KR100785330B1 - 현상액조 및 현상 장치 - Google Patents

현상액조 및 현상 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100785330B1
KR100785330B1 KR1020060094413A KR20060094413A KR100785330B1 KR 100785330 B1 KR100785330 B1 KR 100785330B1 KR 1020060094413 A KR1020060094413 A KR 1020060094413A KR 20060094413 A KR20060094413 A KR 20060094413A KR 100785330 B1 KR100785330 B1 KR 100785330B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
developer
tank
developing
filter
inlet
Prior art date
Application number
KR1020060094413A
Other languages
English (en)
Inventor
최준태
윤민희
박종원
Original Assignee
삼성전기주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전기주식회사 filed Critical 삼성전기주식회사
Priority to KR1020060094413A priority Critical patent/KR100785330B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100785330B1 publication Critical patent/KR100785330B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3092Recovery of material; Waste processing
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G03F7/70916Pollution mitigation, i.e. mitigating effect of contamination or debris, e.g. foil traps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

현상액조 및 현상장치가 개시된다. 토출관을 통하여 현상액을 토출하고, 토출된 현상액과 현상처리된 슬러지(sludge)를 회수부를 통하여 배출하는 현상유닛과 연결되는 현상액조로서, 수용조와, 수용조에 형성되며 토출관에 연결되는 유출구와, 수용조에 형성되며 회수부에 연결되는 유입구와, 수용조 내에 수용되며 유출구 및 유입구가 연결되는 필터부 및 필터부에 연결되며 수용조 내에 수용된 현상액을 배출하는 드레인구를 포함하는 현상액조는, 현상액조 벽면의 오염 및 드레인 배관의 막힘을 방지할 수 있고, 이에 따라 현상설비 청소 및 배관교체로 인한 시간을 절약할 수 있다.
현상장치, 현장액조, 필터부, 여과부

Description

현상액조 및 현상 장치{Developing tank and developing processing device}
도 1은 종래 기술에 따른 현상 장치의 개략도.
도 2는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 현상장치의 구조도.
도 3은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 현상액조의 사시도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
12 : 기판이송부 14 : 기판
16 : 토출관 18 : 필터하우징
20 : 회수부 22 : 수용조
24 : 유입구 26 : 유출구
28 : 드레인구 30 : 주입구
32 : 여과부 34 : 슬러지
36 : 필터부 38 : 파우치(pouch)
본 발명은 현상액조 및 현상장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 현상처리 후 잔류하는 슬러지를 필터링하여 설비 청소 및 배관교체로 인한 시간을 절약할 수 있는 현상액조 및 현상장치에 관한 것이다.
액정기판 제조 공정, 프린트 기판 제조공정, 반도체 소장 제조 공정 등에 있어서 이용되는 포토리소그래피 공정은, 기판 상에 원하는 패턴을 형성시키기 위한 공정으로서 먼저 세척 및 건조를 마친 기판의 표면에 감광성 물질을 균일하게 도포시키고, 그 위에 소정의 레이아웃으로 형성된 포토마스크상의 특정 패턴에 따라 노광공정을 수행하며, 노광된 포토레지스트층의 불필요한 부위를 현상액을 살포하여 제거하여 원하는 패턴으로 형성하는 공정으로 본 발명은 특히 상술한 현상공정이 이용되는 현장액조 및 현상장치에 관한 것이다.
도 1은 종래 기술에 따른 현상 장치의 개략도를 나타내고 있다. 종래 기술에 따른 현상장치는 현상액조(1)에 연결된 현상액 순환 공급부(8)에서 현상액을 필터링 한 후 노즐부(4)에 공급하고, 노즐부(4)는 필터링된 현상액을 노광이 완료된 기판(2)에 분무하게 된다. 노즐부(4)를 통해 분무된 현상액은 포토레지스트의 불필요한 부분을 용해시켜 응결물이나 고체덩어리 등의 슬러지(sludge)(9)를 형성하게 되고, 이러한 슬러지(9)를 포함한 현상액이 현상액조(1)로 회수되는 구조를 가진다. 일정 회수 이상의 현상처리가 이루어지면 슬러지(9)를 포함한 현상액을 드레인부(6)를 통해 배출하게 된다.
