KR100779149B1 - 패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 컬러 필터, 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전기 광학 장치 - Google Patents

패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 컬러 필터, 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전기 광학 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100779149B1
KR100779149B1 KR1020060005317A KR20060005317A KR100779149B1 KR 100779149 B1 KR100779149 B1 KR 100779149B1 KR 1020060005317 A KR1020060005317 A KR 1020060005317A KR 20060005317 A KR20060005317 A KR 20060005317A KR 100779149 B1 KR100779149 B1 KR 100779149B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
color filter
manufacturing
electro
region
Prior art date
Application number
KR1020060005317A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20060085180A (ko
Inventor
사토루 가타가미
아츠시 후쿠다
Original Assignee
세이코 엡슨 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세이코 엡슨 가부시키가이샤 filed Critical 세이코 엡슨 가부시키가이샤
Publication of KR20060085180A publication Critical patent/KR20060085180A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100779149B1 publication Critical patent/KR100779149B1/ko

Links

Images

Classifications

    • E—FIXED CONSTRUCTIONS
    • E05—LOCKS; KEYS; WINDOW OR DOOR FITTINGS; SAFES
    • E05B—LOCKS; ACCESSORIES THEREFOR; HANDCUFFS
    • E05B65/00—Locks or fastenings for special use
    • E05B65/0025—Locks or fastenings for special use for glass wings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/85—Arrangements for extracting light from the devices
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
    • H10K59/38—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising colour filters or colour changing media [CCM]
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/805—Electrodes
    • H10K59/8051—Anodes
    • H10K59/80515—Anodes characterised by their shape
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/875—Arrangements for extracting light from the devices
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133371—Cells with varying thickness of the liquid crystal layer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133553—Reflecting elements
    • G02F1/133555—Transflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286—Wiring, e.g. gate line, drain line
    • G02F1/13629—Multilayer wirings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/1365—Active matrix addressed cells in which the switching element is a two-electrode device
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/805—Electrodes
    • H10K50/81—Anodes
    • H10K50/813—Anodes characterised by their shape
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10—Deposition of organic active material
    • H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

본 발명은 패턴 형상의 균일성을 향상시켜 생산성을 향상시킨 패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 컬러 필터, 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전기 광학 장치를 제공하는 것이다.
착색층(38R)을 형성하기 전에, 착색층 형성 영역(36)에 요철면(32)을 형성하고, 반사 영역(Rr)의 요철면(32) 위에, 반사층 용액의 액적을 형성하여 요철면(32)의 요철 형상에 대응하는 형상의 반사층(37)을 형성했다. 그리고, 반사층(37) 및 투과 영역(Rt)의 요철면(32) 위에, 착색층 용액의 미소(微小) 액적을 토출하고, 착색층 형성 영역(36) 전체에 확장 습윤되는 착색층 용액의 액적을 형성하여, 균일한 형상의 착색층(38R)을 형성하도록 했다.
패턴, 착색층, 요철, 액적, 반사층

Description

패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 컬러 필터, 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전기 광학 장치{PATTERN FORMATION METHOD, METHOD OF MANUFACTURING COLOR FILTER, COLOR FILTER, METHOD OF MANUFACTURING ELECTRO-OPTICAL APPARATUS AND ELECTRO-OPTICAL APPARATUS}
도 1은 본 발명을 구체화한 제 1 실시예의 액정 표시 장치를 나타낸 개략적인 평면도.
도 2는 마찬가지로 액정 표시 장치를 나타낸 측단면도.
도 3은 마찬가지로 소자 기판을 나타낸 요부(要部) 사시도.
도 4는 마찬가지로 소자 기판을 나타낸 평면도.
도 5는 마찬가지로 컬러 필터를 나타낸 평면도.
도 6은 마찬가지로 컬러 필터를 나타낸 측단면도.
도 7은 마찬가지로 액정 표시 장치의 제조 방법을 나타낸 플로 차트.
도 8은 마찬가지로 액정 표시 장치의 제조 방법을 나타낸 측단면도.
도 9는 마찬가지로 액정 표시 장치의 제조 방법을 나타낸 측단면도.
도 10은 마찬가지로 액정 표시 장치의 제조 방법을 나타낸 측단면도.
도 11은 마찬가지로 액정 표시 장치의 제조 방법을 나타낸 측단면도.
도 12는 마찬가지로 액정 표시 장치의 제조 방법을 나타낸 측단면도.
도 13은 마찬가지로 액정 표시 장치의 제조 방법을 나타낸 측단면도.
도 14는 마찬가지로 액정 표시 장치의 제조 방법을 나타낸 측단면도.
도 15는 마찬가지로 액정 표시 장치의 제조 방법을 나타낸 측단면도.
도 16은 마찬가지로 액정 표시 장치의 제조 방법을 나타낸 측단면도.
도 17은 본 발명을 구체화한 제 2 실시예의 유기 EL 디스플레이를 나타낸 사시도.
도 18은 마찬가지로 화소를 나타낸 평면도.
도 19는 마찬가지로 발광 소자를 나타낸 측단면도.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
10…전기 광학 장치로서의 액정 표시 장치
14…대향 기판으로서의 컬러 필터
14a, 51…투명 기판
32, 64b…하지층으로서의 요철면
33a…격벽층을 구성하는 차광층
34a…격벽층을 구성하는 발액층
35, 68…격벽
36…패턴 형성 영역으로서의 착색층 형성 영역
37…반사층
38R, 38G, 38B…패턴으로서의 착색층
44…잔사편(殘渣片)
50…전기 광학 장치로서의 유기 EL 디스플레이
59…발광 소자 형성 영역
64…전극층으로서의 양극(陽極)
Ds2, Ds3…액적
H…요철 차이
Le…에칭액
Rr…반사층 형성 영역으로서의 반사 영역
본 발명은, 패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 컬러 필터, 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전기 광학 장치에 관한 것이다.
최근, 전기 광학 장치로서의 액정 표시 장치에는, 표시 화상을 컬러화하기 위해, 각 색(各色)(적색, 녹색, 청색)의 착색층을 구비한 컬러 필터가 사용되고 있다. 그 컬러 필터의 제조 방법에는, 착색층을 형성하는 착색층 형성 재료의 용액(착색층 용액)을, 차광층(블랙 매트릭스)으로 둘러싸인 착색층 형성 영역에 도포하고, 그 용액을 건조시킴으로써 컬러 필터를 형성하는 액상 프로세스가 이용되고 있다.
그 중에서도, 그 액상 프로세스에서의 잉크젯법은, 용액을 미소한 액적으로 하여 토출하기 위해, 다른 액상 프로세스(예를 들면, 스핀 코팅이나 디스펜서법 등 )에 비하여, 보다 미세한 착색층을 형성할 수 있다(예를 들면, 특허 문헌 1).
[특허 문헌 1] 일본국 공개 특허 제8-146214호 공보
한편, 이러한 잉크젯법에서는, 토출된 액적에 인접한 착색층 형성 영역으로의 누설을 회피하기 위해, 상기 차광층을, 액적에 대한 발액성을 구비한 재료(발액성 재료)로 구성하고 있다. 그리고, 발액성 재료로 이루어지는 차광막을 기판 전면에 성막하고, 그 차광막을 패터닝함으로써, 착색층 형성 영역을 둘러싼 형상의 차광층을 형성하고 있다.
그러나, 상기한 차광막의 패터닝 공정에서, 상기 차광막의 미소한 잔사편(殘渣片)이 착색층 형성 영역에 존재하면, 상기한 잉크젯법에서는 이하의 문제가 발생한다.
즉, 차광막이 발액성 재료로 구성되기 때문에, 상기 차광막의 잔사편 근방에서는, 토출된 액적의 습윤성이 저하된다. 그 때문에, 토출된 액적이 착색층 형성 영역 전체로 확장 습윤되지 않게 되고, 착색층의 형상(패턴 형상)에 불균일이 발생하여 액정 표시 장치의 표시 화상에 색 불균일 등을 초래하는 문제가 된다.
본 발명은, 상기 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로서, 그 목적은, 패턴 형상의 균일성을 향상시켜 생산성을 향상시킨 패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 컬러 필터, 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전기 광학 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 패턴 형성 방법은, 하지층 위에 형성한 격벽층을 패터닝함으로써 격벽을 형성하고, 상기 하지층과 상기 격벽에 의해 둘러싸인 패턴 형성 영역에, 패턴 형성 재료를 포함한 액적을 토출하여 상기 하지층 위에 패턴을 형성하도록 한 패턴 형성 방법에서, 상기 격벽층을 패터닝할 때에, 상기 패턴 형성 영역 내의 상기 하지층에 상기 격벽층의 잔사편을 형성하고, 상기 액적을 토출하기 전에, 상기 잔사편을 마스크로 하여 상기 하지층을 패터닝하고, 상기 액적을 상기 격벽까지 인입하기 위해, 상기 하지층을 요철 형상으로 형성하도록 했다.
본 발명의 패턴 형성 방법에 의하면, 격벽의 패터닝 공정으로 형성한 잔사편에 의해 요철 형상을 형성하기 때문에, 요철 형상을 형성하기 위한 공정수를 삭감할 수 있고, 패턴의 제조 공정수의 증가를 억제할 수 있다. 그리고, 요철 형상으로 형성한 하지층의 오목부에 따라, 토출된 액적을 격벽까지 인입할 수 있고, 패턴 형성 영역에, 균일한 형상의 패턴을 형성할 수 있다. 게다가, 패턴 형상의 균일성을 향상시켜 패턴의 생산성을 향상시킬 수 있다.
본 패턴 형성 방법은, 상기 잔사편을 마스크로 하여 상기 하지층을 패터닝할 때에, 상기 하지층을 요철 형상으로 형성하면서 상기 잔사편을 제거하도록 했다.
본 패턴 형성 방법에 의하면, 하지층을 요철 형상으로 형성하면서 잔사편을 제거하기 위해, 상기 잔사편에 의한 액적의 인입 불량을 회피할 수 있고, 보다 균일한 형상의 패턴을 형성할 수 있다.
본 패턴 형성 방법은, 상기 하지층의 요철 차이를 0.1㎛이상으로 하도록 했다.
본 패턴 형성 방법에 의하면, 상기 하지층의 요철 차이를 0.1㎛이상으로 한 만큼, 보다 큰 용량의 액적을 인입할 수 있고, 보다 균일한 형상의 패턴을 형성할 수 있다.
본 패턴 형성 방법은, 상기 잔사편을 마스크로 하여 상기 하지층을 패터닝할 때에, 상기 하지층을 요철 형상으로 하기 위한 에칭액을, 액적 토출 장치에서 상기 패턴 형성 영역 내에 토출하도록 했다.
본 패턴 형성 방법에 의하면, 패턴 형성 영역에만 에칭액을 토출할 수 있고, 패턴 형성 영역 이외의 영역을 보호하기 위한 보호층 등을 형성하지 않고, 원하는 하지층을 에칭하여 요철 형상으로 형성할 수 있다.
본 발명의 컬러 필터의 제조 방법은, 투명 기판의 한쪽 면(一側面)에 형성한 차광층을 패터닝함으로써 격벽을 형성하고, 상기 한쪽 면과 상기 격벽에 의해 둘러싸인 착색층 형성 영역에, 착색층 형성 재료를 포함한 액적을 토출하여 상기 한쪽 면 위에 착색층을 형성하도록 한 컬러 필터의 제조 방법에서, 상기 착색층을, 상기한 패턴 형성 방법에 의해 형성하도록 했다.
본 발명의 컬러 필터의 제조 방법에 의하면, 착색층 형상의 균일성을 향상시켜 컬러 필터의 생산성을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 컬러 필터의 제조 방법은, 투명 기판의 한쪽 면에 형성한 차광층을 패터닝함으로써 격벽을 형성하고, 상기 한쪽 면과 상기 격벽에 의해 둘러싸인 반사층 형성 영역에, 반사층 형성 재료를 포함한 액적을 토출하여 상기 한쪽 면 위에 반사층을 형성하도록 한 컬러 필터의 제조 방법에서, 상기 반사층을, 상기한 패 턴 형성 방법에 의해 형성하도록 했다.
본 발명의 컬러 필터의 제조 방법에 의하면, 반사층 형상의 균일성을 향상시켜 컬러 필터의 생산성을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 컬러 필터는, 상기한 컬러 필터의 제조 방법에 의해 제조했다.
본 발명의 컬러 필터에 의하면, 착색층 또는 반사층의 형상의 균일성을 향상시켜 컬러 필터의 생산성을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 컬러 필터는, 투명 기판의 한쪽 면과, 상기 한쪽 면에 형성한 격벽에 의해 둘러싸인 착색층 형성 영역에 착색층 형성 재료를 포함한 액적을 토출하여 형성한 착색층을 구비한 컬러 필터에서, 상기 착색층 형성 영역 내의 상기 한쪽 면이 요철 형상이다.
본 발명의 컬러 필터에 의하면, 격벽의 패터닝 공정으로 형성한 잔사편에 의해 요철 형상을 형성하기 때문에, 요철 형상을 형성하기 위한 공정수를 삭감할 수 있고, 컬러 필터의 제조 공정수의 증가를 억제할 수 있다. 그리고, 요철 형상으로 형성된 한쪽 면의 오목부에 따라, 토출된 액적을 격벽까지 인입할 수 있고, 착색층 형성 영역에, 균일한 형상의 착색층을 형성할 수 있다. 따라서, 착색층의 형상의 균일성을 향상시켜 컬러 필터의 생산성을 향상시킬 수 있다.
이 컬러 필터에서, 상기 한쪽 면의 요철 차이는 0.1㎛이상이다.
이 컬러 필터에 의하면, 한쪽 면의 요철 차이를 0.1㎛이상으로 한 만큼, 보다 큰 용량의 액적을 인입할 수 있고, 보다 균일한 형상의 패턴을 형성할 수 있다.
이 컬러 필터는, 상기 한쪽 면과 상기 착색층의 사이에, 반사층 형성 재료를 포함한 액적을 토출하여 형성한 반사층을 구비했다.
