JP3190691B2 - モジュラー処理システム、装置および方法 - Google Patents
モジュラー処理システム、装置および方法Info
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D59/00—Separation of different isotopes of the same chemical element
- B01D59/34—Separation by photochemical methods
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、ヴァキュームトラン
スファーキャスク、特に詳しくは、ヴァキュームプロセ
スにおけるモジュラー要素をトランスファー(移送)す
るヴァキュームキャスクの改良に関するものである。
スファーキャスク、特に詳しくは、ヴァキュームプロセ
スにおけるモジュラー要素をトランスファー(移送)す
るヴァキュームキャスクの改良に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、完全なヴァキュームまたは部分的
なヴァキュームを要求する各種のプロセスには、減圧さ
れたチャンバを使用するシステムが採用されている。ヴ
ァキュームチャンバを必要とする処理システムは、電子
マイクロスコープ、イオン−マイクロアナライザー、オ
イルのようなマテリアルを使用する処理または電子部品
や回路の製造等に採用されている。このようなヴァキュ
ームシステムは、例えば米国特許第3,340,146 号に開示
されている。また、ヴァキュームシステムは、各種の工
業処理や研究目的のために使用されている粒子加速器の
ような装置に関連する場合が多い。
なヴァキュームを要求する各種のプロセスには、減圧さ
れたチャンバを使用するシステムが採用されている。ヴ
ァキュームチャンバを必要とする処理システムは、電子
マイクロスコープ、イオン−マイクロアナライザー、オ
イルのようなマテリアルを使用する処理または電子部品
や回路の製造等に採用されている。このようなヴァキュ
ームシステムは、例えば米国特許第3,340,146 号に開示
されている。また、ヴァキュームシステムは、各種の工
業処理や研究目的のために使用されている粒子加速器の
ような装置に関連する場合が多い。
【0003】ウラニウム分離は、ヴァキュームプロセス
が利用される一分野でもある。米国特許第3,772,519 号
(1973年11月13日特許)に開示されているように、イオ
ン分離において、ウラニウム−235をU−238から
分離するため、長いチャンネル内で、レーザー刺激を行
い、ヴァキュームチャンバ内でU−235のイオン化が
行われ,ついで、放射状に形成された電極にイオン化さ
れたU−235を向けるクロスされた磁界と電界による
分離が行われ、U−238がヴァキュームチャンバの上
部に捕集される。
が利用される一分野でもある。米国特許第3,772,519 号
(1973年11月13日特許)に開示されているように、イオ
ン分離において、ウラニウム−235をU−238から
分離するため、長いチャンネル内で、レーザー刺激を行
い、ヴァキュームチャンバ内でU−235のイオン化が
行われ,ついで、放射状に形成された電極にイオン化さ
れたU−235を向けるクロスされた磁界と電界による
分離が行われ、U−238がヴァキュームチャンバの上
部に捕集される。
【0004】商業的に行われているプロセスにおいて
は、捕集したU−235を回収することのみならず、U
−238を含むもの(残滓)を回収することが重要とな
る。このためには、チャンネルの全長に亘るすべての部
分で、ヴァキュームチャンバの内部から電極受け構造体
と残滓構造の両者を定期的に取り除く必要がある。現在
使用されている装置においては、捕集構造のサイズと重
量とがチャンバ内部へアクセスするポートのサイズに較
べて、大きく、さらに、除去作業は、チャンバのヴァキ
ューム状態を維持しながら行わなくてはならないため、
前記のような定期的な除去作業は、実行できない。ま
た、前記除去作業は、チャンネルの長さにより極めて複
雑なものとなる。
は、捕集したU−235を回収することのみならず、U
−238を含むもの(残滓)を回収することが重要とな
る。このためには、チャンネルの全長に亘るすべての部
分で、ヴァキュームチャンバの内部から電極受け構造体
と残滓構造の両者を定期的に取り除く必要がある。現在
使用されている装置においては、捕集構造のサイズと重
量とがチャンバ内部へアクセスするポートのサイズに較
べて、大きく、さらに、除去作業は、チャンバのヴァキ
ューム状態を維持しながら行わなくてはならないため、
前記のような定期的な除去作業は、実行できない。ま
た、前記除去作業は、チャンネルの長さにより極めて複
雑なものとなる。
【0005】さらに、ベーポライザーアッセンブリーを
修理したり、交換したい場合、チャンバのヴァキューム
状態を維持しながら、そのような作業を行わなければな
らない。米国特許第3,489,298 号には、放射性物質のヴ
ァキュームチャンバに使用する移動可能なキャスク(放
射線を遮蔽できる素材からなる箱体)が開示されている
が、このキャスクは、小形で、適合部品がないため,ウ
ラニウムのエンリッチプロセスのベーポライザーアッセ
ンブリーやエクストラクタアッセンブリ−を除去した
り、支持したりする用途には向かない。レーザー同位体
分離に利用されているベーポライザーは、代表的なもの
としては、リニアのベーポライザーであるが、これは、
長過ぎて、ヴァキュームチャンバから取り出したり、交
換したりすることが極めて困難であるといった問題点が
ある。
修理したり、交換したい場合、チャンバのヴァキューム
状態を維持しながら、そのような作業を行わなければな
らない。米国特許第3,489,298 号には、放射性物質のヴ
ァキュームチャンバに使用する移動可能なキャスク(放
射線を遮蔽できる素材からなる箱体)が開示されている
が、このキャスクは、小形で、適合部品がないため,ウ
ラニウムのエンリッチプロセスのベーポライザーアッセ
ンブリーやエクストラクタアッセンブリ−を除去した
り、支持したりする用途には向かない。レーザー同位体
分離に利用されているベーポライザーは、代表的なもの
としては、リニアのベーポライザーであるが、これは、
長過ぎて、ヴァキュームチャンバから取り出したり、交
換したりすることが極めて困難であるといった問題点が
ある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、同位体分
離等の処理ヴァキューム状態で行う装置、例えば、同位
体分離を行うヴァキュームプロセス装置、特に軸方向に
長いチャンバを複数のモジュラーチャンバによる連結で
構成し、従来の技術で問題とされていた内部部品、構成
要素の交換、保守等の作業が簡単に、しかもシステムの
操業を中断することなく行えて、従来技術の課題を解決
するものである。
離等の処理ヴァキューム状態で行う装置、例えば、同位
体分離を行うヴァキュームプロセス装置、特に軸方向に
長いチャンバを複数のモジュラーチャンバによる連結で
構成し、従来の技術で問題とされていた内部部品、構成
要素の交換、保守等の作業が簡単に、しかもシステムの
操業を中断することなく行えて、従来技術の課題を解決
するものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】この発明は、前記のよう
なヴァキュームプロセス装置、特にレーザー同位体分離
システム(LIS)のためのベーパライゼーションとプ
ロダクト抽出アッセンブリーとして、モジュイラーチャ
ンバ内に配設したモジュラーコンポーネンツを組み合わ
せ、これによって、前記課題を解決するものである。
なヴァキュームプロセス装置、特にレーザー同位体分離
システム(LIS)のためのベーパライゼーションとプ
ロダクト抽出アッセンブリーとして、モジュイラーチャ
ンバ内に配設したモジュラーコンポーネンツを組み合わ
せ、これによって、前記課題を解決するものである。
【0008】前記したモジュラーチャンバは、内部を通
過するレーザービームの投射軸方向にそって互いに整列
された構成になっている。各モジュールチャンバは、横
方向に配列されたバルブ付きヴァキュームロックを有す
る。複数のモジュラーチャンバは、それぞれが集まって
軸方向に長い長方のヴァキュームチャンバを構成するの
で、その全長は、個々のモジュラーチャンバの長さの合
計である。ヴァキュームチャンバの個々のモジュール
は、エクストラクタアッセンブリー・トランスファーキ
ャスクとベーポライザーアッセンブリー・トランスファ
ーキャスクとを有し、これらキャスクは、それぞれヴァ
キュームロックと結合し、該ロックを介して数多くのア
タッチメントがチャンバ内に挿入されてレーザー同位体
分離プロセスを行う装置を構成している。
過するレーザービームの投射軸方向にそって互いに整列
された構成になっている。各モジュールチャンバは、横
方向に配列されたバルブ付きヴァキュームロックを有す
る。複数のモジュラーチャンバは、それぞれが集まって
軸方向に長い長方のヴァキュームチャンバを構成するの
で、その全長は、個々のモジュラーチャンバの長さの合
計である。ヴァキュームチャンバの個々のモジュール
は、エクストラクタアッセンブリー・トランスファーキ
ャスクとベーポライザーアッセンブリー・トランスファ
ーキャスクとを有し、これらキャスクは、それぞれヴァ
キュームロックと結合し、該ロックを介して数多くのア
タッチメントがチャンバ内に挿入されてレーザー同位体
分離プロセスを行う装置を構成している。
【0009】このように、ヴァキュームチャンバをモジ
ュラー化し、個々のモジュラーチャンバを集合してヴァ
キュームチャンバを構成させ、個々のモジュラーチャン
バは連結可能で、しかも独立構成とすることで、個々の
モジュラーチャンバの部品類の交換や修理などの手入れ
が他のモジュールチャンと関係なく行え、しかも全体の
プロセスラインにおける操業をヴァキューム状態を維持
しながら継続し、中断の必要があっても極めて短時間で
の中断ですむという作用、効果がある。
ュラー化し、個々のモジュラーチャンバを集合してヴァ
キュームチャンバを構成させ、個々のモジュラーチャン
バは連結可能で、しかも独立構成とすることで、個々の
モジュラーチャンバの部品類の交換や修理などの手入れ
が他のモジュールチャンと関係なく行え、しかも全体の
プロセスラインにおける操業をヴァキューム状態を維持
しながら継続し、中断の必要があっても極めて短時間で
の中断ですむという作用、効果がある。
【0010】個々のモジュラーユニットには、二つのト
ランスファーキャスクが付設され、その一つは、ベーポ
ライザーアッセンブリー用のもので、他の一つは、エク
ストラクタアッセンブリー用のものである。これらのト
ランスファーキャスクにより該モジュール内のヴァキュ
ームをロスさせることなく、ヴァキュームロックを介し
てベーポライザーアッセンブリーとエクストラクタアッ
センブリーとの除去が行える。
ランスファーキャスクが付設され、その一つは、ベーポ
ライザーアッセンブリー用のもので、他の一つは、エク
ストラクタアッセンブリー用のものである。これらのト
ランスファーキャスクにより該モジュール内のヴァキュ
ームをロスさせることなく、ヴァキュームロックを介し
てベーポライザーアッセンブリーとエクストラクタアッ
センブリーとの除去が行える。
【0011】エクストラクタを搬送するエクストラクタ
・トランスファーキャスクにおいては、該トランスファ
ーキャスクからバルブ付きヴァキュームロックを経てモ
ジュラーチャンバへ達する伸縮自由のアーム(プロー
ブ)の端部に各エクストラクタアッセンブリーがマウン
トされている。
・トランスファーキャスクにおいては、該トランスファ
ーキャスクからバルブ付きヴァキュームロックを経てモ
ジュラーチャンバへ達する伸縮自由のアーム(プロー
ブ)の端部に各エクストラクタアッセンブリーがマウン
トされている。
【0012】これらのアームは、前記アッセンブリーを
支持すると共に該アッセンブリーをキャスク内に移すこ
とができる。エクストラクタアッセンブリーの望ましい
寸法は、前記トランスファーキャスクのヴァキュームロ
ックの幅よりも大きな幅のものであるから、前記エクス
トラクタアッセンブリーを前記キャスクへそのままでは
移すことができない。フルサイズのエクストラクタアッ
センブリーを前記キャスクへ移すには、このエクストラ
クタアッセンブリーを二分割し、それぞれを前記アーム
により支持させる。同位体分離操作の間、前記した二分
割のエクストラクタアッセンブリー個々をサイドバイサ
イドの状態に整列させる。そしてエクストラクタアッセ
ンブリーをそれぞれのキャスクヘ移したいときは、エク
ストラクタアッセンブリーの半体の一方を持ち上げ、他
方の半体の上方に重ねるようにし二つの半体を支持した
アーム二本を後退させてキャスク内へ移動する。
支持すると共に該アッセンブリーをキャスク内に移すこ
とができる。エクストラクタアッセンブリーの望ましい
寸法は、前記トランスファーキャスクのヴァキュームロ
ックの幅よりも大きな幅のものであるから、前記エクス
トラクタアッセンブリーを前記キャスクへそのままでは
移すことができない。フルサイズのエクストラクタアッ