종래 기술에 따른 현상 장치는 현상액에 의해 용해된 슬러지가 현상액조의 벽면과 드레인 배관에 잔류하여 현상액조의 오염과 드레인 배관의 막힘을 유발하는 문제점이 있었다.
또한, 이러한 현상액조의 오염과 드레인 배관의 막힘에 의한 설비 청소 및 배관교체로 인한 현상공정의 지연을 초래하는 문제점이 있었다.
본 발명은 현상액조 내에 현상액의 살포에 의해 현상처리된 슬러지를 걸러내는 필터부와 현상액조의 현상액을 배출하는 드레인구에 여과부를 둠으로써, 현상액조 벽면의 오염 및 드레인 배관의 막힘을 방지하는 현상액조 및 현상장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 토출관을 통하여 현상액을 토출하고, 토출된 현상액과 현상처리된 슬러지(sludge)를 회수부를 통하여 배출하는 현상유닛과 연결되는 현상액조로서, 수용조와, 수용조에 형성되며 토출관에 연결되는 유출구와, 수용조에 형성되며 회수부에 연결되는 유입구와, 수용조 내에 수용되며 유출구 및 유입구가 연결되는 필터부 및 필터부에 연결되며 수용조 내에 수용된 현상액을 배출하는 드레인구를 포함하는 현상액조가 제공된다.
현상액조에는, 필터부에 연결되며 수용조에 현상액을 공급하는 주입구를 더 포함할 수 있다. 또한, 드레인구에 연결되며, 드레인구로부터 유출되는 현상액을 필터링하는 여과부를 더 포함할 수 있다. 이 때 여과부로는 카트리지 필터를 포함한다.
필터부는 유입구, 유출구, 드레인구 및 주입구 중 어느 하나 이상에 상응하는 개구부가 형성되며, 수용조 내에 소정의 공간을 구획하는 파우치(pouch)형태가 좋다. 이 경우 파우치는 수용조의 내부의 크기에 상응하게 형성하는 것이 좋다. 필터부는 다공성 여과재로 형성될 수 있다.
파우치에 형성된 개구부 중 유출구 및 드레인구에 상응하는 개구부는 폐쇄되도록 할 수 있다.
또한, 본 발명의 다른 측면에 따르면, 토출관과, 토출관에 현상액을 필터링하고 공급하는 필터하우징과, 토출관으로부터 토출된 현상액과 현상처리된 슬러지(sludge)를 수집하는 회수부와, 현상액 및 슬러지를 수용하는 현상액조를 포함하되, 현상액조는, 수용조와, 수용조에 형성되며 토출관에 연결되는 유출구와, 수용조에 형성되며 회수부에 연결되는 유입구와, 수용조 내에 수용되며 유출구 및 유입구가 연결되는 필터부, 및 필터부에 연결되며 수용조 내에 수용된 현상액을 배출하는 드레인구를 포함하는 현상장치가 제공된다.
현상액조에는, 필터부에 연결되며 수용조에 현상액을 공급하는 주입구를 더 포함할 수 있다. 또한, 드레인구에 연결되며, 드레인구로부터 유출되는 현상액을 필터링하는 여과부를 더 포함할 수 있다.
필터부는 유입구, 유출구, 드레인구 및 주입구 중 어느 하나 이상에 상응하는 개구부가 형성되며, 수용조 내에 소정의 공간을 구획하는 파우치(pouch)인 것이 좋다. 또한, 필터부는 다공성 여과재로 형성되는 것이 좋다.
이하, 본 발명에 따른 잉크젯 헤드 클리닝 장치의 바람직한 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명을 생략하기로 한다.
도 2는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 현상장치의 구조도이다. 도 2를 참조하면, 기판이송부(12), 기판(14), 토출관(16), 필터하우징(18), 회수부(20), 수용조(22), 유입구(24), 유출구(26) 드레인구(28), 주입구(30), 여과부(32), 슬러지(34), 필터부(36), 파우치(38)가 도시되어 있다.
