KR100747962B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

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신고 나카네
마사유키 한다
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다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 메인터넌스시 위치에서, 처리실을 구성하는 부재를 간결한 구조로 확실하게 지지 가능한 기판 처리 장치를 제공한다.
기판 처리 장치(1)의 처리실(13)의 각각을 구성하는 본체(131) 및 상부 덮개(132)의 각각은, 기판(W)에 대해서 처리를 행하는 경우에는, 부재마다 정해진 처리 장치 프레임(11)의 내부의 처리시 위치에서 처리 장치 프레임(11)에 의해서 지지되지만, 메인터넌스를 행하는 경우에는, 부재마다 정해진 메인터넌스용 프레임(21)의 내부의 메인터넌스시 위치에서, 메인터넌스용 프레임(21)에 의해서 지지된다. 처리실(13)의 각각을 구성하는 본체(131) 및 상부 덮개(132)의 각각은, 처리시 위치와 메인터넌스시 위치의 사이에서 독립하여 이동 가능하게 되어 있다. 메인터넌스용 프레임(21)은, 처리 장치 프레임(11)과는 독립하여 처리 장치 프레임(11)의 외부에서 본체(131) 및 상부 덮개(132)를 지지하는 지지 구조로 되어 있다.

Description

기판 처리 장치{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}
도 1은 본 발명의 실시 형태에 따른 기판 처리 장치(1)의 개략 전체 구성을 도시하는 사시도,
도 2는 기판 처리 장치(1)의 처리실(13) 및 그 주변의 구성을 확대하여 도시하는 정면도,
도 3은 기판 처리 장치(1)의 처리실(13) 및 그 주변의 구성을 확대하여 도시하는 정면도,
도 4는 기판 처리 장치(1)의 처리실(13) 및 그 주변의 구성을 확대하여 도시하는 정면도,
도 5는 기판 처리 장치(1)의 처리실(13) 및 그 주변의 구성을 확대하여 도시하는 정면도,
도 6은 기판 처리 장치(1)의 처리실(13) 및 그 주변의 구성을 확대하여 도시하는 측면도,
도 7은 기판 처리 장치(1)의 처리실(13) 및 그 주변의 구성을 확대하여 도시하는 측면도,
도 8은 기판 처리 장치(1)를 -Y방향에서 본 개략 정면도,
도 9는 기판 처리 장치(1)를 -Y방향에서 본 개략 정면도,
도 10은 기판 처리 장치(1)를 -Y방향에서 본 개략 정면도,
도 11은 기판 처리 장치(1)를 -Y방향에서 본 개략 정면도,
도 12는 변형예에 따른 기판 처리 장치(3)의 개략 전체 구성을 도시하는 측면도,
도 13은 변형예에 따른 기판 처리 장치(5)의 개략 전체 구성을 도시하는 측면도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
1, 3 : 기판 처리 장치 11 : 처리 장치 프레임
13 : 처리실 16 : 본체 반송 기구
17 : 상부 덮개 반송 기구 21 : 메인터넌스용 프레임
131 : 본체 132 : 상부 덮개
W : 기판 PT, PT' : 처리시 위치
PM, PM' : 메인터넌스시 위치
본 발명은, 기판에 대해서 소정의 처리를 행하는 처리실을 갖는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
종래로부터, 기판에 대해서 소정의 처리를 행하는 처리실을 갖는 기판 처리 장치가 이용되고 있다. 당해 기판 처리 장치에서는, 풋 프린트를 삭감하기 위해 서, 복수의 처리실을 수직 방향으로 적층하는 것이 행해진다. 예를 들면, 특허문헌 1에는, 복수의 처리실을 수직 방향으로 적층하는 동시에, 메인터넌스를 용이하게 하기 위해서, 하우징체의 외부의 메인터넌스시 위치로 처리실을 인출 가능하게 한 다단식의 기판 처리 장치가 개시되어 있다. 특허문헌 1의 기판 처리 장치에서는, 메인터넌스시 위치로 인출된 처리실은, 하우징체로부터 대략 수평 방향으로 신장되는 부재에 의해서 캔틸레버 지지되어 있다.
이와 같은 기판 처리 장치에서는, 기판에 대해서 처리를 행하는 경우에 처리실을 밀폐하는 동시에, 메인터넌스를 행하는 경우에 처리실의 내부로 액세스 가능하게 하기 위해서, 힌지를 축으로 하여 개폐 가능한 덮개를 처리실의 상면에 설치한 것도 이용되고 있다. 이와 같은 덮개를 설치한 기판 처리실에서는, 하우징체의 외부로 처리실의 전체를 인출한 후에 당해 덮개를 위쪽으로 들어 올려 내부가 개방된 상태로 하고, 그러한 후에 처리실의 내부의 메인터넌스가 행해지고 있다.
(특허문헌 1) 일본국 특개 2000-12448호 공보
한편, 기판 처리 장치가 처리 대상으로 하는 기판은 대형화하는 경향이 있고, 최근에는, 처리실의 중량이 1000㎏을 넘는 경우도 나오고 있으며, 덮개의 중량도 100㎏을 넘는 경우도 있다. 이 때문에, 특허문헌 1의 기판 처리 장치에서는, 메인터넌스시 위치로 인출된 처리실을 캔틸레버 지지하기 위한 부재나 덮개의 개폐를 위한 부재도 강도를 향상시키는 것이 요구되고 있고, 당해 부재의 대형화나 중량 증가 및 이것에 기인하는 기판 처리 장치 전체의 대형화나 중량 증가가 문제로 되어 있었다.
본 발명은, 이들 문제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 처리실을 구성하는 부재를 간결한 구조로 확실하게 지지 가능한 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 청구항 1의 발명은, 기판에 대해서 소정의 처리를 행하는 처리실을 갖는 기판 처리 장치로서, 상기 처리실에서 기판에 대해서 처리를 행하는 경우의 위치인 처리시 위치에서, 상기 처리실을 구성하는 소정 부재를 지지하는 지지하는 제1 지지 구조와, 상기 처리시 위치와 다른 퇴피시 위치에서, 상기 제1 지지 구조와는 독립하여 상기 제1 지지 구조의 외부에서 상기 소정 부재를 지지하는 제2 지지 구조와, 상기 처리시 위치와 상기 퇴피시 위치의 사이에서 상기 소정 부재를 이동시키는 이동 기구를 구비한다.