センブリーを前記キャスクへ移すには、このエクストラ
クタアッセンブリーを二分割し、それぞれを前記アーム
により支持させる。同位体分離操作の間、前記した二分
割のエクストラクタアッセンブリー個々をサイドバイサ
イドの状態に整列させる。そしてエクストラクタアッセ
ンブリーをそれぞれのキャスクヘ移したいときは、エク
ストラクタアッセンブリーの半体の一方を持ち上げ、他
方の半体の上方に重ねるようにし二つの半体を支持した
アーム二本を後退させてキャスク内へ移動する。
【0013】前記したエクストラクタアッセンブリー
は、モジュラーチャンバそれ自体とは別個のトランスフ
ァーキャスクと電気的接続、機械的接続関係ならびに液
体供給関係を保ちながら、ヴァキュームロック部分を介
して、モジュラーチャンバへの出入を行う。前記電気的
接続、機械的接続、液体供給接続関係は、すべて伸縮自
由のアーム(プローブ)を介してトランスファーキャス
クから行われる。他のキャスクから新しいエクストタク
タアッセンブリーが所定の位置へ運ばれると、このアッ
センブリーは、ヴァキュームチャンバへ移される迄の最
初の間は、重ねられた状態にある。そして、該アッセン
ブリーがヴァキュームチャンバ内へ移されるや、上位の
アッセンブリーは、下位のアッセンブリーに近接する位
置になるまで横方向へ動かされ、ついで各チャンバモジ
ュール内の位置整合レールヘ下降される。
は、モジュラーチャンバそれ自体とは別個のトランスフ
ァーキャスクと電気的接続、機械的接続関係ならびに液
体供給関係を保ちながら、ヴァキュームロック部分を介
して、モジュラーチャンバへの出入を行う。前記電気的
接続、機械的接続、液体供給接続関係は、すべて伸縮自
由のアーム(プローブ)を介してトランスファーキャス
クから行われる。他のキャスクから新しいエクストタク
タアッセンブリーが所定の位置へ運ばれると、このアッ
センブリーは、ヴァキュームチャンバへ移される迄の最
初の間は、重ねられた状態にある。そして、該アッセン
ブリーがヴァキュームチャンバ内へ移されるや、上位の
アッセンブリーは、下位のアッセンブリーに近接する位
置になるまで横方向へ動かされ、ついで各チャンバモジ
ュール内の位置整合レールヘ下降される。
【0014】個々のコンプリートなベーポライザーユニ
ットは、伸縮自由のアームの端部に吊り下げられ、該ア
ームは、ベーポライザーキャスクから伸びている。この
アームは、ベーポライザーアッセンブリーをヴァキュー
ムチャンバ内の操作位置からベーポライザートランスフ
ァーキャスク内の後退位置へ移動させるもので、回転運
動してベーポライザーユニットを傾け、このベーポライ
ザーユニットの所定の長さよりも幅が狭いトランスファ
ーキャスクへ移すことができるようにする。また、ベー
ポライザートランスファーキャスクは、必要に応じ、ベ
ーポライザーユニットの交換が行え、さらには、操作開
始に先立ち、各ベーポライザーユニットのフル調整とコ
ンディショニングとを行うことができ、これによって、
全ての電気的、機械的要素が満足に作動するかをチェッ
クすることができる。電子ビームのパワーや冷却媒体の
供給、動作用圧力油などの供給源も前記トランスファー
キャスク内に設けてあるか、また、これを経由するもの
で、これらのリード線や導管などもベーポライザーアッ
センブリーの延長、後退の間、パワートラック支持体に
よりキャリーされる。
ットは、伸縮自由のアームの端部に吊り下げられ、該ア
ームは、ベーポライザーキャスクから伸びている。この
アームは、ベーポライザーアッセンブリーをヴァキュー
ムチャンバ内の操作位置からベーポライザートランスフ
ァーキャスク内の後退位置へ移動させるもので、回転運
動してベーポライザーユニットを傾け、このベーポライ
ザーユニットの所定の長さよりも幅が狭いトランスファ
ーキャスクへ移すことができるようにする。また、ベー
ポライザートランスファーキャスクは、必要に応じ、ベ
ーポライザーユニットの交換が行え、さらには、操作開
始に先立ち、各ベーポライザーユニットのフル調整とコ
ンディショニングとを行うことができ、これによって、
全ての電気的、機械的要素が満足に作動するかをチェッ
クすることができる。電子ビームのパワーや冷却媒体の
供給、動作用圧力油などの供給源も前記トランスファー
キャスク内に設けてあるか、また、これを経由するもの
で、これらのリード線や導管などもベーポライザーアッ
センブリーの延長、後退の間、パワートラック支持体に
よりキャリーされる。
【0015】
【実施例】第1図と第2図に示す実施例において、レー
ザー・アイソトープ・セパレーション・プロセス(レー
ザー同位体分離法)のヴァキュームチャンバシステムを
示すものであり、該チャンバは、ほぼ長い長方形のヴァ
キュームチューブ10を有し、このチューブは、複数の
モジュール12を備えている。このレーザー同位体分離
(以下、LISと略記する)の方法は、長いチューブ1
0内で行われ、同様な操作については、米国特許第3,93
9,354 号、同第3,940,615 号、同特許出願第078,598 号
(1979年9 月19日出願)に開示されている。
ザー・アイソトープ・セパレーション・プロセス(レー
ザー同位体分離法)のヴァキュームチャンバシステムを
示すものであり、該チャンバは、ほぼ長い長方形のヴァ
キュームチューブ10を有し、このチューブは、複数の
モジュール12を備えている。このレーザー同位体分離
(以下、LISと略記する)の方法は、長いチューブ1
0内で行われ、同様な操作については、米国特許第3,93
9,354 号、同第3,940,615 号、同特許出願第078,598 号
(1979年9 月19日出願)に開示されている。
【0016】本発明においては、各モジュール12は、
その内部18がヴァキューム構成になっており、モジュ
ール12の内部18が集まってチューブ10を形成す
る。レーザー放射線(レーザー光線)は、チューブ10
の曲面15に沿ってチャンバ内部18を通過する。好適
な実施例においては、モジュール12は、軸の長さが約
1mで、各モジュールは、接合部で互いに接続してい
る。
その内部18がヴァキューム構成になっており、モジュ
ール12の内部18が集まってチューブ10を形成す
る。レーザー放射線(レーザー光線)は、チューブ10
の曲面15に沿ってチャンバ内部18を通過する。好適
な実施例においては、モジュール12は、軸の長さが約
1mで、各モジュールは、接合部で互いに接続してい
る。
【0017】各モジュール12は、第2図に示すよう
に、剛性のある隔離された基礎構造体48に支持され、
この基礎構造によって、チューブ10の軸15にそうレ
