KR100749964B1 - 전방향족 폴리아미드 필라멘트 및 그의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 전방향족 폴리아미드 필라멘트 및 그의 제조방법에 관한 것으로서, 전방향족 폴리아미드 중합체를 제조시에 중합용 반응기(20)내에 [ⅰ] 모터(2)에 의해 회전하며 다수개의 핀(3a)들을 갖는 회전체(3)와 [ⅱ] 다수개의 핀(4a)을 갖는 고정체(4)로 이루어진 교반장치를 설치하여 중합용 반응기(20)내에 투입된 방향족 디아민, 방향족 디에시드클로라이드 및 중합용매들을 교반하며, 상기 회전체(3)의 회전속도를 중합용 반응기(20)내로 주입되는 방향족 디에시드클로라이드의 주입속도 및 방향족 디아민이 용해되어있는 중합용매의 주입속도보다 10~100배 빠르게 조절함과 동시에 회전체내 핀(3a)과 고정체내 핀(4a)의 접촉빈도(Contact frequency)를 100~1,000㎐로 조절하는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 모노머 들이 중합용 반응기(20)내에서 서로 잘 혼합 및 반응되기 때문에 중합용 반응기(20) 내의 전 영역에서 중합 반응이 균일하게 진행되어 중합체의 중합도 편차가 감소 된다. 그로 인해 본 발명으로 제조된 전방향족 폴리아미드 필라멘트는 분자량분포(PDI)가 좁고, 결정자체의 결점이 감소하여 보다 향상된 강도 및 탄성률 등의 물성을 나타낸다.
전방향족 폴리아미드, 필라멘트, 중합체, 고정체, 회전체, 중합도 편차.

Description

전방향족 폴리아미드 필라멘트 및 그의 제조방법{Aromatic polyamide filament and method of manufacturing the same}
도 1은 건습식 방사 방식으로 전방향족 폴리아미드 필라멘트를 제조하는 공정 개략도.
도 2는 본 발명에서 사용하는 중합용 반응기(20)의 단면 개략도.
*도면중 주요 부분에 대한 부호 설명
2 : 모터 3 : 회전체 3a : 회전체내 핀(Pin)
4 : 고정체 4a : 고정체내 핀(Pin) 10 : 메쉬(mesh)
20 : 중합용 반응기 21 : 모노머 및 중합용매 공급구
22 : 중합체 배출구 30 : 방사원액 저장조
40 : 방사 구금 50 : 응고액 욕조
60 : 수세 장치 70 : 건조장치
80 : 열처리 장치 90 : 권취기
본 발명은 전방향족 폴리아미드 필라멘트 및 그의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 고강도와 고탄성의 물성을 갖는 전방향족 폴리아미드 필라멘트의 제조방법에 관한 것이다.
전방향족 폴리아미드 필라멘트는 미국특허 제3,869,429호 및 미국특허 제3,869,430호 등에 게재되어 있는 바와 같이 방향족 디아민과 방향족 디에시드클로라이드를 N-메틸-2-피롤리돈을 포함하는 중합용매 중에서 중합시켜 전방향족 폴리아미드 중합체를 제조하는 공정과, 상기 중합체를 농황산 용매에 용해시켜 방사원액을 제조하는 공정과, 상기 방사원액을 방사 구금으로부터 방사하여 방사된 방사물을 비응고성 유체층을 통해 응고액 욕조내로 통과시켜 필라멘트를 형성하는 공정과, 상기 필라멘트를 수세, 건조 및 열처리하는 공정 들을 거쳐 제조된다.
도 1은 통상적인 건습식 방사 방식으로 전방향족 폴리아미드 필라멘트를 제조하는 공정개략도 이다.
종래 방법에서는 상기의 전방향족 폴리아미드 중합체를 제조할 때 중합 반응기(20)내로 투입된 중합용 모노머 들이 서로 잘 혼합 및 중합되지 않아 반응기(20)의 모든 영역에 걸쳐 중합반응이 균일하게 진행되지 않는 문제가 있었다.
그로 인해, 종래방법에서는 전방향족 폴리아미드 중합체의 중합도 편차가 크게 발생되어 최종적으로 전방향족 폴리아미드 필라멘트의 강도 및 탄성률을 저하시 키는 결과를 초래하였다.
본 발명에서는 이와 같은 종래의 문제점을 해결하므로서 강도 및 탄성률이 더욱 향상된 전방향족 폴리아미드 필라멘트를 제조하기 위한 것이다.