청구항 2의 발명은, 청구항 1에 기재된 기판 처리 장치에 있어서, 상기 처리실은, 복수의 부재로 분리 가능하고, 상기 이동 기구는, 상기 복수의 부재 중 적어도 하나의 부재를, 상기 소정 부재로 하여, 상기 처리시 위치와 상기 퇴피시 위치의 사이에서 이동시킨다.
청구항 3의 발명은, 청구항 1에 기재된 기판 처리 장치에 있어서, 상기 기판 처리 장치는, 복수의 상기 처리실을 갖고 있고, 상기 제1 지지 구조 및 상기 제2 지지 구조는, 각각, 복수의 상기 처리실의 각각을 구성하는 상기 소정 부재를, 상기 소정 부재마다 정해진 상기 처리시 위치 및 상기 퇴피시 위치에서 지지하고, 상 기 이동 기구는, 상기 소정 부재를, 상기 소정 부재마다 정해진 상기 처리시 위치와 상기 퇴피시 위치의 사이에서 이동시킨다.
청구항 4의 발명은, 청구항 1에 기재된 기판 처리 장치에 있어서, 상기 이동 기구는, 상기 처리시 위치와 상기 퇴피시 위치의 사이에서, 상기 소정 부재를 수평 이동시킨다.
청구항 5의 발명은, 기판에 대해서 소정의 처리를 행하는 처리실을 갖는 기판 처리 장치로서, 상기 처리실을 구성하는 분리 가능한 복수의 부재를 지지하는 제1 지지 구조와, 상기 복수의 부재 중 적어도 하나의 소정 부재를 상기 제1 지지 구조의 외부로 이동하는 이동 기구를 구비하고, 상기 기판 처리 장치는, 복수의 상기 처리실을 갖고 있고, 상기 제1 지지 구조는, 복수의 상기 처리실의 각각을 구성하는 상기 소정 부재를 지지하고, 상기 이동 기구는, 복수의 상기 처리실의 각각을 구성하는 상기 소정 부재를, 상기 제1 지지 구조의 외부로 이동한다.
청구항 6의 발명은, 청구항 5에 기재된 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제1 지지 구조와는 독립하여 상기 제1 지지 구조의 외부에서 상기 소정 부재를 지지하는 제2 지지 구조를 더 구비하고, 상기 이동 기구는, 상기 제1 지지 구조에 의한 지지가 행해지는 제1 지지 위치와, 상기 제2 지지 구조에 의한 지지가 행해지는 제2 지지 위치의 사이에서, 상기 소정 부재를 이동한다.
삭제
청구항 8의 발명은, 청구항 6에 기재된 기판 처리 장치에 있어서, 상기 이동 기구는, 상기 제1 지지 위치와 상기 제2 지지 위치의 사이에서, 상기 소정 부재를 수평 이동시킨다.
본 발명의 실시 형태에 따른 기판 처리 장치(1)는, 가열 처리(또는 냉각 처리)를 기판에 대해서 행한다. 단, 이것은 예시이고, 기판 처리 장치(1)가 이들 열 처리 이외의 처리를 기판에 대해서 행하는 경우에도 본 발명은 적용 가능하다. 또, 기판 처리 장치(1)가 처리 대상으로 하는 기판은, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면, 반도체 웨이퍼, 액정 표시 장치용 유리 기판, PDP(플라즈마 디스플레이 패널)용 유리 기판, 광 디스크용 유리 기판, 자기 디스크용 유리 기판 및 자기 디스크용 세라믹 기판 등이다. 이하에서는, 당해 기판 처리 장치(1)의 구성에 대해서, 도 1∼도 11을 참조하면서 설명한다.
{1 전체 구성}
도 1은, 본 발명의 실시 형태에 따른 기판 처리 장치(1)의 개략 전체 구성을 도시하는 사시도이다. 도 1에서는, 기판 처리 장치(1)가 설치되는 바닥면(FL)을 XY 평면으로 하는 XYZ 직교 좌표계가 정의되고, 바닥면(FL) 위의 반송로(901)의 신장되는 방향이 X축 방향으로 되어 있다. 반송로(901)는, 기판 처리 장치(1)가 처리 대상으로 하는 기판(W)을 반송하는 반송 로봇의 이동 경로로 되어 있고, 기판 처리 장치(1)는, 반송 로봇에 의해서 상류측의 공정에서 반송되어 온 기판(W)에 대해서 소정의 처리를 행한다.
도 1에 도시하는 바와 같이, 기판 처리 장치(1)는, 처리 장치 프레임(11)의 내부에 복수의 처리실(13)을 수직 방향으로 적층하여 수용한 다단식의 장치이다. 또한, 도 1에는, 3개의 처리실(13)을 갖는 기판 처리 장치(1)가 도시되어 있지만, 처리실(13)의 수는 2개 이하 또는 4개 이상이어도 된다. 처리 장치 프레임(11)은, 골격이 되는 파이프나 앵글 등의 봉형상 부재를 결합하여 형성된 대략 직육면체 형상의 하우징체이고, 처리실(13)을 내부로 지지하는 지지 구조로서 기능한다. 처리 장치 프레임(11)의 골격에는, 외장이나 선반판이 되는 판형상 부재가 필요에 따라서 부착된다. 처리실(13)의 각각은, 덮개가 있는 대략 직육면체 형상을 갖고, 하측 부재가 되는 상자형 형상의 본체(131)와 상측 부재가 되는 상부 덮개(132)로 분리 가능하다.
