어막 생성 기구(9)가 생성하는 질소의 막을 질소 커튼(NC)으로 기재한다.

에어막 생성 기구(9)로부터 분사되는 질소 커튼(NC)은, 개구부 S1를 차단하도록 제3 박스(63)의 전면에 따라 상기 개구부 S1에 대해 제3 박스(63)의 내측을 통과한 후, 제3 박스(63)의 내부 저면에 닿도록 생성된다. 여기서, 제3 박스(63)가 포위하는 슬라이더 공간내의 기체는, 그 배면에 접속된 배기관(72c)으로 유출하는, 혹은 개구부 S2를 통과해 박스 공간으로 유입된 후, 배기관(72d)으로 유출된다. 즉, 질소 커튼(NC)에 의한 질소의 기류는, 제3 박스(63)의 내부 저면에 닿은 후, 상기 제3 박스(63)의 배면측으로 흐르거나, 또는 상기 제3 박스(63)의 상면측으로 흐르게 된다. 따라서, 질소 커튼(NC)에 의한 질소의 기류는, 개구부 S1로부터 챔버 공간으로 유출되는 경우는 적다.

또한, 상술한 바와 같이, 유기 EL 도포 기구(5)에 포함되는 노즐 이동 기구 부(51)는, 노즐 유닛(50)을 가이드 부재(511)에 따라 X축 방향으로 왕복 이동시킨다. 노즐 이동 기구부(51)는, 예를 들면, 한쌍의 풀리 및 구동 벨트(도시하지 않음)를 구비한다. 한쌍의 풀리는, 가이드 부재(511)의 양단 위치 부근에 설치되어 있고, 상기 풀리간에 구동 벨트가 X축 방향으로 걸쳐진다. 그리고, 노즐 유닛(50)은, 구동 벨트의 일부에 접속된다. 즉, 노즐 이동 기구부(51)는, 한쪽 풀리가 회전하는데 따라 구동 벨트가 회전하면, 상기 구동 벨트의 이동에 따라 노즐 유닛(50)도 가이드 부재(511)에 따라 X축 방향으로 왕복 이동한다. 이와 같이, 노즐 이동 기구부(51)는, 노즐 유닛(50)을 왕복 이동시킬 때, 풀리와 구동 벨트와의 접촉에 의해서 먼지 발생원이 된다. 또한, 다른 구동 방식을 이용해 노즐 유닛(50)을 왕복 이동시키는 경우도, 기계적인 접촉 등에 의해서 노즐 이동 기구부(51)가 먼지 발생원이 되는 경우가 많다. 그러나, 노즐 이동 기구부(51)가 개구부 S1 및 S2를 제외하고 제3 박스(63)로 포위되어 있으므로, 제3 박스(63)는, 노즐 이동 기구부(51)에서 발생한 미세 먼지가 챔버 공간으로 유출되는 것을 방지하는 기능도 갖고 있다. 또한, 제3 박스(63)가 포위하는 슬라이더 공간내에서 발생한 미세 먼지는, 질소 커튼(NC)에 차단됨으로써, 개구부 S1로부터 챔버 공간으로 유출되지 않는다.

다음에, 도 39를 참조하여, 제7의 실시형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우 및 처리 동작에 대해서 설명한다. 또한, 도 39는, 제7의 실시형태에 관한 도포 장치(1)에 있어서의 질소 유동 플로우를 도시하는 모식도이다. 또한, 도 39에 있어서는, 설명을 간단히 하기 위해서, 도포장치(1)에 대해서, 제1∼ 제3 박스(61∼63), 챔버 공간, 박스 공간, 및 챔버 공간만을 도시하여 간략화하고 있다.

도 39에 있어서, 제1 박스(61)의 전면에 복수의 공급관(71)이 접속되고, 복수 개 공급관(71)을 통해 질소가 챔버 공간에 공급된다(도시하는 화살표 Ci×n; 공급 C1×n으로 한다). 예를 들면, 공급 Ci×n은, 도 36에 도시한 공급관(71a∼71c)에 상당한다. 구체적으로는, 가로로 병렬하여 접속되는 3개의 공급관(71a) 및 가로로 병렬하여 접속되는 3개의 공급관(71b)으로 구성되는 합계 6개의 공급관(71)이 제1 박스(61)의 전면에 접속된다. 이들 공급관(71)은, 도 6을 참조하여 설명한 구조와 동일한 접속 방식으로 접속된다. 또한, 상기 6개의 공급관(71)에 공급관(71c)을 추가해 제1 박스(61)의 전면에 접속해도 상관없다. 또한, 제3 박스(63)의 전면에 공급관(71)이 접속되고, 공급관(71)으로부터 에어막 생성 기구(9)를 통해 질소가 슬라이더 공간에 공급된다(도시하는 화살표 NCi; 공급 NCi로 한다). 예를 들면, 공급 NCi는, 도 36에 도시한 공급관(71d) 및 에어막 생성 기구(9)에 상당한다.

또한, 제2 박스(62)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 박스 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 Bo; 배출 Bo로 한다). 또한, 제3 박스(63)의 배면에 배기관(72)이 접속되고, 배기관(72)을 통해 슬라이더 공간내의 기체가 배출된다(도시하는 화살표 So; 배출 So로 한다). 또한, 제2 박스(62) 및 제3 박스(63)의 배면에 접속되는 복수의 배기관(72)에 대해서는, 도 36을 참조하여 설명한 구조와 동일한 접속 방식으로 접속된다.

공급 Ci×n로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 개구부 S1로부터 공급 NCi로부터 공급된 질소와 합류하여 슬라이더 공간에 유입된다. 그리고, 슬라이더 공간내에 유입된 질소는, 배출 So로 배출되거나, 또는 개구부 S2로부터 박스 공간으로 유입하여 배출 Bo로 배출된다. 따라서, 챔버 공간의 한쪽측의 복수 개소로부터 공급된 질소가 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 각각 빠지는 흐름이 형성되어 있다. 이와 같이, 복수의 공급관을 통해 챔버 공간에 질소를 공급하면서, 개구부 S1를 통해 박스 공간 또는 슬라이더 공간의 배기관으로 배출하기 위해서, 챔버 공간, 슬라이더 공간, 및 박스 공간내에 있어서의 기체가 질소 분위기로 치환된다. 그리고, 도 36에 도시한 포인트(C)에 있어서의 산소 농도도 저하하기 때문에, 상기 산소 농도가 산소 농도 관리치 이하까지 도달하는 것을 기다린다.

그리고, 제1∼제3 박스(61∼63)내(구체적으로는, 포인트(C))의 산소 농도가 산소 농도 관리치 이하에 도달했을 때, 기판(P)에 대한 도포 처리를 개시한다. 이 때, 도포 장치(1)에 대한 질소의 공급 및 기체의 배출이 계속되므로, 공급 Ci×n로부터 공급된 질소는, 챔버 공간에 유입된 후, 개구부 S1로부터 공급 NCi로부터 공급된 질소와 합류하여 슬라이더 공간에 유입된다. 그리고, 슬라이더 공간으로 유입된 질소는, 배출 So로 배출되거나, 또는 개구부 S2로부터 박스 공간으로 유입하여 배출 Bo로 배출된다. 따라서, 챔버 공간의 한쪽측으로부터 공급된 질소가 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 빠지는 기류가 형성되어 있다. 즉, 노즐 유닛(50)의 왕복 이동에 의해 슬라이더 공간내의 기체가 교반되어도, 챔버 공간→개구부 S1→슬라이더 공간의 기체 플로우가 형성되어 있으므로, 슬라이더 공간내의 기 체가 챔버 공간으로 유출되는 경우는 적고, 개구부 S1로부터 포인트(C)로의 방향으로 기체가 흐르지 않는다. 또한, 개구부 S1를 차단하도록 질소 커튼(NC)이 형성되어 있으므로, 슬라이더 공간내의 기체가 챔버 공간으로 유출되지 않는다. 따라서, 가령 슬라이더 공간에 산소가 잔존하고 있다고 해도 챔버 공간(포인트(C))으로 산소가 유출되는 것을 방지할 수 있어, 도 8에서 도시한 도포 처리 시간 중의 산소 농도가 상승하는 것을 방지할 수 있다.

또한, 상술한 바와 같이, 노즐 이동 기구부(51)는, 노즐 유닛(50)을 왕복 이동시킴으로써 먼지 발생원이 되어, 슬라이더 공간내에 미세 먼지가 생기는 경우가 있다. 그러나, 에어막 생성 기구(9)가 생성하는 질소 커튼(NC)에 의해서 개구부 S1가 차단되므로, 슬라이더 공간내의 미세 먼지가 챔버 공간으로 유출되지 않는다. 따라서, 기판(S)에 대한 도포 처리중에, 슬라이더 공간으로부터 기판(S) 상으로 이물이 낙하하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 개구부 S1는, 스테이지(21)를 횡단하는 방향을 길이 방향으로 하여 제3 박스(63)의 측면에 형성되어 있는데, 개구부 S1의 짧은 칫수 방향이 되는 상하 방향으로 기류가 흐르는 질소 커튼(NC)을 생성함으로써, 효율적으로 개구부 S1를 차단할 수 있다.

또한, 상기 실시 형태에서, 에어막 생성 기구(9)는, 개구부 S1의 상부의 X축 방향으로 연장하여 설치되고, Z축 부방향으로 흐르는 질소 커튼(NC)을 생성하는 예를 설명했는데, 다른 방향으로 흐르는 질소 커튼(NC)을 생성해도 괜찮다. 예를 들면, 에어막 생성 기구(9)를 개구부 S1의 하부의 X축 방향으로 연장하여 설치하고, Z축 정방향으로 흐르는 질소 커튼(NC)을 생성해도 괜찮다. 또한, 에어막 생성 기 구(9)를 제3 박스(63)의 내부에 설치했는데, 제3 박스(63)에 형성된 개구부 S1를 차단하는 질소 커튼(NC)을 생성할 수 있으면, 제3 박스(63)의 외부에 설치해도 상관없다.

(제8의 실시 형태)

이하, 도 40 및 도 41을 참조하여, 본 발명의 제8의 실시형태에 관한 도포 장치(1)에 설치되는 국소 분위기 생성 기구에 대해서 설명한다. 또한, 도 40은, 상기 국소 분위기 생성 기구의 개략 구성을 도시하는 측단면도이다. 도 41은 제3 박스(63) 내부의 개략 구성을 도시하는 측단면도이다. 또한, 제8의 실시 형태는, 상술한 제7의 실시 형태에 대해 개구부 S1의 형성 방향 및 에어막 생성 기구(9)의 설치 방향이 다르고, 다른 구성 요소는 제7의 실시 형태와 동일하다. 따라서, 제8의 실시 형태에서는, 제7의 실시 형태와 동일한 구성 요소에는 동일한 참조 부호를 붙여 상세한 설명을 생략한다.