포토리소그래피에 의한 패턴형성공정을 간략히 살펴보면, 기판의 표면에 감광성 재료 예를 들면, 드라이 필름 레지스트(DFR, Dry Film Resist), 솔더레지스트용 잉크(PSR, Photo Solder Resist) 등을 도포 또는 접착한 후, 원하는 패턴이 형성된 포토마스크(Photo Mask, 예를 들면, 아트워크필름)를 도포된 감광성 재료 상에 설치하고 자외선에 노출하면 포토마스크가 형성된 이외의 부분은 자외선이 투과되어 감광되어 경화되고, 포토마스크에 의해 자외선이 도달되지 않은 감광성 재료는 경화되지 않고 비경화 상태로 남게 된다. 이러한 비경화 상태의 감광성 재료를 현상액을 통해 용해시켜 제거함으로써 경화된 감광성 재료만이 기판상에 남게 된 다. 이와 같이 기판상에 남아 있는 경화된 감광성 재료가 포토레지스트를 이루어, 이후 포토레지스트가 형성되는 않은 부위를 에칭 등의 공정을 통해 원하는 패턴을 기판상에 형성할 수 있다. 이 때, 현상공정에 사용되는 현상액으로는 0.8~1.2wt%의 탄산나트륨(Na2Co3) 이나 탄산칼륨(K2CO3)이 이용된다.
종래에는 현상액조의 현상액을 필터하우징(18)을 통해 필터링하여 이를 현상액 토출관(16)에 공급하여 순환시킴으로써 현상공정을 수행하였다. 즉, 토출관(16)을 통해 기판(14) 상에 현상액을 토출하여 기판(14) 상의 비경화 포토레지스트를 제거하고 토출관(16)을 통해 토출된 현상액과 현상처리된 비경화 포토레지스트(이하 "슬러지(sludge)"라 함)를 다시 현상액조에 회수하여 회수된 현상액을 다시 순환하여 현상공정을 처리하였다. 슬러지(34)가 포함된 현상액은 잦은 순환에 따라 그 성능이 열화됨으로써 현상능력이 저하되므로 일정 회수 이상 사용된 현상액은 배출하여 다시 새로운 현상액을 공급하여 현상공정을 수행하여야 한다. 또한, 현상처리된 슬러지(34)가 현상액조의 벽면에 잔류하게 되고, 현상액 배출 시 드레인구(28)와 연결된 드레인 배관에 슬러지(34)가 잔류하여 배관의 막힘을 초래하게 된다.
본 실시예의 현상장치는 토출관(16)과, 토출관(16)에 현상액을 필터링하고 공급하는 필터하우징(18)과, 토출관(16)으로부터 토출된 현상액과 현상처리된 슬러지(34)를 수집하는 회수부(20)와, 현상액 및 슬러지(34)를 수용하는 현상액조를 구성요소로 한다. 특히, 현상액조는, 수용조(22)와, 수용조(22)에 형성되며, 토출 관(16)에 연결되는 유출구(26)와, 수용조(22)에 형성되며, 회수부(20)에 연결되는 유입구(24)와, 수용조(22) 내에 수용되며, 유출구(26) 및 유입구(24)가 연결되는 필터부(36) 및 필터부(36)에 연결되며, 수용조(22) 내에 수용된 현상액을 배출하는 드레인구(28)를 포함하고 있다. 즉, 본 실시예의 현상장치는 토출관(16)을 통하여 현상액을 토출하고, 토출된 현상액과 현상처리된 슬러지(34)를 회수부(20)를 통하여 배출하는 현상유닛 및 현상유닛의 회수부와 연결되는 현상액조로 구분할 수 있다.
현상액조는, 현상액 수용조(22)의 벽면의 오염과 슬러지(34)에 의한 드레인구(28)의 막힘을 원천적으로 봉쇄하기 위해, 토출관(16)에 현상액을 공급하기 위한 유출구(26), 토출관(16)을 통해 토출된 현상액과 현상처리된 슬러지(34)를 수집하는 회수부(20)와 연결되는 유입구(24) 및 수용조(22) 내에 수용된 현상액을 배출하는 드레인구(28)가 형성된 수용조(22) 및 수용조(22)의 유출구(26), 유입구(24) 및 드레인구(28)에 연결되는 필터부(36)로 구성된다. 또한, 수용조(22)에는 현상액의 오버플로(over flow)에 의해 현상액이 공급되는 주입구(30)를 형성할 수 있고, 일정 회수 이상 사용된 현상액을 배출하는 드레인구(28)에 연결되며 드레인구(28)로부터 유출되는 현상액을 필터링하는 여과부(32)를 더 둘 수 있다. 이때, 수용조(22) 내에 수용되는 필터부(36)는 유출구(26), 유입구(24), 드레인구(28) 및 주입구(30)에 연결되어 슬러지(34)를 필터링하게 된다.
현상공정에 사용되는 현상장치는 1개의 현상유닛에 1개의 수용조(22)가 결합되는 구성을 취하는 경우 현상액을 주입하는 주입구(30)가 반드시 필요하지 않으 나(이 경우 수용조(22)에 형성되는 유출구(26) 또는 유입구(24)를 통해 현상액을 투입이 가능하다.), 통상 복수의 현상유닛에 대응하는 복수의 수용조(22)가 일렬로 배열되어 연속적인 현상공정을 수행하도록 구성되는 경우 즉, 기판이송부(12)를 따라 기판(14)을 연속적으로 이송하면서 기판의 현상처리가 이루어지는 때에는 각 수용조(22)에는 주입구(30)를 형성하되, 현상액을 오버플로(over flow)로 시켜 각 수용조(22)에 형성된 주입구(30)를 통해 현상액이 각 수용조(22)에 공급하게 된다. 이때 각 현상유닛에서 현상처리된 슬러지(34)가 현상액의 오버플로를 통해 각 수용조(22)의 주입구(30)를 통해 이동된다.
수용조(22)에 유입된 현상액은 토출관(16)에 연결되는 수용조(22)의 유출구(26)를 통해 토출관(16)에 현상액이 공급된다. 이때 현상액에는 슬러지(34)가 포함되어 있으므로 토출관(16)과 유출구(26)사이에 필터를 가진 필터하우징(18)을 두어 현상액에 존재하는 슬러지(34)를 걸러 내어 현상액만을 토출관(16)에 공급하게 된다. 토출관(16)에는 현상액을 분사하는 스프레이 노즐를 복수개 두어 기판(14)에 골고루 분사하도록 할 수도 있고, 관 형태로 제작하여 현상액을 살포하는 것도 가능하다.
토출관(16)을 통하여 토출된 현상액이 기판(14)에 살포되어 기판(14) 상의 비경화 감광층을 융해시켜 제거하게 된다. 이때 현상액과 반응된 비경화 감광재는 현상액 내에 슬러지(34)를 형성하게 되고, 토출관(16)을 통해 토출된 현상액과 슬러지(34)는 깔대기 형상의 회수부(20)와 연결된 수용조(22)의 유입구(24)를 통해 다시 수용조(22)로 순환된다.
현상액을 일정 회수 이상 사용되어 현상액의 현상능력이 저하되면, 수용조(22)의 내에 형성된 드레인구(28)를 통해 현상액을 수용조(22)로부터 배출한다. 수용조(22)에 형성되는 드레인구(28)에 카트리지 필터 등의 여과부(32)를 두어 현상액의 배출 시 슬러지(34)를 걸러내어 현상액만을 드레인구(28)와 연결된 드레인배관으로 배출하여 드레인배관의 슬러지(34)에 의한 막힘을 방지한다. 또한, 수용조(22) 내에는 유출구(26), 유입구(24), 드레인구(28) 및 주입구(30)에 연결되며 현상액에 포함된 슬러지(34)를 필터링하는 필터부(36)가 슬러지(34)를 걸러냄으로써 수용조(22)의 벽면에 슬러지(34)의 부착을 방지하게 된다.
즉, 수용조(22)에 형성되는 주입구(30)와 유입구(24)는 현상액과 슬러지(34)가 수용조(22)내에 유입되는 통로이고, 수용조(22)에 형성되는 유출구(26)와 드레인구(28)는 현상액과 슬러지(34)가 수용조(22) 외로 유출되는 통로이다. 따라서, 주입구(30)와 유입구(24)를 통해 수용조(22)내에 유입되는 슬러지(34)는 유출구(26), 주입구(30)에 연결된 필터부(36)에 의해 필터링되고, 유출구(26) 및 드레인구(28)를 통해 수용조(22) 외로 유출되는 슬러지(34)는 유출구(26)와 연결된 필터하우징(18)의 필터 및 드레인구(28)에 연결된 카트리지 필터 등의 여과부(32)를 의해 필터링되어 현상액 내에 존재하는 슬러지(34)가 필터부(36)에 갇히게 되어 슬러지(34)에 의한 수용조(22)의 벽면의 오염과 드레인배관의 막힘을 방지하게 되는 것이다.
본 실시예의 필터부(36)는 다공성 여과재로 형성되며, 수용조(22)에 형성되는 유입구(24), 유출구(26), 드레인구(28) 및 주입구(30)에 상응하는 개구부가 형 성되며, 수용조(22) 내에 소정의 공간을 구획하는 파우치(38)(pouch)형태로 구성한다. 특히, 파우치(38)는, 수용조(22)의 내부의 크기에 상응하게 형성하는 것이 좋다.
필터부(36)로서 다공성 여과재로서 면이나 부직포을 사용하여 수용조(22)에 형성되는 유입구(24), 유출구(26), 드레인구(28) 및 주입구(30)에 상응하는 개구부를 형성하고 이를 연결하되, 이외 부분은 폐쇄된 하나의 파우치(38)로 제작할 수 있다. 이와 같이 구성함으로써 상기 개구부 이외에서는 슬러지(34)의 유출이 방지되고, 현상액만이 파우치(38)에 형성된 다수의 망에 의해 유출이 가능하므로 슬러지(34)를 파우치(38) 내에 갇히게 할 수 있다. 이때 파우치(38)의 크기는 수용조(22)의 내부의 크기에 상응하게 형성하는 것이 좋다.
또한, 필터부(36)로서 다공성의 튜우브 경질재료를 사용하여 수용조(22) 내에 경질의 파우치(38)를 형성하는 것도 가능하다. 물론 이 경우도 유입구(24), 유출구(26), 드레인구(28) 및 주입구(30)에 상응하는 개구부를 형성하고 이를 각각 유입구(24), 유출구(26), 드레인구(28) 및 주입구(30)에 연결되어 있어야 한다.
한편, 현상액과 슬러지(34)가 유출되는 수용조(22)의 유출구(26) 및 드레인구(28)에 상응하는 개구부는 폐쇄하여 파우치(38)를 형성하는 것도 가능하다. 이와 같이 개구부를 폐쇄함으로써 1차적으로 슬러지(34)를 필터부(36)가 필터링하고, 슬러지(34)가 제거된 현상액만을 수용조(22)의 유출구(26)와 연결된 필터하우징(18)에 공급함으로써 필터하우징(18)의 필터에 슬러지(34)가 축적되는 것을 방지할 수 있다. 또한 수용조(22)의 현상액을 배출하는 경우에도 1차적으로 필터부(36)가 슬 러지(34)를 제거하고 슬러지(34)가 제거된 현상액만을 드레인구(28)에 결합된 여과부(32)에 공급함으로써 여과부(32)에 슬러지(34)가 축적되는 것을 방지할 수 있다.
도 3은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 현상액조의 사시도이다. 도 3을 참조하면, 현상액조(21), 수용조(22), 유입구(24), 유출구(26), 드레인구(28), 주입구(30), 여과부(32), 필터부(36), 파우치(38)가 도시되어 있다.
본 실시예의 현상액조는, 수용조(22)와, 수용조(22)에 형성되며 토출관에 연결되는 유출구(26)와, 수용조(22)에 형성되며 회수부에 연결되는 유입구(24)와, 수용조(22) 내에 수용되며 유출구(26) 및 유입구(24)가 연결되는 필터부(36) 및 필터부(36)에 연결되며 수용조(22) 내에 수용된 현상액을 배출하는 드레인구(28)를 포함하고 있다.
현상액 수용조(22)의 벽면의 오염과 슬러지에 의한 드레인구(28)의 막힘을 원천적으로 봉쇄하기 위해, 토출관에 현상액을 공급하기 위한 유출구(26), 토출관을 통해 토출된 현상액과 현상처리된 슬러지를 수집하는 회수부와 연결되는 유입구(24) 및 수용조(22) 내에 수용된 현상액을 배출하는 드레인구(28)가 형성된 수용조(22) 및 수용조(22)의 유출구(26), 유입구(24) 및 드레인구(28)에 연결되는 필터부(36)로 구성된다. 더불어, 수용조(22)에는 현상액의 오버플로(over flow)에 의해 현상액이 공급되는 주입구(30)를 형성할 수 있고, 일정 회수 이상 사용된 현상액을 배출하는 드레인구(28)에 연결되며 드레인구(28)로부터 유출되는 현상액을 필터링하는 여과부(32)를 더 둘 수 있다. 이때, 수용조(22) 내에 수용되는 필터부(36)는 유출구(26), 유입구(24), 드레인구(28) 및 주입구(30)에 연결되어 슬러지를 필터링 하게 된다.