기판 처리 장치(1)에는, 메인터넌스용 프레임(21)이 처리 장치 프레임(11)에 인접하여 병설된다. 메인터넌스용 프레임(21)도 또한, 처리 장치 프레임(11)과 동일하게, 골격이 되는 파이프나 앵글 등의 봉형상 부재를 결합하여 형성되고, 대략 직육면체 형상을 갖고 있다. 메인터넌스용 프레임(21)은, 메인터넌스시에만 설치해도 되고, 항상 설치해도 된다. 메인터넌스용 프레임(21)을 항상 설치하는 경우에는, 처리 장치 프레임(11)과 메인터넌스용 프레임(21)을 결합하여 하나의 프레임으로 하여 일체물로서 구성하는 것도 허용된다.
처리실(13)의 각각을 구성하는 본체(131) 및 상부 덮개(132)의 각각은, 기판(W)에 대해서 처리를 행하는 경우에는, 부재마다 정해진 처리 장치 프레임(11)의 내부의 처리시 위치에서 처리 장치 프레임(11)에 의해서 지지되지만, 메인터넌스(보전)를 행하는 경우에는, 부재마다 정해진 메인터넌스용 프레임(21)의 내부의 메인터넌스시 위치에서, 메인터넌스용 프레임(21)에 의해서 지지된다. 본체(131) 및 상부 덮개(132)의 각각은, 처리시 위치와 메인터넌스시 위치의 사이에서 독립하여 이동 가능하게 되어 있다.
처리 장치 프레임(11) 및 메인터넌스용 프레임(21)은, 기판 처리 장치(1)가 설치되는 바닥면(FL)의 다른 영역의 위에 설치되고 있고, 메인터넌스용 프레임(21)은, 처리 장치 프레임(11)과는 독립하여 처리 장치 프레임(11)의 외부에서 본체(131) 및 상부 덮개(132)를 지지하는 지지 구조로 되어 있다. 이것에 의해, 처리 장치 프레임(11) 및 메인터넌스용 프레임(21)은, 서로 상대에게 의존하지 않고 본체(131) 및 상부 덮개(132)를 지지 가능하고, 본체(131) 및 상부 덮개(132)가 메인터넌스시 위치에서 메인터넌스용 프레임(21)에 의해서 지지되어 있는 경우, 메인터넌스용 프레임(21)으로부터 처리 장치 프레임(11)으로 큰 작용(하중)이 가해지는 경우는 없다. 따라서, 기판 처리 장치(1)에서는, 본체(131)나 상부 덮개(132)를 처리 장치 프레임(11)의 외부의 메인터넌스시 위치로 이동시킨 경우에도, 처리 장치 프레임(11)과는 독립한 메인터넌스용 프레임(21)에 의해서 본체(131)나 상부 덮개(132)는 지지되기 때문에, 종래의 캔틸레버 지지의 경우와 달리, 처리 장치 프레임(11)에 큰 하중이 가해지는 경우는 없다. 따라서, 기판 처리 장치(1)에서는, 메인터넌스시 위치에서, 본체(131)나 상부 덮개(132)가 확실하게 지지되는 동시에, 캔틸레버 지지를 위한 부재와 같은 복잡한 구조가 불필요하고, 간결한 구조로 본체(131)나 상부 덮개(132)가 지지된다. 또한, 후술하는 바와 같이, 기판 처리 장치(1)에서는, 본체(131)와 상부 덮개(132)를 처리 장치 프레임(11)의 내부에서 분리하고, 그러한 후에 필요한 부재만을 처리 장치 프레임(11)으로부터 인출 가능하기 때문에, 상부 덮개(132)를 열기 위한 복잡한 부재를 처리실(13)에 설치할 필요는 없고, 이 점에서도, 본체(131)나 상부 덮개(132)를 간결한 구조로 확실하게 지지 가능하게 되어 있다.
또한, 종래의 기술에서는, 캔틸레버 지지에 기인하는 휘어짐이나 처짐을 방지하기 위해서, 본체(131) 및 상부 덮개(132)에는 상당한 강성이 요구되었지만, 기판 처리 장치(1)에서는, 본체(131) 및 상부 덮개(132)의 각각의 전체를 지지하는 메인터넌스용 프레임(21)을 이용함으로써, 본체(131) 및 상부 덮개(132)에 요구되는 강성을 저하시키고 있다. 이 때문에, 기판 처리 장치(1)에서는, 본체(131) 및 상부 덮개(132)를 경량화 가능하게 되어 있고, 메인터넌스시 위치로의 인출에 필요한 힘도 작아지고 있다. 이것은, 바꿔 말하면, 기판 처리 장치(1)에서는, 본체(131) 및 상부 덮개(132)의 중량 증가를 피하면서, 즉, 기판 처리 장치(1)의 전체의 중량 증가를 피하면서, 처리 대상으로 하는 기판(W)의 사이즈를 대형화 가능하다는 것이기도 하다.
또, 기판 처리 장치(1)는, 본체(131) 및 상부 덮개(132) 중의 복수를 처리 장치 프레임(11)의 내부로부터 메인터넌스용 프레임(21)의 내부로 이동시켜도 전도될 우려는 없기 때문에, 복수의 부재가 인출되는 것을 방지하기 위한 기구를 설치할 필요는 없고 간결하게 구성 가능하다.
이하에서는, 처리시 위치로부터 메인터넌스시 위치로의 본체(131) 및 상부 덮개(132)의 인출에 대해서 설명한다.
{2 처리실 및 그 주변의 구성}
도 2∼도 7은, 기판 처리 장치(1)의 하나의 처리실(13) 및 그 주변의 구성을 확대하여 도시하는 도면이다. 여기에서, 도 2∼5는, -Y방향에서 본 정면도에 상당하고, 도 2는 본체(131) 및 상부 덮개(132)가 각각 처리시 위치(PT 및 PT')에 있는 상태, 도 3은 본체(131)가 메인터넌스시 위치(PM)에 있고 상부 덮개(132)가 처리시 위치(PT')의 위쪽의 위치(이하에서는, 「개방시 위치」라고도 칭한다)(PO')에 있는 상태, 도 4는 본체(131)가 처리시 위치(PT)에 있고 상부 덮개(132)가 메인터넌스시 위치(PM')에 있는 상태, 도 5는 본체(131)가 처리시 위치(PT)에 있고 상부 덮개(132)가 개방시 위치(PO')에 있는 상태를 나타내고 있다. 또, 도 6 및 도 7은, +X 방향에서 본 측면도에 상당하고, 도 6은 본체(131) 및 상부 덮개(132)가 각각 처리시 위치(PT, PT')에 있는 상태, 도 7은 본체(131)가 처리시 위치(PT)에 있고 상부 덮개(132)가 개방시 위치(PO')에 있는 상태를 나타내고 있다.
도 2∼도 7에 도시하는 바와 같이, 본체(131)의 저면(131L)에는, 기판(W)에 대해서 가열 처리를 행하는 핫 플레이트(또는 기판(W)에 대해서 냉각 처리를 행하는 쿨 플레이트)(15)가 설치되는 것 외에, 처리실(13)의 내부에서의 기판(W)의 승강에 이용되는 도시하지 않은 리프트 핀이나 당해 리프트 핀의 구동부 등(이하에서는, 이들을 총칭하여「부수물」이라고도 칭한다)이 설치된다. 본 실시 형태에서는, 당해 부수물은, 본체(131)와 함께 이동한다.
또, 기판 처리 장치(1)에는, 처리시 위치(PT)와 메인터넌스시 위치(PM)의 사이에서 본체(131)를 이동시키는 본체 이동 기구(16)와, 처리시 위치(PT')와 메인터넌스시 위치(PM')의 사이에서 상부 덮개(132)를 이동시키는 상부 덮개 이동 기구 (17)가 설치된다. 기판 처리 장치(1)에서는, 본체 이동 기구(16) 및 상부 덮개 이동 기구(17)에 의해, 본체(131) 및 상부 덮개(132) 중 적어도 하나의 부재(한쪽 또는 양쪽)를 처리시 위치(PT)(PT')와 메인터넌스시 위치(PM)(PM')의 사이에서 이동 가능하고, 퇴피시킬 필요가 있는 부재만을 메인터넌스시 위치(PM)(PM')로 퇴피 가능하게 되어 있다.
이하에서는, 본체 이동 기구(16) 및 상부 덮개 이동 기구(17)에 대해서 순차적으로 설명한다.
○ 본체 반송 기구 ;
도 2∼도 7에 도시하는 바와 같이, 본체 이동 기구(16)는, 처리 장치 프레임(11)의 내면으로 돌출된 가대(架臺)(161a)에 부설된 레일(162a)과, 메인터넌스용 프레임(21)의 내면으로 돌출된 가대(161b)에 부설된 레일(162b)과, 본체(131)의 저면(131L)의 한쪽의 단부에 고정된 가동 블록(163)과, 본체(131)의 저면(131L)의 다른쪽의 단부에 부착된 차륜(164)을 구비한다. 레일(162a, 162b) 및 가동 블록(163)은, 리니어 가이드(직선 운동 안내 기구)를 구성하고 있고, 레일(162a, 162b)의 위에서 가동 블록(163)을 미끄럼 운동시킴으로써, 본체(131)의 이동 방향을 레일(162a, 162b)의 길이 방향으로 규제하고 있다. 차륜(164)은, Y축 방향을 축으로 하여 회전 가능하고, 가대(161a, 161b)의 위에서 회전하면서 이동함으로써, 본체(131)의 이동에 필요한 힘을 삭감한다.
기판 처리 장치(1)에서는, 본체(131)의 처리시 위치(PT)와 메인터넌스시 위치(PM)의 높이가 일치하도록 처리 장치 프레임(11) 및 메인터넌스용 프레임(21)이 구성되어 있다. 이 때문에, 가동 블록(163)이 미끄럼 운동하는 레일(162a, 162b)은 길이 방향을 ±X 방향으로 하여 수평으로 부설되는 동시에, 차륜(164)의 통행 장소가 되는 가대(161a, 161b)의 상면도 수평면(XY 평면)으로 되어 있다. 또, 처리 장치 프레임(11)과 메인터넌스용 프레임(21)의 경계 근방에서의 가대(161a, 161b) 및 레일(162a, 162b)의 간극은, 본체(131)의 슬라이드를 방해하지 않도록 충분히 작아지고 있고, 가대(161a, 161b) 및 레일(162a, 162b)은, 처리시 위치(PT)와 메인터넌스시 위치(PM)를 연속적으로(도중에 끊기지 않고) 접속하는 이동 경로를 제공하고 있다. 따라서, 기판 처리 장치(1)에서는, 본체 이동 기구(16)를 이용한 본체(131)의 이동은 수평 이동으로 되어, 작은 힘으로 본체(131)를 처리시 위치(PT)와 메인터넌스시 위치(PM)의 사이에서 원활하게 이동 가능하게 되어 있다.
또한, 상술한 예에서는, 본체(131)의 한쪽의 단부를 리니어 가이드를 통해서 지지하고, 본체(131)의 다른쪽의 단부를 차륜을 통해서 지지하는 본체 이동 기구(16)에 대해서 설명하였지만, 양쪽의 단부를 차륜을 통해서 지지하는 것이나, 양쪽의 단부를 리니어 가이드를 통해서 지지하는 것도 무방하다. 단, 상술한 바와 같은 리니어 가이드와 차륜의 조합에는, 차륜만을 이용하는 경우와 비교하여, 본체의 Y축 방향의 위치를 일정하게 유지하는 것이 용이하고, 기판(W)을 처리실(13)의 내부에 정확하게 도입 가능하다고 하는 이점이 있다. 또, 리니어 가이드만을 이용하는 경우에는, 정밀도 좋게 평행하게 부설된 쌍의 레일이 필요하지만, 상술한 바와 같은 리니어 가이드와 차륜의 조합에 의해, 레일(162a, 162b)의 부설시에 요구되는 치수 정밀도가 지나치게 엄밀하게 되지 않는다고 하는 이점도 있다.
또, 도 2∼도 7에는, 2개의 가동 블록(163) 및 2개의 차륜(164)이 본체(131)의 저면(131L)에 설치되는 예를 도시하였지만, 가동 블록(163)이나 차륜(164)의 수는, 본체(131)의 사이즈나 중량 등을 고려하여 적절히 변경해야 하는 것이다. 또한, 차륜(164) 대신에, 회전 자유로운 산륜(散輪)을 본체(131)의 저면(131L)에 설치함으로써, 본체(131)의 이동에 필요한 힘을 삭감하도록 해도 된다.
○ 상부 덮개 반송 기구 ;
상부 덮개 이동 기구(17)는, 개방시 위치(PO')와 메인터넌스시 위치(PM')의 사이에서 상부 덮개(132)를 이동시키는 상부 덮개 슬라이드 기구를 포함하고 있다. 상부 덮개 슬라이드 기구는, 도 2∼도 7에 도시하는 바와 같이, 처리 장치 프레임(11)의 내부에 지지된 한 쌍의 레일(171a)과, 메인터넌스용 프레임(21)의 내부에 지지된 한 쌍의 레일(171b)과, 상부 덮개(132)의 단부에 설치된 차륜(173)을 구비한다.
레일(171a)은, 홈형(コ자형)의 단면 형상을 갖는 봉형상 부재이고, 길이 방향이 ±X 방향이 되도록 수평으로 지지되어 있다. 또, 레일(171a)은, 개구부가 대향하도록 평행하고 또한 같은 높이로 지지되어 있고, 당해 개구부의 폭(홈의 폭)은, 차륜(173)의 지름보다 크게 되어 있다. 이들의 점은, 레일(171b)도 동일하다. 레일(171a, 171b) 중, 처리 장치 프레임(11)의 내부의 한 쌍의 레일(171a)은 평행 및 같은 높이를 유지하면서 승강 가능하고, 메인터넌스용 프레임(21)의 내부의 한 쌍의 레일(171b)은 메인터넌스용 프레임(21)에 대해서 고정되어 있다. 그리고, 기판 처리 장치(1)에서는, 레일(171a)과 레일(171b)의 높이가 일치한 상태에서, 개방 시 위치(PO')와 메인터넌스시 위치(PM')의 사이의 상부 덮개(132)의 슬라이드가 행해진다. 상부 덮개(132)의 슬라이드는, Y축 방향을 회전축으로 하여 회전 가능한 차륜(173)을, 레일(171a, 171b)의 홈의 내부에서 레일(171a, 171b)의 하면과 접한 상태로 회전시킴으로써 실현된다. 또한, 차륜(173)의 측면에는, 원호형상의 외형 형상을 갖는 가이드 볼(174)이 돌출되어 설치되고 있고, 가이드 볼(174)은, 레일(171a, 171b)의 측면에 접하여, 상부 덮개(132)의 ±Y 방향의 위치를 소정의 위치로 규제하고 있다. 가이드 볼(174)에 의해, ±X 방향으로 이동하는 경우의 상부 덮개(132)의 ±Y 방향의 진로 어긋남이 방지된다.
또한, 도 2∼도 7에는, 4개의 차륜(173)이 상부 덮개(132)의 단부에 설치되는 예를 도시하였지만, 차륜(173)의 수는, 상부 덮개(132)의 사이즈나 중량 등을 고려하여 적절히 변경해야 하는 것이다. 또, 차륜(173)이 아니라, 리니어 가이드나 슬라이드 레일 등을 이용하여 상부 덮개(132)의 슬라이드를 행해도 된다.
레일(171)의 승강은, 본체부(175a)가 처리 장치 프레임(11)에 고정된 에어 실린더(175)에 의해서 실현된다. 보다 구체적으로는, 기판 처리 장치(1)에서는, 본체부(175a)가 처리 장치 프레임(11)에 고정된 에어 실린더(175)의 피스톤(175b)이 레일(171a)과 접속되어, 주어지는 에어 신호에 따라서 피스톤(175b)이 수직 방향으로 왕복 운동함으로써, 레일(171a)의 승강이 행해진다. 에어 실린더(175)는, 상부 덮개(132)가 처리 장치 프레임(11)의 내부에 있을 때에는, 상부 덮개(132)를 레일(171a)과 함께 승강시키는 상부 덮개 승강 기구로서 기능하고 있다. 물론, 에어 실린더(175) 대신에 유압 실린더나 전동 실린더를 이용해도 되고, 링크 기구 등 의 보조 기구를 이용하여 작업자의 수작업에 의해서 상부 덮개(132)를 승강해도 된다.
기판 처리 장치(1)에서는, 기판(W)에 대해서 열 처리를 행하는 경우에는, 처리실(13)의 내부의 온도 분포를 일정하게 하기 위해서, 처리실(13)의 내부와 외기를 차단하는 것이 바람직하다. 이 때문에, 기판 처리 장치(1)에서는, 기판(W)에 대해서 열 처리를 행하는 경우, 상부 덮개(132)를 레일(171a)과 함께 개방시 위치(PO')로부터 처리시 위치(PT')까지 하강시켜 본체(131)의 측면의 상단에 설치된 패킹(131a)과 상부 덮개(132)가 접한 상태로 하고, 또한 계속해서, 레일(171a)의 상면과 차륜(173)을 접촉시켜서 상부 덮개(132)에 아래쪽으로의 하중을 가하여, 상부 덮개(132)가 패킹(131a)에 압착된 상태 즉 처리실(13)의 내부가 기밀하게 유지된 상태를 실현한다. 이와 같은 기밀 상태의 실현에 의해, 기판 처리 장치(1)에서는, 본체(131)와 상부 덮개(132)를 밀착시키기 위한 로크 기구 등이 불필요해져, 본체(131)와 상부 덮개(132)를 분리하는 작업이나 밀착시키는 작업이 용이해지는 동시에, 열 처리에 기인하는 본체(131) 또는 상부 덮개(132)의 팽창 등이 있어도 용이하게 처리실(13)의 내부의 기밀 상태를 실현 가능하다. 또, 기판 처리 장치(1)에서는, 기판 처리시에 상부 덮개(132)가 본체(131)로 압착되기 때문에, 가열에 의한 상부 덮개(132)의 들뜸도 효율적으로 방지된다. 물론, 기밀 확보를 위한 패킹(131a)을, 본체(131)의 측이 아니라, 상부 덮개(132)에 설치해도 동일한 효과를 얻을 수 있다.
또한, 기판 처리 장치(1)에서는, 상부 덮개(132)를 처리시 위치(PT')로부터 메인터넌스시 위치(PM')로 이동시키는 경우, 레일(171a)을 레일(171b)과 같은 높이로 끌어 올려 본체(131)와 상부 덮개(132)를 분리하여 일단 상부 덮개(132)를 개방시 위치(PO')로 상승시키고, 그러한 후에 상부 덮개(132)를 메인터넌스시 위치(PM')로 슬라이드시키게 된다. 이 때, 처리 장치 프레임(11)과 메인터넌스용 프레임(21)의 경계 근방에서의 레일(171a, 172b)의 간극은, 상부 덮개(132)의 슬라이드를 방해하지 않도록 충분히 작아져 있고, 레일(171a, 172b)은, 개방 위치(PO')와 메인터넌스시 위치(PM')를 연속적으로 접속하는 이동 경로를 제공하고 있다. 따라서, 기판 처리 장치(1)에서는, 상부 덮개 이동 기구(17)를 이용한 상부 덮개(132)의 이동의 주요 부분은 수평 이동이 되어, 작은 힘으로 상부 덮개(132)를 처리시 위치(PT')와 메인터넌스시 위치(PM')의 사이에서 매끄럽게 이동 가능하게 되어 있다.
{3 메인터넌스}
이하에서는, 처리실(13)의 본체(131) 또는 상부 덮개(132)의 메인터넌스를 행하는 경우의 본체(131) 또는 상부 덮개(132)의 퇴피에 대해서 구체적인 사례를 들면서 설명한다. 또한, 이하에 참조하는 도 8∼도 11은, 기판 처리 장치(1)를 -Y 방향에서 본 정면도이지만, 본체(131) 또는 상부 덮개(132)의 위치를 설명하기 위한 개략 정면도로 되어 있고, 앞에서 서술한 본체 이동 기구(16) 및 상부 덮개 이동 기구(17)는 생략되어 있다.
○ 본체의 메인터넌스 ;
본체의 메인터넌스를 행하는 경우, 작업자는, 도 8에 도시하는 바와 같이, 메인터넌스의 대상이 되는 본체(131M)를 본체 이동 기구(16)를 이용하여 처리시 위치(PT)(점선)로부터 메인터넌스시 위치(PM)(실선)로 인출한 후 메인터넌스를 개시한다. 보다 상세하게는, 작업자는, 본체(131M)에 대응하는 상부 덮개(132)를 처리시 위치(PT')(점선)로부터 개방시 위치(PO')(실선)로 상승시켜 본체(131M)와 상부 덮개(132)를 분리하고, 그러한 후에, 처리시 위치(PT)로부터 메인터넌스시 위치(PM)로 본체(131M)를 슬라이드시켜, 메인터넌스용 프레임(21)의 내부에서 메인터넌스를 개시한다. 본체(131M)의 슬라이드는, 수작업으로 행해도 되고, 모터 등을 동력원으로 하는 구동 기구를 이용하여 행해도 된다. 메인터넌스용 프레임(21)에 작업용의 발판을 구축한 후 메인터넌스를 행하는 것도 무방하다.
메인터넌스시 위치(PM)로 인출된 본체(131M)는, 상면이 완전히 개방되어, 청소 등의 메인터넌스를 용이하게 실행 가능한 상태로 되어 있다. 여기에서, 본체(131M)의 부수물을 위쪽으로 들어 올린 경우에 들어 올린 것과 간섭하는 부위가 없도록 메인터넌스용 프레임(21)를 구성해 두면, 당해 부수물의 교환 등의 대규모인 메인터넌스도 용이하게 실행 가능하다. 또한, 메인터넌스용 프레임(21)에 본체(131)의 승강 기구를 설치해 두면, 본체(131M)를 적당한 높이까지 하강시킨 후 메인터넌스를 행할 수 있기 때문에, 메인터넌스의 작업성을 향상시킬 수 있다.
또, 기판 처리 장치(1)에서는, 본체(131M)의 상면을 완전히 개방하는 경우에도, 상부 덮개(132)를 위쪽으로 들어 올리는 작업은 불필요하기 때문에, 상부 덮개(132)를 들어 올리기 위한 공간을 위쪽에 확보할 필요는 없고, 상부 덮개(132)를 들어 올리기 위한 기구도 불필요하다. 이 때문에, 기판 처리 장치(1)는, 설치되는 공장의 공간을 효율적으로 이용 가능하게 되어 있다. 또한, 기판 처리 장치(1)에서는, 본체(131M)의 상면을 개방한 상태라도 상면의 위쪽에 상부 덮개(132)라는 중량물이 존재하지 않기 때문에, 메인터넌스시의 작업자의 안전을 용이하게 확보 가능하다.
메인터넌스가 완료한 본체(131M)는, 처리시 위치(PT)로 되돌아가고, 그러한 후에, 상부 덮개(132)가 하강되어, 다시 상부 덮개(132)와 밀착한 상태가 된다.
또한, 상술한 설명에서는, 본체(131M)의 전체를 메인터넌스용 프레임(21)으로 인출하는 예를 나타내었지만, 본체(131)의 +X 방향의 단부 부근만의 메인터넌스를 행하는 경우에는, 전체를 인출하지 않고 메인터넌스를 행하는 단부 부근의 상면만이 개방되도록, 본체(131)의 일부를 메인터넌스용 프레임(21)으로 인출하도록 해도 된다. 또, 상술한 설명에서는, 메인터넌스의 대상의 본체(131M)를 메인터넌스용 프레임(21)으로 인출하는 예를 나타내었지만, 도 9에 도시하는 바와 같이, 메인터넌스의 대상의 본체(131M)를 처리 장치 프레임(11)의 내부에 남겨 두고, 잔여의 본체(131) 및 상부 덮개(132)를 메인터넌스용 프레임(21)으로 인출하도록 해도, 처리 장치 프레임(11)의 내부에서 동일하게 메인터넌스를 용이하게 실행 가능하다.
○ 상부 덮개의 메인터넌스 ;
상부 덮개의 메인터넌스를 행하는 경우, 작업자는, 도 10에 도시하는 바와 같이, 메인터넌스의 대상이 되는 상부 덮개(132M)를 상부 덮개 이동 기구(17)를 이용하여 처리시 위치(PT')로부터 메인터넌스시 위치(PM')로 인출한 후 작업을 개시한다. 보다 상세하게는, 작업자는, 상부 덮개(132M)를 처리시 위치(PT')로부터 개 방시 위치(PO')로 상승시켜 본체(131)와 상부 덮개(132M)를 분리하고, 그러한 후에, 개방시 위치(PO')로부터 메인터넌스시 위치(PM')로 상부 덮개(132M)를 슬라이드시켜, 메인터넌스용 프레임(21)의 내부에서 메인터넌스를 개시한다. 상부 덮개(132M)의 슬라이드도 또한, 수작업으로 행해도 되고, 모터 등을 동력원으로 하는 구동 기구를 이용하여 행해도 된다. 동일하게, 메인터넌스용 프레임(21)에 작업용의 발판을 구축한 후 작업을 행하는 것도 무방하다.
메인터넌스시 위치(PM')로 인출된 상부 덮개(132M)는, 더러워지기 쉬운 하면이 완전히 개방되어, 청소 등의 메인터넌스를 용이하게 실행 가능한 상태로 되어 있다. 또, 메인터넌스용 프레임(21)에 상부 덮개(132)의 승강 기구를 설치해 두면, 상부 덮개(132M)를 적당한 높이까지 하강시킨 후 작업을 행할 수 있기 때문에, 메인터넌스의 작업성을 향상시킬 수 있다. 메인터넌스가 완료된 상부 덮개(132M)는, 처리시 위치(PT')로 되돌아간 후에 하강되어, 다시 본체(131)와 밀착한 상태로 된다.
또한, 상술한 설명에서는, 상부 덮개(132M)의 전체를 메인터넌스용 프레임(21)으로 인출하는 예를 나타내었지만, 상부 덮개(132)의 +X 방향의 단부 부근만의 메인터넌스를 행하는 경우에는, 전체를 인출하지 않고 메인터넌스를 행하는 단부 부근의 하면만이 개방되도록, 상부 덮개(132M)의 일부를 메인터넌스용 프레임(21)으로 인출하도록 해도 된다. 또, 상술한 설명에서는, 메인터넌스의 대상의 상부 덮개(132M)를 메인터넌스용 프레임(21)으로 인출하는 예를 나타내었지만, 도 11에 도시하는 바와 같이, 메인터넌스의 대상의 상부 덮개(132M)를 처리 장치 프레임 (11)의 내부에 남겨 두고, 잔여의 본체(131) 및 상부 덮개(132)를 메인터넌스용 프레임(21)으로 인출하도록 해도, 처리 장치 프레임(11)의 내부에서 동일하게 메인터넌스를 용이하게 실행 가능하다.
{4 변형예}
○ 부재의 퇴피에 대해서 ;
상술한 실시 형태에서는, 본체(131) 및 상부 덮개(132)의 양쪽이 메인터넌스시 위치(PM)(PM')로 퇴피 가능한 예를 나타내었지만, 본체(131) 또는 상부 덮개(132) 중 어느 하나만이 메인터넌스시 위치(PM)(PM')로 퇴피 가능한 것과 같은 양태도 본 발명은 포함하고 있다. 혹은, 본체(131) 및 상부 덮개(132)가 결합된 채로 메인터넌스시 위치로의 퇴피가 행해지는 것과 같은 양태나, 처리실(13)이 3개 이상의 부재로 분리되고, 그 전부 또는 일부가 독립하여 메인터넌스시 위치로 퇴피 가능한 것과 같은 양태의 채용도 무방하다.
또, 본체(131)의 전체가 아니라, 본체(131)의 저면이나 부수물만이 메인터넌스시 위치로 퇴피되고, 본체(131)의 잔여의 부분이 처리 장치 프레임(11)의 내부에 남는 것과 같은 양태나, 본체(131)의 저면이나 부수물이 처리 장치 프레임(11)의 내부에 남고, 본체의 잔여의 부분이 메인터넌스시 위치로 퇴피되는 것과 같은 양태의 채용도 무방하다.
또한, 상술한 실시 형태에서는, 본체(131) 및 상부 덮개(132)의 양쪽이 메인터넌스시 위치에서 메인터넌스용 프레임(21)에 지지되는 예를 나타내었지만, 본체(131) 또는 상부 덮개(132) 중 어느 하나가 종래의 기술과 같이 처리 장치 프레임 (11)에 캔틸레버 지지되도록 해도 된다.
○ 승강 기구에 대해서 ;
상술한 실시 형태에서는, 상부 덮개(132)를 상승시킴으로써 본체(131)와 상부 덮개(132)를 분리하였지만, 승강 기구에 의해 본체(131) 또 패킹(131a)을 승강 가능하게 구성하고, 본체(131) 또 패킹(131a)을 하강시킴으로써, 본체(131)와 상부 덮개(132)를 분리하도록 해도 된다.
또한, 승강 기구는 반드시 필수가 아니라, 상부 덮개(132)를 메인터넌스용 프레임(21)으로부터 처리 장치 프레임(11)으로 수평 이동하는 것만으로 본체(131)와 상부 덮개(132)가 밀착하도록 해도 된다.
○ 처리실 지지 ;
상술한 메인터넌스용 프레임(21) 대신에, 캔틸레버 지지에 의해 본체 또는 상부 덮개를 메인터넌스시 위치로 인출 가능한 기판 처리 장치에 있어서, 인출한 본체 또는 상부 덮개를 아래쪽에서 구조물에 의해 지지하는 것도 무방하다. 예를 들면, 도 12의 측면도에 도시하는 바와 같이, 본체(331)가 캔틸레버 슬라이드 빔(381)을 통해서 처리 장치 프레임(31)에 지지되어 있는 기판 처리 장치(3)에 있어서, 본체(331)의 일부분을 처리 장치 프레임(31)으로부터 인출하여, 바닥면 상에서 수평 이동 가능한 구조물(401)에 그 저면을 올려 놓은 후, 본체(331)의 전체를 처리 장치 프레임(31)으로부터 인출하도록 하는 것도 무방하다. 또, 도 13의 측면도에 도시하는 바와 같이, 본체(531)가 캔틸레버 슬라이드 빔(581)을 통해서 처리 장치 프레임(51)에 지지되어 있는 기판 처리 장치(5)에 있어서, 상부 덮개(532)로부 터 분리된 본체(531)의 일부분을 처리 장치 프레임(51)으로부터 인출하여, 바닥면 상에서 수평 이동 가능한 구조물(601)에 그 저면을 올려 놓은 후, 본체(531)의 전체를 처리 장치 프레임(51)으로부터 인출하도록 하는 것도 무방하다.
청구항 1 내지 청구항 4의 발명에 의하면, 퇴피시 위치에서, 제1 지지 구조와는 독립한 제2 지지 구조에 의해서 소정 부재가 유지되기 때문에, 당해 소정 부재를 간결한 구조로 확실하게 지지 가능하다.
청구항 2의 발명에 의하면, 퇴피시킬 필요가 있는 부재만을 퇴피시 위치로 퇴피 가능하기 때문에, 처리실의 메인터넌스가 용이해진다.
청구항 3의 발명에 의하면, 기판 처리 장치가 복수의 처리실을 갖는 경우에도, 복수의 처리실의 각각을 구성하는 소정 부재를 간결한 구조로 확실하게 지지 가능하다.
청구항 4의 발명에 의하면, 작은 힘으로 소정 부재를 이동 가능해진다.
청구항 5 내지 청구항 8의 발명에 의하면, 처리실을 구성하는 복수의 부재 중 소정 부재를 제1 지지 구조의 외부로 이동 가능하기 때문에, 당해 소정 부재를 간결한 구조로 확실하게 지지 가능하고, 기판 처리 장치가 복수의 처리실을 갖는 경우에도, 소정 부재를 간결한 구조로 확실하게 지지 가능하다.
청구항 6의 발명에 의하면, 제2 지지 위치에서, 제1 지지 구조와는 독립한 제2 지지 구조에 의해서 소정 부재가 지지되기 때문에, 당해 소정 부재를 간결한 구조로 확실하게 지지 가능하다.
청구항 8의 발명에 의하면, 작은 힘으로 소정 부재를 이동 가능해진다.
삭제

Claims (8)

  1. 기판에 대해서 소정의 처리를 행하는 처리실을 갖는 기판 처리 장치로서,
    상기 처리실에서 기판에 대해서 처리를 행하는 경우의 위치인 처리시 위치에서, 상기 처리실을 구성하는 소정 부재를 지지하는 제1 지지 구조와,
    상기 처리시 위치와 다른 퇴피시 위치에서, 상기 제1 지지 구조와는 독립하여 상기 제1 지지 구조의 외부에서 상기 소정 부재를 지지하는 제2 지지 구조와,
    상기 처리시 위치와 상기 퇴피시 위치의 사이에서 상기 소정 부재를 이동시키는 이동 기구를 구비하고,
    상기 기판 처리 장치는, 복수의 상기 처리실을 갖고 있고,
    상기 제1 지지 구조 및 상기 제2 지지 구조는, 각각, 복수의 상기 처리실의 각각을 구성하는 상기 소정 부재를, 상기 소정 부재마다 정해진 상기 처리시 위치 및 상기 퇴피시 위치에서 지지하고,
    상기 이동 기구는, 상기 소정 부재를, 상기 소정 부재마다 정해진 상기 처리시 위치와 상기 퇴피시 위치의 사이에서 이동시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 기판에 대해서 소정의 처리를 행하는 처리실을 갖는 기판 처리 장치로서,
    상기 처리실을 구성하는 분리 가능한 복수의 부재를 지지하는 제1 지지 구조와,
    상기 복수의 부재 중 적어도 하나의 소정 부재를 상기 제1 지지 구조의 외부로 이동하는 이동 기구를 구비하고
    상기 기판 처리 장치는, 복수의 상기 처리실을 갖고 있고,
    상기 제1 지지 구조는, 복수의 상기 처리실의 각각을 구성하는 상기 소정 부재를 지지하고,
    상기 이동 기구는, 복수의 상기 처리실의 각각을 구성하는 상기 소정 부재를, 상기 제1 지지 구조의 외부로 이동하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제1 지지 구조와는 독립하여 상기 제1 지지 구조의 외부에서 상기 소정 부재를 지지하는 제2 지지 구조를 더 구비하고,
    상기 이동 기구는, 상기 제1 지지 구조에 의한 지지가 행해지는 제1 지지 위치와, 상기 제2 지지 구조에 의한 지지가 행해지는 제2 지지 위치의 사이에서, 상 기 소정 부재를 이동하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  7. 삭제
  8. 제6항에 있어서,
    상기 이동 기구는, 상기 제1 지지 위치와 상기 제2 지지 위치의 사이에서, 상기 소정 부재를 수평 이동시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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