본 발명은 중합용 반응기(20)의 모든 영역에서 중합용 모노머들의 중합반응이 균일하게 진행되도록 함으로서 중합체의 중합도 편차를 최소화하여 최종 제품인 전방향족 폴리아미드 필라멘트의 강도 및 탄성률을 보다 향상시키는 것을 기술적 과제로 한다.
또한, 본 발명은 중합체의 중합도 편차가 최소화되어 필라멘트의 분자량분포(Poldispersity Index, 이하"PDI"라고 한다)가 좁고, 결정자체의 결함을 나타내는 파라결정 파라메터(Paracrystalline parameter, 이하 "gⅡ"라고 한다)가 감소하여 결과적으로 강도 및 탄성률이 향상된 전방향족 폴리아미드 필라멘트를 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.
이와 같은 기술적 과제를 해결하기 위하여 본 발명에서는 방향족 디아민과 방향족 디에시드클로라이드를 N-메틸-2-피롤리돈을 포함하는 중합용매 중에서 중합시켜 제조한 전방향족 폴리아미드 중합체를 농황산 용매에 용해시켜 방사원액을 제 조한 후 이를 방사하여 전방향족 폴리아미드 필라멘트를 제조함에 있어서, 상기의 전방향족 폴리아미드 중합체를 제조시에 중합용 반응기(20)내에 [ⅰ] 모터(2)에 의해 회전하며 다수개의 핀(3a)들을 갖는 회전체(3)와 [ⅱ] 다수개의 핀(4a)을 갖는 고정체(4)로 이루어진 교반장치를 설치하여 중합용 반응기(20)내에 투입된 방향족 디아민, 방향족 디에시드클로라이드 및 중합용매들을 교반하며, 상기 회전체(3)의 회전속도를 중합용 반응기(20)내로 주입되는 방향족 디에시드클로라이드의 주입속도 및 방향족 디아민이 용해되어있는 중합용매의 주입속도보다 10~100배 빠르게 조절함과 동시에 회전체내 핀(3a)과 고정체내 핀(4a)의 접촉빈도(Contact frequency)를 100~1,000㎐로 조절하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 전방향족 폴리아미드 필라멘트는 분자량분포(PDI)가 1.5∼2.3이고, 열처리전의 파라결정 파라메터(gⅡ)가 1.7∼1.9%인 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부한 도면 등을 통하여 상세하게 설명한다.
먼저, 본 발명에서는 방향족 디아민과 방향족 디에시드클로라이드를 N-메틸-2-피롤리돈을 포함하는 중합용매 중에서 중합시켜 전방향족 폴리아미드 중합체를 제조한다.
상기 방향족 디아민은 P-페닐렌디아민 등이고, 방향족 디에시드클로라이드는 테레프탈로일 클로라이드 등이다.
또한, 상기의 중합용매는 염화칼슘이 용해되어 있는 N-메틸-2-피롤리돈 등이다.
본 발명은 상기와 같이 전방향족 폴리아미드 중합체를 제조할 때 도 2에 도시된 바와 같이 중합용 반응기(20)내에 [ⅰ] 모터(2)에 의해 회전하며 다수개의 핀(3a)들을 갖는 회전체(3)와 [ⅱ] 다수개의 핀(4a)을 갖는 고정체(4)로 이루어진 교반장치를 설치하여 중합용 반응기(20)내에 투입된 방향족 디아민, 방향족 디에시드클로라이드 및 중합용매들을 교반하며, 상기 회전체(3)의 회전속도를 중합용 반응기(20)내로 주입되는 방향족 디에시드클로라이드의 주입속도 및 방향족 디아민이 용해되어있는 중합용매의 주입속도보다 10~100배 빠르게 조절함과 동시에 회전체내 핀(3a)과 고정체내 핀(4a)의 접촉빈도(Contact frequency)를 100~1,000㎐로 조절하는 것을 특징으로 한다.
도 2는 본 발명에서 사용하는 중합용 반응기(20)의 단면 개략도이다.
구체적으로, 본 발명에서 사용하는 중합용 반응기(20)내에는 도 2에 도시된 바와 같이 모터(2)에 의해 회전하며 다수개의 핀(3a)들을 갖는 회전체(3, Roter)와 다수개의 핀(4a)을 갖는 고정체(4, Stator)로 이루어진 교반장치가 설치되어 있다.
본 발명에서는 상기의 교반장치로 중합용 반응기내로 투입된 중합용 모노머와 중합용매들을 교반하면서 중합한다.