이 컬러 필터에 의하면, 반사층의 형상의 균일성을 향상시켜 컬러 필터의 생산성을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 전기 광학 장치의 제조 방법은, 전극층 위에 형성한 격벽층을 패터닝함으로써 격벽을 형성하고, 상기 전극층과 상기 격벽에 의해 둘러싸인 발광 소자 형성 영역에, 발광 소자 형성 재료를 포함한 액적을 토출하여 발광 소자를 형성하도록 한 전기 광학 장치의 제조 방법에서, 상기 발광 소자를, 상기한 패턴 형성 방법에 의해 형성하도록 했다.
본 발명의 전기 광학 장치의 제조 방법에 의하면, 발광 소자의 형상의 균일성을 향상시켜 전기 광학 장치의 생산성을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 전기 광학 장치는, 소자 기판과 대향 기판의 사이에 전기 광학 물질층을 갖는 전기 광학 장치에서, 상기 대향 기판이, 상기한 컬러 필터이다.
본 발명의 전기 광학 장치에 의하면, 컬러 필터 형상의 균일성을 향상시켜 전기 광학 장치의 생산성을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 전기 광학 장치는, 상기한 전기 광학 장치의 제조 방법에 의해 제조했다.
본 발명의 전기 광학 장치에 의하면, 발광층 또는 정공(正孔) 수송층의 형상의 균일성을 향상시켜 전기 광학 장치의 생산성을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 전기 광학 장치는, 전극층과, 상기 전극층 위에 형성한 격벽에 의해 둘러싸인 발광 소자 형성 영역에, 발광 소자 형성 재료를 포함한 액적을 토출하 여 형성한 발광 소자를 구비한 전기 광학 장치에서, 상기 발광 소자 형성 영역의 상기 전극층이 요철 형상이다.
본 발명의 전기 광학 장치에 의하면, 요철 형상으로 형성된 전극층의 오목부에 따라, 토출된 액적을 격벽까지 인입할 수 있고, 발광 소자 형성 영역에, 균일한 형상의 발광 소자를 형성할 수 있다. 따라서, 발광 소자의 형상의 균일성을 향상시켜 전기 광학 장치의 생산성을 향상시킬 수 있다.
이 전기 광학 장치에서, 상기 전극층의 요철 차이는 0.1㎛이상이다.
이 전기 광학 장치에 의하면, 요철 차이를 0.1㎛이상으로 한 만큼, 보다 큰 용량의 액적을 인입할 수 있고, 보다 균일한 형상의 발광층 또는 정공 수송층을 형성할 수 있다.
(제 1 실시예)
이하, 본 발명을 구체화한 제 1 실시예를 도 1 ∼ 도 16에 따라 설명한다. 도 1 및 도 2는, 전기 광학 장치로서의 액정 표시 장치(10)를 나타낸 개략적인 사시도 및 개략적인 단면도이다.
액정 표시 장치(10)는, 2단자형의 스위칭 소자인 TFD(Thin Film Diode)를 구비한 액티브 매트릭스 방식의 반투과형 액정 표시 장치이다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 액정 표시 장치(10)는, 액정 패널(11)과, 상기 액정 패널(11)에 평면 형상의 광(L1)을 조명하는 조명 장치(12)를 구비하고 있다. 조명 장치(12)는, LED등의 광원(12a)과, 상기 광원(12a)에서 출사되는 광을 투과하여 평면 형상의 광으로서 액정 패널(11)에 조사(照射)하는 도광체(12b)를 구비하고 있다. 또한, 본 실시예에서는, 액정 패널(11)에 대하여, 조명 장치(12)측을 조명측으로 하고, 조명 장치(12)의 반대측을 관측측(觀測側)으로 한다.
액정 패널(11)은, 그 관측측과 조명측에, 각각 사각 형상의 소자 기판(13)과 대향 기판으로서의 컬러 필터(14)를 갖는다. 도 2에 나타낸 바와 같이, 소자 기판(13)과 컬러 필터(14)는, 사각 프레임 형상의 밀봉재(15)에 의해 접합되고, 이들 소자 기판(13)과 컬러 필터(14)의 사이의 극간에, 전기 광학 물질층으로서의 액정층(16)(도 2 참조)이 봉입되어 있다. 또한, 밀봉재(15)에는, 도 2에 나타낸 바와 같이, 구 형상의 도전재(15a)가 분산되고, 후술하는 컬러 필터(14)의 주사선(40)과 소자 기판(13)의 주사선 구동용 IC(41)를 전기적으로 접속할 수 있게 되어 있다.
우선, 상기 액정 패널(11)의 소자 기판(13)에 대해서 이하에 설명한다. 도 3 및 도 4는, 소자 기판(13)을 나타낸 요부 사시도 및 평면도이다.
소자 기판(13)은, 무알칼리 유리 기판으로 이루어지는 투명 기판으로써, 그 한쪽 면(소자 형성면(13s))에는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 일방향으로 연장된 복수의 신호선(17)이 형성되어 있다. 또한, 본 실시예에서는, 이 신호선(17)의 형성 방향을 X방향으로 하고, 그 신호선(17)의 배열 방향, 즉 상기 X방향과 직교하는 방향을 Y방향으로 한다.
신호선(17)은, 도 3에 나타낸 바와 같이, 소자 형성면(13s) 위이며 텅스텐 탄탈 등으로 이루어지는 제 1 층(17a)과, 상기 제 1 층(17a)의 상층이며 절연막에서 형성된 제 2 층(17b)과, 상기 제 2 층(17b)의 상층이며 크롬 등으로 이루어지는 제 3 층(17c)을 갖는 3층 구조로 형성되어 있다. 각 신호선(17)은, 도 2에 나타낸 바와 같이, 각각 소자 기판(13)의 한쪽 단에 ACF(18a)에 의해 실장(實裝)된 신호선 구동용 IC(18)에 전기적으로 접속되어 있다. 신호선 구동용 IC(18)는, 제어 회로(도시 안됨)에서 공급되는 표시 데이터에 의거하여, 각 신호선(17)에 대응하는 데이터 신호를 생성하고, 그 데이터 신호를, 각 신호선(17)에 대하여 일제히 소정의 타이밍에서 출력하도록 되어 있다.
도 4에 나타낸 바와 같이, 각 신호선(17)에는, 전기적으로 접속되는 복수의 스위칭 소자(19)가 형성되어 있다. 스위칭 소자(19)는, 도 3에 나타낸 바와 같이, 한쌍의 TFD(21, 22)로 구성되어 있다. TFD(21) 및 TFD(22)는, 텅스텐 탄탈 등으로 이루어지는 공통의 제 1 층(23a)과, 상기 제 1 층(23a)의 상층이며 절연막에서 형성되는 공통의 제 2 층(23b)을 갖고, 제 2 층(23b)의 상층에, 각각 크롬 등으로 이루어지는 제 3 층(21c, 22c)을 갖는다. TFD(21)의 제 3 층(21c)은, 상기 신호선(17)의 제 3 층(17c)과 전기적으로 접속되어 있다. TFD(22)의 제 3 층(22c)은, ITO 등의 투명 도전막으로 이루어지는 화소 전극(24)과 전기적으로 접속되어 있다.
그리고, 신호선 구동용 IC(18)가 신호선(17)에 데이터 신호를 출력하면, 그 데이터 신호가, TFD(21)의 제 3 층(21c)에서 순차적으로, 제 2 층(23b), 제 1 층(23a), 제 2 층(23b), TFD(22)의 제 3 층(22c)을 통하여, 화소 전극(24)에 공급된다. 즉, 스위칭 소자(19)는, 전기적으로 역방향의 TFD(21, 22)가 직렬로 접속된, 소위 백투백(BTB) 구성된 소자이다.
도 2에 나타낸 바와 같이, 화소 전극(24)(각 신호선(17) 및 스위칭 소자(19))의 상층에는, 폴리이미드 등으로 이루어지는 배향막(25)이 형성되어 있다. 배향막(25)은, 러빙 처리 등에 의한 배향 처리가 실시되고, 상기 배향막(25)(소자 기판(13)) 근방의 액정 분자의 배향을 설정하게 되어 있다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 소자 기판(13)의 관측측의 면이며 화소 전극(24)의 형성된 영역에는, 사각 판자 형상의 편광판(26)이 부착되어 있다.
다음에, 상기 액정 패널(11)의 컬러 필터(14)에 대해서 이하에 설명한다. 도 5는, 컬러 필터(14)를 나타낸 평면도이며, 도 6은, 도 5의 A-A에 따른 단면도이다.
도 2에 나타낸 바와 같이, 컬러 필터(14)는, 무알칼리 유리 기판으로 이루어지는 투명 기판(14a)을 구비하고 있다. 투명 기판(14a)의 관측측의 면(소자 기판(13)측의 면)에는, 하지층으로서의 필터 형성면(14s)이 형성되어 있다.
그 필터 형성면(14s)은, 도 5 및 도 6에 나타낸 바와 같이, 다수의 섬 형상 볼록면(31)을 갖고, 이 섬 형상 볼록면(31)에 의해, 요철 형상의 요철면(32)을 형성하고 있다. 그 요철면(32)은, 도 5에 나타낸 바와 같이, 상기 신호선(17)의 형성 방향(Y방향)에 따라, 사각 형상의 작은 사이즈의 영역(반사층 형성 영역으로서의 반사 영역(Rr))과, 사각 형상의 큰 사이즈의 영역(투과 영역(Rt))이 교대로 반복되도록, 매트릭스 형상으로 배열 형성되어 있다. 또한, 이 요철면(32)은, 도 6에 나타낸 바와 같이, 후술하는 요철 형성 공정(도 7에서의 스텝 S14)에 의해, 그 요철 차이(H)가 0.1㎛이상으로 되도록 형성되어 있다.
필터 형성면(14s) 위이며 상기 요철면(32)의 형성 영역(반사 영역(Rr)과 투과 영역(Rt))을 제외한 영역에는, 도 6에 나타낸 바와 같이, 차광부(33)가 형성되 어 있다. 차광부(33)는, 소정의 파장으로 이루어지는 노광광(Lpr)(도 8 참조)을 노광하면, 노광된 부분만이 알칼리성 용액 등의 현상액에 가용되는, 소위 포지티브형의 감광성 재료로 형성되고, 예를 들면 카본 블랙 등의 차광성 재료를 함유하는 열경화성 수지에 의해 격자 형상으로 형성되어 있다. 즉, 차광부(33)는, 조명측 및 관측측에서 입사한 광을 차광함으로써, 관측측에 표시하는 화상의 콘트라스트(contrast)를 향상시키는, 소위 블랙 매트릭스이다.
도 6에 나타낸 바와 같이, 차광부(33)의 상측에는, 발액부(34)가 형성되어 있다. 발액부(34)는, 상기 차광부(33)와 마찬가지로, 포지티브형의 감광성 재료로 형성되고, 후술하는 반사층 용액(Lr)(도 12 참조)으로 이루어지는 액적(Ds2) 및 착색층 용액(Lc)(도 14 참조)으로 이루어지는 액적(Ds3)을 발액하는 발액성을 갖는 불소계 수지(樹脂)로 이루어지는 수지층이다.
그리고, 이들 차광부(33) 및 발액부(34)에 의해, 요철면(32)을 둘러싼 격자 형상의 격벽(35)이 형성되고, 그 격벽(35)에 의해, 패턴 형성 영역으로서의 착색층 형성 영역(36)이 형성된다. 즉, 착색층 형성 영역(36)은, 요철면(32)을 저면으로 하는 작은 사이즈의 반사 영역(Rr)과 큰 사이즈의 투과 영역(Rt)에 의해 구성되어 있다.