복수의 현상유닛에 대응하는 복수의 수용조(22)가 일렬로 배열되어 연속적인 현상공정을 수행하도록 현상액조에 주입구(30)를 형성한 경우에는 현상액은 오버플로(over flow)어 의해 각 수용조(22)에 형성된 주입구(30)를 통해 각 수용조(22)에 공급된다. 이때 각 현상유닛에서 현상처리된 슬러지(34)가 현상액의 오버플로를 통해 각 수용조(22)의 주입구(30)를 통해 이동되게 된다.
수용조(22)에 유입된 현상액은 토출관에 연결되는 수용조(22)의 유출구(26)를 통해 토출관에 현상액이 공급된다. 이때 현상액에는 슬러지가 포함되어 있으므로 토출관과 유출구(26)사이에 필터를 가진 필터하우징을 두어 현상액에 존재하는 슬러지를 걸러 내어 현상액만을 토출관에 공급하게 된다.
토출관을 통하여 토출된 현상액이 기판에 살포되어 기판 상의 비경화 감광층을 융해시켜 제거하게 된다. 이때 현상액과 반응된 비경화 감광재는 현상액 내에 슬러지를 형성하게 되고, 토출관을 통해 토출된 현상액과 슬러지는 깔대기 형상의 회수부와 연결된 수용조의 유입구(24)를 통해 다시 수용조(22)로 순환된다.
현상액을 일정 회수 이상 사용되어 현상액의 현상능력이 저하되면, 수용조(22)의 내에 형성된 드레인구(28)를 통해 현상액을 수용조(22)로부터 배출한다. 수용조(22)에 형성되는 드레인구(28)에 카트리지 필터 등의 여과부(32)를 두어 현상액의 배출 시 슬러지(34)를 걸러내어 현상액만을 드레인구(28)와 연결된 드레인배관으로 배출하여 드레인배관의 슬러지에 의한 막힘을 방지한다. 또한, 수용조(22) 내에는 유출구(26), 유입구(24), 드레인구(28) 및 주입구(30)에 연결되며 현상액에 포함된 슬러지를 필터링하는 필터부(36)가 슬러지를 걸러냄으로써 수용조(22)의 벽면에 슬러지의 부착을 방지하게 된다.
즉, 수용조(22)에 형성되는 주입구(30)와 유입구(24)는 현상액과 슬러지가 수용조(22)내에 유입되는 통로이고, 수용조(22)에 형성되는 유출구(26)와 드레인구(28)는 현상액과 슬러지가 수용조(22) 외로 유출되는 통로이다. 따라서, 주입구(30)와 유입구(24)를 통해 수용조(22)내에 유입되는 슬러지는 유출구(26), 주입구(30)에 연결된 필터부(36)에 의해 필터링되고, 유출구(26) 및 드레인구(28)를 통해 수용조(22) 외로 유출되는 슬러지는 유출구(26)와 연결된 필터하우징(18)의 필터 및 드레인구(28)에 연결된 카트리지 필터 등의 여과부(32)를 의해 필터링되어 현상액 내에 존재하는 슬러지가 필터부(36)에 갇히게 되어 슬러지에 의한 수용조(22)의 벽면의 오염과 드레인 배관의 막힘을 방지하게 되는 것이다.
필터부(36)는 다공성 여과재로 형성되며, 수용조(22)에 형성되는 유입구(24), 유출구(26), 드레인구(28) 및 주입구(30)에 상응하는 개구부가 형성되며, 수용조(22) 내에 소정의 공간을 구획하는 파우치(38)(pouch)형태로 구성한다. 특히, 파우치(38)는, 수용조(22)의 내부의 크기에 상응하게 형성하는 것이 좋다.