이때 상기 회전체(3)의 회전속도를 중합용 반응기(20)내로 주입되는 중합용 모노머 및 중합용매의 주입속도보다 10~100배 빠르게 조절함과 동시에 회전체내 핀(3a)과 고정체내 핀(4a)의 접촉빈도(Contact frequency)를 100~1,000 ㎐로 조절해 준다.
회전체(3)의 회전속도가 중합용 모노머의 주입속도의 10배 미만이거나 회전 체내 핀(3a)과 고정체내 핀(4a)의 접촉빈도가 100㎐ 미만인 경우에는 중합용 반응기내의 중합용 모노머 및 중합용매들이 충분히 교반되지 않아 전영역에 걸쳐 균일한 중합반응이 일어나지 않게 된다.
또한, 회전체(3)의 회전속도가 중합용 모노머의 주입속도의 100배를 초과하거나 회전체내 핀(3a)과 고정체내 핀(4a)의 접촉빈도가 1,000㎐를 초과하는 경우에는 중합용 반응기내에 너무 높은 전단력(Shear rate)이 부가되어 중합반응이 불균일하게 된다.
전방향족 폴리아미드 중합체의 고유점도는 5.0이상인 것이 필라멘트의 강도 및 탄성률 향상에 바람직하다.
중합체의 중합조건은 미국등록 특허제 3,869,429호 등에 게재된 공지의 중합조건들과 동일하다.
중합체를 제조하는 한가지 예로는 1몰의 파라-페닐렌디아민을 약 1몰의 염화칼슘을 포함하는 N-메틸-2-피롤리돈에 용해시킨 용액과 1몰의 테레프탈로일 클로라이드를 도 2와 같은 교반장치가 설치되어 있는 중합용 반응기(20) 내에 투입한후 교반하여 겔상의 중합체를 제조하고, 이를 분쇄, 수세 및 건조하여 미세 분말상의 중합체를 제조한다. 이때 상기 테레프탈로일 클로라이드는 2단계로 나누어 중합용 반응기(20)내에 투입할 수도 있다.
다음으로는, 상기와 같이 제조된 전방향족 폴리아미드 중합체를 농황산 용매에 용해시켜 방사원액을 제조한 다음, 도 1에 도시된 바와 같이 상기 방사원액을 방사 구금(40)을 통해 방사 한 후 방사된 방사물을 비응고성 유체층을 통해 응고액 욕조(50)내로 통과시켜 필라멘트를 형성한 다음, 형성된 필라멘트를 수세, 건조 및 열처리하여 전방향족 폴리아미드 필라멘트를 제조한다. 도 1은 방사원액을 건습식 방사하여 전방향족 폴리아미드 필라멘트를 제조하는 공정 개략도이다.
방사원액 제조시에 사용되는 농황산 농도를 97%~100%인 것이 바람직하며, 클로로황산이나 플루오로황산 등도 사용될 수 있다.
이때 황산의 농도가 97% 미만인 경우에는 폴리머의 용해성이 저하되고 비등방성 용액의 액정성 발현이 곤란해지며, 따라서 일정한 점도의 방사원액 제조가 어려워져 방사시 공정관리가 힘들고 최종 섬유의 기계적 물성이 저하될 수 있다.
반대로, 농황산의 농도가 100%를 초과하면, 과리(過離) SO3를 함유하는 발연 황산에서 SO3가 과다해져 취급상 바람직하지 않을 뿐만 아니라 고분자의 부분적 용해가 일어나기 때문에 방사원액으로는 부적당하며, 또한, 비록 방사하여 얻어진 섬유라 할지라도 섬유의 내부구조가 치밀하지 않고 외관상 광택이 없으며 응고용액 내로 확산되는 황산의 속도가 떨어져 섬유의 기계적 물성이 저하되는 문제점이 발생될 수 있다.
한편, 방사 원액내 중합체의 농도는 10~25중량% 인 것이 섬유물성에 바람직하다.
그러나, 본 발명에서는 농황산의 농도 및 방사 원액내 중합체의 농도를 특별하게 한정하는 것은 아니다.
상기의 비응고성 유체층은 주로 공기층이나 불활성 기체층도 사용될 수 있 다.
비응고성 유체층의 길이, 다시 말해 방사 구금(40)의 저면과 응고액 욕조(50) 내에 담겨져 있는 응고액의 표면까지의 거리는 0.1~15cm인 것이 방사성이나 필라멘트의 물성 향상에 바람직하다.