각 반사 영역(Rr)의 요철면(32) 위에는, 반사층(37)이 형성되어 있다. 반사층(37)은, 광을 반사하는 금속막으로서, 요철면(32)에 대응한 요철 형상으로 형성되어 있다. 그리고, 이 반사층(37)이 요철 형상으로 형성됨으로써, 도 2에 나타낸 바와 같이, 관측측에서 입사한 외광(L2)이 반사층(37)에서 반사하여 확산되게 되어 있다. 한편, 이 반사층(37)의 형성되지 않은 투과 영역(Rt)에서는, 조명측(조명 장치(12))에서 입사한 광(L1)이 관측측에 투과하게 되어 있다.
도 5에 나타낸 바와 같이, 각 반사층(37)의 상층에는, 각각 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)을 나타내는 적색 착색층(38R), 녹색 착색층(38G) 및 청색 착색층(38B)이, 상기 신호선(17)과 직교하는 방향(Y방향)에 따라, 반복 형성되어 있다.
각 착색층(38R, 38G, 38B)의 상층에는, 도 6에 나타낸 바와 같이, 오버 코팅층(39)이 형성되어 있다. 오버 코팅층(39)은, 격벽(35)(차광부(33) 및 발액부(34))과 마찬가지로, 아크릴 수지나 폴리이미드 수지 등의 포지티브형의 감광성 재료로 형성되어 있다. 또한, 이 오버 코팅층(39)의 두께에 의해, 도 2에 나타낸 바와 같이, 반사 영역(Rr) 위의 액정층(16)의 두께와 투과 영역(Rt) 위의 액정층(16)의 두께가 조정되고, 관측측에서 반사 영역(Rr)을 통하여 다시 관측측에 출사되는 광의 조도(照度)와, 조명측에서 투과 영역(Rt)을 통하여 관측측에 출사되는 광의 조도가 균일하게 된다.
도 5에 나타낸 바와 같이, 투과 영역(Rt)의 요철면(32) 위에는, 반사 영역(Rr)과 마찬가지로, 적색 착색층(38R), 녹색 착색층(38G) 및 청색 착색층(38B)이, 상기 신호선(17)과 직교하는 방향(Y방향)에 따라, 반복 형성되어 있다.
도 6에 나타낸 바와 같이, 상기 반사 영역(Rr)의 오버 코팅층(39)과, 투과 영역(Rt)의 각 착색층(38R, 38G, 38B)의 상층에는, 상기 신호선(17)과 직교하는 방향(Y방향:도 6에서 지면에 수직한 방향)으로 연장된 주사선(40)이, 상기 신호선(17)의 형성 방향(X방향)으로 배열되어 있다. 주사선(40)은, 상기 화소 전극(24) 과 마찬가지로, ITO 등의 투명 도전막에 의해 형성되고, 도 5에 나타낸 바와 같이, 그 X방향의 폭이, 반사 영역(Rr)(투과 영역(Rt))의 형성 피치의 피치 폭과 대략 동일한 폭(W)으로 형성되어 있다.
그리고, 도 5에 나타낸 바와 같이, 이 주사선(40)과 상기 화소 전극(24)이, 관측측에서 볼 때 평면적으로 중첩되도록 배열 설치되고, 그 중첩되는 영역에 의해, 표시의 최소 단위인 최소 표시 영역(Rp)이 형성된다. 즉, 최소 표시 영역(Rp)은, 화소 전극(24)과 대략 동일한 사이즈로 형성되고, 그 X방향의 폭이, 주사선(40)의 X방향의 폭(폭(W))과 대략 동일한 폭으로 형성된다. 그리고, 최소 표시 영역(Rp)은, 1개의 투과 영역(Rt)과 상기 투과 영역(Rt)과 인접한 2개의 반사 영역(Rr)의 대략 반 정도의 영역에 의해 형성되고, 투과광과 반사광의 쌍방으로 이루어지는 광을 출사 가능하게 하고 있다.
도 2에 나타낸 바와 같이, 각 주사선(40)은, 밀봉재(15) 내의 도전재(15a)에 의해, 신호선(17)과 마찬가지로, 소자 기판(13)의 한쪽 단에 ACF에 의해 실장되는 주사선 구동용 IC(41)(도 1 참조)에 전기적으로 접속되어 있다. 주사선 구동용 IC(41)는, 제어 회로(도시 안됨)에서 공급되는 주사 제어 신호에 의거하여, 복수의 주사선(40) 중에서 소정의 주사선(40)을 소정의 타이밍에서 선택 구동하고, 선택한 주사선(40)에 주사 신호를 출력하게 되어 있다.
도 6에 나타낸 바와 같이, 그 주사선(40)의 상층에는, 폴리이미드 등으로 이루어지는 배향막(42)이 형성되어 있다. 배향막(42)은, 러빙 처리 등에 의한 배향 처리가 실시되고, 상기 배향막(42)(컬러 필터(14)) 근방의 액정 분자의 배향을 설 정할 수 있게 되어 있다.
도 2에 나타낸 바와 같이, 상기한 컬러 필터(14)의 필터 형성면(14s)과 서로 대향하는 측의 면(조사측의 면)에는, 편광판(43)이 점착되어 있다.
그리고, 데이터 신호의 출력된 화소 전극(24) 위의 주사선(40)에 주사 신호가 출력되면, 데이터 신호와 주사 신호의 전위차에 따라 화소 전극(24)에 접속되는 스위칭 소자(19)가 온 상태가 된다. 스위칭 소자(19)가 온 상태가 되면, 화소 전극(24)에 대응하는 최소 표시 영역(Rp) 위의 액정 분자의 배향 상태가, 그 최소 표시 영역(Rp)을 통과하는 광(L1) 또는 외광(L2)을 변조하도록 유지된다. 그리고, 변조된 광이 편광판(43)을 통과할 것인지의 여부에 의해, 액정 패널(11)의 관측측에 소망하는 풀 컬러의 화상이 표시된다.
(액정 표시 장치(10)의 제조 방법)
다음에, 상기한 액정 표시 장치(10)의 제조 방법에 대해서 도 7 ∼ 도 16에 따라 설명한다. 도 7은, 액정 표시 장치(10)의 제조 공정을 나타낸 플로 차트, 도 8 ∼ 도 16은, 액정 표시 장치(10)의 제조 공정을 설명하는 설명도이다.
우선, 상기한 컬러 필터(14)의 제조 방법에 대해서 설명한다.
도 7에 나타낸 바와 같이, 우선, 투명 기판(14a)의 필터 형성면(14s) 전면에, 차광층 재료를 도포하여 차광층(33a)을 형성하는 차광층 형성 공정을 행한다(스텝 S11). 다음에, 차광층(33a) 상층에 발액층 재료를 도포하여 발액층(34a)을 형성하는 발액층 형성 공정을 행한다(스텝 S12). 그리고, 차광층 형성 공정 및 발액층 형성 공정에 의해, 차광층(33a) 및 발액층(34a)에 의해 구성되는 격벽층이 형 성된다.
도 7에 나타낸 바와 같이, 차광층(33a)과 발액층(34a)을 형성하면, 필터 형성면(14s)과 서로 대향하는 위치에 마스크(Mk)를 배치하여 격벽(35)을 형성하는 격벽 형성 공정을 행한다(스텝 S13). 그 마스크(Mk)에는, 도 8에 나타낸 바와 같이, 소정의 파장으로 이루어지는 노광광(Lpr)을 투과하는 투과 기판(Mkb)이 구비되고, 상기 투과 기판(Mkb)의 한쪽 면(필터 형성면(14s)과 서로 대향하는 측의 면)에는, 노광광(Lpr)을 차광하는 차광 패턴(Mk1)과, 노광광(Lpr)을 소정의 비율로 투과하는 반투과 패턴(Mk2)이 형성되어 있다. 또한, 그 차광 패턴(Mk1)은, 필터 형성면(14s)과 서로 대향하는 상태에서, 상기 격벽(35)(차광부(33) 및 발액부(34))에 상대(相對)하는 형상의 패턴이며, 반투과 패턴(Mk2)은, 상기 섬 형상 볼록면(31)과 상대하는 패턴이다.
그리고, 이 마스크(Mk)를 통하여 노광광(Lpr)을 격벽층(차광층(33a) 및 발액층(34a))에 노광하여 현상하면, 필터 형성면(14s) 위에는, 도 9에 나타낸 바와 같이, 차광 패턴(Mk1)과 상대하는 위치에, 차광층(33a) 및 발액부(34)로 이루어지는 격벽(35)이 형성된다. 즉, 반사 영역(Rr) 및 투과 영역(Rt)(착색층 형성 영역(36))이 구획 형성된다. 또한, 그 착색층 형성 영역(36) 내이며 반투과 패턴(Mk2)에 상대하는 위치에는, 격벽(35)보다도 작은 사이즈로 이루어지는 차광층(33a)의 잔사(잔사편(44))가 다수 형성된다.
도 7에 나타낸 바와 같이, 필터 형성면(14s) 위에 격벽(35) 및 잔사편(44)을 형성하면, 액적 토출 장치에서 착색층 형성 영역(36) 내에 불화 암모늄 등의 에칭 액(Le)(도 10 참조)을 토출하고, 격벽(35) 및 잔사편(44)을 마스크로 한 요철면(32)을 형성하는 요철면 형성 공정을 행한다(스텝 S14). 도 10에 나타낸 바와 같이, 그 액적 토출 장치에는, 액적 토출 헤드(45)가 구비되고, 그 액적 토출 헤드(45)의 하측에는, 노즐 플레이트(46)가 구비되어 있다. 그 노즐 플레이트(46)의 하면(노즐 형성면(46a))에는, 에칭액(Le)을 토출하는 다수의 노즐(46n)이 상방(上方)을 향하여 형성되어 있다. 각 노즐(46n)의 상측에는, 수용 탱크(도시 안됨)에 연통하여 에칭액(Le)을 노즐(46n) 내에 공급 가능하게 하는 공급실(47)이 형성되어 있다. 공급실(47)의 상측에는, 상하 방향으로 왕복 진동하여 공급실(47) 내의 용적을 확대 축소하는 진동판(48)과, 상하 방향으로 신축하여 상기 진동판을 진동시키는 압전 소자(49)가 배열 설치되어 있다. 그리고, 액적 토출 장치에 반송되어 오는 투명 기판(14a)은, 도 10에 나타낸 바와 같이, 필터 형성면(14s)을 노즐 형성면(46a)과 평행하게 하여 위치 결정된다.
여기서, 공급실(47) 내에, 에칭액(Le)을 공급하고, 액적 토출 헤드(45)에 요철면(32)을 형성하기 위한 구동 신호를 입력하면, 상기 구동 신호에 의거하여, 상기 착색층 형성 영역(36) 바로 위에 위치하는 압전 소자(49)가 신축동하여 공급실(47)의 용적을 확대 축소한다. 이 때, 공급실(47)의 용적이 축소되면, 축소된 용적에 상대하는 양의 에칭액(Le)이, 각 노즐(46n)에서 미소 액적(Ds)으로서 토출되고, 토출된 미소 액적(Ds)이, 각각 대응하는 필터 형성면(14s)에 착탄(着彈)한다. 계속해서, 공급실(47)의 용적이 확대되면, 확대된 용적분의 에칭액(Le)이, 수용 탱크(도시 안됨)에서 공급실(47) 내에 공급된다.
즉, 액적 토출 헤드(45)는, 이렇게 한 공급실(47)의 확대 축소에 의해, 소정의 용량의 에칭액(Le)을 각 착색층 형성 영역(36)에 향하여 토출하고, 상기 착색층 형성 영역(36) 내에, 에칭액(Le)으로 이루어지는 액적(Ds1)을 형성한다. 그리고, 액적(Ds1)을 형성한 상태에서 소정의 시간만큼 방치하면, 착색층 형성 영역(36) 내의 필터 형성면(14s)이 에칭되고, 도 11에 나타낸 바와 같이, 잔사편(44)에 의해 마스크된 위치에 볼록부(섬 형상 볼록면(31))가 형성된다. 그리고, 섬 형상 볼록면(31)과 주변의 필터 형성면(14s)의 에칭량의 차이에 의해 요철면(32)이 형성된다.
이에 따라, 에칭액(Le)을 착색층 형성 영역(36) 내에만 공급할 수 있고, 착색층 형성 영역(36) 이외의 영역(예를 들면, 필터 형성면(14s)과 서로 대향하는 측의 면 등)에 내에칭성의 보호막 등을 형성하지 않고 요철면(32)을 형성할 수 있다.
또한, 잔사편(44)은, 에칭액(Le)에 의한 필터 형성면(14s)의 에칭에 의해, 그 필터 형성면(14s)에 대한 밀착성이 저하하고, 착색층 형성 영역(36) 내에서 에칭액(Le)을 제거하여 세정할 때에, 동시에 제거된다.