도 40 및 도 41에 있어서, 개구부 S1은 제3 박스(63)의 저면에 형성되어 있고, 노즐(52)이 상기 개구부 S1로부터 챔버 공간으로 돌출하여 왕복이동한다. 즉, 노즐(52)은 제3 박스(63)의 하방으로 돌출하게 된다. 그리고, 제3 박스(63)는, 개구부 S1 및 개구부 S2를 제외하고, 유기 EL 도포 기구(5)를 포위하도록 설치된다. 에어막 생성 기구(9)는, 개구부 S1의 Y축 부방향측(도 40에 도시하는 우측이고, 전면측)의 제3 박스(63) 저면 내벽에 설치된다. 그리고, 공급관(71d)이 제3 박스(63)의 에어막 생성 기구(9)에 접속된다.

에어막 생성 기구(9)는, 제3 박스(63)의 저면에 형성된 개구부 S1 전면을 차 단하는 질소 커튼(NC)을 생성한다. 구체적으로는, 노즐(52)이 개구부 S1로부터 챔버 공간으로 돌출하여 X축 방향으로 왕복 이동하므로, 개구부 S1는, 제7의 실시 형태와 동일하게 X축 방향을 장축 방향으로 한 슬릿상으로 형성되어 있다. 그리고, 에어막 생성 기구(9)는, 개구부 S1과 동일하게 X축 방향으로 연장하여 설치되고, 개구부 S1의 전면측으로부터 Y축 정방향으로 흐르는 질소 커튼(NC)을 생성한다. 에어막 생성 기구(9)에는, 개구부 S1의 전면측 전체 길이에 걸쳐 Y축 정방향을 향해 개구한 슬릿상의 분사구가 형성되어 있고, 상기 분사구로부터 질소가 띠형상으로 분사된다. 바람직하게는, 에어막 생성 기구(9)는, 제3 박스(63)의 내부에 설치된다.

에어막 생성 기구(9)로부터 분사되는 질소 커튼(NC)은, 개구부 S1를 차단하도록 제3 박스(63)의 저면에 따라 상기 개구부 S1에 대해 제3 박스(63)의 내측을 통과한 후, 제3 박스(63)의 후면측으로 흐른다. 여기서, 제3 박스(63)가 포위하는 슬라이더 공간내의 기체는, 그 배면에 접속된 배기관(72c)으로 유출되거나, 혹은 개구부 S2를 통과해 박스 공간으로 유입된 후, 배기관(72d)으로 유출된다. 즉, 질소 커튼(NC)에 의한 질소의 기류는, 제3 박스(63)의 후면측으로 흐른 후, 배기관(72c)으로 유출되거나, 혹은 개구부 S2를 통과해 박스 공간으로 유입하게 된다. 즉, 질소 커튼(NC)에 의한 질소의 기류는, 저면에 형성된 개구부 S1이거나 상기 개구부 S1로부터 챔버 공간으로 유출되지 않는다. 따라서, 제8의 실시 형태에 관한 에어막 생성 기구(9)에 의하면, 슬라이더 공간내의 미세 먼지가 챔버 공간으로 유출되지 않고, 기판(S)에 대한 도포 처리중에, 슬라이더 공간으로부터 기판(S) 상으 로 이물이 낙하하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 제8의 실시 형태에 관한 에어막 생성 기구(9)에 의하면, 도포 처리 중에 있어서 슬라이더 공간으로부터 챔버 공간으로 기체가 유출되지 않고, 도포 처리 기간 중의 산소 농도의 상승을 방지할 수 있다. 또한, 개구부 S1는, 스테이지(21)를 횡단하는 방향을 칫수 방향으로 하여 제3 박스(63)의 저면에 형성되어 있는데, 개구부 S1의 짧은 칫수 방향이 되는 수평 방향으로 기류가 흐르는 질소 커튼(NC)을 생성함으로써, 효율적으로 개구부 S1를 차단할 수 있다.

또한, 제8의 실시 형태에서, 에어막 생성 기구(9)는, 개구부 S1의 전면측의 X축 방향으로 연장하여 설치되고, Y축 정방향으로 흐르는 질소 커튼(NC)을 생성하는 예를 설명했는데, 다른 방향으로 흐르는 질소 커튼(NC)을 생성해도 상관없다. 예를 들면, 에어막 생성 기구(9)를 개구부 S1의 후면측의 X축 방향으로 연장하여 설치하고, Y축 부방향으로 흐르는 질소 커튼(NC)을 생성해도 상관없다. 또한, 에어막 생성 기구(9)를 제3 박스(63)의 내부에 설치했는데, 제3 박스(63)에 형성된 개구부 S1를 차단하는 질소 커튼(NC)을 생성할 수 있으면, 제3 박스(63)의 외부에 설치해도 상관없다.

또한, 에어막 생성 기구(9)에 질소 등의 불활성 가스를 공급함으로써, 그 분사구로부터 상기 불활성 가스를 분사하여 슬라이더 공간 내부의 산소 농도를 저하시키는 효과도 얻어지는 양태를 이용해 설명했는데, 이러한 효과를 기대하지 않는 경우, 에어막 생성 기구(9)로부터 다른 기체를 분사해도 상관없다. 예를 들면, 에어막 생성 기구(9)의 분사구로부터 공기를 띠형상으로 분사함으로써, 개구부 S1를 차단하는 공기의 막(에어 커튼)을 형성한다. 이에 따라, 슬라이더 공간내의 미세 먼지가 챔버 공간으로 유출되는 것을 방지하는 효과를 얻을 수 있어, 기판(S)에 대한 도포 처리중에 슬라이더 공간으로부터 기판(S) 상으로 이물이 낙하하는 것을 방지할 수 있다.

또한, 상술한 제7 및 제8의 실시 형태에 있어서의 박스 공간이나 슬라이더 공간에 설치되는 공급관 및 배기관(즉, 공급 Ci×n, 공급 NCi, 배출 So, 배출 Bo)은, 각각 복수 개이거나 1개의 배관이어도 상관없다. 상술한 것과 같은 유체 밸런스를 조정하면, 1개의 배관이거나 복수 개의 배관이라도 본 발명의 효과를 얻을 수 있다.

또한, 상술한 제7 및 제8의 실시 형태에 있어서의 슬라이더 공간이나 박스 공간에 대해, 에어막 생성 기구(9)에 질소를 공급하기 위한 공급관(71d) 이외에, 별도의 공급관을 설치해도 된다. 슬라이더 공간이나 박스 공간으로의 질소 공급을 증가시킴으로써, 슬라이더 공간이나 박스 공간에서 합류하는 질소량이 증가할 뿐이고, 상술한 유체 밸런스를 조정하면 동일한 효과를 얻을 수 있는 것은 말할 필요도 없다. 또한, 챔버 공간내의 기체를 직접 배출하는 배기관을 제1 박스(61)에 설치해도 상관없다. 이에 따라, 챔버 공간내의 기체가 직접적으로 질소 분위기로 치환되므로, 챔버 공간 전체가 질소 분위기로 치환되는 속도가 빨라지는 (도 8에 있어서의 도달 시간이 짧아진다)효과를 기대할 수 있다.

또한, 상술한 제7 및 제8의 실시 형태에 있어서의 제2 박스(62) 및 배출 Bo를 생략해도 상관없다. 즉, 유기 EL 도포 기구(5)는, 제3 박스(63)만으로 포위되 어 설치되게 된다. 이 경우, 챔버 공간에 공급된 질소는, 개구부 S1 부근에서 공급 NCi와 합류하여 배출 So 또는 개구부 S2로 배출된다. 즉, 제2 박스(62) 및 배출 Bo를 설치하지 않아도, 챔버 공간에 공급된 질소가 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 빠지는 흐름이 형성되어 있다. 또한, 노즐 유닛(50)의 왕복 이동에 의해서 슬라이더 공간내의 기체가 교반되어도, 질소 커튼(NC)에 의해서 슬라이더 공간내의 미세 먼지가 챔버 공간으로 유출되지 않고, 기판(S)에 대한 도포 처리중에, 슬라이더 공간으로부터 기판(S) 상으로 이물이 낙하하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 질소 커튼(NC)에 의해서, 도포 처리중에 있어 슬라이더 공간으로부터 챔버 공간으로 기체가 유출되지 않아, 도포 처리 시간 중의 산소 농도의 상승을 방지할 수 있다.

또한, 노즐 유닛(50)의 왕복 이동에 의해서 슬라이더 공간내의 미세 먼지가 기판(S) 상에 낙하하는 것을 방지하는 효과만 기대하는 경우, 상술한 제7 및 제8의 실시 형태에 있어서의 제1 박스(61), 제2 박스(62), 공급 Ci×n, 및 배출 Bo를 생략하여, 에어막 생성 기구(9)로부터 다른 기체를 분사해도 상관없다. 즉, 유기 EL 도포 기구(5)는, 제3 박스(63)만으로 포위되어 설치되고, 기판 적재 장치(2) 등의 다른 기구가 외부로부터 차폐되지 않는 양태로 된다. 그리고, 에어막 생성 기구(9)의 분사구로부터 공기를 띠형상으로 분사함으로써, 개구부 S1를 차단하는 공기의 막(에어 커튼)을 형성한다. 이 경우, 노즐 유닛(50)의 왕복 이동에 의해서 슬라이더 공간내의 기체가 교반되어도, 슬라이더 공간내의 미세 먼지가 챔버 공간으로 유출하는 것을 방지하는 효과가 얻어져, 기판(S)에 대한 도포 처리중에 슬라이 더 공간으로부터 기판(S) 상으로 이물이 낙하하는 것을 방지할 수 있다.

(제9의 실시형태)

이하, 도 42∼도 45를 참조하여, 본 발명의 제9의 실시 형태에 관한 도포 장치(1)에 설치되는 국소 분위기 생성 기구에 대해서 개요를 설명한다. 여기서, 상술한 바와 같이, 유기 EL 재료는, 산화함으로써 품질이 열화하기 때문에, 유기 EL 재료를 기판에 도포할 때는, 유기 EL 재료의 산화를 방지할 필요가 있다. 여기서, 본 실시 형태에 있어서는, 기판(P)의 주위의 산소 농도를 관리하기 위해, 유기 EL 도포 기구(5)는, 국소 분위기 생성 기구를 구비한다. 이하, 도 42∼도 45를 참조하여 국소 분위기 생성 기구에 대해서 설명한다.

도 42는, 본 발명의 제9의 실시형태에 관한 도포 장치(1)에 설치되는 국소 분위기 생성 기구의 개략 구성을 도시하는 측단면도이다. 도 42에 있어서, 도포 장치(1)는, 국소 분위기 생성 기구로서, 제1 박스(61), 제2 박스(62), 제3 박스(63) 및 칸막이 부재(10)를 구비한다. 또한, 제1∼제3 박스(61∼63)는, YZ 평면에 평행한 측면이 모두 형성되는데, 도 42에 있어서는 박스 내부의 관계를 알기 쉽게 하기 위해서 상기 측면을 생략한다.

우선, 각 박스(61∼63)에 대해서 설명한다. 도 42에 있어서, 도포 장치(1)는, 제1 박스(61), 제2 박스(62) 및 제3 박스(63)에 의해서, 각각 외부로부터 차폐되어 설치된다. 제1 박스(61)는, 기판 적재 장치(2)가 도시하는 Y축 방향으로 왕복 이동하는 공간(이하, 챔버 공간으로 기재한다)을 포위하여 외부로부터 차폐하도록 설치된다. 또한, 제1 박스(61)는, 각 노즐(52a∼52c)이 챔버 공간으로 돌출하 여 왕복 이동하기 위한 개구부 S1를 제외하고, 챔버 공간과 유기 EL 도포 기구(노즐 이동 기구부(51) 및 노즐 유닛(50))가 설치되는 공간과의 사이를 칸막이하도록 설치된다.

제3 박스(63)는, 유기 EL 도포 기구가 설치되는 공간을 포함하고, 노즐 유닛(50) 등이 도시하는 X축 방향으로 왕복 이동하는 공간(이하, 슬라이더 공간으로 기재한다)을 포위하여 설치된다.

제2 박스(62)는, 제1 박스(61)의 상부 공간을 포위하도록 설치된다. 제2 박스(62)의 내부에는, 유기 EL 도포 기구를 그 내부에 갖는 제3 박스(63)가 설치되고, 제2 박스(62)에도 제3 박스(63)와 동일하게, 각 노즐(52a∼52c)이 슬라이더 공간으로부터 챔버 공간으로 돌출하여 왕복 이동하기 위한 개구부 S1가 형성되어 있다. 또한, 제2 박스(62)로 포위된 공간 내, 슬라이더 공간을 제외한 공간을 박스 공간으로 기재한다. 이상과 같이, 도포 장치(1)는, 제1∼제3 박스(61∼63)에 의해서, 챔버 공간, 슬라이더 공간, 및 박스 공간으로 각각 칸막이되어 설치된다.

제1∼제3 박스(61∼63)에는, 그 내부 공간에 질소를 공급하기 위한 공급관(71)과, 그 내부 공간의 기체를 배출하기 위한 배기관(72)이 접속된다. 도 42의 예에서는, 공급관(71)이 제1 박스(61)의 전면에 접속되어 있다. 또한, 도 42의 예에서는, 복수의 공급관(71a∼71c)이 제1 박스(61)의 벽면에 접속되어 있다. 또한, 배기관(72)이 제2 박스(62)의 배면에 접속되어 있다. 이와 같이 공급관(71) 및 배기관(72)을 접속한 경우, 공급관(71)으로부터 공급된 질소는, 챔버 공간으로 공급되고, 개구부 S1를 통과해 슬라이더 공간으로 유입되고, 개구부 S2를 통과해 박스 공간으로 유입된 후, 배기관(72)으로 유출되는 흐름이 된다.

또한, 제1 박스(61)에는, 기판(P)의 반입 및 반출을 하기 위한 투입구가 형성된다. 투입구는, 회전축을 중심으로 회전(도시하는 화살표 방향)하는 게이트(76)에 의해 개폐 가능하게 되어 있다. 기판(P)은, 투입구가 개방된 상태에서, 반송 로봇(도시하지 않음)에 의해 챔버 공간내에 반입되고, 스테이지(21) 상에 적재된다. 또한, 도포 장치(1)에 의해서 도포 처리가 행해질 때는, 상기 게이트(611)가 폐쇄됨으로써 챔버 공간내가 외부로부터 차폐된다.

도 42의 설명으로 되돌아가, 제1 박스(61)와 공급관(71a) 및 (71b)을 접속하는 부근에는 확산부(73)가 설치된다. 구체적으로, 확산부(73)는, 공급관(71a) 및 (71b)로부터 제1 박스(61)의 내부 공간에 유입되는 입구 부근의 상기 내부 공간측에 설치된다.

이상과 같이, 도포 장치(1)는, 각 박스(61∼63)에 의해서 둘러싸이는 각 공간을 저산소 분위기로 하기 위한 구성을 갖는다. 여기서, 유기 EL 재료의 산화를 방지하기 위해서는 챔버 공간내 모든 산소 농도를 저하시키면 되는데, 가장 산소 농도를 저하시키지 않으면 안되는 공간은, 각 노즐(52a∼52c)로부터 유기 EL 재료를 토출하는 공간, 및, 도포후의 기판(P)이 Y축 정방향측으로 순차 이송되는 공간(도 42에 도시하는 공간(C))이다. 예를 들면, 유기 EL 재료를 기판(P)에 도포할 때의 산소 농도의 상한을 산소 농도 관리치로 한 경우, 적어도 공간(C)에 있어서의 산소 농도가 산소 농도 관리치를 만족하지 않으면 안된다. 따라서, 공간(C)에 있어서의 산소 농도가 산소 농도 관리치 이하로 저하하기까지의 시간을 단축할 수 있 으면, 도포 장치(1)를 효율적으로 가동시킬 수 있다. 즉, 도포 장치(1)의 처리 효율을 향상하기 위해서는, 공간(C)에 있어서의 산소 농도를 단시간에서 저하시키는 것이 중요하다.

그래서, 공간(C)을 국소적으로 단시간에 저산소 상태로 하기 위해, 도포 장치(1)는, 국소 분위기 생성 기구로서 칸막이 부재(10)를 더 구비한다. 칸막이 부재(10)는, 공간(C)을 주위의 공간과 칸막이하는 부재이다. 도 43은 칸막이 부재(10)의 외관을 도시하는 사시도이다. 도 44는, 칸막이 부재(10)의 구성을 도시하는 평면도이다. 즉, 도 44(a)는 칸막이 부재(10)의 상면도(Z축 정방향측에서 본 도면)이고, 도 44(b)는 칸막이 부재(10)의 측면도(X축 부방향측에서 본 도면)이고, 도 44(c)는 칸막이 부재(10)의 하면도(Z축 부방향측에서 본 도면)이고, 도 44(d)는 칸막이 부재(10)의 다른 전면도(Y축 부방향측에서 본 도면)이다. 또한, 도 43에서는, 도면을 보기 쉽게 할 목적으로, 칸막이 부재(10) 외에 기판(P), 스테이지(21) 및 선회부(22)만을 도시한다.

칸막이 부재(10)는 그 내부에 공간을 갖는 상자형의 형상이고, 그 외관은 한쪽면이 개구한 대략 직육면체 형상이다. 또한, 칸막이 부재(10)에는, 상기 한쪽면의 개구부(91) 외에 구멍(92∼94)이 형성되어 있다. 본 실시 형태에서는, 칸막이 부재(10)의 상면 및 하면이 되는 차폐판의 폭(X축 방향의 길이)은 기판(P)의 폭보다도 크고, 칸막이 부재(10)의 내부에 기판(P)을 반입하는 것이 가능하다. 또한, 칸막이 부재(10)는, 챔버 공간내에 배치되고, 상기 공간(C)이 그 내부 공간에 포함되도록 배치된다. 또한, 칸막이 부재(10)는, 기판(P)이 이동하는 측으로 개구부 (91)를 향하도록 배치된다. 구체적으로, 기판(P)은 Y축 부방향측으로부터 이동해 오므로(도 43에 도시하는 화살표 참조), 개구부(91)가 Y축 부방향측을 향하도록 칸막이 부재(10)가 배치된다. 또한, 칸막이 부재(10)는, 그 상면이 제1 박스 상면의 내측에 고정 설치된다(도 42 참조).

칸막이 부재(10)에는, 도포 장치(1)의 다른 부재의 배치가 방해되지 않도록 복수의 구멍(92∼94)이 형성된다. 구체적으로는, 도 44(a)에 도시하는 바와 같이, 칸막이 부재(10)의 상면에는, 각 노즐(52a∼52c)의 이동 방향 (즉, X축 방향)에 따라 제1 구멍(92)이 형성된다. 도 43에는 도시하지 않지만, 각 노즐(52a∼52c)은, 이 제1 구멍(92)에 위치하도록 배치된다. 도포 동작시에 있어서, 각 노즐(52a∼52c)은 제1 구멍(92)에 따라 X축 방향으로 이동한다. 즉, 제1 구멍(92)은, 칸막이 부재(10)가 도포 처리에 있어서의 각 노즐(52a∼52c)의 이동이 방해되는 것을 방지할 목적으로 형성된다.

도 44(b)에 도시하는 바와 같이, 칸막이 부재(10)의 양측면에는 제2 구멍(93)이 형성된다. 도 43에는 도시하지 않지만, 액 수용부(53)는, 이 제2 구멍(93)의 위치에 배치된다. 각 노즐(52a∼52c)은 이 제1 구멍(92)에 위치하 도록 배치된다. 즉, 제2 구멍(93)은, 칸막이 부재(10)가 액 수용부(53)의 배치에 방해가 되는 것을 방지할 목적으로 형성된다. 또한, 액 수용부(53)에 의해서 제2 구멍(93)을 막도록 하면, 칸막이 부재(10)의 내부 공간의 밀폐성을 높일 수 있어, 칸막이 부재(10)의 내부 공간을 보다 단시간에 저산소 분위기로 하는 것이 가능하다.

도 44(c)에 도시하는 바와 같이, 칸막이 부재(10)의 하면에는, 개구부(91)와 연결된 제3 구멍(94)이 형성된다. 제3 구멍(94)은, 기판 적재 장치(2)가 통과하는 부분에 형성된다. 도포 처리에 있어서, 기판(P)을 적재한 스테이지(21) 및 기판 적재 장치(2)는, 도포가 진행함에 따라서 점차로 Y축 정방향으로 이동하는데, 제3 구멍(94)은, 칸막이 부재(10)가 기판 적재 장치(2)의 이동에 방해가 되는 것을 방지할 목적으로 형성된다.

또한, 도포 장치(1)는, 칸막이 부재(10)의 내부 공간에 불활성 가스(질소)를 공급하는 공급 수단을 가진다. 구체적으로는, 상기 공급 수단으로서, 도 42에 도시하는 공급관(78)이 칸막이 부재(10)에 접속된다. 도 9에 도시한 공급계로부터의 질소는, 이 공급관(78)을 통해 칸막이 부재(10)의 내부 공간(공간 C)에 공급된다. 또한 본 실시 형태에서는, 도 44(d)에 도시하는 바와 같이, 공급관(78)을 통해 공급되는 질소의 공급구는 칸막이 부재(10)의 후면(Y축 정방향측의 면)의 내벽에 설치된다. 이 공급구에는, 도 6에 도시한 확산부(73)와 동일한 구성인 확산부(96)가 설치된다. 즉, 도 44(d)에 도시하는 바와 같이, 칸막이 부재(10)의 후면의 내벽에는 펀칭 메탈(95)이 설치된다. 또한, 펀칭 메탈(95) 속에는 도시하지 않은 확산판이 설치된다.

이하, 도포 장치(1)에 의해서 도포 처리가 행해질 때 있어서의 동작을 설명한다. 도포 장치(1)에 의해서 기판(P)에 도포를 행할 때는, 우선, 도 9에 도시하는 공급계는, 공급관(71)으로부터 제1∼제3 박스(61∼63)내에 질소를 공급한다. 또한, 공급계는, 공급관(78)으로부터 칸막이 부재(10)의 내부 공간 (공간 C)에 질소를 공급한다. 또한, 도 9에 도시하는 배기계로부터의, 제1∼제3 박스(61∼63)내 의 기체를 배기관(72)으로 배출한다. 또한, 공급계로부터의 질소의 공급 및 배기계에 의한 배기는, 예를 들면 제어부(3)에 의해서 제어되어도 되고, 예를 들면 사용자에 의해서 제어되어도 된다. 이상에 의해, 챔버 공간, 박스 공간 및 슬라이더 공간은 질소 분위기로 되고, 산소 농도가 저하한다.

여기서, 본 실시 형태에서, 공간(C)은 칸막이 부재(10)에 의해서 주위의 챔버 공간과 칸막이되어 있고, 또한, 공급관(78)으로부터 공간(C)로 질소가 직접 공급된다. 따라서, 공간(C)의 산소 농도는, 칸막이 부재(10)의 외부의 다른 챔버 공간의 산소 농도와 비교해서 단시간에 상기 산소 농도 관리치에 도달한다. 또한, 칸막이 부재(10)의 내부 공간은 챔버 공간보다도 작기때문에, 칸막이 부재(10)의 내부 공간의 산소 농도가 산소 농도 관리치에 도달하기까지의 시간은, 칸막이 부재(10)를 이용하지 않고 공급관(71)만에 의해 챔버 공간 전체를 질소 분위기로 하는 경우에 비해서 짧아진다. 이와 같이, 본 실시 형태에 의하면, 필요한 공간(공간(C))을 국소적으로 단시간에 저산소 분위기로 할 수 있다. 따라서, 도포 장치(1)에 의한 도포 처리를 보다 빠르게 개시할 수 있으므로, 도포 장치(1)를 효율적으로 가동할 수 있다.

공간(C)의 산소 농도가 산소 농도 관리치에 도달하면, 상술한 바와 같이 제어부(3)는 도포 장치(1)에 의한 도포 처리를 개시한다. 즉, 기판(P)이 초기 위치에 오도록 스테이지(21)가 Y축 방향으로 이동된다. 또한, 이 초기 위치는, 기판(P)에서 Y축 방향으로 나란히 형성된 복수 개의 홈 중, 가장 Y축 정방향측에 있는 홈의 바로 위에 노즐(52a)이 위치하는 위치이다. 즉, 초기 상태에 있어서는, 기판 (P)의 도포 영역중에서 Y축 정방향측의 단부 부근이 각 노즐(52a∼52c)의 밑에 온다. 그 후, 도포 장치(1)에 의한 도포 처리가 행해짐으로써, 기판(P)은 Y축 정방향으로 점차 이동한다. 즉, 기판(P)은, 도포 처리가 진행함에 따라서 칸막이 부재(10)의 개구부로부터 내부 공간으로 진입해 간다.

도 45는, 기판(P)에 대한 도포 처리가 완료한 시점의 칸막이 부재(10)와 기판(P)의 위치 관계를 도시하는 도면이다. 도 45에 도시하는 바와 같이, 도포 처리의 완료시에 있어서는, 기판(P)의 거의 전체(적어도, 도포가 행해진 모든 부분)가 칸막이 부재(10)의 내부로 진입한 상태가 된다. 또한, 본 실시형태에 있어서는, 도포 처리중에 있어서도 공급관(78)으로부터 칸막이 부재(10)의 내부 공간에 질소가 공급된다. 이 때문에, 칸막이 부재(10)의 내부 공간의 산소 농도가 항상 산소 농도 관리치 이하로 유지되어, 기판(P)에 도포된 유기 EL 재료의 산화를 보다 확실히 방지할 수 있다.

또한, 상술한 바와 같이, 본 실시 형태에서는 칸막이 부재(10)의 후면의 내벽으로부터 질소가 공급된다. 이 때문에, 칸막이 부재(10)의 내부 공간에 있어서의 질소의 흐름은, 안측으로부터 개구부(91)로 향하는 방향이 되므로, 이 흐름에 의해서, 칸막이 부재(10)의 외부로부터 상대적으로 높은 산소 농도의 기체가 유입되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 칸막이 부재(10)의 후면의 내벽으로부터 질소를 공급함으로써, 칸막이 부재(10)의 내부 공간에 있어서의 산소 농도의 상승을 확실하게 방지할 수 있다.

또한, 도포 처리중에 있어서, 공간(C)에 있어서의 산소 농도가 산소 농도 관 리치를 넘는 것을 방지하기 위해서, 도포 처리중에 있어서도 공급관(71)으로부터의 질소 공급 및 배기관(72)으로부터의 기체 배출이 계속된다. 여기서, 노즐 유닛(50)이나 노즐(52a∼52c)이 X축 방향으로 왕복 이동함으로써, 슬라이더 공간내의 기체나 개구부 S1 부근의 기체가 교반된다. 따라서, 예를 들면 슬라이더 공간내에 산소가 잔존하는 경우, 상기 산소가 교반에 의해 챔버 공간(공간(C))으로 유출하여 챔버 공간에 있어서의 산소 농도를 상승시킨다. 즉, 챔버 공간에 있어서의 산소 농도의 관리에 있어서는, 도포 처리전 및 도포 처리중의 유체 밸런스를 고려할 필요가 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 슬라이더 공간내나 박스 공간내도 저산소 분위기로 치환함으로써, 도포 처리 중에 있어서의 산소 농도의 상승을 방지한다.

또한, 공간(C)에 있어서의 산소 농도를 안정시키기 위해서는, 제1∼제3 박스(61∼63) 내의 압력도 중요하다. 예를 들면, 제1∼제3 박스(61∼63)가 외부에 대해 완전 밀폐 구조가 아닌 경우, 제1∼제3 박스(61∼63) 내의 압력이 대기압 미만(즉, 외부보다 낮은 압력)으로 유지되면 외부의 기체가 제1∼제3 박스(61∼63) 내로 유입된다. 따라서, 본 실시 형태에서는, 제1∼제3 박스(61∼63) 내의 압력을 대기압 이상(즉, 외부와 동일하거나 또는 높은 압력)으로 유지할 수 있도록, 도포 처리전 및 도포 처리중의 유체 밸런스가 조정된다. 이에 따라, 제1∼제3 박스(61∼63)가 외부에 대해 완전 밀폐 구조가 아니라도, 공간(C)에 있어서의 산소 농도의 관리를 행할 수 있다.

이상과 같이, 본 실시 형태에 의하면, 질소가 공급되는 챔버 공간의 내부에 있어서 칸막이 부재(10)를 설치함으로써, 단시간에 저산소 분위기로 되는 공간을 국소적으로 생성한다. 그리고, 도포 처리가 행해진 기판 영역이 상기 공간에 이동하도록 기판을 이동시킨다. 이에 따라, 도포 처리를 개시하기까지의 시간을 단축할 수 있으므로, 도포 장치(1)를 효율적으로 가동할 수 있다.

또한, 상기 실시 형태에서는, 칸막이 부재(10)의 내부 공간에 질소를 공급하는 경우, 칸막이 부재(10)의 후면의 내벽으로부터 질소를 공급하는 것으로 했다. 여기서, 다른 실시 형태에서는, 칸막이 부재(10)의 상면의 내벽으로부터 질소를 공급하도록 해도 된다. 이에 의하면, 도포액이 도포된 기판 상면의 근방으로부터 질소가 공급되므로, 기판 상면을 효과적으로 저산소 분위기로 할 수 있다. 또한, 칸막이 부재(10)의 상면의 내벽으로부터 질소를 공급하는 경우, 공급구로부터 공급되는 질소의 유속을 저감하기 위해서, 상술한 확산판 및 펀칭 메탈(도 6 참조)을 공급구에 설치하는 것이 특히 유효하다. 또한, 다른 실시 형태에 있어서는, 칸막이 부재(10)의 하면의 내벽으로부터 질소를 공급하도록 해도 된다. 이에 의하면, 공급구로부터 공급되는 질소가 기판의 도포면에 직접 분사되지 않으므로, 도포 직후의 도포액에 악영향을 주지 않는다. 또한, 다른 실시 형태에 있어서는, 칸막이 부재(10)의 각 면(상하면, 좌우면 및 후면)의 내벽에 질소의 공급구를 형성하도록 해도 된다. 이에 의하면, 칸막이 부재(10)의 내부 공간을 균일하게 저산소 분위기로 할 수 있다.

또한, 상기 실시 형태에 있어서, 칸막이 부재(10)의 개구부(91)는, 노즐(52a∼52c)에 비해서, 기판이 이동하는 측에 보다 가까운 위치에 형성되었다. 따라서, 기판은, 개구부(91)를 통과하고 나서 노즐(52a∼52c) 밑을 통과하도록 이동하게 되 므로, 도포액의 도포가 행해진 후의 기판 영역뿐만 아니라, 도포액의 도포가 행해지는 도중의 기판 영역도 칸막이 부재(10)의 내부 공간에 포함시킬 수 있다. 즉, 도포액의 도포가 행해진 후의 기판영역뿐만 아니라, 도포액의 도포가 행해지는 도중의 기판 영역도 단시간에 저산소 분위기로 할 수 있다. 이에 따라, 도포액의 산화를 보다 효과적으로 방지할 수 있다. 또한, 다른 실시 형태에 있어서는, 도포액의 도포가 행해진 후의 기판 영역만이 칸막이 부재(10)의 내부 공간에 포함되도록 해도 된다. 구체적으로, 노즐(52a∼52c)의 위치보다도 Y축 정방향측에 개구부(91)가 위치하는 구성으로 해도 된다. 이 경우, 칸막이 부재(10)가 노즐(52a∼52c)의 이동을 방해하지 않으므로, 칸막이 부재(10)에 구멍(92)을 형성할 필요는 없다.