상기의 응고액 욕조(50) 내의 응고액은 오버플로우 될 수도 있다. 응고액으로는 물, 염수 또는 농도가 70% 이하인 황산 수용액 등을 사용한다.
다음으로 형성된 필라멘트를 수제, 건조 및 열처리하여 전방향족 폴리아미드를 제조한다. 방사 권취속도는 700∼1,500m/분 수준으로 한다.
상기 방법으로 제조된 본 발명의 전방향족 폴리아미드는 중합체의 중합도 편차가 최소화되어 분자량분포(PDI)가 좁고, 결정자체의 결함을 나타내는 파라결정 파라메터(gⅡ)가 낮기 때문에 열처리전·후의 강도가 26g/d 이상이고, 열처리전의 탄성률이 750g/d 이상이고, 열처리후의 탄성률이 950g/d 이상으로 우수하다.
구체적으로, 본 발명의 전방향족 폴리아미드 필라멘트는 분자량분포(PDI)가 1.5∼2.3, 바람직하기로는 1.5∼2.0, 보다 바람직하기로는 1.5∼1.7이고, 열처리전의 파라결정 파라메터(gⅡ)가 1.7∼1.9%이다. 또한 2% 장력하에서 300℃에서 2초간 열처리후의 파라결정 파라메터(gⅡ)가 1.3∼1.6%이다.
분자량분포(PDI)와 파라결정 파라메터(gⅡ)가 상기범위를 초과하는 경우에는 탄성률 상승효과가 미미하게 되고, 상기 범위 미만인 경우에는 탄성률은 증가하나 본 발명에서는 달성하기 어려운 영역에 해당된다.
이와 같이 본 발명의 전방향족 폴리아미드 필라멘트는 종래의 전방향족 폴리아미드 필라멘트와 비교시 중합체의 중합도 편차가 최소화되어 분자량분포(PDI)가 좁고 결정자체의 결함을 나타내는 파라결정 파라메터(gⅡ)가 낮다. 그로인해 본 발명의 전방향족 폴리아미드는 강도 및탄성률이 크게 향상된다.
이하, 실시예 및 비교 실시예를 통하여 본 발명을 상세하게 설명한다.
그러나, 본 발명은 하기 실시예에 의하여 그의 보호범위가 한정되는 것은 아니다.
실시예 1
1,000kg의 N-메틸-2-피롤리돈을 80℃로 유지시키고 여기에 염화칼슘 80kg과 48.67kg의 파라-페닐렌디아민을 녹여서 방향족 디아민 용액을 제조하였다.
상기와 같이 제조한 방향족 디아민 용액과 파라-페닐렌디아민과 동몰량의 용융 테레프탈로일 클로라이드를 도 2에 도시된 바와 같이 다수의 핀(3a)을 갖은 회전체(3)와 다수의 핀(4a)을 갖는 고정체(4)로 이루어진 교반장치가 설치되어 있는 중합용 반응기(20)내에 투입, 교반하여 고유점도가 7.0인 폴리(파라-페닐렌테레프탈아미드) 중합체를 제조하였다.
이때, 회전체(3)의 회전속도를 중합용 모노머의 주입속도의 30배로 조절하였고, 회전체내 핀(3a)과 고정체내 핀(4a)의 접촉빈도를 500㎐로 조절하였다.
다음으로, 제조된 상기의 중합체를 99% 농황산에 용해시켜 중합체 함량이 18중량%인 광학적 비등방성 방사원액을 제조하였다.
다음으로, 상기와 같이 제조된 방사원액을 도 1에 도시된 바와 같이 방사 구금(40)을 통해 방사한 후, 방사된 방사물을 7㎜의 공기층을 통해 응고액인 물이 담겨져 있는 응고액 욕조(50) 내로 통과시켜 필라멘트를 형성하였다.
다음으로, 상기와 같이 형성된 필라멘트에 25℃의 물을 분사시켜 수세한 후 계속해서 이를 150℃의 표면온도를 갖는 2단 건조 로울러(Dry Roller)를 통과시킨 다음 권취하여 열처리가 되지 않은 폴리(파라-페닐렌테레프탈아미드) 필라멘트를 제조하였다.
제조한 폴리(파라-페닐렌테레프탈아미드) 필라멘트의 각종 물성들을 측정한 결과를 표 1과 같다.
실시예 2
실시예 1에서 제조한 폴리(파라-페닐렌테레프탈아미드) 필라멘트를 2% 장력하에서 300℃에서 2초간 열처리하여 열처리된 폴리(파라-페닐렌테레프탈아미드) 필라멘트를 제조하였다.
제조한 폴리(파라-페닐렌테레프탈아미드) 필라멘트의 각종 물성들을 측정한 결과를 표 1과 같다.
비교실시예 1
실시예 1에서 제조한 방향족 디아민 용액(B)과 용융 테레프탈로일 클로라이드를 도 2에 도시된 교반장치 대신에 한개의 스크류가 설치된 통상의 중합용 반응기내에 공급한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건으로 열처리가 되지 않은 폴리(파라- 페닐렌테레프탈아미드) 필라멘트를 제조하였다.
제조한 폴리(파라-페닐렌테레프탈아미드) 필라멘트의 각종 물성들을 측정한 결과를 표 1과 같다.
비교실시예 2
비교실시예 1에서 제조한 폴리(파라-페닐렌테레프탈아미드) 필라멘트를 2% 장력하에서 300℃에서 2초간 열처리하여 열처리된 폴리(파라-페닐렌테레프탈아미드) 필라멘트를 제조하였다.
제조한 폴리(파라-페닐렌테레프탈아미드) 필라멘트의 각종 물성들을 측정한 결과는 표 1과 같다.
<표 1> 필라멘트 물성 평가 결과
구분 실시예 1 실시예 2 비교실시예 1 비교실시예 2
분자량분포 (PDI) 1.6 1.5 2.7 2.6
파라결정 파라메터 (gⅡ) 열처리전 1.80% - 1.66% -
2% 장력하에서 300℃에서 2초간 열처리후 - 1.56% - 1.91%
강도(g/d) 27 26 22 21
탄성률 (g/d) 840 1,080 740 930
본 발명에 있어서 필라멘트의 각종 물성은 아래와 같은 방법으로 측정하였다.
·강도(g/d)
인스트론 시험기(Instron Engineering Corp, Canton, Mass)에서 길이가 25cm인 샘플사를 이용하여 샘플사가 파단될 때의 강력(g)을 측정한 다음 이를 샘플사의 데니어로 나누어 강도를 구하였다. 상기 강도는 5회 테스트한 후 그 평균값으로 하였다. 이때 인장속도는 300 mm/분으로 하였고, 초하중은 섬도×1/30g으로 하였다.
·탄성률(g/d)
상기의 강도 측정 조건으로 샘플사의 응력-변형 곡선을 구한 다음, 상기 응력-변형율 곡선상의 기울기로부터 계산한다.
·고유 점도
98% 황산 25.0ml에 시료(중합체 또는 필라멘트) 0.1250g을 녹여 시료용액을 제조한다. 다음으로 30℃ 항온 수조에서 모세관 점도계(Cannon Fenske Viscometer: Type 300)로 상기 시료용액의 유동시간(낙류초수)과 용매(황산 용액)의 유동시간을 각각 측정한 후 시료용액의 유동시간(낙류초수)를 용매(황산용액)의 유동시간(낙류초수)로 나누어 상대점도(ηrel)를 구한다.
다음으로, 상대점도(ηrel)를 시료용액의 농도로 나누어 고유 점도를 계산한다.
·분자량분포( PDI )
GPC(Gel Permeation Chromatography)를이용하여 아래와 같이 측정한다.
(i) 전방향족 폴리아미드 폴리머 유도체의 합성
디메틸설폭사이드(Dimethyl Sulfoxide)에 전방향족 폴리아미드 필라멘트(시 료)와 칼륨 터-부톡사이드(Potassium ter-butoxide)를 넣고 상온, 질소분위기하에서 상기 시료를 녹여내고, 이것에 알릴 브로마이드(Allyl bromide)를 투입하여 아릴기가 치환된 전방향족 폴리아미드 폴리머를 합성한다.(Macromolecules 2000,33,4390 참조)
(ⅱ) 분자량분포 측정
합성된 상기 전방향족 폴리아미드 폴리머를 CHCl3에 녹여 35℃의 온도 및 10㎖/분의 플로우 레이트(flow rate)에서 워터 매뉴얼 인젝터 키트(Waters manual injector Kit)의 쇼덱스(Shodex) GPC 칼럼을 사용하여 굴절률 탐지기(Refraction Index detector)가 있는 GPC에서 분자량분포를 측정한다.