도 7에 나타낸 바와 같이, 착색층 형성 영역(36) 내에 요철면(32)을 형성하면, 반사 영역(Rr)의 요철면(32) 위에 반사층(37)을 형성하는 반사층 형성 공정을 행한다(스텝 S15). 즉, 도 12에 나타낸 바와 같이, 상기 액적 토출 장치의 공급실(47)에 금속 입자 등으로 이루어지는 패턴 형성 재료로서의 반사층 형성 재료의 용액(반사층 용액(Lr))을 공급하고, 상기 요철면 형성 공정과 마찬가지로, 액적 토출 헤드(45)에 의해, 반사 영역(Rr)의 요철면(32) 위에, 반사층 용액(Lr)으로 이루어지는 미소 액적(Ds)을 토출한다. 토출된 미소 액적(Ds)은, 요철면(32)에 착탄되고, 상기 요철면(32)의 요철에 안내되면서 각 반사 영역(Rr)의 내측 에지(각 격벽(35))까지 인입된다. 이에 따라, 반사 영역(Rr) 전체에 확장 습윤되는 반사층 용액(Lr)의 액적(Ds2)을 형성할 수 있고, 상기 액적(Ds2)을 건조시켜 고화(固化)함으로써, 도 13에 나타낸 바와 같이, 반사 영역(Rr)의 요철면(32) 위에, 상기 요철면(32)의 요철 형상에 대응한 균일한 막 두께의 반사층(37)을 형성할 수 있다.
도 7에 나타낸 바와 같이, 반사 영역(Rr)에 반사층(37)을 형성하면, 반사 영역(Rr) 및 투과 영역(Rt)(착색층 형성 영역(36))에 각 착색층(38R, 38G, 38B)을 형성하는 착색층 형성 공정을 행한다(스텝 S16). 즉, 도 14에 나타낸 바와 같이, 상기 액적 토출 장치의 공급실(47)에 적색 착색층(38R)(녹색 착색층(38G) 및 청색 착색층(38B))을 형성하기 위한 패턴 형성 재료로서의 착색 안료를 분산시킨 분산액(착색층 용액(Lc))을 공급한다. 그리고, 상기 반사층 형성 공정과 마찬가지로, 액적 토출 헤드(45)에 의해, 반사 영역(Rr)의 반사층(37) 위 및 요철면(32) 위에, 착색층 용액(Lc)으로 이루어지는 미소 액적(Ds)을 토출한다. 토출된 미소 액적(Ds)은, 요철면(32)에 착탄되고, 상기 요철면(32)의 요철에 안내되면서 각 착색층 형성 영역(36)의 내측 에지(각 격벽(35))까지 인입된다. 이에 따라, 각 착색층 형성 영역(36) 전체에 확장 습윤되는 착색층 용액(Lc)의 액적(Ds3)을 형성할 수 있고, 상기 액적(Ds3)을 건조하여 고화시킴으로써, 도 15에 나타낸 바와 같이, 반사층(37) 및 요철면(32) 위에, 균일한 형상의 적색 착색층(38R)(녹색 착색층(38G) 및 청색 착색층(38B))을 형성할 수 있다.
도 7에 나타낸 바와 같이, 각 색의 착색층(38R, 38G, 38B)을 형성하면, 오버 코팅층(39)을 형성하는 오버 코팅층 형성 공정, 주사선(40)을 형성하는 주사선 형성 공정 및 배향막(42)을 형성하는 배향막 형성 공정을 순차적으로 행한다(스텝 S17, S18, S19). 즉, 각 착색층(38R, 38G, 38B) 위에 아크릴 수지나 폴리이미드 수지 등의 포지티브형의 감광성 재료를 도포하고, 상기 감광성 재료를 패터닝함으로써, 도 16에 나타낸 바와 같이, 반사 영역(Rr)의 착색층(38R, 38G, 38B) 위에 오버 코팅층(39)을 형성한다. 오버 코팅층(39)을 형성하면, 필터 형성면(14s) 전면에 ITO 등의 투명 도전막을 퇴적(堆積)시켜, 상기 투명 도전막을 패터닝함으로써, 도 16에 나타낸 바와 같이, 주사선(40)을 형성한다. 주사선(40)을 형성하면, 필터 형성면(14s) 전면에, 폴리이미드 등의 투명 수지를 도포하고, 상기 투명 수지에 러빙 처리 등의 배향 처리를 실시하여, 배향막(42)을 형성한다.
이에 따라, 반사 영역(Rr)에, 균일한 형상의 반사층(37)과, 착색층 형성 영역(36)에, 균일한 형상의 착색층(38R, 38G, 38B)을 갖는 컬러 필터(14)를 제조할 수 있다.
컬러 필터(14)를 제조하면, 상기 컬러 필터(14)와 공지의 제조 기술에 의해 제조한 소자 기판(13)을 밀봉재(15)에 의해 접합시키고, 상기 밀봉재(15)의 주입구(도시 안됨)에서 컬러 필터(14)와 소자 기판(13)의 사이에 액정을 주입하여 액정층(16)을 형성한다. 액정층(16)을 형성하면, 컬러 필터(14)와 소자 기판(13)에 편광판(26, 43)을 붙이고, 소자 기판(13)에, 각종 구동용 IC(18, 41)을 실장한다. 이 에 따라, 액정 패널(11)을 형성할 수 있고, 상기 액정 패널(11)에 조명 장치(12)를 장착시킴으로써 액정 표시 장치(10)를 제조할 수 있다.
다음에, 상기한 바와 같이 구성한 제 1 실시예의 효과를 이하에 기재한다.
(1) 상기 실시예에 의하면, 각 착색층(38R, 38G, 38B)을 형성하기 전에, 착색층 형성 영역(36)에 요철 차이가 0.1㎛이상의 요철면(32)을 형성하고, 상기 요철면(32) 위 또는 반사층(37) 위에, 착색층 용액(Lc)의 미소 액적(Ds)을 토출하여 액적(Ds3)을 형성하도록 했다.
따라서, 미소 액적(Ds)을 요철면(32)의 요철 형상에 안내시키면서 착색층 형성 영역(36)의 내측 에지(각 격벽(35))까지 인입할 수 있고, 착색층 형성 영역(36) 전체에 확장 습윤되는 착색층 용액(Lc)의 액적(Ds3)을 형성할 수 있다. 그 결과, 각 착색층(38R, 38G, 38B)을 균일한 형상으로 형성할 수 있고, 컬러 필터(14)의 생산성, 게다가 액정 표시 장치(10)의 생산성을 향상시킬 수 있다.
(2) 상기 실시예에 의하면, 반사 영역(Rr)의 각 착색층(38R, 38G, 38B)을 형성하기 전에, 착색층 형성 영역(36)에 요철면(32)을 형성하고, 상기 요철면(32) 위에, 반사층 용액(Lr)의 미소 액적(Ds)을 토출하여 액적(Ds2)을 형성하도록 했다.
따라서, 반사 영역(Rr) 전체에 확장 습윤되는 반사층 용액(Lr)의 액적(Ds2)을 형성할 수 있고, 요철면(32)의 요철 형상에 대응한 균일한 막 두께의 반사층(37)을 형성할 수 있다. 그 결과, 균일한 형상의 반사층(37)을 갖는 반사형의 컬러 필터(14)를 형성할 수 있다.
(3) 상기 실시예에 의하면, 격벽층을 패터닝할 때에 잔사편(44)을 적극적으 로 형성하고, 상기 잔사편(44)을 마스크로 하여 요철면(32)을 형성하도록 했다. 따라서, 요철면(32)을 형성하기 위한 마스크 형성의 공정을 별도로 행하지 않고 요철면(32)을 형성할 수 있다. 그 결과, 컬러 필터(14)의 생산성, 또는 액정 표시 장치(10)의 생산성을 향상시킬 수 있다.
(4) 상기 실시예에 의하면, 격벽(35) 및 잔사편(44)을 마스크로 하여 필터 형성면(14s)을 에칭할 때에, 에칭액(Le)의 세정에 의해 잔사편(44)을 제거하도록 했다. 따라서, 잔사편(44) 또는 잔사를 확실하게 제거하는 만큼, 미소 액적(Ds)의 습윤성을 향상시킬 수 있다.
(5) 상기 실시예에 의하면, 액적 토출 장치에 의해, 착색층 형성 영역(36) 내에만 에칭액(Le)을 공급하도록 했다. 따라서, 착색층 형성 영역(36) 이외의 영역(예를 들면, 필터 형성면(14s)과 서로 대향하는 측의 면 등)에 내에칭액의 보호막 등을 형성하지 않고 요철면(32)을 형성할 수 있다. 그 결과, 컬러 필터(14)의 생산성, 또는 액정 표시 장치(10)의 생산성을 향상시킬 수 있다.
(제 2 실시예)
다음에, 본 발명을 구체화한 제 2 실시예를, 도 17 ∼ 도 19에 따라 설명한다. 또한, 제 2 실시예에서는, 상기한 제 1 실시예의 하지층(필터 형성면(14s))을 변경하여 전기 광학 장치로서의 유기 일렉트로루미네선스 디스플레이(유기 EL 디스플레이)에 구체화한 것이다. 그 때문에 이하에서는, 변경점인 하지층에 대해서 상세하게 설명한다.
도 17에 나타낸 바와 같이, 유기 EL 디스플레이(50)에는 투명 기판(51)이 구 비되어 있다. 투명 기판(51)은, 사각 형상으로 형성된 무알칼리 유리 기판으로서, 그 한쪽 면(소자 형성면(51s))에는, 일방향(도 17에서의 X방향)으로 연장된 복수의 주사선(52)과, 상기 주사선(52)과 직교하는 방향(도 17에서의 Y방향)으로 연장된 복수의 신호선(53)과, 상기 신호선(53)에 병설(倂設)된 전원선(54)을 갖는다.
주사선(52) 및 신호선(53)은, 각각 대응하는 주사선 구동 회로(55) 및 신호선 구동 회로(56)에 접속되어 있다. 주사선 구동 회로(55)는, 제어 회로(도시 안됨)에서 공급되는 주사 제어 신호에 의거하여, 복수의 주사선(52) 중에서 소정의 주사선(52)을 소정의 타이밍에서 선택 구동하고, 선택한 주사선(52)에 주사 신호를 출력하게 되어 있다. 신호선 구동 회로(56)는, 제어 회로(도시 안됨)에서 공급되는 표시 데이터에 의거하여 표시 데이터 신호를 생성하고, 그 표시 데이터 신호를 대응하는 신호선(53)에 소정의 타이밍에서 출력하게 되어 있다. 전원선(54)은, 각각 공통 전원선(도시 안됨)에 접속되어 구동 전원을 각 전원선(54)에 공급하게 되어 있다.
이들 신호선(53)과 주사선(52)의 교차하는 위치에는, 대응하는 신호선(53), 전원선(54) 및 주사선(52)에 접속됨으로써 매트릭스 형상으로 배열된 복수의 화소(57)가 형성되어 있다.
도 18은, 화소(57)의 레이아웃을 나타낸 개략적인 평면도이며, 도 19는, 도 18의 일점 쇄선 A-A에 따른 개략적인 단면도이다.
도 18에 나타낸 바와 같이, 화소(57) 내에는, 제어 소자 형성 영역(58) 및 발광 소자 형성 영역(59)이 구획 형성되어 있다. 제어 소자 형성 영역(58) 내에 는, 스위칭용 TFT(61), 구동용 TFT(62) 및 유지 커패시터(63)가 구비되어 있다.
스위칭용 TFT(61)의 게이트(G1), 소스(S1) 및 드레인(D1)은, 각각 대응하는 주사선(52), 신호선(53) 및 유지 커패시터(63)의 하부 전극(63b)에 전기적으로 접속되어 있다. 구동용 TFT(62)의 게이트(G2), 소스(S2) 및 드레인(D2)은, 각각 유지 커패시터(63)의 상기 하부 전극(63b)(스위칭용 TFT(61)의 드레인(D1)), 유지 커패시터(63)의 상부 전극(63t) 및 후술하는 발광 소자 형성 영역(59)의 양극(64)과 접속되어 있다.
유지 커패시터(63)는, 상기 하부 전극(63b)과 상기 상부 전극(63t)의 사이에 용량막으로서의 절연막(65)(도 19 참조)을 갖는 커패시터로서, 그 상부 전극(63t)은, 대응하는 전원선(54)에 전기적으로 접속되어 있다. 그리고, 이들 각 TFT(61, 62), 유지 커패시터(63), 각종 배선(52, 53, 54)의 층간 및 선간(線間)에는, 실리콘 산화막 등으로 이루어지는 절연막(65)(도 19 참조)이 형성되고, 이 절연막(65)에 의해 각 층간 및 선간이 전기적으로 절연되어 있다.
그리고, 주사선 구동 회로(55)가, 순차적으로 주사선(52)을 통하여 대응하는 스위칭용 TFT(61)의 게이트(G1)에 주사 신호를 입력(선(線) 순차 주사)하면, 선택된 스위칭용 TFT(61)가 선택기간 동안만 온 상태가 된다. 스위칭용 TFT(61)가 온 상태로 되면, 신호선 구동 회로(56)에서 출력되는 표시 데이터 신호가, 대응하는 신호선(53) 및 스위칭용 TFT(61)를 통하여 유지 커패시터(63)의 하부 전극(63b)에 공급된다. 표시 데이터 신호가 하부 전극(63b)에 공급되면, 유지 커패시터(63)는, 그 표시 데이터 신호에 상대하는 전하를 상기 용량막에 축적한다. 그리고, 스위칭 용 TFT(61)가 오프 상태가 되면, 유지 커패시터(63)에 축적되는 전하에 상대한 구동 전류가, 구동용 TFT(62)를 통하여 발광 소자 형성 영역(59)의 전극층으로서의 양극(64)에 공급된다.
다음에, 상기한 화소(57)의 발광 소자 형성 영역(59)의 구성에 대해서 이하에 설명한다.
도 18에 나타낸 바와 같이, 각 화소(57)의 상측에는, 발광 소자 형성 영역(59)이 형성되어 있다. 도 19에 나타낸 바와 같이, 발광 소자 형성 영역(59)이며 상기 절연막(65)의 상층에는, 투명 전극으로서의 양극(64)이 형성되어 있다. 양극(64)은, 광 투과성을 갖는 투명 도전막으로서, 도 18에 나타낸 바와 같이, 그 일단이 구동용 TFT(62)의 드레인(D2)에 전기적으로 접속되어 있다.
그 양극(64)의 상면은, 제 1 실시예와 마찬가지로, 다수의 섬 형상 볼록면(64a)을 갖고, 이 섬 형상 볼록면(64a)에 의해, 요철 형상의 요철면(64b)을 형성하고 있다.
양극(64)의 상층에는, 각 양극(64)을 서로 절연하는 격벽부(66)가 형성되어 있다. 격벽부(66)는, 후술하는 액적을 발액하는 불소계 수지 등의 유기 재료로 형성되고, 소정의 파장으로 이루어지는 노광광을 노광하면, 노광된 부분만이 알칼리성 용액 등의 현상액에 가용(可溶)되는, 소위 포지티브형의 감광성 재료로 형성되어 있다.
그 격벽부(66)이며 양극(64)의 대략 중앙 위치에는, 상측에 향하여 테이퍼 형상으로 개구되는 수용 구멍(67)이 형성되어 있다. 그리고, 격벽부(66)에 수용 구멍(67)이 형성됨으로써, 양극(64) 상면(요철면(64b))을 둘러싼 격벽(68)이 형성되고, 그 격벽(68)과 요철면(64b)에 의해 패턴 형성 영역으로서의 유기 EL층 형성 영역이 형성된다.
그 유기 EL층 형성 영역(요철면(64b) 상층)에는, 패턴으로서의 유기 일렉트로루미네선스층(유기 EL층(69))이 형성되어 있다. 이 유기 EL층(69)은, 정공 수송층과 발광층의 2층으로 이루어지는 유기 화합물층이다. 이 유기 EL층(69)은, 제 1 실시예와 마찬가지로, 패턴 형성 재료로서의 발광 소자 형성 재료를 포함한 액적을 수용 구멍(67) 내에 형성하고, 그 액적을 건조함으로써 형성되어 있다. 또한, 본 실시예에서의 각 유기 EL층(69)은, 각각 대응하는 색의 광을 발광하는 발광 소자 형성 재료, 즉 적색의 광을 발광하는 적색 발광 소자 형성 재료 또는 녹색의 광을 발광하는 녹색 발광 소자 형성 재료 또는 청색을 발광하는 청색 발광 소자 형성 재료에 의해 형성되어 있다.
그 유기 EL층(69)의 상측에는, 알루미늄 등의 광반사성을 갖는 금속막으로 이루어지는 음극(70)이 형성되어 있다. 음극(70)은, 소자 형성면(51s) 대략 전면을 덮도록 형성되고, 각 화소(57)가 공유함으로써 각 발광 소자 형성 영역(59)에 공통된 전위를 공급하게 되어 있다. 그리고, 본 실시예에서는, 이들 양극(64), 유기 EL층(69) 및 음극(70)에 의해, 발광 소자로서의 유기 일렉트로루미네선스 소자(유기 EL 소자(71))를 구성하고 있다.
음극(70)(유기 EL 소자(71))의 상측에는, 에폭시 수지 등으로 이루어지는 접착층(72)이 형성되고, 그 접착층(72)을 통하여 소자 형성면(51s)을 덮는 밀봉 기판 (73)이 투명 기판(51)에 점착되어 있다. 밀봉 기판(73)은, 무알칼리 유리 기판으로서, 각 유기 EL 소자(71) 및 각종 배선(52, 53, 54) 등의 산화 등을 방지하게 되어 있다.
그리고, 데이터 신호에 따른 구동 전류가 양극(64)에 공급되면, 유기 EL층(69)은, 그 구동 전류에 따른 휘도에서 발광한다. 이 때, 유기 EL층(69)에서 음극(70)측을 향하여 발광된 광은, 상기 음극(70)에 의해 반사된다. 그 때문에, 유기 EL층(69)에서 발광된 광은, 그 대부분이, 양극(64), 절연막(65) 및 투명 기판(51)을 통과하고, 투명 기판(51)의 이면(표시면(51t))측에서 외측을 향하여 출사된다. 즉, 데이터 신호에 의거하는 풀 컬러의 화상이 유기 EL 디스플레이(50)의 표시면(51t)에 표시된다.
다음에, 유기 EL 디스플레이(50)의 제조 방법에 대해서 이하에 설명한다.
우선, 투명 기판(51)의 소자 형성면(51s) 위에 각 TFT(61, 62), 각종배선(52, 53, 54), 절연막(65)을 공지의 유기 EL 디스플레이 제조 기술에 의거하여 형성한다. 계속해서, 소자 형성면(51s) 전면(절연막(65) 위)에 투명 도전막을 퇴적하고, 상기 투명 도전막을 패터닝함으로써 양극(64)을 형성한다.
양극(64)을 형성하면, 소자 형성면(51s) 전면(양극(64) 및 절연막(65) 위)에 불소계 수지 등의 유기 재료를 도포하여 격벽층을 형성하고, 상기 격벽층을 소정의 파장으로 이루어지는 노광광에 노광한다. 이 때, 제 1 실시예의 마스크(Mk)와 마찬가지로, 소정의 파장으로 이루어지는 노광광을 투과하는 투과 기판 위에, 노광광을 차광하는 차광 패턴과, 노광광을 소정의 비율로 투과하는 반투과 패턴을 갖는 마스크를 배치함으로써, 양극(64) 상면에 격벽(68)(수용 구멍(67))을 형성하고, 제 1 실시예와 마찬가지로, 다수의 잔사편을 형성한다.
그리고, 제 1 실시예와 마찬가지로, 양극(64)을 에칭하기 위한 에칭액을 액적 토출 헤드(45)에서 수용 구멍(67) 내에 토출하면, 양극(64) 상면에, 잔사편에 상대하는 볼록면이 형성되고, 양극(64) 상면에 요철면(64b)을 형성할 수 있다.
계속해서, 액적 토출 헤드(45)에서 발광 소자 형성 재료의 용액으로 이루어지는 미소 액적을 수용 구멍(67) 내에 토출하면, 토출된 미소 액적은, 요철면(64b)에 착탄되고, 상기 요철면(64b)의 요철에 안내되면서 각 수용 구멍(67)의 내측 에지(각 격벽(68))까지 인입된다. 이에 따라, 수용 구멍(67) 전체에 확장 습윤되는 발광 소자 형성 재료의 액적을 형성할 수 있고, 상기 액적을 건조시켜 고화함으로써, 요철면(64b) 위에, 균일한 형상의 유기 EL층(69)을 형성할 수 있다.
유기 EL층(69)을 형성하면, 소자 형성면(51s) 전면(유기 EL층(69) 및 격벽층(22) 위)에 알루미늄 등의 금속막으로 이루어지는 음극(70)을 퇴적하고, 양극(64), 유기 EL층(69) 및 음극(70)으로 이루어지는 유기 EL 소자(71)를 형성한다. 유기 EL 소자(71)를 형성하면, 음극(70)의 상측 전면에 에폭시 수지 등을 도포하여 접착층(72)을 형성하고, 그 접착층(72)을 통하여 밀봉 기판(73)을 투명 기판(51)에 점착한다.
이에 따라, 유기 EL층(69)의 형상을 균일하게 한 유기 EL 디스플레이(50)를 제조할 수 있다.
상기한 바와 같이 구성한 제 2 실시예에 의하면, 유기 EL층(69)을 형성하기 전에, 양극(64)에 요철면(64b)을 형성하고, 상기 요철면(64b) 위에, 발광 소자 형성 재료의 액적을 형성하도록 했다. 따라서, 유기 EL층 형성 영역의 내측 에지(격벽(68))까지 확장 습윤되는 액적을 형성할 수 있다. 그 결과, 유기 EL층(69)을 균일한 형상으로 형성할 수 있고, 유기 EL 디스플레이(50)의 생산성을 향상시킬 수 있다.
또한, 상기 실시예는 아래와 같이 변경할 수도 있다.
·상기 제 1 실시예에서는, 각 착색층(38R, 38G, 38B)을 스트라이프 형상으로 형성했지만, 이에 한정되지 않고, 모자이크 형상이나 델타 형상으로 형성할 수도 있다.
·상기 제 1 실시예에서는, 에칭액(Le)을 액적 토출 장치에 의해 토출하도록 했지만, 이에 한정되지 않고, 필터 형성면(14s)을 에칭액(Le)에 침지(浸漬)할 수도 있다.
·상기 제 1 실시예에서는, 2개의 TFD를 구비한 구성으로 했지만, 이에 한정되지 않고, 원하는 소자 설계에 의해, 예를 들면 1개의 TFD로 이루어지는 구성으로 할 수도 있다. 또는, 1개 이상의 TFT를 구비한 구성으로 할 수도 있다.
·상기 제 2 실시예에서는, 2개의 TFT를 구비한 구성으로 했지만, 이에 한정되지 않고, 원하는 소자 설계에 의해, 예를 들면 1개의 TFT나 다수의 TFT로 이루어지는 구성으로 할 수도 있다.
·상기 실시예에서는, 하지층으로서의 필터 형성면(14s) 및 양극(64)에 요철면(32, 64b)을 형성하는 구성으로 했다. 이에 한정되지 않고, 예를 들면각종 배선 (17, 40)을 액적에 의해 형성할 때에, 상기 배선(17, 40)의 하지층에 요철면(32)을 형성할 수도 있고, 액적을 고화함으로써 형성하는 패턴의 하지층에 요철면(32)을 형성할 수도 있다.
·상기 실시예에서는, 액적(Ds2, Ds3)을 잉크젯법에 의해 형성하도록 했지만, 이에 한정되지 않고, 예를 들면 스핀 코팅법이나 디스펜서법에 의해 형성할 수도 있다.
·상기 실시예에서는, 전기 광학 장치를 액정 표시 장치(10)와 유기 EL 디스플레이(50)로 구체화했지만, 이에 한정되지 않고, 예를 들면 평면 형상의 전자 방출 소자를 구비하고, 상기 소자에서 방출된 전자에 의한 형광 물질의 발광을 이용한 전계 효과형 디스플레이(FED나 SED 등)로 할 수도 있다.
본 발명에 따르면, 패턴 형상의 균일성을 향상시켜 생산성을 향상시킨 패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 컬러 필터, 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전기 광학 장치를 제공할 수 있다.

Claims (15)

  1. 하지층(下地層) 위에 형성한 격벽층을 패터닝함으로써 격벽을 형성하고, 상기 하지층과 상기 격벽에 의해 둘러싸인 패턴 형성 영역에, 패턴 형성 재료를 포함한 액적(液滴)을 토출(吐出)하여 상기 하지층 위에 패턴을 형성하도록 한 패턴 형성 방법에 있어서,
    상기 격벽층을 패터닝할 때에, 상기 패턴 형성 영역 내의 상기 하지층에 상기 격벽층의 잔사편(殘渣片)을 형성하고, 상기 액적을 토출하기 전에, 상기 잔사편을 마스크로 하여 상기 하지층을 패터닝하고, 상기 액적을 상기 격벽까지 끌어들이기 위해, 상기 하지층을 요철 형상으로 형성하도록 한 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 잔사편을 마스크로 하여 상기 하지층을 패터닝할 때에, 상기 하지층을 요철 형상으로 형성하면서 상기 잔사편을 제거하도록 한 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 하지층의 요철 차이를 0.1㎛로 되도록 한 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 잔사편을 마스크로 하여 상기 하지층을 패터닝할 때에, 상기 하지층을 요철 형상으로 하기 위한 에칭액을, 액적 토출 장치로부터 상기 패턴 형성 영역 내에 토출하도록 한 패턴 형성 방법.
  5. 투명 기판의 한쪽 면에 형성한 차광층을 패터닝함으로써 격벽을 형성하고, 상기 한쪽 면과 상기 격벽에 의해 둘러싸인 착색층 형성 영역에, 착색층 형성 재료를 포함한 액적을 토출하여 상기 한쪽 면 위에 착색층을 형성하도록 한 컬러 필터의 제조 방법에 있어서,
    상기 착색층을 제 1 항에 기재한 패턴 형성 방법에 의해 형성하도록 한 것을 특징으로 하는 컬러 필터의 제조 방법.
  6. 투명 기판의 한쪽 면에 형성한 차광층을 패터닝함으로써 격벽을 형성하고, 상기 한쪽 면과 상기 격벽에 의해 둘러싸인 반사층 형성 영역에, 반사층 형성 재료를 포함한 액적을 토출하여 상기 한쪽 면 위에 반사층을 형성하도록 한 컬러 필터의 제조 방법에 있어서,
    상기 반사층을 제 1 항에 기재한 패턴 형성 방법에 의해 형성하도록 한 것을 특징으로 하는 컬러 필터의 제조 방법.
  7. 제 5 항 또는 제 6 항에 기재한 컬러 필터의 제조 방법에 의해 제조된 컬러 필터.
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 전극층 위에 형성한 격벽층을 패터닝함으로써 격벽을 형성하고, 상기 전극층과 상기 격벽에 의해 둘러싸인 발광 소자 형성 영역에, 발광 소자 형성 재료를 포함한 액적을 토출하여 발광 소자를 형성하도록 한 전기 광학 장치의 제조 방법에 있어서,
    상기 발광 소자를 제 1 항에 기재한 패턴 형성 방법에 의해 형성하도록 한 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
  12. 삭제
  13. 제 11 항에 기재한 전기 광학 장치의 제조 방법에 의해 제조된 전기 광학 장치.
  14. 삭제
  15. 삭제
KR1020060005317A 2005-01-21 2006-01-18 패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 컬러 필터, 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전기 광학 장치 KR100779149B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2005-00013700 2005-01-21
JP2005013700A JP4333590B2 (ja) 2005-01-21 2005-01-21 パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060085180A KR20060085180A (ko) 2006-07-26
KR100779149B1 true KR100779149B1 (ko) 2007-11-23

Family

ID=36696487

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060005317A KR100779149B1 (ko) 2005-01-21 2006-01-18 패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 컬러 필터, 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전기 광학 장치

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7724323B2 (ko)
JP (1) JP4333590B2 (ko)
KR (1) KR100779149B1 (ko)
CN (1) CN1808271A (ko)
TW (1) TWI285753B (ko)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004034427A2 (en) 2002-10-08 2004-04-22 Honeywell International Inc. Semiconductor packages, lead-containing solders and anodes and methods of removing alpha-emitters from materials
JP4211804B2 (ja) * 2006-05-19 2009-01-21 セイコーエプソン株式会社 デバイス、膜形成方法及びデバイスの製造方法
JP4927159B2 (ja) * 2007-03-01 2012-05-09 シャープ株式会社 表示パネル用基板、表示パネル、表示装置、および表示パネル用基板の製造方法
US10802371B2 (en) 2011-12-12 2020-10-13 View, Inc. Thin-film devices and fabrication
WO2016004373A1 (en) * 2014-07-03 2016-01-07 View, Inc. Narrow pre-deposition laser deletion
US11865632B2 (en) 2011-12-12 2024-01-09 View, Inc. Thin-film devices and fabrication
US10295880B2 (en) 2011-12-12 2019-05-21 View, Inc. Narrow pre-deposition laser deletion
US20210394489A1 (en) 2011-12-12 2021-12-23 View, Inc. Thin-film devices and fabrication
KR102095605B1 (ko) 2011-12-12 2020-04-16 뷰, 인크. 박막 디바이스 및 제조
KR102014885B1 (ko) * 2012-12-26 2019-08-28 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR102177214B1 (ko) * 2014-03-17 2020-11-11 삼성디스플레이 주식회사 플렉서블 디스플레이 장치 및 그 제조방법
KR20210085241A (ko) * 2019-12-30 2021-07-08 엘지디스플레이 주식회사 유기 발광 디스플레이 장치 및 그 제조방법

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003167116A (ja) * 2001-12-03 2003-06-13 Citizen Watch Co Ltd カラーフィルターを備えた反射基板とその製造方法
JP2003257661A (ja) * 2002-02-28 2003-09-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子、それを用いた画像形成装置、携帯端末、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08146214A (ja) 1994-09-19 1996-06-07 Canon Inc カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、液晶パネル、および同液晶パネルを備えた情報処理装置
JPH08201793A (ja) 1995-01-25 1996-08-09 Sony Corp 液晶画像表示装置
JP4352474B2 (ja) 1998-07-23 2009-10-28 凸版印刷株式会社 有機エレクトロルミネッセンス表示素子の製造方法
JP3891753B2 (ja) 2000-02-22 2007-03-14 シャープ株式会社 有機発光素子の製造方法
CN1206566C (zh) 2001-03-07 2005-06-15 夏普株式会社 反射透过两用型彩色液晶显示装置
JP3723511B2 (ja) 2001-03-07 2005-12-07 シャープ株式会社 反射透過両用型カラー液晶表示装置
JP2003084123A (ja) * 2001-06-29 2003-03-19 Seiko Epson Corp カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、液晶表示装置、電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器
JP3952729B2 (ja) 2001-10-17 2007-08-01 セイコーエプソン株式会社 カラーフィルタ基板の製造方法
US6833667B2 (en) 2002-02-27 2004-12-21 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Organic electroluminescence element and image forming apparatus or portable terminal unit using thereof
JP2004184977A (ja) * 2002-11-22 2004-07-02 Seiko Epson Corp カラーフィルタ及びその製造方法及び表示装置並びに電子機器

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003167116A (ja) * 2001-12-03 2003-06-13 Citizen Watch Co Ltd カラーフィルターを備えた反射基板とその製造方法
JP2003257661A (ja) * 2002-02-28 2003-09-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子、それを用いた画像形成装置、携帯端末、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006201539A (ja) 2006-08-03
CN1808271A (zh) 2006-07-26
KR20060085180A (ko) 2006-07-26
US20060164742A1 (en) 2006-07-27
TWI285753B (en) 2007-08-21
US7724323B2 (en) 2010-05-25
JP4333590B2 (ja) 2009-09-16
TW200628854A (en) 2006-08-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100779149B1 (ko) 패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 컬러 필터, 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전기 광학 장치
KR100503549B1 (ko) 컬러 표시용 기판, 컬러 필터용 기판, 컬러 발광용 기판,컬러 표시용 기판의 제조 방법, 전기 광학 장치,전자기기, 성막 방법, 성막 장치, 표시 장치용 모기판
JP3922177B2 (ja) 成膜方法、成膜装置、液滴吐出装置、カラーフィルタの製造方法、表示装置の製造方法
KR100449796B1 (ko) 컬러 필터의 제조 방법 및 제조 장치, 액정 표시 장치의제조 방법 및 제조 장치, 전계 발광 기판의 제조 방법 및제조 장치, 전계 발광 장치의 제조 방법 및 제조 장치,성막 방법 및 성막장치, 전기광학 장치 및 그 제조 방법과전자 기기
KR100615479B1 (ko) 전기 광학 패널의 제조 방법 및 전자 기기의 제조 방법과,전기 광학 패널, 전기 광학 장치 및 전자 기기
JP3599047B2 (ja) カラーフィルタおよびその製造方法、カラーフィルタ用液滴材料着弾精度試験基板、液滴材料着弾精度の測定方法、電気光学装置、ならびに電子機器
US20060132666A1 (en) Substrate for display device and manufacturing method thereof
JP2003159786A (ja) 吐出方法およびその装置、電気光学装置、その製造方法およびその製造装置、カラーフィルタ、その製造方法およびその製造装置、ならびに基材を有するデバイス、その製造方法およびその製造装置
JP2003159787A (ja) 吐出方法およびその装置、電気光学装置、その製造方法およびその製造装置、カラーフィルタ、その製造方法およびその製造装置、ならびに基材を有するデバイス、その製造方法およびその製造装置
KR100510611B1 (ko) 재료의 제거 방법, 기재의 재생 방법, 표시 장치의 제조 방법 및 그 제조 방법에 의해 제조된 표시 장치를 구비한 전자 기기
KR100949493B1 (ko) 액정표시패널의 제조방법
KR100856015B1 (ko) 액정 표시 장치 및 전자 기기
KR100660588B1 (ko) 컬러 필터 기판, 컬러 필터 기판의 제조 방법, 표시 장치,전기 광학 장치 및 전자 기기
KR100737051B1 (ko) 색요소막 부착 기판의 제조 방법, 색요소막 부착 기판,전기 광학 장치, 및 전자 기기
JP2003307613A (ja) 成膜方法、成膜装置、液滴吐出装置、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタを備えた表示装置、表示装置の製造方法、表示装置、及び、電子機器
JP2003084126A (ja) カラーフィルタの製造方法及び製造装置、液晶表示装置の製造方法及び製造装置、ｅｌ発光層配設基板の製造方法及び製造装置、ｅｌ発光装置の製造方法及び製造装置、成膜方法及び成膜装置、電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器
JP2005025185A (ja) 成膜方法、成膜装置、表示装置用母基板
JP4092574B2 (ja) 発光用基板およびその製造方法、液滴材料着弾精度の測定方法、電気光学装置ならびに電子機器
JP4175010B2 (ja) カラー表示用基板、カラーフィルタ用基板、カラー発光用基板、カラー表示用基板の製造方法、電気光学装置、電子機器、成膜方法、成膜装置、表示装置用母基板
JP2003262717A (ja) 材料の除去方法、基材の再生方法、表示装置の製造方法、及び該製造方法によって製造された表示装置を備えた電子機器
JP4743437B2 (ja) 発光用基板およびその製造方法、発光用基板用液滴材料着弾精度試験基板およびその製造方法、液滴材料着弾精度の測定方法、電気光学装置ならびに電子機器
JP2003266010A (ja) 液滴吐出による材料の配置方法、表示装置、表示装置の製造方法、及び、電子機器
KR100886229B1 (ko) 액정표시장치 및 그 제조방법
JP4174675B2 (ja) カラーフィルタ用液滴材料着弾精度試験基板の製造方法
JP2004314074A (ja) 成膜方法および成膜装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
G170 Re-publication after modification of scope of protection [patent]
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20101118

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee