JP4656578B2 - 塗布装置および塗布方法 - Google Patents
塗布装置および塗布方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4656578B2 JP4656578B2 JP2006091061A JP2006091061A JP4656578B2 JP 4656578 B2 JP4656578 B2 JP 4656578B2 JP 2006091061 A JP2006091061 A JP 2006091061A JP 2006091061 A JP2006091061 A JP 2006091061A JP 4656578 B2 JP4656578 B2 JP 4656578B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- space
- box
- predetermined
- oxygen concentration
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 215
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 162
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 139
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 139
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 138
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 124
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 85
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 56
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 47
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 27
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 8
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 claims 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 218
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 109
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 85
- 239000000463 material Substances 0.000 description 79
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 19
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 16
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 16
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 15
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 8
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 6
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 4
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 4
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 3
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 3
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 2
- 206010003497 Asphyxia Diseases 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
Images
Description
第1の発明は、基板上に塗布液を塗布する塗布装置である。塗布装置は、ノズル、ステージ、ノズル移動機構、第1ボックス、第2ボックス、第1の供給口、第1の排気口、および第2の排気口を備える。ノズルは、その先端部から塗布液を吐出する。ステージは、基板をその上面に載置する。ノズル移動機構は、ステージ上の空間において、そのステージ面を横断する方向にノズルを往復移動させる。第1ボックスは、ステージを包囲して設けられ、ノズル移動機構が配置される空間とそのステージが配置される空間とを仕切り、その上面にノズル移動機構側からノズルの少なくとも一部が突出して往復移動する開口部が形成される。第2ボックスは、ノズル移動機構を包囲して第1ボックスの上部に設けられる。第1の供給口は、第1ボックスに設けられ、その第1ボックスの内部空間へ所定の気体を供給する。第1の排気口は、第1ボックスに設けられ、その第1ボックスの内部空間内の気体を外部へ排出する。第2の排気口は、第2ボックスに設けられ、その第2ボックスの内部空間内の気体を外部へ排出する。第1ボックス内の所定空間が所定酸素濃度に達するまで、第1の供給口から供給された気体を第1および第2の排気口から排出する。所定空間が所定酸素濃度に到達したとき、第1の供給口から供給された気体を第2の排気口から排出する。
以下、図10および図11を参照して、本発明の第1の実施形態に係る塗布装置1について説明する。第1の実施形態は、塗布処理中においては、チャンバ空間から開口部S1を通ってスライダ空間(ボックス空間)への気体流動を積極的に形成して、ポイントCの酸素濃度を安定させる態様である。なお、図10は、第1の実施形態に係る塗布装置1における窒素流動フローを示す模式図である。図11は、塗布装置1が塗布処理を行う際の動作を示すフローチャートである。なお、図10においては、説明を簡単にするために、塗布装置1について、第1〜第3ボックス61〜63、チャンバ空間、ボックス空間、およびチャンバ空間のみを図示して簡略化している。
以下、図12〜図14を参照して、本発明の第2の実施形態に係る塗布装置1について説明する。なお、図12は、第2の実施形態に係る塗布装置1に設けられる局所雰囲気生成機構の概略構成を示す側断面図である。図13は、背面側気体供給部75の概略構造を示す斜視図である。図14は、当該塗布装置1における窒素流動フローを示す模式図である。図14においては、説明を簡単にするために、塗布装置1について、第1〜第3ボックス61〜63、背面側気体供給部75、チャンバ空間、ボックス空間、およびチャンバ空間のみを図示して簡略化している。なお、第2の実施形態は、第1の実施形態に対して、背面側気体供給部75およびその背面側気体供給部75へ気体を供給する供給系をさらに設けることによって、ポイントCの背面側から開口部S1への気体流動を積極的に形成して、ポイントCの酸素濃度を安定させる態様である。第2の実施形態における他の構成要素は、上述した第1の実施形態と同様であるため、同一の構成要素には同一の参照符号を付して詳細な説明を省略する。
2…基板載置装置
21…ステージ
22…旋回部
23…平行移動テーブル
24…ガイド受け部
25、511…ガイド部材
3…制御部
5…有機EL塗布機構
50…ノズルユニット
51…ノズル移動機構部
52a、52b、52c…ノズル
521…フィルタ部
53…液受部
54…供給部
541…供給源
542…ポンプ
543…流量計
61…第1ボックス
611…投入口
62…第2ボックス
63…第3ボックス
64…仕切板
71…供給管
72…排気管
73…拡散部
731、752…拡散板
732、733、753…パンチングメタル
75…背面側気体供給部
751…筐体
81…窒素ボンベ
83…フィルタ
84…圧力調整部
85、86…流量調整部
87…吸引部
88…酸素濃度検知部
Claims (10)
- 基板上に塗布液を塗布する塗布装置であって、
その先端部から前記塗布液を吐出するノズルと、
前記基板をその上面に載置するステージと、
前記ステージ上の空間において、当該ステージ面を横断する方向に前記ノズルを往復移動させるノズル移動機構と、
前記ステージを包囲して設けられ、前記ノズル移動機構が配置される空間と当該ステージが配置される空間とを仕切り、その上面に前記ノズル移動機構側から前記ノズルの少なくとも一部が突出して往復移動する開口部が形成された第1ボックスと、
前記ノズル移動機構を包囲して前記第1ボックスの上部に設けられる第2ボックスと、
前記第1ボックスに設けられ、当該第1ボックスの内部空間へ所定の気体を供給する第1の供給口と、
前記第1ボックスに設けられ、当該第1ボックスの内部空間内の気体を外部へ排出する第1の排気口と、
前記第2ボックスに設けられ、当該第2ボックスの内部空間内の気体を外部へ排出する第2の排気口とを備え、
前記第1ボックス内の所定空間が所定酸素濃度に達するまで、前記第1の供給口から供給された気体を前記第1および第2の排気口から排出し、
前記所定空間が所定酸素濃度に到達したとき、前記第1の供給口から供給された気体を前記第2の排気口から排出する、塗布装置。 - 前記第1ボックス内の所定空間における酸素濃度を検出する酸素濃度検出手段と、
前記第1の排気口に設けられた第1のバルブと、
前記酸素濃度検出手段が検出した酸素濃度が前記所定酸素濃度に未達のときに前記第1のバルブを開栓し、前記酸素濃度検出手段が検出した酸素濃度が前記所定酸素濃度に到達したときに前記第1のバルブを閉栓する制御手段とを、さらに備える、請求項1に記載の塗布装置。 - 前記所定空間が所定酸素濃度に到達したとき、前記ノズル移動機構による前記ノズルの往復移動を開始させて前記基板に対する塗布処理を行う制御手段を、さらに備える、請求項1に記載の塗布装置。
- 前記所定空間は、前記第1ボックス内における前記ステージ上の空間である、請求項1に記載の塗布装置。
- 前記ノズルおよび前記ステージの少なくとも一方を当該ステージの載置面に平行な方向に相対的に移動させる相対移動機構を、さらに備え、
前記所定空間は、前記第1ボックス内において、前記ノズルが塗布液を吐出する空間および前記相対移動機構による前記ステージの相対移動に伴って前記塗布液が塗布された基板の塗布部位が相対移動する当該ステージ上の空間である、請求項4に記載の塗布装置。 - 前記第1ボックス内に固設され、前記所定空間へ前記所定の気体を供給して当該所定空間を通って前記開口部に向かう方向に当該気体の流れを形成する第2の供給口を、さらに備える、請求項5に記載の塗布装置。
- 前記第1ボックスは、前記ステージが前記基板を載置して相対移動する空間を包囲して設けられ、
前記塗布装置は、前記第1ボックスの底部で、かつ、前記ステージが相対移動の後方位置に設けられ、当該第1ボックスの内部空間内の気体を外部へ排出する第3の排気口を、さらに備える、請求項5に記載の塗布装置。 - 前記第1の供給口および前記第1の排気口は、前記第1ボックスに対してそれぞれ複数設けられる、請求項1に記載の塗布装置。
- ステージ面を横断する方向に当該ステージ上の空間をノズル移動機構に支持されて往復移動するノズルから吐出された塗布液を当該ステージ上面に載置された基板に塗布する塗布方法であって、
所定空間が所定酸素濃度に達するまで、当該所定空間の一方側から所定気体を供給し、当該所定空間の他方側と前記ノズルおよび前記ノズル移動機構が配置された空間を通って前記ステージ上部とからそれぞれ気体を排出し、
前記所定空間が所定酸素濃度に到達したとき、当該所定空間の一方側から前記所定気体を供給し、前記ノズルおよび前記ノズル移動機構が配置された空間を通って前記ステージ上部から気体を排出する状態で前記基板に前記塗布液を塗布する、塗布方法。 - 前記所定空間は、チャンバ内の空間に含まれており、
前記チャンバは、前記ノズルが前記チャンバの外部から前記所定空間へ突出するための開口部が形成されており、
前記所定空間が所定酸素濃度に達するまで、前記チャンバの一方側から前記所定気体を供給し、当該チャンバの他方側と前記開口部とからそれぞれ当該チャンバ内の気体を排出し、
前記所定空間が所定酸素濃度に到達したとき、前記チャンバの一方側から前記所定気体を供給し、前記開口部から当該チャンバ内の気体を排出する状態で前記基板に前記塗布液を塗布する、請求項9に記載の塗布方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006091061A JP4656578B2 (ja) | 2006-03-29 | 2006-03-29 | 塗布装置および塗布方法 |
KR1020060124240A KR100840482B1 (ko) | 2006-02-27 | 2006-12-08 | 도포 장치 및 도포 방법 |
TW096104999A TW200740530A (en) | 2006-02-27 | 2007-02-12 | Coating device and coating method |
CN2010102668071A CN101912833B (zh) | 2006-02-27 | 2007-02-27 | 涂布装置 |
CN200710084320XA CN101028617B (zh) | 2006-02-27 | 2007-02-27 | 涂布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006091061A JP4656578B2 (ja) | 2006-03-29 | 2006-03-29 | 塗布装置および塗布方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007260600A JP2007260600A (ja) | 2007-10-11 |
JP4656578B2 true JP4656578B2 (ja) | 2011-03-23 |
Family
ID=38634118
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006091061A Expired - Fee Related JP4656578B2 (ja) | 2006-02-27 | 2006-03-29 | 塗布装置および塗布方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4656578B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5335514B2 (ja) | 2009-03-27 | 2013-11-06 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 塗布装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003284985A (ja) * | 2002-03-28 | 2003-10-07 | Hitachi Industries Co Ltd | ペースト塗布機 |
JP2004164873A (ja) * | 2002-11-08 | 2004-06-10 | Hirano Tecseed Co Ltd | 毛管現象による塗工ノズルを用いた有機elパネルの製造装置及び製造方法 |
JP2005087844A (ja) * | 2003-09-16 | 2005-04-07 | Toshiba Corp | インクジェット塗布装置 |
-
2006
- 2006-03-29 JP JP2006091061A patent/JP4656578B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003284985A (ja) * | 2002-03-28 | 2003-10-07 | Hitachi Industries Co Ltd | ペースト塗布機 |
JP2004164873A (ja) * | 2002-11-08 | 2004-06-10 | Hirano Tecseed Co Ltd | 毛管現象による塗工ノズルを用いた有機elパネルの製造装置及び製造方法 |
JP2005087844A (ja) * | 2003-09-16 | 2005-04-07 | Toshiba Corp | インクジェット塗布装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007260600A (ja) | 2007-10-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4789652B2 (ja) | 塗布装置 | |
US9732424B2 (en) | Gas injection apparatus and substrate processing apparatus using same | |
JP4716509B2 (ja) | 塗布装置および塗布方法 | |
KR102297567B1 (ko) | 가스 주입 장치 및 이를 포함하는 박막 증착 장비 | |
KR100840482B1 (ko) | 도포 장치 및 도포 방법 | |
JP2017055105A (ja) | 基板処理装置 | |
JP5116978B2 (ja) | 塗布方法および塗布装置 | |
JP4656578B2 (ja) | 塗布装置および塗布方法 | |
JP4780656B2 (ja) | 塗布装置 | |
JP4656580B2 (ja) | 塗布装置 | |
JP4331443B2 (ja) | 基板処理装置 | |
KR101499467B1 (ko) | 대면적 기판용 수평형 원자층 증착장치 | |
KR101131547B1 (ko) | 보트 및 그 보트를 포함하는 반도체 증착 장치 및 방법 | |
KR102201882B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 방법 | |
KR101213965B1 (ko) | 스핀노즐 방식의 가스분사 유닛 및 이를 구비하는 직립방식 증착장치 | |
CN103288356B (zh) | 涂布装置 | |
KR101635761B1 (ko) | 공정챔버 및 이를 포함하는 화소 형성 장치 | |
KR20160081342A (ko) | 대면적 원자층 증착장치 | |
KR101687303B1 (ko) | 기판 증착시스템 | |
KR20130125161A (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 반입 방법 | |
KR101204577B1 (ko) | 도포 장치 및 도포 방법 | |
KR20140028578A (ko) | 노즐 | |
JP4544470B2 (ja) | 塗布装置 | |
KR20160108714A (ko) | 기판처리장치의 가스공급방법 | |
TW201420790A (zh) | 成膜裝置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081225 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101209 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101216 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101217 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140107 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140107 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140107 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |