KR100820364B1 - 기판 세정 장치 - Google Patents

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이상하
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Abstract

본 발명은 회전하는 브러시를 이용하여 글라스 기판을 세정하는 장치에 이용될 수 있으며 불량률을 줄이면서 기판의 세정 효율을 증대시킬 수 있는 기판 세정 장치에 관한 것이다. 본 발명의 기판 세정 장치는, 기판이 이송되는 이송수단이 구비된 베이스, 동력을 전달하기 위해 베이스 상에 제공된 동력전달수단, 동력전달수단의 동력을 전달받아 기판을 세정하기 위해 베이스 상에 제공된 복수개의 디스크 브러시를 포함하며, 동력전달수단은, 베이스 일측에 제공된 구동원, 구동원의 동력을 제공받아 구동되는 구동축, 구동축의 회전력을 전달받아 각 디스크 브러시들의 회전 방향을 조절하는 기어부, 기어부의 일측과 연결되어 각 디스크 브러시에 회전력을 전달하는 복수개의 회전축을 포함한다.
Figure R1020070063298
세정, 베벨기어, 스파이럴, 브러시, 기판

Description

기판 세정 장치{Apparatus for cleaning glass substrate}
도 1은 본 발명의 실시 예를 설명하기 위하여 기판의 세정 장치를 도시한 사시도이다.
도 2는 도 1의 주요 부분을 도시한 도면이다.
도 3은 도 1의 일부분을 상세하게 도시한 측면도이다.
도 4는 도 1의 작동 구조를 상세하게 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 종래 기술을 설명하기 위한 도면이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1 : 베이스 3, 5 : 지지대
7, 9 : 디스크 브러시 11 : 이송부
13, 15 : 구동축 17, 19, 21, 23 : 기어
본 발명은 기판의 세정 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 회전하는 브러시를 이용하여 글라스 기판을 세정하는 장치에 이용될 수 있으며 불량률을 줄이면서 기판의 세정 효율을 증대시킬 수 있는 기판 세정 장치에 관한 것이다.
일반적으로 평판 디스플레이(FPD; Flat Panel Display), 반도체 웨이퍼, LCD, 포토 마스크용 글라스 등에 사용되는 기판은 일련의 공정 라인을 거치면서 처리하게 된다. 즉, 기판의 처리는 감광제 도포(Photo resist coating: P/R), 노광(Expose), 현상(Develop), 에칭(Etching), 박리(Stripping), 세정(Cleaning), 건조(Dry) 등의 과정을 거치게 된다. 이러한 공정들에 있어서, 세정 공정에서는 기판을 세정액 또는 약액 등을 이용하거나 또는 브러시를 이용하여 세정하는 과정을 거치게 된다.
도 5는 브러시를 이용하여 기판을 세정하는 구조의 주요 부분을 도시한 도면으로, 세정장치의 쳄버에 배치되는 디스크 브러시의 동력전달구조를 도시하고 있다. 즉, 종래의 디스크 브러시들은 2열로 배치되고 벨트에 의하여 구동되는 구조로 이루어진다. 다시 말하면, 쳄버(도시생략)에 지지대(101)가 설치되고, 이 지지대(101)의 하부에는 2열로 디스크 브러시(103)가 배치된다. 그리고 디스크 브러시(103)는 축(도시생략)으로 지지대(101)의 상부까지 연장되고 이 축에는 풀리(105)들이 결합된다. 그리고 풀리(105)들은 벨트(107)로 회전될 수 있도록 연결된다. 그리고 벨트(107)는 모터(M)에 의하여 회전될 수 있다. 따라서 모터(M)의 회전에 따라 벨트(107)가 회전하고, 벨트(107)에 의하여 풀리(105)들이 회전하며 풀리(105)들의 회전에 의하여 디스크 브러시(103)들이 회전하는 것이다. 이와 같이 디스크 브러시(103)의 회전에 따라 그 하부에 배치되는 기판의 표면을 세정할 수 있는 것이다.
이러한 종래의 디스크 브러시 고정구조를 가지는 세정장치는, 디스크 브러시 가 고속으로 회전함에 따라 벨트와 풀리 부분의 마찰로 인하여 고열이 발생하여 세정 작업 중에 벨트가 파손되는 경우가 있다. 세정 작업 중에 벨트가 파손되면 기판의 세정력이 떨어지는 것은 물론 기판의 불량이 발생할 수 있는 문제점이 있다. 또한, 벨트의 길이를 늘리는데 제약이 있어 모터 등의 구동원을 다수로 사용할 필요가 있어 제작비용이 증가되는 문제점이 있다.
따라서 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로서, 본 발명의 목적은 구동원을 최소화하여 제작비용을 줄이며 브러시를 이용한 세정 작업 중에 동력 전달 계통의 파손으로 인하여 작업이 중지되는 것을 방지하여 기판의 불량률을 줄일 수 있는 기판 세정 장치를 제공하는데 있다.
상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 기판이 이송되는 이송수단이 구비된 베이스, 동력을 전달하기 위해 베이스 상에 제공된 동력전달수단, 상기 동력전달수단의 동력을 전달받아 기판을 세정하기 위해 베이스 상에 제공된 복수개의 디스크 브러시를 포함하며, 상기 동력전달수단은, 상기 베이스 일측에 제공된 구동원, 상기 구동원의 동력을 제공받아 구동되는 구동축, 상기 구동축의 회전력을 전달받아 각 디스크 브러시들의 회전 방향을 조절하는 기어부, 상기 기어부의 일측과 연결되어 각 디스크 브러시에 회전력을 전달하는 복수개의 회전축을 포함하는 기판세정장치를 제공한다.
상기 기어부는 상기 구동축과 연결되어 회전되는 수직 기어부, 상기 수직 기 어부에 대해 수평 방향으로 연결되어 수직 기어부의 회전력을 전달받는 수평 기어부를 포함한다.
상기 수직 기어부는 상호 일정 거리 이격되도록 설치된 복수개의 제1 수직 기어와 제1 수직기어 사이에 각각 설치된 제2 수직 기어를 포함하여 이루어지되, 상기 제1 수직 기어의 기어치에 대해 인접하여 설치된 제2 수직 기어의 기어치가 서로 마주하여 설치되는 것이 바람직하다.
상기 베이스 상에는 상기 각 디스크 브러시를 지지하기 위한 지지대를 더 포함하여 이루어지는 것이 바람직하다.
상기 각 디스크 브러시 및 상기 동력전달수단은 기판의 상측 및 하측에 대칭되도록 설치되는 것이 바람직하다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명의 실시 예를 설명하기 위하여 세정장치의 주요부를 도시한 도면으로, 틀을 이루는 베이스(1), 베이스(1)에 제공되는 복수의 지지대(3, 5), 지지대(3, 5)들에 결합되는 복수의 디스크 브러시(7, 9), 그리고 이 디스크 브러시(7, 9)들에 구동원(M1, M2)의 회전력을 전달하는 동력전달수단을 도시하고 있다.
베이스(1)에는 통상적인 롤러 등의 회전부재들이 배치되고 이러한 회전부재들의 위에 기판이 놓여져 기판을 이송시킬 수 있는 이송수단으로 이송부(11)가 제공된다. 이러한 이송부(11)는 구동원에 의하여 기판을 이송시키는 통상의 장치가 사용될 수 있으므로 그 상세한 설명은 생략한다.
복수의 지지대(3, 5)들은 이동되는 기판을 기준으로 위쪽 및 아래쪽에 기판과 일정한 거리가 띄워지는 위치에 배치되는 것이 바람직하다. 이러한 지지대(3, 5)는 디스크 브러시(7, 9)들이 기판을 사이에 두고 양측으로 배치된 구성은, 이송되는 기판의 양면을 동시에 세정(브러싱)할 수 있도록 하기 위한 것이다. 이러한 지지대(3, 5)들은 이동되는 기판(G)의 폭 보다 더 길게 이루어져 베이스(1)에 고정되는 것이 바람직하다.
지지대(3, 5)들에는 서로 마주하여 디스크 브러시(7, 9)들이 설치된다. 디스크 브러시(7, 9)들은 기판(G)에 밀착되어 회전되면서 기판을 세정(브러싱)할 수 있는 것이다. 디스크 브러시(7, 9)들은 회전할 수 있도록 회전축(10, 도 2 및 도 3에 도시하고 있음)들에 결합된다. 그리고 이러한 회전축(10)들은 상술한 지지대(3, 5)들에 결합된다. 즉, 디스크 브러시(7, 9)들은 회전축(10)에 고정되고, 회전축(10)은 지지대(3, 5)들을 관통하여 배치될 수 있다. 그리고 이 회전축(10)들에는 동력전달수단의 일부인 수평기어부(21, 23)들이 결합되는 것이다.
이러한 동력전달수단은 도 2를 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 동력전달수단은 모터(M1, M2), 이 모터(M1, M2)들에 각각 대응하여 회전하는 구동축(13, 15)들, 구동축(13, 15)들에 결합되는 수직기어부의 제1 수직기어 및 제2 수직기어(17, 19, 도 2에서 보이지 않는 부분의 부호는 생략)들, 그리고 수평기어부(21, 23, 도 3에 도시하고 있음)들을 포함한다. 본 발명의 실시 예에서는 구동축(13, 15)에 결합되는 수직기어부 및 수평기어부가 지지대(3, 5)들에 결합되는 구조는 동일하므로 도 2에서 구동축(13)에 의하여 동력이 전달되는 구조에 대하여만 설명하 고 또 다른 구동축(15)에 의하여 동력이 전달되는 구조는 상술한 설명으로 대치한다.
모터(M1, M2) 등의 구동원은 베이스(1)에 결합된다. 그리고 이러한 모터(M1, M2)는 복수의 구동축(13, 15)에 각각 구동력을 전달할 수 있다. 구동축(13, 15)들은 상술한 지지대(3, 5)와 나란한 방향으로 배치되는 것이 바람직하다. 구동축(13)에는 함께 회전할 수 있는 복수의 제1수직기어(17) 및 제2 수직기어(19)들이 결합된다. 이러한 제1 수직기어(17) 및 제2 수직기어(19)들은 베벨기어 또는 스파이럴 베벨기어로 이루어지는 것이 바람직하다. 이러한 제1 수직기어(17) 및 제2 수직기어(19)들은 디스크 브러시(7)의 회전축(10)에 연결되는 수평기어부(21, 23)들에 치합된다. 즉, 디스크 브러시(7)들의 축에 결합되는 수평기어부(21, 23)들 역시 베벨기어 또는 스파이럴 베벨기어로 이루어져 상술한 구동축(13)에 결합되는 제1 수직기어(17) 및 제2 수직기어(19)들과 치합된다. 이러한 베벨기어의 결합 구조는 구동축이 직각으로 배치되어도 안전성을 유지하면서 디스크 브러시(7)들을 회전시키는 구동력을 전달할 수 있는 것이다. 즉, 본 발명의 실시 예는 구동원의 구동력을 기어를 통하여 동력전달이 이루어지도록 하여 내구성을 향상시킬 뿐만 아니라 세정 작업을 연속적으로 안정성 있게 할 수 있다.
한편, 구동축에 결합되는 제1 수직기어(17) 및 제2 수직기어(19)들은 인접하는 제1 수직기어(17) 및 제2 수직기어(19)들의 기어치가 서로 같은 방향 또는 서로 다른 방향으로 배치되어 수평기어부(21, 23)들과 치합되는 것이 바람직하다. 이러한 제1수직기어(17) 및 제2 수직기어(19)들의 기어치가 같은 방향 또는 서로 다른 방향을 향하여 배치되는 구조는 수평기어부(21, 23)들이 서로 반대 방향으로 회전하도록 하는 것이다. 이들 제2 기어(21, 23)들이 서로 반대 방향으로 회전하는 것은, 서로 인접하여 배치되는 디스크 브러시(7)들이 서로 반대 방향으로 회전되면서 가이드 롤러에 의하여 안내되는 기판의 틀어짐을 방지할 수 있는 것이다.
이와 같이 이루어지는 본 발명의 실시 예의 작용 효과를 도 1 내지 도 4를 통하여 더욱 상세하게 설명한다. 편의상, 본 발명의 실시 예에서 기판(G)의 일측에 배치되는 디스크 브러시를 회전시키는 구조의 한 세트만을 설명하고 반대측에 배치되는 디스크 브러시의 회전 구조는 상술한 설명으로 대치하기로 한다.
모터(M1)의 구동력은 구동축(13)으로 전달되어 구동축(13)이 회전된다. 그리고 구동축(13)이 회전됨에 따라 구동축(13)에 결합된 제1수직기어(17)들 및 제2 수직기어(19)들이 회전된다. 그리고 구동축(13)에 결합된 제1수직기어(17)들 및 제2 수직 기어(19)들이 회전함에 따라 디스크 브러시(7)의 축에 결합되는 수평기어부(21, 23)들이 함께 회전한다. 그리고 디스크 브러시(7)의 축에 결합되어 있는 제2 기어(21, 23)의 회전과 함께 디스크 브러시(7)가 회전되는 것이다. 이때 구동축(13)에 결합되는 제1수직기어(17) 및 제2수직기어(19)들의 기어치가 서로 반대 방향을 향하여 배치되어 있으므로 디스크 브러시(7)는 시계 방향(화살표로 표시) 및 시계 반대 방향(화살표로 표시)으로 각각 다르게 회전하는 것이다(도 4에 도시하고 있음). 이때 기판(G)은 이송부(11)를 타고 이송되면서 디스크 브러시(7)에 의하여 세정(브러싱)이 이루어지는 것이다. 물론 별도의 세정액 등이 기판에 분사되어 더욱 세정 효율을 증대시킬 수 있다. 이와 같이 기어를 이용하여 디스크 브러 시(7)를 회전시키는 동력전달구조는 세정(브러싱) 효율을 더욱 향상시킬 수 있는 것이다. 물론 기판(G)의 다른 면도 동일한 구조로 이루어지는 디스크 브러시에 의하여 세정이 이루어질 수 있다. 본 발명은 디스크 브러시를 회전시키는 동력전달구조가 기어치의 결합으로 이루어져 고속 회전에 적합하여 안정성 있게 세정을 할 수 있는 것이다. 또한, 브러시가 일렬 구조로 이루어져 하나의 구동축에 하나의 구동원이 결합되므로 구동원의 수를 최소화하여 제작 비용을 줄일 수 있는 이점이 있다. 특히, 벨트의 끊어짐으로 인한 정지 사고를 예방할 수 있어 공정의 안정성을 증대시킬 수 있으며, 이로 인하여 발생하는 기판의 불량을 방지할 수 있다.
이와 같이 본 발명은 세정작업이 이루어지는 동안에 동력전달계통이 파손되는 것을 방지하여 세정작업이 연속적으로 이루어져 기판의 세정 불량을 줄일 수 있는 효과가 있다. 또한, 본 발명은 동력전달구조가 기어로 이루어지므로 고속으로 회전하여도 안정성이 있어 기판의 세정력을 향상시킬 수 있다. 또한, 본 발명은 구동원을 최소로 구성될 수 있으므로 제작비용을 줄일 수 있는 효과가 있다.

Claims (5)

  1. 기판이 이송되는 이송수단이 구비된 베이스와,
    동력을 전달하기 위해 상기 베이스에 제공된 동력전달수단과,
    상기 동력전달수단의 동력을 전달받아 기판을 세정하기 위해 상기 베이스에 제공된 복수개의 디스크 브러시를 포함하며,
    상기 동력전달수단은
    상기 베이스 일측에 제공된 구동원과,
    상기 구동원의 동력을 제공받아 구동되는 구동축과,
    상기 구동축의 회전력을 전달받아 각 디스크 브러시들의 회전 방향을 조절하는 기어부와,
    상기 기어부의 일측과 연결되어 각 디스크 브러시에 회전력을 전달하는 복수개의 회전축을 포함하는 기판세정장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 기어부는
    상기 구동축과 연결되어 회전되는 수직 기어부와,
    상기 수직 기어부에 대해 수평 방향으로 연결되어 수직 기어부의 회전력을 전달받는 수평 기어부를 포함하는 기판세정장치.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 수직 기어부는
    상호 일정 거리 이격되도록 설치된 복수개의 제1 수직 기어와 제1 수직기어 사이에 각각 설치된 제2 수직 기어를 포함하여 이루어지되,
    상기 제1 수직 기어의 기어치에 대해 인접하여 설치된 제2 수직 기어의 기어치가 서로 마주하여 설치되는 기판세정장치.
  4. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 베이스 상에는 상기 각 디스크 브러시를 지지하기 위한 지지대를 더 포함하여 이루어지는 기판세정장치.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 각 디스크 브러시 및 상기 동력전달수단은 기판의 상측 및 하측에 대칭되도록 설치되는 기판세정장치.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03161236A (ja) * 1989-11-16 1991-07-11 Suzuki Motor Corp 機械加工ラインにおける基準面の清掃装置
KR19990007164U (ko) * 1997-07-31 1999-02-25 구자홍 디스크 브러시 세정 장치
JP2000118710A (ja) 1998-10-15 2000-04-25 Nagano Automation Kk 主としてクリーンルーム内で用いるコンベア

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03161236A (ja) * 1989-11-16 1991-07-11 Suzuki Motor Corp 機械加工ラインにおける基準面の清掃装置
KR19990007164U (ko) * 1997-07-31 1999-02-25 구자홍 디스크 브러시 세정 장치
JP2000118710A (ja) 1998-10-15 2000-04-25 Nagano Automation Kk 主としてクリーンルーム内で用いるコンベア

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