또한, 상기 실시 형태에서 나타낸 칸막이 부재(10)의 형상은 일례이고, 칸막이 부재(10)는, 그 내부 공간과 외부 공간을 칸막이하는 것이면 어떠한 형상이라도 된다. 칸막이 부재(10)의 내부 공간과 외부 공간을 칸막이할 수 있으면, 상기 내부 공간을 국소적으로 저산소 분위기로 할 수 있기 때문이다. 상기 실시 형태에 있어서, 칸막이 부재(10)는, 상면, 하면, 측면, 및 후면을 갖는 형상이지만, 예를 들면, 제1 박스(61)의 상면이 칸막이 부재(10)의 상면을 겸하도록 해도 된다. 또한, 상기 실시 형태에 있어서 구멍(92∼94)이 형성된 것으로부터도 알 수 있듯이, 칸막이 부재(10)는, 그 내부 공간과 외부 공간을 완전히 칸막이할 필요는 없고, 상기 내부 공간을 국소적으로 저산소 분위기로 할 수 있는 정도면 된다.

도포 장치(1)에 있어서의 도포 처리가 완료한 기판(P)은, 도시하지 않은 반송 로봇에 의해 도포 장치(1)로부터 반출된다. 반출된 기판(P)에 대해서는, 기판 (P)의 유효 영역 이외의 영역에 도포된 유기 EL 재료가 제거된다. 제거 처리는, 기판(P) 상의 유기 EL 재료를 제거하는 방법이면 어떠한 방법이어도 되고, 예를 들면, 레이저 제거에 의해서 유기 EL 재료를 제거하는 방법이어도 되고, 제거 영역에 미리 마스킹 테이프(masking tape)를 붙여놓는 방법이어도 된다. 그리고, 제거 처리가 완료한 기판(P)에 대해 건조 처리(베이크 처리)가 행해진다. 이상에 따라서, 적색의 유기 EL 재료에 대해서 도포·건조 처리가 완료되게 된다. 이 후, 기판(P)에 대해서는, 적색의 경우와 동일하게, 녹색 및 청색의 유기 EL 재료에 대해서 도포·건조처리가 행해진다. 즉, 녹색의 유기 EL 재료를 도포하는 처리, 도포된 녹색의 유기 EL 재료를 건조시키는 처리, 청색의 유기 EL 재료를 도포하는 처리, 및, 도포된 청색의 유기 EL 재료를 건조시키는 처리가 순서대로 행해진다. 이와 같이 적색, 녹색 및 청색의 유기 EL 재료에 대해서 도포·건조 처리가 행해짐에 따라, 유기 EL 표시 장치의 발광층이 형성된다. 또한, 발광층이 형성된 기판에 대해 예를 들면 진공 증착법에 의해 음극 전극이 발광층상에 형성됨으로써, 유기 EL 표시 장치가 제조된다.

또한, 상술한 제1∼제9의 실시 형태에 있어서는, 노즐 유닛(50)에 정압 베어링이 설치되는 경우, 상기 정압 베어링에 질소 등의 불활성 가스를 공급해도 된다. 이에 따라, 정압 베어링을 구성하기 위해서 공급하는 기체에 산소가 포함되지 않으므로, 또한 슬라이더 공간내의 산소 농도를 저하시킬 수 있다.

또한, 상술한 제1∼제9의 실시 형태에서는, 적색, 녹색, 및 청색 중, 적색의 유기 EL 재료를 3개 1그룹의 노즐(52a∼52c)에서 기판(P)의 홈 내로 흘려넣는데, 이 도포 공정은, 유기 EL 표시 장치를 제조하는 도중 공정이다. 유기 EL 표시 장치를 제조할 때의 처리 순서는, 정공 수송 재료(PEDOT)도포→건조→적색의 유기 EL 재료 도포→건조→녹색의 유기 EL 재료 도포→건조→청색의 유기 EL 재료 도포→건조의 순서로 된다. 이 경우, 본 발명의 도포 장치는, 정공 수송 재료, 적색의 유기 EL 재료, 녹색의 유기 EL 재료 및 청색의 유기 EL 재료를 각각 도포하는 공정에 이용할 수 있다.

또한, 상술한 제1∼제9의 실시 형태에서는, 노즐(52a∼52c)로부터 적색, 녹색, 및 청색의 유기 EL 재료를 각각 토출해도 된다. 이 경우, 적색, 녹색, 및 청색의 순서대로 배열된, 소위, 스트라이프 배열이 1개의 도포 공정으로 형성된다. 또한, 상술한 실시 형태에서는, 3개 1그룹의 노즐(52a∼52c)에서 기판(P)의 각 홈내로 유기 EL 재료를 흘려넣는데, 이 3개 1그룹의 노즐(52a∼52c)을 복수 그룹 형성해 기판(P)의 각 홈내에 유기 EL 재료를 흘려넣어도 상관없다.

또한, 상술한 제1∼제9의 실시 형태에서는, 도포액으로서 유기 EL 재료나 정공 수송 재료를 도포액으로 한 유기 EL 표시 장치의 제조 장치를 일례로서 설명했는데, 본 발명은 다른 도포 장치에도 적용할 수 있다. 예를 들면, 레지스트액이나 SOG(Spin On Glass)액이나 PDP(플라즈마 디스플레이 패널)를 제조하는데 사용되는 형광 재료를 도포하는 장치에도 적용할 수 있다. 또한, 액정 컬러 디스플레이를 컬러 표시하기 위해서 액정 셀 내에 구성되는 컬러 필터를 제조하기 위해서 사용되는 색재를 도포하는 장치에도 적용할 수 있다.

본 발명에 관한 도포 장치 및 도포 방법은, 다양한 도포액을 노즐로부터 토 출하는 방법이나 장치 등으로서 유용하다.

이상, 본 발명을 상세히 설명했는데, 전술의 설명은 모든 점에서 본 발명의 예시에 지나지 않고, 그 범위를 한정하고자 하는 것이 아니다. 본 발명의 범위를 일탈하지 않고 다양한 개량이나 변형을 행할 수 있는 것은 물론이다.

상기 제1의 국면에 의하면, 국소적인 공간을 소정 기체로 치환하여 도포 처리를 행할 수 있다. 예를 들면, 질소 등의 불활성 가스를 국소적으로 공급함으로써, 국소적인 저산소 분위기를 생성하는 것이 가능해지고, 도포 처리에 있어서의 도포액의 산화를 방지할 수 있다. 따라서, 한정된 공간을 원하는 분위기로 치환하여 도포 처리를 행할 수 있으므로, 원하는 도포 환경에서의 처리를 행하면서 치환을 위해 공급되는 기체의 소비량을 억제할 수 있다. 또한, 한정된 범위의 공간내의 기체를 치환하기 때문에, 사람이 그 공간에 들어가는 것에 의한 위험 요소를 배제할 수 있다.

상기 제2의 국면에 의하면, 외부 공간으로부터 차폐하는 박스 내부를 국소적으로 소정 기체로 치환하여 도포 처리를 행할 수 있다. 예를 들면, 질소 등의 불활성 가스를 박스 내부에 공급함으로써, 박스 내부를 저산소 분위기로 치환하는 것이 가능해지고, 도포 처리에 있어서의 도포액의 산화를 방지할 수 있다. 따라서, 한정된 공간을 원하는 분위기로 치환하여 도포 처리를 행할 수 있으므로, 원하는 도포 환경에서의 처리를 행하면서 치환을 위해 공급되는 기체의 소비량을 억제할 수 있다. 또한, 한정된 범위의 공간내의 기체를 치환하기 때문에, 사람이 그 공간 에 들어가는 것에 의한 위험 요소를 배제할 수 있다.

상기 제3의 국면에 의하면, 스테이지가 기판을 적재해 이동하는 공간이 제1 박스로 포위되기 때문에, 스테이지 상에 적재된 도포후의 기판 주변의 분위기도 관리할 수 있다.

상기 제4의 국면에 의하면, 최소한의 개구부를 제외하고 노즐을 왕복이동시키는 기구와의 사이가 칸막이되므로, 왕복 이동에 의해서 생기는 기체 교반의 영향이 제1 박스 내에 미치는 것을 방지할 수 있다.

상기 제5의 국면에 의하면, 제1 박스내의 기체가 배기구로 직접적으로 배출되기 때문에, 제1 박스 내의 기체의 치환이 신속하게 행해진다.

상기 제6의 국면에 의하면, 제1 박스에 제1의 공급구와 배기구가 마주 대하는 면에 설치되기 때문에, 제1의 공급구로부터 공급된 기체가 제1 박스 내를 통과하고 나서 배출된다. 따라서, 제1 박스 내에 치환전에 존재한 기체가 잔존하는 것을 방지할 수 있어, 소정 기체를 제1 박스내 전체에 동일하게 퍼지게 할 수 있다.

상기 제7의 국면에 의하면, 제1 박스 내에 복수의 제1의 공급구로부터 소정 기체가 공급되기 때문에, 상기 제1 박스내로의 기체 공급이 일부분에 집중하지 않는다. 또한, 제1 박스내의 기체가 복수의 배기구로 배출되기 때문에, 상기 제1 박스내로부터의 기체 배출이 일부분에 집중하지 않는다. 따라서, 공급하는 기체를 제1 박스내 전체에 동일하게 퍼지게 할 수 있다.

상기 제8의 국면에 의하면, 제1 박스내에 낙하하는 미세 먼지 등을 제1 박스 외로 배출할 수 있어, 박스내의 미세 먼지 대책으로서의 효과를 기대할 수 있다.

상기 제9의 국면에 의하면, 도포 처리 시에 노즐 등이 왕복 이동함으로써 생기는 기체 교반의 영향이 제1 박스내에 미치는 것을 생각할 수 있는데, 상기 왕복 이동을 위한 공간을 다시 제2 박스로 덮음으로써 상기 제2 박스내의 기체도 소정 기체로 치환된다. 따라서, 기체 교반의 영향이 제1 박스내에 미치더라도, 제2 박스내에서 치환후의 기체가 제1 박스내에 유출되게 되므로, 노즐 동작 중에 있어서도 제1 박스내의 기체 분위기를 안정시킬 수 있다.

상기 제10의 국면에 의하면, 제2 박스내의 기체가 배기구로부터 직접적으로 배출되기 때문에, 제2 박스내의 기체의 치환이 신속하게 행해진다.

상기 제11의 국면에 의하면, 제1 박스와 연통하는 최소한의 개구부를 이용하여, 제1 박스로부터 제2 박스로 소정 기체를 공급할 수 있다.

상기 제12의 국면에 의하면, 제2 박스내를 제3 박스로 칸막이함으로써, 제2 박스 전체의 내부 기체를 치환하는 것보다 비교적 제3 박스내의 치환이 신속하게 행해진다. 또한, 제3 박스는 제2 박스에 포위되어 있으므로, 외부 기체의 영향을 받기 어렵다. 따라서, 제3 박스내의 기체 분위기가 조기에 안정하여 치환되므로, 제3 박스내의 기체 교반의 영향이 제1 박스내에 미치더라도, 치환후의 기체가 제1 박스내에 유출하게 되어, 노즐 동작 중에 있어서도 제1 박스내의 기체 분위기를 안정시킬 수 있다.

상기 제13의 국면에 의하면, 제1 박스와 제3 박스와의 사이를 연통하는 최소한의 개구부, 및 제3 박스와 제2 박스와의 사이를 연통하는 개구부를 이용하여, 제1 박스로부터 제2 박스 및 제3 박스로 소정 기체를 공급할 수 있다.

상기 제14의 국면에 의하면, 제3 박스에 직접적으로 소정 기체가 공급되므로, 제3 박스내의 기체의 치환이 신속하게 행해진다.

상기 제15의 국면에 의하면, 제3 박스내의 기체가 배기구로부터 직접적으로 배출되므로, 제3 박스내의 기체의 치환이 신속하게 행해진다.

상기 제16의 국면에 의하면, 국소적으로 소정 기체를 공급하여, 도포액의 도포를 소정 산소 농도 분위기에서 행함으로써, 도포 처리에 있어서의 도포액의 산화를 방지할 수 있다. 그리고, 한정된 공간을 소정 산소 농도 분위기로 치환하기 때문에, 치환을 위해 공급되는 기체의 소비량을 억제할 수 있다. 또한, 기판을 반입하고 나서 산소 농도가 소정 산소 농도에 도달하기까지의 도달 시간을 단축하는 효과가 뛰어난 접속 양태와, 소정 산소 농도에 도달한 후에 도포 처리중 등에 있어서의 산소 농도가 안정되는 효과가 뛰어난 접속 양태를 바꿈으로써, 양자의 효과를 양립시킬 수 있다.

상기 제17의 국면에 의하면, 도포 처리에 있어서의 산소 농도를 자동적으로 검출하여, 적절한 타이밍에서 유로를 바꿀 수 있다.

상기 제18의 국면에 의하면, 노즐의 왕복 이동이 개시되어 제2 박스내의 기체가 교반되어도, 제1 박스→개구부→제2 박스로 흐르는 기체 플로우가 형성되어 있으므로, 제2 박스내의 기체가 제1 박스내로 유출되는 경우가 적고, 개구부로부터 소정 공간의 방향으로 기체가 흐르지 않는다. 따라서, 제2 박스내에 산소가 잔존하고 있다고 해도 소정 공간에 산소가 유출하는 것을 방지할 수 있어, 도포 처리 시간 중의 산소 농도가 상승하는 것을 방지할 수 있다.

상기 제19 및 제20의 국면에 의하면, 도포액이 토출되는 공간 및 도포액이 도포되어 기판이 적재되는 공간의 산소 농도가 관리되므로, 도포중 및 도포후의 도포액의 산화를 방지할 수 있다.

상기 제21의 국면에 의하면, 직접적으로 소정 공간에 소정 기체가 공급되므로, 또한 도포 처리 중에 있어서의 산소 농도의 상승을 방지할 수 있다. 예를 들면, 제2 박스내의 기체가 개구부에서 제1 박스로 유출된 경우라도, 소정 공간으로부터 개구부로 향하는 기체의 흐름이 형성되어 있으므로, 제2 박스로부터의 기체가 제1 박스의 소정 공간과는 반대 방향, 즉 도포 전의 기판이 적재되어 있는 방향으로 흐른다. 따라서, 가령 제2 박스내에 산소가 잔존하고 있다고 해도 소정 공간으로 산소가 유출하는 것을 방지할 수 있어, 도포 처리 시간중 등의 산소 농도가 상승하는 것을 방지할 수 있다.

상기 제22의 국면에 의하면, 제1 박스내의 기체가 상기 제1 박스의 저부에 설치된 제3의 배기구로부터 배출되는 흐름이 형성되어 있으므로, 제1 박스내에 낙하하는 미세 먼지 등을 제1 박스외로 배출할 수 있어, 제1 박스내의 미세 먼지 대책으로서의 효과를 기대할 수 있다.

상기 제23의 국면에 의하면, 소정 공간에 복수 개소로부터 소정 기체가 공급되므로, 상기 소정 공간내로의 기체 공급이 일부분에 집중하지 않는다. 또한, 소정 공간내의 기체가 복수 개소로 배출되므로, 상기 소정 공간 내부로부터의 기체 배출이 일부분에 집중하지 않는다. 따라서, 공급하는 소정 기체를 소정 공간내 전체에 동일하게 퍼지게 할 수 있다.

상기 제24∼제26의 국면에 의하면, 노즐 이동 기구는, 노즐을 왕복 이동시킴으로써 먼지 발생원이 되는 경우가 있는데, 기체막 생성 기구가 생성하는 기체막에 의해서 박스의 개구부가 차단되므로, 발생한 미세 먼지가 기판측으로 유출되는 일은 없다. 따라서, 기판에 대한 도포 처리 중에, 상기 기판상에 이물이 낙하하는 것을 방지할 수 있다.

상기 제27의 국면에 의하면, 예를 들면 스테이지면을 횡단하는 방향을 긴 칫수 방향으로 하여 박스 측면에 형성된 개구부에 대해, 그 개구부의 짧은 칫수 방향이 되는 상하 방향으로 기류가 흐르는 기체막을 생성함으로써, 효율적으로 개구부를 차단할 수 있다.

상기 제28의 국면에 의하면, 예를 들면 스테이지면을 횡단하는 방향을 긴 칫수 방향으로 하여 박스 저면에 형성된 개구부에 대해, 그 개구부의 짧은 칫수 방향이 되는 수평 방향으로 기류가 흐르는 기체막을 생성함으로써, 효율적으로 개구부를 차단할 수 있다.

상기 제29의 국면에 의하면, 박스 내부에 생긴 미세 먼지 등의 이물을 외부로 배출할 수 있다.

상기 제30의 국면에 의하면, 국소적으로 불활성 가스를 공급하여, 도포액의 도포를 저산소 농도 분위기로 행함으로써, 도포 처리에 있어서의 도포액의 산화를 방지하고, 또한 열화 또는 기능 저하를 방지할 수 있다. 그리고, 불활성 가스가 분사된 기체막으로 개구부를 차단함으로써, 개구부로부터 기판측으로 기체가 유출되는 것을 방지할 수 있어, 도포 처리 중 등에 있어서의 산소 농도를 안정시킬 수 있다.

상기 제31의 국면에 의하면, 스테이지 상에 적재된 기판이 노즐 밑을 통과함으로써 기판에 대한 도포가 행해진다. 또한, 기판은, 도포가 행해짐에 따라서 칸막이 부재의 내부 공간에 진입한다. 즉, 기판은, 제1 가스 공급 수단에 의해서 불활성 가스가 공급됨으로써 저산소 분위기로 되어 있는 공간에 진입하므로, 기판에 도포된 도포액의 산화를 방지할 수 있다. 또한, 칸막이 부재에 의해서 내부 공간이 외부 공간과 칸막이되어 있으므로, 상기 내부 공간을 단시간에 저산소 분위기로 할 수 있다. 이에 따라, 도포 장치에 의한 도포를 개시하기까지의 시간을 단축할 수 있으므로, 도포 장치의 처리 효율을 향상시킬 수 있다.

상기 제32의 국면에 의하면, 스테이지는 개구부를 통과하고 나서 노즐 밑을 통과하도록 이동하므로, 도포가 행해지는 위치는 칸막이 부재의 내부가 된다. 따라서, 저산소 분위기 중에서 기판에 대한 도포를 행할 수 있으므로, 도포액의 산화를 보다 확실하게 방지할 수 있다. 또한, 칸막이 부재에 구멍이 형성됨으로써 칸막이 부재가 노즐 이동에 방해가 되지 않으므로, 노즐을 확실히 동작시킬 수 있다.

상기 제33의 국면에 의하면, 칸막이 부재의 하면 중에서, 스테이지 이동 기구부가 통과하는 영역에 구멍이 형성되므로,칸막이 부재가 스테이지 이동 기구부 이동에 방해되지 않고, 스테이지 이동 기구부를 확실히 동작시킬 수 있다.

상기 제34의 국면에 의하면, 기판 전체를 칸막이 부재의 내부 공간에 넣을 수 있으므로, 기판에 도포된 도포액의 산화를 보다 확실히 방지할 수 있다.

상기 제35의 국면에 의하면, 박스 내의 공간 전체에 대해서도 불활성 가스가 공급되므로, 기판에 도포된 도포액의 산화를 보다 확실하게 방지할 수 있다.

상기 제36의 국면에 의하면, 국소적인 공간을 소정의 기체로 치환하여 도포 처리를 행할 수 있다. 예를 들면, 질소 등의 불활성 가스를 국소적으로 공급함으로써, 국소적인 저산소 분위기를 생성하는 것이 가능해져, 도포 처리에 있어서의 도포액의 산화를 방지할 수 있다. 따라서, 한정된 공간을 원하는 분위기로 치환하여 도포 처리를 행할 수 있으므로, 원하는 도포 환경에서의 처리를 행하면서 치환을 위해 공급되는 기체의 소비량을 억제할 수 있다. 또한, 한정된 범위의 공간내의 기체를 치환하기 때문에, 사람이 그 공간에 들어가는 것에 의한 위험 요소를 배제할 수 있다.

상기 제37의 국면에 의하면, 도포 공간에 직접적으로 소정 기체의 공급이 행해지고, 도포 공간의 기체가 직접적으로 배출되기 때문에, 도포 공간 내의 기체의 치환이 조속히 행해진다. 또한, 공급과 배기가 도포 공간에 대해 마주 대하는 위치에서 행해지므로, 공급된 기체가 도포 공간을 통과하고 나서 배출된다. 따라서, 도포 공간에 치환전에 존재한 기체가 잔존하는 것을 방지할 수 있어, 소정 기체를 도포 공간내 전체에 동일하게 퍼지게 할 수 있다.

상기 제38의 국면에 의하면, 도포 공간에 복수 개소로부터 소정 기체가 공급되므로, 상기 도포 공간내로의 기체 공급이 일부분에 집중하지 않는다. 또한, 도포 공간내의 기체가 복수 개소로부터 배출되므로, 상기 도포 공간내로부터의 기체 배출이 일부분에 집중하지 않는다. 따라서, 공급하는 소정 기체를 도포 공간내 전체에 동일하게 퍼지게 할 수 있다.

상기 제39의 국면에 의하면, 도포 처리 시에 노즐 등이 왕복 이동함으로써 발생하는 기체 교반의 영향이 도포 공간내에 미치는 것을 생각할 수 있는데, 상기 도포 공간으로부터 상기 왕복 이동을 위한 공간을 향해서 기체를 배출함으로써 상기 왕복 이동을 위한 공간의 기체도 소정 기체로 치환된다. 또한, 기체의 흐름이 도포 공간으로부터 왕복 이동을 위한 공간을 향해 있으므로, 도포 공간으로 역류하는 일이 없어지므로, 노즐 동작 중에 있어서도 도포 공간내의 기체 분위기를 안정시킬 수 있다.

상기 제41의 국면에 의하면, 도포 공간의 전후로부터 소정 기체를 공급함으로써, 도포 공간 내의 기체 불균형을 저감할 수 있어, 국소 분위기를 안정시킬 수 있다.

상기 제42의 국면에 의하면, 도포 처리 시에 노즐 등이 왕복 이동함으로써 생기는 기체 교반의 영향이 도포 공간내에 미치는 것을 생각할 수 있는데, 상기 왕복 이동을 위한 공간을 또한 소정 기체로 치환함으로써, 기체 교반의 영향이 도포 공간내에 미치더라도, 치환후의 기체가 유출하게 된다. 따라서, 노즐 동작중에 있어서도 도포 공간 내의 기체 분위기를 안정시킬 수 있다.

또한, 본 발명의 도포 방법에 의하면, 상술한 도포 장치와 동일한 효과를 얻을 수 있다.

Claims (44)

1. 기판상에 도포액을 도포하는 도포 장치로서,

   상기 기판을 그 상면에 적재하는 스테이지와,

   상기 스테이지 상의 공간에 있어서, 그 선단부로부터 상기 도포액을 토출하는 노즐과,

   상기 노즐이 도포액을 토출하는 공간 및 상기 도포액이 도포된 기판의 도포 부위를 포함하는 도포 공간에 대해 국소적으로 소정 기체를 공급하고, 상기 도포액의 도포를 소정의 분위기에서 행하는 국소 분위기 생성 기구를 구비하며,

   상기 스테이지 상의 공간에 있어서, 상기 스테이지면을 횡단하는 방향으로 상기 노즐을 왕복 이동시키는 노즐 이동 기구를 더 구비하고,

   상기 국소 분위기 생성 기구는,

   상기 스테이지를 포위하여 설치되고, 상기 노즐 이동 기구가 배치되는 공간과 상기 스테이지가 배치되는 공간을 칸막이하는 제1 박스와,

   상기 제1 박스에 설치되고, 상기 제1 박스의 내부 공간으로 상기 소정 기체를 공급하는 제1의 공급구를 구비하고,

   상기 제1 박스는, 상기 스테이지가 상기 기판을 적재하여 이동하는 공간을 포위하여 설치되는 도포 장치.
2. 삭제
3. 삭제
4. 청구항 1에 있어서, 상기 제1 박스의 상면은, 상기 스테이지와 상기 노즐 이동 기구와의 사이에 배치되고,

   상기 제1 박스의 상면에는, 상기 노즐 이동 기구측으로부터 상기 제1 박스 내로 상기 노즐의 일부 또는 전부가 돌출하여 왕복 이동하는 개구부가 형성되는 도포 장치.
5. 청구항 1에 있어서, 상기 국소 분위기 생성 기구는, 상기 제1 박스에 설치되고, 상기 제1 박스의 내부 공간내의 기체를 외부로 배출하는 배기구를 더 구비하는 도포 장치.
6. 청구항 5에 있어서, 상기 제1의 공급구는, 상기 제1 박스가 갖는 한쪽 측면에 설치되고,

   상기 배기구는, 상기 제1 박스에 있어서 상기 제1의 공급구가 형성된 한쪽 측면과 마주 대하는 다른쪽 측면에 설치되는 도포 장치.
7. 청구항 5에 있어서, 상기 제1의 공급구 및 상기 배기구는, 상기 제1 박스에 대해 각각 복수 설치되는 도포 장치.
8. 청구항 5에 있어서, 상기 배기구는, 상기 제1 박스의 저부 근방에 설치되는 도포 장치.
9. 청구항 1에 있어서, 상기 국소 분위기 생성 기구는, 상기 노즐 이동 기구를 포함한 상기 제1 박스의 상부 공간을 포위하여 설치되는 제2 박스를 더 구비하는 도포 장치.
10. 청구항 9에 있어서, 상기 국소 분위기 생성 기구는, 상기 제2 박스에 설치되고, 상기 제2 박스의 내부 공간내의 기체를 외부로 배출하는 배기구를 더 구비하는 도포 장치.
11. 청구항 9에 있어서, 상기 제2 박스에는, 상기 노즐 이동 기구측으로부터 상기 제1 박스내에 상기 노즐의 일부 또는 전부가 돌출하여 왕복 이동하는 개구부가 형성되는 도포 장치.
12. 청구항 9에 있어서, 상기 국소 분위기 생성 기구는, 상기 제2 박스내에 배치되고, 상기 노즐 이동 기구를 포위하여 설치되는 제3 박스를, 더 구비하는 도포 장치.
13. 청구항 12에 있어서, 상기 제3 박스에는, 상기 노즐 이동 기구측으로부터 상기 제1 박스내로 상기 노즐의 일부 또는 전부가 돌출하여 왕복 이동하는 개구부와, 상기 제3 박스내의 공간과 상기 제3 박스의 외측의 상기 제2 박스내의 공간을 연통하는 개구부가 형성되는 도포 장치.
14. 청구항 12에 있어서, 상기 국소 분위기 생성 기구는, 상기 제3 박스에 설치되고, 상기 제3 박스의 내부 공간으로 소정 기체를 공급하는 별도의 공급구를 더 구비하는 도포 장치.
15. 청구항 12에 있어서, 상기 국소 분위기 생성 기구는, 상기 제3 박스에 설치되고, 상기 제3 박스의 내부 공간내의 기체를 외부로 배출하는 배기구를 더 구비하는 도포 장치.
16. 청구항 1에 있어서, 상기 제1 박스는, 그 상면에 상기 노즐 이동 기구측에서 상기 노즐의 일부 또는 전부가 돌출하여 왕복 이동하는 개구부가 형성되고,

    상기 국소 분위기 생성 기구는,

    상기 노즐 이동 기구를 포위하여 상기 제1 박스의 상부에 설치되는 제2 박스와,

    상기 제1 박스에 설치되고, 상기 제1 박스의 내부 공간내의 기체를 외부로 배출하는 제1의 배기구와,

    상기 제2 박스에 설치되고, 상기 제2 박스의 내부 공간내의 기체를 외부로 배출하는 제2의 배기구를 더 구비하고,

    상기 제1 박스내의 소정 공간이 소정 산소 농도에 도달할 때까지, 상기 제1의 공급구로부터 공급된 기체를 상기 제1 및 제2의 배기구로부터 배출하고,

    상기 소정 공간이 소정 산소 농도에 도달하였을 때, 상기 제1의 공급구로부터 공급된 기체를 상기 제2의 배기구로부터 배출하는 도포 장치.
17. 청구항 16에 있어서, 상기 국소 분위기 생성 기구는,

    상기 제1 박스내의 소정 공간에 있어서의 산소 농도를 검출하는 산소 농도 검출 수단과, 상기 제1의 배기구에 설치된 제1의 밸브를 더 구비하고,

    상기 도포 장치는, 상기 산소 농도 검출 수단이 검출한 산소 농도가 상기 소정 산소 농도에 미달일 때에 상기 제1의 밸브의 마개를 열고, 상기 산소 농도 검출 수단이 검출한 산소 농도가 상기 소정 산소 농도에 도달했을 때에 상기 제1의 밸브의 마개를 닫는 제어 수단을 더 구비하는 도포 장치.
18. 청구항 16에 있어서, 상기 소정 공간이 소정 산소 농도에 도달했을 때, 상기 노즐 이동 기구에 의한 상기 노즐의 왕복 이동을 개시시켜 상기 기판에 대한 도포 처리를 행하는 제어 수단을 더 구비하는 도포 장치.
19. 청구항 16에 있어서, 상기 소정 공간은, 상기 제1 박스내에 있어서의 상기 스테이지 상의 공간인 도포 장치.
20. 청구항 19에 있어서, 상기 노즐 및 상기 스테이지의 적어도 한쪽을 상기 스테이지의 적재면에 평행한 방향으로 상대적으로 이동시키는 상대 이동 기구를 더 구비하고,

    상기 소정 공간은, 상기 제1 박스내에서, 상기 노즐이 도포액을 토출하는 공간 및 상기 상대 이동 기구에 의한 상기 스테이지의 상대 이동에 따라 상기 도포액이 도포된 기판의 도포 부위가 상대 이동하는 상기 스테이지 상의 공간인 도포 장치.
21. 청구항 20에 있어서, 상기 국소 분위기 생성 기구는, 상기 제1 박스내에 고정 설치되고, 상기 소정 공간으로 상기 소정의 기체를 공급하여 상기 소정 공간을 통과해 상기 개구부로 향하는 방향으로 상기 기체의 흐름을 형성하는 제2의 공급구를 더 구비하는 도포 장치.
22. 청구항 20에 있어서, 상기 제1 박스는, 상기 스테이지가 상기 기판을 적재하여 상대 이동하는 공간을 포위하여 설치되고,

    상기 국소 분위기 생성 기구는, 상기 제1 박스의 저부이고, 또한, 상기 스테이지가 상대 이동의 후방 위치에 설치되고, 상기 제1 박스의 내부 공간내의 기체를 외부로 배출하는 제3의 배기구를 더 구비하는 도포 장치.
23. 청구항 16에 있어서, 상기 제1의 공급구 및 상기 제1의 배기구는, 상기 제1 박스에 대해 각각 복수 설치되는 도포 장치.
24. 기판상에 도포액을 도포하는 도포 장치로서,

    상기 기판을 그 상면에 적재하는 스테이지와,

    상기 스테이지 상의 공간에 있어서, 그 선단부로부터 상기 도포액을 토출하는 노즐과,

    상기 노즐이 도포액을 토출하는 공간 및 상기 도포액이 도포된 기판의 도포 부위를 포함하는 도포 공간에 대해 국소적으로 소정 기체를 공급하고, 상기 도포액의 도포를 소정의 분위기에서 행하는 국소 분위기 생성 기구를 구비하며,

    상기 스테이지 상의 공간에 있어서, 상기 스테이지면을 횡단하는 방향으로 상기 노즐을 왕복 이동시키는 노즐 이동 기구와,

    상기 노즐 이동 기구를 포위하여 설치되고, 상기 노즐 이동 기구측에서 상기 스테이지측으로 상기 노즐의 일부 또는 전부가 돌출하여 왕복 이동하는 개구부가 형성된 박스와,

    소정의 기체를 분사하는 분사구를 가지고, 상기 박스의 개구부를 차단하는 띠형상의 기체막을 생성하는 기체막 생성 수단을 더 구비하는 도포 장치.
25. 청구항 24에 있어서, 상기 기체막 생성 수단은 상기 박스의 내부에 설치되는 도포 장치.
26. 청구항 24에 있어서, 상기 기체막 생성 수단은 상기 박스의 외부에 설치되는 도포 장치.
27. 청구항 24에 있어서, 상기 개구부는, 상기 박스를 구성하는 벽면 중, 상하 방향으로 세워져 설치된 벽면의 1개에 형성되고,

    상기 기체막 생성 수단은, 상기 개구부의 상부에 병설되고, 그 기류가 상기 개구부의 상부로부터 하부 방향으로 흐르는 띠형상의 기체막을 생성하는 도포 장치.
28. 청구항 24에 있어서, 상기 개구부는, 상기 박스를 구성하는 저면에 형성되고,

    상기 기체막 생성 수단은, 상기 개구부의 횡부에 병설되고, 그 기류가 상기 개구부를 차단하는 수평 방향으로 흐르는 띠형상의 기체막을 생성하는 도포 장치.
29. 청구항 24에 있어서, 상기 박스에 설치되고, 상기 박스의 내부 공간내의 기체를 외부로 배출하는 배기구를 더 구비하는 도포 장치.
30. 청구항 24에 있어서, 상기 국소 분위기 생성 기구는,

    상기 박스의 하부에 상기 스테이지를 포위하여 설치되고, 그 상면에 상기 노즐 이동 기구측에서 상기 노즐의 일부 또는 전부가 돌출하여 왕복 이동하는 개구부가 형성된 스테이지측 박스와,

    상기 스테이지측 박스에 설치되고, 상기 스테이지측 박스의 내부 공간으로 불활성 가스를 공급하는 공급구와,

    상기 박스에 설치되고, 상기 박스의 내부 공간내의 기체를 외부로 배출하는 배기구를 구비하고,

    상기 기체막 생성 수단은, 상기 분사구로부터 불활성 가스를 분사하여, 상기 박스의 개구부를 차단하는 띠형상의 기체막을 생성하는 도포 장치.
31. 기판상에 도포액을 도포하는 도포 장치로서,

    상기 기판을 그 상면에 적재하는 스테이지와,

    상기 스테이지 상의 공간에 있어서, 그 선단부로부터 상기 도포액을 토출하는 노즐과,

    상기 노즐이 도포액을 토출하는 공간 및 상기 도포액이 도포된 기판의 도포 부위를 포함하는 도포 공간에 대해 국소적으로 소정 기체를 공급하고, 상기 도포액의 도포를 소정의 분위기에서 행하는 국소 분위기 생성 기구를 구비하며,

    상기 도포 장치는, 하방을 향해 도포액을 토출하는 상기 노즐을 갖는 도포 기구를 더 구비하고,

    상기 국소 분위기 생성 기구는,

    내부에 공간을 가지고, 상기 기판을 적재하는 스테이지를 상기 공간에 배치하는 박스와, 상기 박스내에 배치되고, 내부에 공간이 형성되는 형상이고 또한 한쪽에 개구부를 갖는 칸막이 부재와,

    상기 칸막이 부재의 내부 공간에 대해 불활성 가스를 공급하는 제1 가스 공급 수단을 구비하고,

    상기 도포 장치는, 상기 기판이 상기 노즐 밑을 통과하는 동시에 상기 개구부로부터 상기 칸막이 부재의 내부에 진입하도록, 상기 노즐 및 상기 칸막이 부재에 대해 상대적으로 상기 스테이지를 이동 가능한 스테이지 이동 기구를 더 구비하는 도포 장치.
32. 청구항 31에 있어서, 상기 도포 기구는, 상기 스테이지에 적재된 상기 기판과 평행한 방향이고 또한 상기 스테이지의 이동 방향과 수직인 방향으로 상기 노즐을 이동 가능한 노즐 이동 기구를 가지고,

    상기 칸막이 부재의 상면에는, 상기 노즐이 통과하는 위치에 상기 노즐의 이동 방향을 따라서 구멍이 형성되고,

    상기 스테이지는, 상기 개구부를 통과하고 나서 상기 노즐 밑을 통과하도록 이동하는 도포 장치.
33. 청구항 31에 있어서, 상기 칸막이 부재의 하면에는, 상기 스테이지 이동 기구가 통과하는 부분에 구멍이 형성되는 도포 장치.
34. 청구항 31에 있어서, 상기 칸막이 부재는, 상기 기판의 폭보다도 큰 폭을 갖는 차폐판을 그 상면 및 하면으로 하는 도포 장치.
35. 청구항 31에 있어서, 상기 국소 분위기 생성 기구는, 상기 박스의 내벽으로부터 상기 박스의 내부 공간에 대해 불활성 가스를 공급하는 제2 가스 공급 수단을 더 구비하는 도포 장치.
36. 스테이지상에 배치된 노즐로부터 토출된 도포액을 상기 스테이지 상면에 적재된 기판에 도포하는 도포 방법으로서,

    상기 노즐이 도포액을 토출하는 공간 및 상기 도포액이 도포된 기판의 도포 부위를 포함하는 도포 공간에 대해 국소적으로 소정 기체를 공급하고, 상기 도포액의 도포를 소정의 분위기에서 행하는 국소 분위기 생성 공정을 포함한 도포 방법.
37. 청구항 36에 있어서, 상기 국소 분위기 생성 공정은, 상기 도포 공간에 대 해, 상기 도포 공간의 한쪽측으로부터 상기 소정 기체를 공급하고, 상기 도포 공간의 다른쪽측으로 상기 도포 공간내의 기체를 배출하는 도포 방법.
38. 청구항 37에 있어서, 상기 국소 분위기 생성 공정은, 상기 도포 공간의 한쪽측의 복수 개소로부터 상기 소정 기체를 공급하고, 상기 도포 공간의 다른쪽측의 복수 개소로 상기 도포 공간내의 기체를 배출하는 도포 방법.
39. 청구항 36에 있어서, 상기 노즐은 노즐 이동 기구에 지지되어 상기 스테이지면을 횡단하는 방향으로 상기 스테이지상의 공간에서 왕복 이동하고,

    상기 국소 분위기 생성 공정은, 상기 도포 공간에 대해, 상기 도포 공간의 한쪽측으로부터 상기 소정 기체를 공급하고, 상기 노즐 및 상기 노즐 이동 기구가 배치된 공간을 통과해 상기 스테이지 상부로부터 상기 도포 공간내의 기체를 배출하는 도포 방법.
40. 청구항 39에 있어서, 상기 국소 분위기 생성 공정은, 상기 도포 공간에 대해, 상기 도포 공간의 한쪽측으로부터 상기 소정 기체를 공급하고, 상기 도포 공간의 다른쪽측과 상기 노즐 및 상기 노즐 이동 기구가 배치된 공간을 통과해 상기 스테이지 상부로 각각 상기 도포 공간내의 기체를 배출하는 도포 방법.
41. 청구항 39에 있어서, 상기 국소 분위기 생성 공정은, 상기 도포 공간에 대 해, 상기 도포 공간의 한쪽측 및 다른쪽측으로부터 각각 상기 소정 기체를 공급하고, 상기 노즐 및 상기 노즐 이동 기구가 배치된 공간을 통과해 상기 스테이지 상부로 상기 도포 공간내의 기체를 배출하는 도포 방법.
42. 청구항 36에 있어서, 상기 노즐은 노즐 이동 기구에 지지되어 상기 스테이지면을 횡단하는 방향으로 상기 스테이지상의 공간에서 왕복 이동하고,

    상기 국소 분위기 생성 공정은, 상기 도포 공간에 추가하여, 상기 노즐 이동 기구가 배치된 공간에 상기 소정 기체를 공급하는 도포 방법.
43. 청구항 36에 있어서, 상기 노즐은 상기 스테이지면을 횡단하는 방향으로 상기 스테이지상의 공간이 노즐 이동 기구에 지지되어 왕복 이동하고,

    상기 국소 분위기 생성 공정은,

    소정 공간이 소정 산소 농도에 도달할 때까지, 상기 소정 공간의 한쪽측으로부터 소정 기체를 공급하고, 상기 소정 공간의 다른쪽측과 상기 노즐 및 상기 노즐 이동 기구가 배치된 공간을 통과해 상기 스테이지 상부로 각각 기체를 배출하고,

    상기 소정 공간이 소정 산소 농도에 도달하였을 때, 상기 소정 공간의 한쪽측으로부터 상기 소정 기체를 공급하고, 상기 노즐 및 상기 노즐 이동 기구가 배치된 공간을 통과해 상기 스테이지 상부로 기체를 배출하는 상태에서 상기 기판에 상기 도포액을 도포하는 도포 방법.
44. 청구항 43에 있어서, 상기 소정 공간은, 챔버내의 공간에 포함되어 있고,

    상기 챔버는, 상기 노즐이 상기 챔버의 외부로부터 상기 소정 공간으로 돌출하기 위한 개구부가 형성되어 있고,

    상기 국소 분위기 생성 공정은,

    상기 소정 공간이 소정 산소 농도에 도달할 때까지, 상기 챔버의 한쪽측으로부터 상기 소정 기체를 공급하고, 상기 챔버의 다른쪽측과 상기 개구부로 각각 상기 챔버내의 기체를 배출하고,

    상기 소정 공간이 소정 산소 농도에 도달하였을 때, 상기 챔버의 한쪽측으로부터 상기 소정 기체를 공급하고, 상기 개구부로 상기 챔버내의 기체를 배출하는 상태에서 상기 기판에 상기 도포액을 도포하는 도포 방법.

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