필터부(36)로서 다공성 여과재인 면이나 부직포을 사용하여 수용조(22)에 형성되는 유입구(24), 유출구(26), 드레인구(28) 및 주입구(30)에 상응하는 개구부를 형성하고 이를 연결하되, 이외 부분은 폐쇄된 하나의 파우치(38)로 제작할 수 있다. 이와 같이 구성함으로써 상기 개구부 이외에서는 슬러지의 유출이 방지되고, 현상액만이 파우치(38)에 형성된 다수의 망에 의해 유출이 가능하므로 슬러지를 파 우치(38)내에 갇히게 할 수 있다. 이때 파우치(38)의 크기는 수용조(22)의 내부의 크기에 상응하게 형성하는 것이 좋다.
또한, 필터부(36)로서 다공성의 튜우브 경질재료를 사용하여 수용조(22) 내에 경질의 파우치(38)를 형성하는 것도 가능하다. 물론 이 경우도 유입구(24), 유출구(26), 드레인구(28) 및 주입구(30)에 상응하는 개구부를 형성하고 이를 각각 유입구(24), 유출구(26), 드레인구(28) 및 주입구(30)에 연결되어 있어야 한다.
한편, 현상액과 슬러지(34)가 유출되는 수용조(22)의 유출구(26) 및 드레인구(28)에 상응하는 개구부는 폐쇄하여 파우치(38)를 형성하는 것도 가능하다. 이와 같이 개구부를 폐쇄함으로써 1차적으로 슬러지를 필터부(36)가 필터링하고, 슬러지(34)가 제거된 현상액만을 수용조(22)의 유출구(26)와 연결된 필터하우징에 공급함으로써 필터하우징의 필터에 슬러지가 축적되는 것을 방지할 수 있다. 또한 수용조(22)의 현상액을 배출하는 경우에도 1차적으로 필터부(36)가 슬러지를 걸러 내고 현상액만을 드레인구(28)에 결합된 여과부(32)에 공급함으로써 여과부(32)에 슬러지가 축적되는 것을 방지할 수 있다.
전술한 실시예 외의 많은 실시예들이 본 발명의 특허청구범위 내에 존재한다.
상술한 바와 같이 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 현상액조 벽면의 오 염 및 드레인 배관의 막힘을 방지할 수 있고, 이에 따라 현상설비 청소 및 배관교체로 인한 시간을 절약할 수 있다.

Claims (13)

  1. 토출관을 통하여 현상액을 토출하고, 토출된 상기 현상액과 현상처리된 슬러지(sludge)를 회수부를 통하여 배출하는 현상유닛과 연결되는 현상액조로서,
    수용조와;
    상기 수용조에 형성되며, 상기 토출관에 연결되는 유출구와;
    상기 수용조에 형성되며, 상기 회수부에 연결되는 유입구와;
    상기 수용조 내에 수용되며, 상기 유출구 및 상기 유입구가 연결되는 필터부; 및
    상기 필터부에 연결되며, 상기 수용조 내에 수용된 상기 현상액을 배출하는 드레인구를 포함하는 현상액조.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 필터부에 연결되며, 상기 수용조에 현상액을 공급하는 주입구를 더 포함하는 현상액조.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 드레인구에 연결되며, 상기 드레인구로부터 유출되는 상기 현상액을 필 터링하는 여과부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 현상액조.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 여과부는,
    카트리지 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상액조.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 필터부는 다공성 여과재로 형성되는 것을 특징으로 하는 현상액조.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 필터부는,
    상기 유입구, 상기 유출구, 상기 드레인구 및 상기 주입구 중 어느 하나 이상에 상응하는 개구부가 형성되며, 상기 수용조 내에 소정의 공간을 구획하는 파우치(pouch)인 것을 특징으로 하는 현상액조.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 파우치는,
    상기 수용조의 내부의 크기에 상응하게 형성되는 것을 특징으로 하는 현상액조.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 파우치는,
    상기 유출구 및 상기 드레인구에 상응하는 개구부는 폐쇄되는 것을 특징으로 하는 현상액조.
  9. 토출관과;
    상기 토출관에 현상액을 필터링하고 공급하는 필터하우징과;
    상기 토출관으로부터 토출된 상기 현상액과 현상처리된 슬러지를 수집하는 회수부와;
    상기 현상액 및 상기 슬러지를 수용하는 수용하는 현상액조를 포함하되,
    상기 현상액조는,
    수용조와;
    상기 수용조에 형성되며, 상기 토출관에 연결되는 유출구와;
    상기 수용조에 형성되며, 상기 회수부에 연결되는 유입구와;
    상기 수용조 내에 수용되며, 상기 유출구 및 상기 유입구가 연결되는 필터부; 및
    상기 필터부에 연결되며, 상기 수용조 내에 수용된 상기 현상액을 배출하는 드레인구를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 필터부에 연결되며, 상기 수용조에 현상액을 공급하는 주입구를 더 포함하는 현상장치.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 드레인구에 연결되며, 상기 드레인구로부터 유출되는 상기 현상액을 필터링하는 여과부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 현상장치.
  12. 제10항에 있어서,
    상기 필터부는,
    상기 유입구, 상기 유출구, 상기 드레인구 및 상기 주입구 중 어느 하나 이상에 상응하는 개구부가 형성되며, 상기 수용조 내에 소정의 공간을 구획하는 파우치(pouch)인 것을 특징으로 하는 현상장치.
  13. 제9항에 있어서,
    상기 필터부는 다공성 여과재로 형성되는 것을 특징으로 하는 현상장치.
KR1020060094413A 2006-09-27 2006-09-27 현상액조 및 현상 장치 KR100785330B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060094413A KR100785330B1 (ko) 2006-09-27 2006-09-27 현상액조 및 현상 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060094413A KR100785330B1 (ko) 2006-09-27 2006-09-27 현상액조 및 현상 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR100785330B1 true KR100785330B1 (ko) 2007-12-17

Family

ID=39147019

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060094413A KR100785330B1 (ko) 2006-09-27 2006-09-27 현상액조 및 현상 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100785330B1 (ko)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07134423A (ja) * 1993-11-09 1995-05-23 Konica Corp 感光材料処理装置
JP2000003048A (ja) 1998-06-15 2000-01-07 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 感光材料処理装置
KR20050090629A (ko) * 2004-03-09 2005-09-14 주식회사 코오롱 드라이필름포토레지스트의 현상방법 및 현상장치

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07134423A (ja) * 1993-11-09 1995-05-23 Konica Corp 感光材料処理装置
JP2000003048A (ja) 1998-06-15 2000-01-07 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 感光材料処理装置
KR20050090629A (ko) * 2004-03-09 2005-09-14 주식회사 코오롱 드라이필름포토레지스트의 현상방법 및 현상장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW201529142A (zh) 處理液供給裝置及處理液供給方法
KR100593709B1 (ko) 기판처리장치
JP2021509769A (ja) 低減された流量のフレキソ印刷処理システム
KR100785330B1 (ko) 현상액조 및 현상 장치
TW201513189A (zh) 使用改良化學品移除光阻用方法及設備
TWI285920B (en) Apparatus and method for process substrate
KR101308398B1 (ko) 약액 회수장치 및 이를 이용한 약액 회수방법
JP3151957B2 (ja) 化学反応装置とその反応制御方法、薬液廃棄方法、および薬液供給方法
JP2000173962A (ja) ウエハ洗浄装置及び洗浄方法
KR102578296B1 (ko) 마스크 처리 장치 및 마스크 처리 방법
TW202010559A (zh) 處理裝置、處理系統以及處理方法
KR101333539B1 (ko) 감광성 수지 조성물의 박리 공정에서의 연속 여과 장치 및 방법
KR20000024808A (ko) Tft lcd용 글라스의 자동 에칭 장치 및 에칭방법
JP4050538B2 (ja) 基板処理装置
JP2004298680A (ja) フォトレジスト現像の廃液処理方法
KR100419669B1 (ko) 인쇄회로기판 제조용 현상액 리사이클링 시스템
JP2004025045A (ja) 洗浄設備
JP3636067B2 (ja) インクの除去装置
JPS59195654A (ja) ホトマスクの洗浄方法および洗浄装置
KR20020094585A (ko) 인쇄회로기판 제조용 현상액 리사이클링 시스템
JPH0265195A (ja) レジスト膜処理装置
KR102071873B1 (ko) 용매 제거장치 및 이를 포함하는 포토리소그래피 장치
KR100872887B1 (ko) 다수의 약액을 이용할 수 있는 기판 처리 장치
JP2001137625A (ja) フィルタリング装置
JP3778495B2 (ja) 現像処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20111010

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee