KR20160081342A - 대면적 원자층 증착장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 다수장의 대면적 유리 기판을 수직 방향으로 적재한 상태에서 각 기판에 대하여 원자층 증착 공정을 수행할 수 있는 배치형 대면적 원자층 증착 장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 대면적 원자층 증착 장치는, 하면 및 전후 양면이 개방된 구조를 가지는 내부 챔버; 상기 내부 챔버의 전면에 결합되어 설치되며, 상기 내부 챔버 방향으로 공정 가스를 층상흐름으로 공급하는 공정 가스 공급부; 상기 내부 챔버의 후면에 결합되어 설치되며, 상기 내부 챔버의 기체를 흡입하여 배출하는 기체 흡입 배출부; 다수개의 대면적 기판이 층상 흐름 간격을 가지고 수평 방향으로 적층되어 설치되며, 상기 내부 챔버의 하면에 결합되어 상기 내부 챔버의 밀폐 구조를 완성하는 카세트; 상기 카세트 하면에 결합되어 설치되며, 상기 카세트를 상하 방향으로 구동시키는 카세트 상하 구동부; 상기 내부 챔버 및 카세트를 외측에서 감싸도록 설치되며, 내부를 진공 상태로 유지할 수 있는 외부 챔버;를 포함한다.

Description

대면적 원자층 증착장치{A ALD APPARATUS FOR LARGE SUBSTRATE}
본 발명은 대면적 원자층 증착 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 다수장의 대면적 유리 기판을 수직 방향으로 적재한 상태에서 각 기판에 대하여 원자층 증착 공정을 수행할 수 있는 배치형 대면적 원자층 증착 장치에 관한 것이다.
일반적으로 원자층 증착공정은 반도체, 태양전지, OLED 등의 정밀 제조 분야에서 박막을 증착하는 공정으로 널리 사용되고 있다. 원자층 증착 공정은 소스가스(반응가스)와 퍼지가스를 교대로 공급하여 원자층 단위의 박막을 증착하기 위한 방법으로서, 이에 의해 형성된 박막은 고종횡비를 갖고 저압에서도 균일하며, 전기적 물리적 특성이 우수한 장점이 있다.
원래 반도체 공정에 사용되던 원자층 증착 장치는 작은 크기의 웨이퍼 등에 박막을 증착하는 것이 대부분이었으며, 최근에 태양전지, 특히 박막형 태양전지 제조분야 그리고 OLED 등의 제조분야에서는 점차 대면적 기판에 대하여 원자층 증착 공정을 수행해야 할 필요성이 높아지고 있다.
이러한 대면적 기판에 대한 원자층 증착 공정에서는 대면적 기판에 대한 전체 물류 시스템이 대면적 기판을 수평으로 이동시키는 것이 일반적이므로, 원자층 증착 장치도 기판을 수평 상태로 유지한 상태에서 원자층 증착 공정을 수행해야 하고, 대면적 기판의 모든 영역에 대하여 균일한 박막 형성 기술에 대한 필요성이 있다. 또한 대면적 기판에 대한 공정 시간이 길어지므로 장비의 쓰루풋을 높이기 위하여 다수장의 기판에 대하여 동시에 공정을 진행할 수 있는 장비 및 기술의 개발이 절실하게 요구되고 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 다수장의 대면적 유리 기판을 수평으로 로딩한 상태에서 다수장의 기판에 대하여 균일성(uniformity) 및 증착 효율이 우수한 원자층 증착 공정을 수행할 수 있는 배치형 대면적 원자층 증착 장치를 제공하는 것이다.
전술한 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 대면적 원자층 증착 장치는, 하면 및 전후 양면이 개방된 구조를 가지는 내부 챔버; 상기 내부 챔버의 전면에 결합되어 설치되며, 상기 내부 챔버 방향으로 공정 가스를 층상흐름으로 공급하는 공정 가스 공급부; 상기 내부 챔버의 후면에 결합되어 설치되며, 상기 내부 챔버의 기체를 흡입하여 배출하는 기체 흡입 배출부; 다수개의 대면적 기판이 층상 흐름 간격을 가지고 수평 방향으로 적층되어 설치되며, 상기 내부 챔버의 하면에 결합되어 상기 내부 챔버의 밀폐 구조를 완성하는 카세트; 상기 카세트 하면에 결합되어 설치되며, 상기 카세트를 상하 방향으로 구동시키는 카세트 상하 구동부; 상기 내부 챔버 및 카세트를 외측에서 감싸도록 설치되며, 내부를 진공 상태로 유지할 수 있는 외부 챔버;를 포함한다.
그리고 본 발명에서 상기 공정 가스 공급부는, 상기 외부 챔버의 외부에 구비되는 공정 가스 공급원으로부터 상기 외부 챔버 내부로 공정 가스를 공급하는 공정 가스 반입부; 상기 내부 챔버의 전면에 결합되어 설치되며, 상기 공정 가스 반입부로부터 반입되는 공정 가스를 상기 내부 챔버 내부 방향으로 확산시키되, 상기 카세트에 적재된 기판 사이의 공간으로 층상 흐름을 가지도록 상기 공정 가스를 확산시키는 공정 가스 확산부; 상기 공정 가스 확산부 전측에 설치되며, 상기 공정 가스 확산부와 상기 카세트에 적재된 기판 사이에 공급된 상기 공정 가스가 균일하게 확산될 수 있는 일정한 버퍼 공간을 형성하는 버퍼 공간 형성부;를 포함하는 것이 바람직하다.
또한 본 발명에서 상기 기체 흡입 배출부는, 상기 내부 챔버의 후면에 결합되어 설치되며, 상기 내부 챔버 내부의 기체를 외부로 흡입하여 배출하는 기체 배출부; 상기 외부 챔버 외부에 설치되며, 상기 기체 배출부와 연결되어 상기 기체 배출부 내부의 기체를 외부로 흡입 배출하는 배출 펌프; 상기 기체 배출부와 상기 카세트 적재된 기판 사이에 일정한 버퍼 공간을 형성하는 배기측 버퍼 공간 형성부;를 포함하는 것이 바람직하다.
또한 본 발명에서 상기 카세트는, 다수장의 기판이 층상 흐름을 가지도록 상기 기판의 말단 부분을 지지하는 기판 지지 기둥; 상기 기판 지지 기둥의 하부가 고정되어 설치되는 하부 플레이트;를 포함하여 구성하되, 상기 기판 지지 기둥에는 하단으로부터 기판 공급 수단 진입 간격만큼 이격된 높이부터 기판 지지부가 형성되는 것이 바람직하다.
또한 본 발명에서 상기 카세트 상하 구동부에는, 상기 내부 챔버의 하면과 접촉하는 부분에 설치되며, 상기 내부 챔버 내부의 기밀을 유지하는 밀봉부재가 더 구비되는 것이 바람직하다.
본 발명의 대면적 원자층 장착장치에 의하면 다수장의 대면적 기판에 대하여 동시에 원자층 증착 공정이 진행되며, 대면적 기판의 모든 영역에 대하여 균일한 박막을 우수한 쓰루풋으로 형성할 수 있는 장점이 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 원자층 증착장치의 구조를 도시하는 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 공정가스 공급부의 구조를 도시하는 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 공정가스 공급부의 구조를 도시하는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 카세트의 구조를 도시하는 사시도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기체 흡입배출부의 구조를 도시하는 단면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 카세트가 내부 챔버에 삽입된 상태를 도시하는 도면이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 카세트에 기판이 적재된 상태를 도시하는 도면이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 내부 챔버의 구조를 도시하는 도면이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 공정가스 공급부의 공정 가스 공급 상태를 도시하는 도면이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 원자층 증착장치에서 기판을 반출하는 과정을 도시하는 도면이다.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예를 상세하게 설명한다.
본 실시예에 따른 대면적 원자층 증착장치(100)는 도 1에 도시된 바와 같이, 내부 챔버(110), 공정가스 공급부(120), 기체 흡입배출부(130), 카세트(140), 카세트 상하 구동부(150) 및 외부 챔버(160)를 포함하여 구성될 수 있다.
먼저 상기 내부 챔버(110)는 도 8에 도시된 바와 같이, 하면 및 전후 양면(112, 114)이 개방된 구조를 가지며, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 외부 챔버(160) 내에 설치된다. 그리고 상기 내부 챔버(110) 내부에서 대면적 기판(S)에 대한 원자층 증착 공정이 이루어진다.
이를 위하여 상기 내부 챔버(110)에는 도 1에 도시된 바와 같이, 공정가스 공급부(120)와 기체 흡입배출부(130)가 결합된다. 먼저 상기 공정가스 공급부(120)는 상기 내부 챔버(110) 중 개방된 전면에 결합되어 설치되며, 상기 내부 챔버(110) 내부 방향으로 공정 가스를 층상흐름으로 공급하는 구성요소이다.
이를 위하여 본 실시예에서는 상기 공정 가스 공급부(120)를 도 3에 도시된 바와 같이, 공정가스 반입부(122), 공정가스 확산부(124) 및 버퍼공간 형성부(126)를 포함하여 구성될 수 있다. 상기 공정가스 공급부(122)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 외부 챔버(160)의 외부에 구비되는 공정 가스 공급원(121)으로부터 공정 가스를 전달받아서 상기 외부 챔버(160) 내부로 공정 가스를 공급하는 구성요소이다.
다음으로 상기 공정가스 확산부(124)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 내부 챔버(110)의 전면에 결합되어 설치되며, 상기 공정 가스 반입부(122)로부터 반입되는 공정 가스를 상기 내부 챔버(110) 내부 방향으로 확산시키되, 상기 카세트(140)에 적재된 기판(S) 사이의 공간으로 층상 흐름을 가지도록 상기 공정 가스를 확산시키는 구성요소이다. 여기에서 층상 흐름(laminar flow) 이라 함은 '가스가 좁은 간격 사이의 공간에 주입되어 자유 확산되지 않고 일정한 방향으로 흐트러짐이 거의 없이 방향성을 가지고 이동하는 가스의 흐름'을 말한다.
그리고 상기 '층상 흐름 간격'이라 함은 '가스가 층상 흐름 형태로 이동하는 2개의 판재 사이의 간격'을 말하는 것으로서, 본 실시예에서는 이 층상 흐름 간격이 0.2 ~ 50 mm인 것이 바람직하다. 상기 층상 흐름 간격이 0.2 mm 미만인 경우에는 가공 및 제조가 어려울뿐만 아니라 가스의 공급 제어가 어려운 문제점이 있고, 상기 층상 흐름 간격이 50mm 를 초과하는 경우에는 가스의 층상 흐름이 깨져서 기체가 자유확산하는 문제점이 있다.
여기에서 공정 가스라 함은 진행되는 원자층 공정에 따라 변화될 수 있지며, 예를 들어 ZrO2층을 원자층 증착법으로 증착하기 위해서는 먼저 가스 공급원으로 Zr 공급원, O3 공급원 그리고 퍼징가스로 N2 공급원이 구비되고, 상기 공정 가스 공급부(122)는 이러한 제1, 2 반응 가스 및 퍼징가스를 후술하는 공정 가스 확산부(124)로 반입하는 것이다. 이때 각 공정 가스는 서로 섞이지 않게 제어되며, 상기 공정 가스 확산부(124)로 반입되는 경로를 구분하여 형성하고 구분하여 사용할 수도 있다.
따라서 상기 공정가스 확산부(124)에는 도 3에 도시된 바와 같이, 다수장의 기판(S)이 적재되는 간격과 동일한 간격으로 이격되어 형성되는 다수개의 공정가스 분사 노즐(125)이 구비된다.
다음으로 상기 버퍼공간 형성부(126)는 도 2, 3에 도시된 바와 같이, 상기 공정 가스 확산부(124) 전측에 설치되며, 상기 공정 가스 확산부(124)와 상기 카세트(140)에 적재된 기판(S) 사이에 공급된 상기 공정 가스가 균일하게 확산될 수 있는 일정한 버퍼 공간(128)을 형성하는 구성요소이다.
여기에서 '버퍼 공간'이라 함은, 도 9에 도시된 바와 같이, 전술한 분사 노즐(125)에는 다수개의 분사공(127)이 형성되고, 하나의 분사공(127)에서 분사되어 확산되는 공정가스 분포 공간이 이웃한 분사공(127)에서 분사되어 확산되는 공정가스 분포 공간과 겹치는 폭(d1)보다 넓은 폭으로 형성되어 상기 다수개의 분사공(127)에서 분사된 공정 가스가 균일하게 층상흐름을 형성할 수 있는 충분한 확산 폭(d2)이 확보되는 공간을 말한다. 따라서 상기 버퍼 공간 형성부(126)의 상하 방향 폭은 이웃하는 분사공(127)에서 각각 분사되는 공정가스가 오버랩되는 폭(d1)보다 크게 형성되어야 한다.
이렇게 버퍼 공간 형성부(126)에 의하여 균일하게 확산되어 층상흐름을 유지한 상태의 공정 가스는 상기 카세트(140)에 일정간격 이격되어 탑재된 기판(S) 사이의 공간으로 층상흐름을 유지한 상태에서 진입하여 통과한다. 따라서 상기 버퍼 공간 형성부(126)는 도 1에 도시된 바와 같이, 카세트(140)에 탑재되는 기판(S) 사이의 간격과 동일한 간격으로 구분되는 다수개의 분할판(126)으로 구성될 수 있다. 이 분할판(126)의 전단은 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 카세트(140)에 탑재된 기판(S)의 상단과 정확하게 맞물려서 상기 버퍼 공간 형성부(126)에 의하여 분할되어 형성된 공간이 동일하게 기판(S)에 의하여 분할된 공간으로 이어진다. 따라서 상기 버퍼 공간 형성부(126)에 의하여 형성된 공정가스의 층상흐름이 그대로 상기 기판(S) 사이의 공간으로 유지되며 공정가스가 이동하게 되고, 그 과정에서 상기 기판(S) 표면에 대하여 원자층 증착 공정이 이루어지는 것이다.
다음으로 상기 기체 흡입 배출부(130)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 내부 챔버(110)의 후면에 결합되어 설치되며, 상기 내부 챔버(110) 내부의 기체를 흡입하여 배출하는 구성요소이다. 이를 위하여 본 실시예에서는 상기 기체 흡입 배출부(130)를 도 5에 도시된 바와 같이, 기체 배출부(132), 배출 펌프(134) 및 배기측 버퍼 공간 형성부(136)를 포함하여 구성할 수 있다.
먼저 상기 기체 배출부(132)는 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 내부 챔버(110)의 후면즉, 상기 공정가스 공급부(120) 반대편에 결합되어 설치되며, 상기 내부 챔버(110) 내부의 기체를 외부로 흡입하여 배출하는 구성요소이다. 그리고 상기 배출 펌프(134)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 외부 챔버(160) 외부에 설치되며, 상기 기체 배출부(132)와 연결되어 상기 기체 배출부(132) 내부의 기체를 외부로 흡입 배출하는 구성요소이다.
또한 상기 배기측 버퍼 공간 형성부(136)는 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 기체 배출부(132)와 상기 카세트(140)에 적재된 기판(S) 사이에 일정한 버퍼 공간을 형성하는 구성요소이다. 구체적으로 상기 배기측 버퍼 공간 형성부(136)는 전술한 버퍼 공간 형성부(126)와 마찬가지로 상기 카세트(140)의 후측에서 기판(S) 사이를 통과한 층상 흐름의 공정가스가 기판(S) 사이의 공간을 통과한 이후에도 일정한 거리를 층상흐름을 유지하면서 이동하도록 배기측 버퍼 공간을 제공하는 것이다. 따라서 상기 배기측 버퍼 공간 형성부(136)도 상기 버퍼 공간 형성부(126)와 마찬가지로, 상기 기판(S) 사이의 간격과 동일한 폭으로 배치되는 다수개의 배기측 분할판(136)이 형성되고, 상기 배기측 분할판(136)의 말단은 상기 기판(S)의 하단과 정확하게 맞물려서 상기 기판(S) 사이를 통과한 층상흐름의 공정가스가 그 층상흐름을 그대로 유지하면서 통과하도록 한다.
이렇게 배기측 버퍼 공간 형성부(136)에 의하여 공정가스의 균일한 층상흐름을 기판(S)을 벗어난 하측 공간까지 유지하는 것은, 대면적 기판의 말단부에서도 균일한 박막을 형성할 수 있는 효과를 가져 온다.
다음으로 상기 카세트(140)는 도 1에 도시된 바와 같이, 다수개의 대면적 기판(S)이 층상 흐름 간격을 가지고 수평 방향으로 적층되어 장착되며, 상기 내부 챔버(110)의 하면에 결합되어 상기 내부 챔버(110)의 밀폐 구조를 완성하는 구성요소이다. 즉, 상기 내부 챔버(110)의 전후면이 각각 공정가스 공급부(120)와 기체 흡입배출부(130)에 의하여 밀폐된 상태에서 상기 카세트(140) 하면이 카세트 상부를 상기 내부 챔버(110)에 반입하면서 동시에 상기 내부 챔버(110)의 하면과 밀착되어 상기 내부 챔버(110) 내부를 밀폐된 상태로 만드는 것이다.
이를 위하여 본 실시예에서는 상기 카세트(140)를 기판 지지 기둥(142)과 하부 플레이트(144)를 포함하여 구성할 수 있다. 먼저 상기 기판 지지기둥(142)은 도 4에 도시된 바와 같이, 다수장의 기판이 층상 흐름을 가지고 적재되도록 각 기판의 말단 부분을 지지하는 구성요소이다. 이때 상기 기판 지지 기둥(142)은 상기 대면적 기판(S)의 최소한의 면적과 접촉하는 것이 바람직하다. 그리고 상기 기판 지지 기둥(142)은 상기 카세트(140)의 네 모서리에 각각 설치되고, 다른 부분에도 더 설치될 수도 있다.
이때 상기 기판 지지기둥(142)에 적재되는 다수장의 기판(S) 사이의 간격은 전술한 공정가스 확산부(124)의 분사 노즐(125) 형성 간격과 동일하게 형성된다.
다음으로 상기 하부 플레이트(144)는 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 기판 지지 기둥(142)의 하부가 고정되어 설치되는 구성요소이며, 상기 내부 챔버(110)와 결합되면 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 내부 챔버(110)의 하면을 밀폐한다. 따라서 상기 하부 플레이트(144)는 상기 내부 챔버(110)의 하면과 일치되는 형상을 가진다.
또한 상기 기판 지지 기둥(142)에는 도 7에 도시된 바와 같이, 하단으로부터 기판을 적재할 수 있는 기판 지지부(141)가 형성되되, 상기 하부 플레이트(144)와 첫번째 기판 지지부(141) 사이의 간격(d2)은 다른 기판 지지부(141) 사이의 간격(d1)보다 크게 형성된다. 구체적으로는 상기 하부 플레이트(144)와 첫번째 기판 지지부(141) 사이의 간격(d2)는 기판을 상기 카세트(140) 내로 반입하거나 반출하는 기판 공급 수단(도면에 미도시)이 원활하게 진입하고 기판을 내려놓거나 들어올릴 수 있을 만큼 충분한 간격으로 형성된다. 따라서 실제 카세트에 기판을 반입하는 과정에서는 상기 기판 지지 기둥(142) 중 최상층에 먼저 기판을 적재하고 상기 카세트(140)를 한 피치씩 상승시키면서 아래쪽 방향으로 순차적으로 적재하게 된다.
반대로 상기 카세트(140)에서 기판을 반출하는 과정에서는 도 10에 도시된 바와 같이, 상기 기판 지지 기둥(142) 중 최하층에 적재된 기판을 먼저 배출하고, 상기 카세트(140)를 한 피치씩 하강시키면서 순차적으로 기판을 반출한다.
다음으로 상기 카세트 상하 구동부(150)는 도 1, 10에 도시된 바와 같이, 상기 카세트(140) 하면에 결합되어 설치되며, 상기 카세트(140)를 상하 방향으로 구동시키는 구성요소이다. 물론 상기 카세트(140)는 상기 카세트 상하 구동부(150) 상에 단순하게 올려놓여지는 구조를 가질 수도 있다.
또한 상기 카세트 상하 구동부(150)는 전술한 바와 같이, 상기 카세트(140)에 기판(S)을 반입하거나 반출하는 과정에서 상기 카세트(140)를 상하 구동시키며, 원자층 증착 공정을 위하여 상기 카세트(140)를 상기 내부 챔버(110) 내부로 반입하는 과정에서는 상측 방향으로 상기 카세트를 이동시킨다.
다음으로 상기 외부 챔버(160)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 내부 챔버(110) 및 카세트(140)를 외측에서 감싸도록 설치되며, 내부를 진공 상태로 유지할 수 있는 구성요소이다. 본 실시예에서 상기 외부 챔버(160)는 본 실시예에 따른 대면적 원자층 증착장치(100)의 전체적인 외형을 이루며, 내부에 상기 내부 챔버(110) 등 다른 구성요소들이 설치될 수 있는 공간을 가진다. 그리고 상기 외부 챔버(160)의 내외부는 완벽하게 차단되며, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 외부 챔버(160) 내측으로 기판을 반입하거나 반출하기 위하여 게이트(162)가 형성되고, 상기 게이트(162)는 게이트 밸브(164)에 의하여 단속된다.
100 : 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 원자층 증착장치
100 : 내부 챔버 120 : 공정가스 공급부
130 : 기체 흡입배출부 140 : 카세트
150 : 카세트 상하 구동부 160 : 외부 챔버
190 : 기판 이송 로봇

Claims (5)

  1. 하면 및 전후 양면이 개방된 구조를 가지는 내부 챔버;
    상기 내부 챔버의 전면에 결합되어 설치되며, 상기 내부 챔버 방향으로 공정 가스를 층상흐름으로 공급하는 공정 가스 공급부;
    상기 내부 챔버의 후면에 결합되어 설치되며, 상기 내부 챔버의 기체를 흡입하여 배출하는 기체 흡입 배출부;
    다수개의 대면적 기판이 층상 흐름 간격을 가지고 수평 방향으로 적층되어 설치되며, 상기 내부 챔버의 하면에 결합되어 상기 내부 챔버의 밀폐 구조를 완성하는 카세트;
    상기 카세트 하면에 결합되어 설치되며, 상기 카세트를 상하 방향으로 구동시키는 카세트 상하 구동부;
    상기 내부 챔버 및 카세트를 외측에서 감싸도록 설치되며, 내부를 진공 상태로 유지할 수 있는 외부 챔버;를 포함하는 대면적 원자층 증착장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 공정 가스 공급부는,
    상기 외부 챔버의 외부에 구비되는 공정 가스 공급원으로부터 상기 외부 챔버 내부로 공정 가스를 공급하는 공정 가스 반입부;
    상기 내부 챔버의 전면에 결합되어 설치되며, 상기 공정 가스 반입부로부터 반입되는 공정 가스를 상기 내부 챔버 내부 방향으로 확산시키되, 상기 카세트에 적재된 기판 사이의 공간으로 층상 흐름을 가지도록 상기 공정 가스를 확산시키는 공정 가스 확산부;
    상기 공정 가스 확산부 전측에 설치되며, 상기 공정 가스 확산부와 상기 카세트에 적재된 기판 사이에 공급된 상기 공정 가스가 균일하게 확산될 수 있는 일정한 버퍼 공간을 형성하는 버퍼 공간 형성부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 원자층 증착 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 기체 흡입 배출부는,
    상기 내부 챔버의 후면에 결합되어 설치되며, 상기 내부 챔버 내부의 기체를 외부로 흡입하여 배출하는 기체 배출부;
    상기 외부 챔버 외부에 설치되며, 상기 기체 배출부와 연결되어 상기 기체 배출부 내부의 기체를 외부로 흡입 배출하는 배출 펌프;
    상기 기체 배출부와 상기 카세트 적재된 기판 사이에 일정한 버퍼 공간을 형성하는 배기측 버퍼 공간 형성부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 원자층 증착 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 카세트는,
    다수장의 기판이 층상 흐름을 가지도록 상기 기판의 말단 부분을 지지하는 기판 지지 기둥;
    상기 기판 지지 기둥의 하부가 고정되어 설치되는 하부 플레이트;를 포함하여 구성되되,
    상기 기판 지지 기둥에는 하단으로부터 기판 공급 수단 진입 간격만큼 이격된 높이부터 기판 지지부가 형성되는 것을 특징으로 하는 대면적 원자층 증착 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 카세트 상하 구동부에는,
    상기 내부 챔버의 하면과 접촉하는 부분에 설치되며, 상기 내부 챔버 내부의 기밀을 유지하는 밀봉부재가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 대면적 원자층 증착 장치.
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