· 파라결정 파라메터 ( Paracrystalline prameter , g Ⅱ )
호세만(HOSEMANN)의 유니트-셀 면적에 의해 회절이론을 이용하여 리가큐(Rigaku) X-레이 디프랙토메터(X-ray Diffractometer, 이하 "XRD"라고 한다)로 아래와 같은 방법으로 측정한다.
(ⅰ) 샘플링(Sampling)
전방향족 폴리아미드 필라멘트(시료)를 최대한 가지런하게 배열한 후 굵기를 약 1,000∼2,000 데니어로 하고, 길이를 2∼3㎝되게 샘플 홀더에 붙인다.
(ⅱ) 측정순서
- 준비된 시료를 시료 고정구(Sample attachment)에 걸어 β-포지션 (Position)이 0°에 오게 한다. (필라멘트의 축 방향으로 시료를 시료 고정구에 걸 어 세팅한다.)
- 준비운동(Warming-up)을 마친 XRD기기를 측정조건인 전압(50㎸) 및 전류(180㎃)으로 서서히 올려 측정준비 단계에 들어간다.
- 파라결정 파라메터(gⅡ)를 산출할 수 있는 경선의 패턴(Meridional pattern)을 측정한다.
- 주요 측정 조건은 아래와 같이 설정한다.
각도계(Goniometer), 연속적인 스캔 모드(Continuous scan mode), 스캔 각도 범위(Scan angle range) : 10∼40°, 스캔 스피드(Scan speed) : 0.5[스텝/스캔 시간은 피크의 강도가 미미함으로, 2,000 CPS가 나올 수 있도록 충분한 빔(Beam) 노출시간을 준다]
- 스캐닝을 수행한 프로파일(Profile)에서 10∼15°사이에서 나타나는 피크(002 plane)의 2θ 위치(Position)을 측정한다.
- 측정된 프로파일(Profile)을 가지고 아래의 호세만(HOSEMANN) 방정식에 대입하여 파라결정 파라메터를 도출한다.
Figure 112006048164722-pat00001
상기식에서, δs 회절피크(Diffraction peak)의 분산도이고, L은 결정크기(Crystal size)이고, d는 격자면의 공간(Spacing)이고, m은 회절피크의 차수(order)이다.
본 발명은 중합용 반응기(20)내에서 중합용 모노머들의 중합반응이 균일하게 진행되기 때문에 중합체의 중합도 편차가 최소화된다.
이로 인해, 본 발명으로 제조된 전방향족 폴리아미드 필라멘트는 중합체의 중합도 편차가 최소화되어 분자량분포가 좁고, 결정자체의 결함이 감소하여 강도 및 탄성률이 크게 향상된다.

Claims (8)

  1. 방향족 디아민과 방향족 디에시드클로라이드를 N-메틸-2-피롤리돈을 포함하는 중합용매 중에서 중합시켜 제조한 전방향족 폴리아미드 중합체를 농황산 용매에 용해시켜 방사원액을 제조한 후 이를 방사하여 전방향족 폴리아미드 필라멘트를 제조함에 있어서, 상기의 전방향족 폴리아미드 중합체를 제조할때 중합용 반응기(20)내에 [ⅰ] 모터(2)에 의해 회전하며 다수개의 핀(3a)들을 갖는 회전체(3)와 [ⅱ] 다수개의 핀(4a)을 갖는 고정체(4)로 이루어진 교반장치를 설치하여 중합용 반응기(20)내에 투입된 방향족 디아민, 방향족 디에시드클로라이드 및 중합용매들을 교반하며, 상기 회전체(3)의 회전속도를 중합용 반응기(20)내로 주입되는 방향족 디에시드클로라이드의 주입속도 및 방향족 디아민이 용해되어있는 중합용매의 주입속도보다 10~100배 빠르게 조절함과 동시에 회전체내 핀(3a)과 고정체내 핀(4a)의 접촉빈도(Contact frequency)를 100~1,000㎐로 조절하는 것을 특징으로 하는 전방향족 폴리아미드 필라멘트의 제조방법.
  2. 1항에 있어서, 중합용매내에 염화칼슘이 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 전방향족 폴리아미드 필라멘트의 제조방법.
  3. 1항에 있어서, 방향족 디아민이 파라-페닐렌디아민 인 것을 특징으로 하는 전방향족 폴리아미드 필라멘트의 제조방법.
  4. 1항에 있어서, 방향족 디에시드클로라이드가 테레프탈로일 클로라이드인 것을 특징으로 하는 전방향족 폴리아미드 필라멘트의 제조방법.
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