ーザービームの精密な位置を保つための高度の位置安定
性を有する。各モジュール12は、チャンバ内にベーポ
ライザーアッセンブリー30を内蔵する。このアッセン
ブリーは、モジュール12の側部にあるヴァキュームロ
ック17を介して、モジュール12のチャンバ内部18
のヴァキュームをロスさせることなくトランスファーキ
ャスク19へ吸引することによって代用される。
に、剛性のある隔離された基礎構造体48に支持され、
この基礎構造によって、チューブ10の軸15にそうレ
ーザービームの精密な位置を保つための高度の位置安定
性を有する。各モジュール12は、チャンバ内にベーポ
ライザーアッセンブリー30を内蔵する。このアッセン
ブリーは、モジュール12の側部にあるヴァキュームロ
ック17を介して、モジュール12のチャンバ内部18
のヴァキュームをロスさせることなくトランスファーキ
ャスク19へ吸引することによって代用される。
【0018】操作の間、ベーポライザーアッセンブリー
30と抽出アッセンブリー40は、両者共にモジュール
12の各種チャンバ18に配置されている。各ベーポラ
イザーアッセンブリー30は、坩堝22、リニアの電子
ビームガン24とベーパならびに熱シールド26を有す
る。複数のフィーダーチューブ34がモジュール12の
壁の開口を通りヴァキュームチャンバ18に達してい
る。フィーダーチューブ34は、ウラニウムの固体ロッ
ドを電子ビームのパスに沿いながら溶解させるため坩堝
22へ送り、さらに消費される固体ウラニウムを補充す
るもので、これについては、米国特許第4,262,160 号に
開示されている。フィーダーチューブの端部には、他の
ベーパー並びに熱シールド32が設けてある。
30と抽出アッセンブリー40は、両者共にモジュール
12の各種チャンバ18に配置されている。各ベーポラ
イザーアッセンブリー30は、坩堝22、リニアの電子
ビームガン24とベーパならびに熱シールド26を有す
る。複数のフィーダーチューブ34がモジュール12の
壁の開口を通りヴァキュームチャンバ18に達してい
る。フィーダーチューブ34は、ウラニウムの固体ロッ
ドを電子ビームのパスに沿いながら溶解させるため坩堝
22へ送り、さらに消費される固体ウラニウムを補充す
るもので、これについては、米国特許第4,262,160 号に
開示されている。フィーダーチューブの端部には、他の
ベーパー並びに熱シールド32が設けてある。
【0019】第2図に示すように、各チャンバ18のベ
ーポライザーアッセンブリーの直上には、抽出アッセン
ブリー40が配置してある。抽出アッセンブリー40
は、坩堝22を囲むように配置され、U−238のイオ
ンを集める電極構造体42を含む。円弧状で一部がシリ
ンドリカルな構造体43が電極構造体42の直上に配置
され、非イオン化U−238粒子を捕集する。アッセン
ブリー40は、高精度のレール支持体44に配設され、
この支持体44は、各モジュール44の互いに対向する
横側に沿って配置されている。レール44は、代表的な
例としては、モジュール12の壁49にそうフランジ5
0により支持されている水冷ビームからなる。壁49
は、基礎構造体48により支持されている。Vブロック
52レール支持体44にマウントされていて、Vブロッ
ク52に着座するピン53(第3図)を介してアッセン
ブリー40の位置決め精度を図る。Vブロック52は、
外部から調節でき、これによってアッセンブリー40の
三次元アライメントを行う。前記ブロックは、セラミッ
クのような非金属マテリアルからなり、アッセンブリー
40をモジュール12とベーポライザーアッセンブリー
30とから電気的に隔離する。
ーポライザーアッセンブリーの直上には、抽出アッセン
ブリー40が配置してある。抽出アッセンブリー40
は、坩堝22を囲むように配置され、U−238のイオ
ンを集める電極構造体42を含む。円弧状で一部がシリ
ンドリカルな構造体43が電極構造体42の直上に配置
され、非イオン化U−238粒子を捕集する。アッセン
ブリー40は、高精度のレール支持体44に配設され、
この支持体44は、各モジュール44の互いに対向する
横側に沿って配置されている。レール44は、代表的な
例としては、モジュール12の壁49にそうフランジ5
0により支持されている水冷ビームからなる。壁49
は、基礎構造体48により支持されている。Vブロック
52レール支持体44にマウントされていて、Vブロッ
ク52に着座するピン53(第3図)を介してアッセン
ブリー40の位置決め精度を図る。Vブロック52は、
外部から調節でき、これによってアッセンブリー40の
三次元アライメントを行う。前記ブロックは、セラミッ
クのような非金属マテリアルからなり、アッセンブリー
40をモジュール12とベーポライザーアッセンブリー
30とから電気的に隔離する。
【0020】装置14、そして、特にモジュラーユニッ
ト12に分割されているチューブ10と同様に、抽出ア
ッセンブリー40とベーポライザーアッセンブリー30
もモジュラー化されており、チューブ10おける他のユ
ニット12に関係なく、各モジュール12から取り出し
たり、サービスのため点検したりすることができる。
ト12に分割されているチューブ10と同様に、抽出ア
ッセンブリー40とベーポライザーアッセンブリー30
もモジュラー化されており、チューブ10おける他のユ
ニット12に関係なく、各モジュール12から取り出し
たり、サービスのため点検したりすることができる。
【0021】ヴァキュームトランスファーキャスクは、
各ユニット12の各ベーポライザーアッセンブリー30
または抽出アッセンブリーの点検、保守、交換のために
設けられている。各ベーポライザーアッセンブリー30
は、それぞれのヴァキュームトランスファーキャスク6
0と関連し、各抽出アッセンブリーも各自のヴァキュー
ムトランスファーキャスク130に関連している。キャ
スク60,130は、それぞれのヴァキュームゲートバ
ルブ72,74,126,128により各モジュール1
2の側面に一時的に接続されており、各チャンバ18の
ヴァキュームは操作の間、ならびに、抽出アッセンブリ
ーとベーポライザーアッセンブリーの取り出しの間、維
持される。
各ユニット12の各ベーポライザーアッセンブリー30
または抽出アッセンブリーの点検、保守、交換のために
設けられている。各ベーポライザーアッセンブリー30
は、それぞれのヴァキュームトランスファーキャスク6
0と関連し、各抽出アッセンブリーも各自のヴァキュー
ムトランスファーキャスク130に関連している。キャ
スク60,130は、それぞれのヴァキュームゲートバ
ルブ72,74,126,128により各モジュール1
2の側面に一時的に接続されており、各チャンバ18の
ヴァキュームは操作の間、ならびに、抽出アッセンブリ
ーとベーポライザーアッセンブリーの取り出しの間、維
持される。
【0022】チューブ10内に、モジュール12と内部
チャンバ18を介して、最適な連続した内部処理パスを
得るためには、抽出器(エクストラクター)とベーポラ
イザーとをチューブ10の端から端まで延在させること
が重要である。さらに、抽出器アッセンブリー40とベ
ーポライザーアッセンブリー30とを、それらが通過す
るヴァキュームロックと同じ軸長さにすることが重要で
ある。
チャンバ18を介して、最適な連続した内部処理パスを
得るためには、抽出器(エクストラクター)とベーポラ
イザーとをチューブ10の端から端まで延在させること
が重要である。さらに、抽出器アッセンブリー40とベ
ーポライザーアッセンブリー30とを、それらが通過す
るヴァキュームロックと同じ軸長さにすることが重要で
ある。
【0023】ベーポライザーアッセンブリーの場合、長
さ一杯のベーポライザーを得るにはベーポライザーアッ
センブリーを回転しキャスク60へ引くことにより達成
できこのプロセスと装置は、第2,7,8,9図を参照
しながら説明する。ベーポライザートランスファーキャ
スク60は、好ましくは可動で、レール62に沿って動
く車61付きのものである。キャスク60は、モジュー
ル12の外部に配置され、トランスファーキャスクゲー
トバルブ72の手段によってヴァキュームポート71に
おいて連結されている。前記バルブ72は、モジュール
12の他のゲートバルブ74と連結し、これによって、
キャスク60の内部とモジュール12の内部18とがヴ
ァキュームシールされる。ポンプ75と導管によりゲー
トバルブ74,72の間のポンプ作用が行われる。テレ
スコピックなアーム28がポート71を通りチャンバ1
8の内部に延びている。ベーポライザーアッセンブリー
30は、アーム28から下方へ延びているアーム76を
介して垂下し、アーム28の外方端部64は、キャスク
60の外方端面66に固定されている。支持バー70が
キャスク60の内部のトラック68に摺動自由に取り付
けられていて、チャンバ18内へ延びていることで、ア
ーム28の摺動支持体となる。ハイドロリック作動の傾
斜機構78がアーム28からベーポライザーアッセンブ
リー30へ延びている。他のハイドロリック作動の傾斜
機構84もガンン24にわたりベーパーシールド26を
るつぼ22へピボットさせる。シールド26のピボット
運動でポート71を介してアッセンブリー30が後退す
るもので、これについては、後記する。
さ一杯のベーポライザーを得るにはベーポライザーアッ
センブリーを回転しキャスク60へ引くことにより達成
できこのプロセスと装置は、第2,7,8,9図を参照
しながら説明する。ベーポライザートランスファーキャ
スク60は、好ましくは可動で、レール62に沿って動
く車61付きのものである。キャスク60は、モジュー
ル12の外部に配置され、トランスファーキャスクゲー
トバルブ72の手段によってヴァキュームポート71に
おいて連結されている。前記バルブ72は、モジュール
12の他のゲートバルブ74と連結し、これによって、
キャスク60の内部とモジュール12の内部18とがヴ
ァキュームシールされる。ポンプ75と導管によりゲー
トバルブ74,72の間のポンプ作用が行われる。テレ
スコピックなアーム28がポート71を通りチャンバ1
8の内部に延びている。ベーポライザーアッセンブリー
30は、アーム28から下方へ延びているアーム76を
介して垂下し、アーム28の外方端部64は、キャスク
60の外方端面66に固定されている。支持バー70が
キャスク60の内部のトラック68に摺動自由に取り付
けられていて、チャンバ18内へ延びていることで、ア
ーム28の摺動支持体となる。ハイドロリック作動の傾
斜機構78がアーム28からベーポライザーアッセンブ
リー30へ延びている。他のハイドロリック作動の傾斜
機構84もガンン24にわたりベーパーシールド26を
るつぼ22へピボットさせる。シールド26のピボット
運動でポート71を介してアッセンブリー30が後退す
るもので、これについては、後記する。
【0024】パワーサプライ80は、この例では、電子
ビームガン24の部材と共にキャスク60の下部に配置
されている。パワーサプライ80は、キャスク60のパ
ワーサプライ80からポート71を通る導管81に沿っ
て延びるフレキシブルなリード線により前記ガン24に
接続している。パワーサプライ80は、キャスク60の
外部に配置してもよく、これは、パワーサプライよりも
ベーポライザーアッセンブリーの方が交換頻度が高く、
補充が要求されるからである。ハイドロリックアクチュ
エータホース82がキャスク60からチャンバ12へ延
び、傾斜機構のハイドロリックシリンダを作動させる。
さらに、水の供給、戻しホース88がキャスク60から
ポート71を経てチャンバ18内へ入り、坩堝22を冷
却する。
ビームガン24の部材と共にキャスク60の下部に配置
されている。パワーサプライ80は、キャスク60のパ
ワーサプライ80からポート71を通る導管81に沿っ
て延びるフレキシブルなリード線により前記ガン24に
接続している。パワーサプライ80は、キャスク60の
外部に配置してもよく、これは、パワーサプライよりも
ベーポライザーアッセンブリーの方が交換頻度が高く、
補充が要求されるからである。ハイドロリックアクチュ
エータホース82がキャスク60からチャンバ12へ延
び、傾斜機構のハイドロリックシリンダを作動させる。
さらに、水の供給、戻しホース88がキャスク60から
ポート71を経てチャンバ18内へ入り、坩堝22を冷
却する。
【0025】チャンバ12のキャスク60と反対の側面
には、可動のアッセンブリー90が配置され、これは、
坩堝22へウラニウムを補充するために使用される。ア
ッセンブリー90は、フィーダーチューブ34を有する
ウラニウムフィーダーを備え、前記チューブは、るつぼ
22の軸長さにそってバルブ付きヴァキュームロック9
3を通りチャンバ18内へ延びる。複数のフィーダーラ
ム102が各フィーダーチューブ34に設けてある。フ
ィーダーマガジンシステム100により、ウラニウムフ
ィードロッドがチューブ34に供給される。各モジュー
ル12に、一つのチャンバ90が関連し、これは移動可
能で、レール62に沿って走行する車95を有する。
には、可動のアッセンブリー90が配置され、これは、
坩堝22へウラニウムを補充するために使用される。ア
ッセンブリー90は、フィーダーチューブ34を有する
ウラニウムフィーダーを備え、前記チューブは、るつぼ
22の軸長さにそってバルブ付きヴァキュームロック9
3を通りチャンバ18内へ延びる。複数のフィーダーラ
ム102が各フィーダーチューブ34に設けてある。フ
ィーダーマガジンシステム100により、ウラニウムフ
ィードロッドがチューブ34に供給される。各モジュー
ル12に、一つのチャンバ90が関連し、これは移動可
能で、レール62に沿って走行する車95を有する。
【0026】第7図から第9図には、チャンバ18内で
ベーポライザーアッセンブリー30を交換する方法が図
示されている。ベーポライザーアッセンブリー30は、
電子ビームガン24と他の部品のクリーニングと交換の
ために次から次へと取り除かれなければならない。モジ
ュール12からアッセンブリー30を除去する間、当該
モジュールのみをシャットダウンし、残りのモジュール
12は、これと関係なく、動作を継続する。さらに、ト
ランスファーキャスク60の内部は、又ヴァキュー状態
に維持されているから、チャンバ19内のヴァキューム
をロスすることなく、また、モジュール全部をシャット
ダウンすることなく、ベーポライザーアッセンブリー3
0の交換が簡単に行える。さらに、除去作業は、エクス
トラクタアッセンブリー40の下のレーザーパス15を
干渉しない。キャスク60からのベーパライゼーション
ファンクションを与えることで、選択したモジュールに
おけるオンラインスタートアップに先立ち、コンディシ
ョニングステーションにおいての各ベーポライザーアッ
センブリー30のテストと調整外のラインのテストを行
うことができる。これによって、すべての電気的機能、
ハイドロリック機能機械的機能が万全であることが判明
し、問題のあるベーポライザーアッセンブリーに対し、
不必要なシャットダウンを行わずにすむ。
ベーポライザーアッセンブリー30を交換する方法が図
示されている。ベーポライザーアッセンブリー30は、
電子ビームガン24と他の部品のクリーニングと交換の
ために次から次へと取り除かれなければならない。モジ
ュール12からアッセンブリー30を除去する間、当該
モジュールのみをシャットダウンし、残りのモジュール
12は、これと関係なく、動作を継続する。さらに、ト
ランスファーキャスク60の内部は、又ヴァキュー状態
に維持されているから、チャンバ19内のヴァキューム
をロスすることなく、また、モジュール全部をシャット
ダウンすることなく、ベーポライザーアッセンブリー3
0の交換が簡単に行える。さらに、除去作業は、エクス
トラクタアッセンブリー40の下のレーザーパス15を
干渉しない。キャスク60からのベーパライゼーション
ファンクションを与えることで、選択したモジュールに
おけるオンラインスタートアップに先立ち、コンディシ
ョニングステーションにおいての各ベーポライザーアッ
センブリー30のテストと調整外のラインのテストを行
うことができる。これによって、すべての電気的機能、
ハイドロリック機能機械的機能が万全であることが判明
し、問題のあるベーポライザーアッセンブリーに対し、
不必要なシャットダウンを行わずにすむ。
【0027】ベーポライザーアッセンブリーの坩堝22
は、各モジュールにおいて約1mの軸長を有する。ポー
ト71の幅は、数cm以下である。より短いポート71
から長い坩堝22を引き抜く場合の問題を無くすには、
坩堝22を傾ければよいが、これは、ポート71から引
き抜く前に、坩堝を水平位置または操作位置から45度
を僅かに越える程度に傾斜させる。坩堝22の内部のウ
ラニウムは、電子ビームエバポレータをシャットダウン
させれば直ちに硬化するから、坩堝を傾斜させたり、回
転させてもエバポラントは零れない。
は、各モジュールにおいて約1mの軸長を有する。ポー
ト71の幅は、数cm以下である。より短いポート71
から長い坩堝22を引き抜く場合の問題を無くすには、
坩堝22を傾ければよいが、これは、ポート71から引
き抜く前に、坩堝を水平位置または操作位置から45度
を僅かに越える程度に傾斜させる。坩堝22の内部のウ
ラニウムは、電子ビームエバポレータをシャットダウン
させれば直ちに硬化するから、坩堝を傾斜させたり、回
転させてもエバポラントは零れない。
【0028】第7図に示すように、第1ステップとして
は、先ずエバポレータアッセンブリー30を未だチャン
バ18内である第1の位置へ後退させる。この後退は、
ハイドロリック作動の伸縮自在アーム28により行わ
れ、さらに、これと同じ段階で、ハイドロリック機構8
4の作動によって、ガン24をカバーする水平位置へベ
ーパーと熱のシールド26をピボット回動させる(第7
図)。次のステップでは第8図に示すように、傾斜ハイ
ドロリックシリンダ78によりアーム79を動作してベ
ーポライザーアッセンブリー30をセンターポイントま
わりにピボット回動させる。第8図に示すように、ベー
パーと熱のシールド26は、第7図に示す位置に留ま
り、坩堝22のエッジに着座し、電子ビームガン24を
カバーする。傾斜シリンダ78によりベーパライザーア
ッセンブリは所定の角度に達するまで回動される。この
角度は、機械的ストッパにより定められる。ベーポライ
ザーアッセンブリー30は、ついでベーポライザートラ
ンスファーキャスク60内へ完全に後退させられるよう
になる。第9図に示すように、アーム28は、再びハイ
ドロリック作動され、ベーポライザーアッセンブリー3
0を完全にキャスク60内へ後退させる。
は、先ずエバポレータアッセンブリー30を未だチャン
バ18内である第1の位置へ後退させる。この後退は、
ハイドロリック作動の伸縮自在アーム28により行わ
れ、さらに、これと同じ段階で、ハイドロリック機構8
4の作動によって、ガン24をカバーする水平位置へベ
ーパーと熱のシールド26をピボット回動させる(第7
図)。次のステップでは第8図に示すように、傾斜ハイ
ドロリックシリンダ78によりアーム79を動作してベ
ーポライザーアッセンブリー30をセンターポイントま
わりにピボット回動させる。第8図に示すように、ベー
パーと熱のシールド26は、第7図に示す位置に留ま
り、坩堝22のエッジに着座し、電子ビームガン24を
カバーする。傾斜シリンダ78によりベーパライザーア
ッセンブリは所定の角度に達するまで回動される。この
角度は、機械的ストッパにより定められる。ベーポライ
ザーアッセンブリー30は、ついでベーポライザートラ
ンスファーキャスク60内へ完全に後退させられるよう
になる。第9図に示すように、アーム28は、再びハイ
ドロリック作動され、ベーポライザーアッセンブリー3
0を完全にキャスク60内へ後退させる。
【0029】第9図に示すように、ホース88,82
は,フレキシブルであるから、ベーポライザーアッセン
ブリー30がキャスク内へ後退するとき、キャスク60
の底部に這う。
は,フレキシブルであるから、ベーポライザーアッセン
ブリー30がキャスク内へ後退するとき、キャスク60
の底部に這う。
【0030】エクストラクタアセンブリー40を引くに
は、回転以外の手段が必要となる。これは、エクストラ
クタアッセンブリー40のサイズのためで、円弧部15
の回転における輻射への干渉が発生する。代表的な例で
は、エクストラクタアッセンブリー40は、二つの分離
できるアッセンブリー40A,40Bに分けられ(第1
図から第5図)、それぞれ半体になっていて、組み合わ
せられてアッセンブリー40となる。エクストラクタト
ランスファーキャスク130は、移動可能で、レール1
33に沿って走行する車131が付いている。アッセン
ブリー40Aは伸縮可能なテレスコピックなアーム12
0の内側端に配置され、アッセンブリー40は、伸縮可
能なテレスコピックなアーム122の内側端に配置され
ている。アーム120,122の両者は、ポート124
を通り、このポートを介してのアクセスは、モジュール
12のゲートバルブ126とキャスク130のゲートバ
ルブ128によりコントロールされる。バルブ126が
各モジュール12のそれぞれの横面に配置され、トラン
スファーキャスク130の対面する面に配置のトランス
ファーキャスクゲートバルブ128に連結し、キャスク
130とチャンバ内部18との間のヴァキュームシール
を維持し、また、分離したときのチャンバ内部18とキ
ャスク130のヴァキュームを維持する。
は、回転以外の手段が必要となる。これは、エクストラ
クタアッセンブリー40のサイズのためで、円弧部15
の回転における輻射への干渉が発生する。代表的な例で
は、エクストラクタアッセンブリー40は、二つの分離
できるアッセンブリー40A,40Bに分けられ(第1
図から第5図)、それぞれ半体になっていて、組み合わ
せられてアッセンブリー40となる。エクストラクタト
ランスファーキャスク130は、移動可能で、レール1
33に沿って走行する車131が付いている。アッセン
ブリー40Aは伸縮可能なテレスコピックなアーム12
0の内側端に配置され、アッセンブリー40は、伸縮可
能なテレスコピックなアーム122の内側端に配置され
ている。アーム120,122の両者は、ポート124
を通り、このポートを介してのアクセスは、モジュール
12のゲートバルブ126とキャスク130のゲートバ
ルブ128によりコントロールされる。バルブ126が
各モジュール12のそれぞれの横面に配置され、トラン
スファーキャスク130の対面する面に配置のトランス
ファーキャスクゲートバルブ128に連結し、キャスク
130とチャンバ内部18との間のヴァキュームシール
を維持し、また、分離したときのチャンバ内部18とキ
ャスク130のヴァキュームを維持する。
【0031】ポンプ手段75’と導管とが設けてあり、
バルブ126,128の間の開放前のポンプ作用を行
う。キャスク130には、アーム120がビームピボッ
ト132に、キャスク132には、アーム122がビー
ムピボット134に接続されている。ビームピボット1
32は、キャスク130の上壁136に回転自由に取り
付けられ、ビームピボット134は、キャスク130の
下壁140に回転自由に取り付けられた支持体138に
装着されている。アーム120,122は、第2図に示
すように、ピボット132,134まわりをそれぞれが
水平方向ならびに垂直方向へ回転できるようになってい
る。その水平回転は、ビーム回転ハイドロリックシリン
ダ142,144により行われ、これらシリンダは,そ
れぞれアーム120,122をアーム146,148を
介して駆動し、ピボット132,134まわりを水平回
転させる。アーム120,122の垂直方向への動き
は、ハイドロリックシリンダ150,152により制御
される。シリンダ152は、C形アーム153(第4
図)を有し、このアームで第3図に示すように、アッセ
ンブリー40A,40Bがキャスク130内に完全に納
められたとき、アーム153とアッセンブリー40Aの
間で干渉されずに、アーム120の下の位置へアーム1
22を回転させる。
バルブ126,128の間の開放前のポンプ作用を行
う。キャスク130には、アーム120がビームピボッ
ト132に、キャスク132には、アーム122がビー
ムピボット134に接続されている。ビームピボット1
32は、キャスク130の上壁136に回転自由に取り
付けられ、ビームピボット134は、キャスク130の
下壁140に回転自由に取り付けられた支持体138に
装着されている。アーム120,122は、第2図に示
すように、ピボット132,134まわりをそれぞれが
水平方向ならびに垂直方向へ回転できるようになってい
る。その水平回転は、ビーム回転ハイドロリックシリン
ダ142,144により行われ、これらシリンダは,そ
れぞれアーム120,122をアーム146,148を
介して駆動し、ピボット132,134まわりを水平回
転させる。アーム120,122の垂直方向への動き
は、ハイドロリックシリンダ150,152により制御
される。シリンダ152は、C形アーム153(第4
図)を有し、このアームで第3図に示すように、アッセ
ンブリー40A,40Bがキャスク130内に完全に納
められたとき、アーム153とアッセンブリー40Aの
間で干渉されずに、アーム120の下の位置へアーム1
22を回転させる。
【0032】クーラント、ハイドロリック、エクストラ
クションパワーラインと器具へのフレキシブルなリード
線は、トランスファーキャスク130内のルートを通
り、アーム120,1222の伸縮運動の間は、パワー
トラック支持体に支承されている。
クションパワーラインと器具へのフレキシブルなリード
線は、トランスファーキャスク130内のルートを通
り、アーム120,1222の伸縮運動の間は、パワー
トラック支持体に支承されている。
【0033】第6図にアーム120,122の代表的な
構造が示されている。各アーム120,122は、一端
にビームピボットが取り付けられる主ビーム156、中
間ビーム154、延長ビーム156の三つのセクション
からなる。これらビーム151,154,156は、断
面形状が好ましくは正方形または長方形であって、実質
的に同心の入り子構造になっている。これらビームは、
ローラーベアリング158により互いに軸方向に摺動す
るテレスコピック構造になっている。ビーム154,1
56には、それぞれ長溝160が全長に渡り形成され、
この溝にハイドロリックシリンダ150,152に接続
のアーム162が位置する。アーム162の端部には、
ボール164が位置し、主ビーム151に形成された凹
溝166にボール164が着座する。ボール164は、
溝166と主ビーム151との間に介在し、溝160に
形成された肩部168で抑止されている。アーム12
0.122は、テレスコピックなハイドロリックシリン
ダ170により駆動され、このシリンダは、ピボット1
32,134と延長ビーム156の先端との間に介在す
る。第3図に示すように、シリンダ170は,アーム1
20,122が後退したとき、主ビーム151内にある
ように配置されていることが好ましい。実際の操作にお
いて、アーム120,122を後退させるとき、ハイド
ロリックシリンダ170が後退し、延長ビーム156を
中間ビーム154へ引き、さらに、中間ビーム154と
延長ビーム156とを主ビーム151内へ後退させる。
このような状態になると、ビーム151のボール164
は、スロット160を介して凹溝166にある。アーム
120,122を伸ばすときには、ハイドロリックシリ
ンダ170が伸び、ビーム156を第2図右側へ移動
し、上記した手順と逆な手順でアームは、伸ばされる。
構造が示されている。各アーム120,122は、一端
にビームピボットが取り付けられる主ビーム156、中
間ビーム154、延長ビーム156の三つのセクション
からなる。これらビーム151,154,156は、断
面形状が好ましくは正方形または長方形であって、実質
的に同心の入り子構造になっている。これらビームは、
ローラーベアリング158により互いに軸方向に摺動す
るテレスコピック構造になっている。ビーム154,1
56には、それぞれ長溝160が全長に渡り形成され、
この溝にハイドロリックシリンダ150,152に接続
のアーム162が位置する。アーム162の端部には、
ボール164が位置し、主ビーム151に形成された凹
溝166にボール164が着座する。ボール164は、
溝166と主ビーム151との間に介在し、溝160に
形成された肩部168で抑止されている。アーム12
0.122は、テレスコピックなハイドロリックシリン
ダ170により駆動され、このシリンダは、ピボット1
32,134と延長ビーム156の先端との間に介在す
る。第3図に示すように、シリンダ170は,アーム1
20,122が後退したとき、主ビーム151内にある
ように配置されていることが好ましい。実際の操作にお
いて、アーム120,122を後退させるとき、ハイド
ロリックシリンダ170が後退し、延長ビーム156を
中間ビーム154へ引き、さらに、中間ビーム154と
延長ビーム156とを主ビーム151内へ後退させる。
このような状態になると、ビーム151のボール164
は、スロット160を介して凹溝166にある。アーム
120,122を伸ばすときには、ハイドロリックシリ
ンダ170が伸び、ビーム156を第2図右側へ移動
し、上記した手順と逆な手順でアームは、伸ばされる。
【0034】エクストラクタアッセンブリー40A,4
0Bは、アーム120,122の延長ビーム156から
垂下している。アッセンブリー40A,40Bは、それ
ぞれアーチ状の支持構造体45(第2図)を含み、この
支持構造体からシリンドリカルなプレート43と電極プ
レート42が垂下している。ピボットヒンジ180が延
長ビーム156から構造体45の外端へ伸びている。ヒ
ンジ180は、延長ビーム156と構造体45とにピボ
ット接続している。ピボットされたハイドロリックシリ
ンダ182は、それぞれの延長ビーム156にマウント
され、構造体45の内端部に取り付けられている。シリ
ンダ182は、ハイドロリック駆動によって、アッセン
ブリー40A,40Bを延長ビーム156に対しピボッ
トし、アーム120,122が上昇されたとき、アッセ
ンブリー40A又は40Bを水平状態に保つ。
0Bは、アーム120,122の延長ビーム156から
垂下している。アッセンブリー40A,40Bは、それ
ぞれアーチ状の支持構造体45(第2図)を含み、この
支持構造体からシリンドリカルなプレート43と電極プ
レート42が垂下している。ピボットヒンジ180が延
長ビーム156から構造体45の外端へ伸びている。ヒ
ンジ180は、延長ビーム156と構造体45とにピボ
ット接続している。ピボットされたハイドロリックシリ
ンダ182は、それぞれの延長ビーム156にマウント
され、構造体45の内端部に取り付けられている。シリ
ンダ182は、ハイドロリック駆動によって、アッセン
ブリー40A,40Bを延長ビーム156に対しピボッ
トし、アーム120,122が上昇されたとき、アッセ
ンブリー40A又は40Bを水平状態に保つ。
【0035】チャンバ18からエクストラクタアッセン
ブリー40を取り除きたいときは、シリンダ150を駆
動し、アッセンブリー40Aの全てがアーム122の上
に来るまで、アーム120を上昇する。次いで、シリン
ダ152を駆動し、アッセンブリー40Bがレール44
から持ち上げられ、領域115のブロックを防ぐに十分
な程度になるまで、アーム122を上昇させる。アッセ
ンブリー40A,40B両者の姿勢は、シリンダ182
により調節され、各アッセンブリーの構造体は、水平に
なる。ついでアーム120をピボット132まわりにビ
ーム回転シリンダ142により水平方向へ回転させ、ア
ッセンブリー40Aをバルブ126,128の間の開口
のセンターに位置させる。また回転シリンダ144を駆
動して、アーム122をピボット134まわりに水平方
向へ回転させ、これまた、アッセンブリー40Bをも同
様にセンタリングさせる。最後に、テレスコピックなハ
イドロリックシリンダ170を駆動し、アーム120,
122の延長ビーム156と中間ビーム154とを後退
させ、主ビーム153へ納める。アッセンブリー40
A,40Bがトランスファーキャスク130内に完全に
入るまで,そして、延長ビーム156が第3図、第5図
に示すように、主ビーム153に重なり合うまで、アー
ム120,122は、後退させられる。
ブリー40を取り除きたいときは、シリンダ150を駆
動し、アッセンブリー40Aの全てがアーム122の上
に来るまで、アーム120を上昇する。次いで、シリン
ダ152を駆動し、アッセンブリー40Bがレール44
から持ち上げられ、領域115のブロックを防ぐに十分
な程度になるまで、アーム122を上昇させる。アッセ
ンブリー40A,40B両者の姿勢は、シリンダ182
により調節され、各アッセンブリーの構造体は、水平に
なる。ついでアーム120をピボット132まわりにビ
ーム回転シリンダ142により水平方向へ回転させ、ア
ッセンブリー40Aをバルブ126,128の間の開口
のセンターに位置させる。また回転シリンダ144を駆
動して、アーム122をピボット134まわりに水平方
向へ回転させ、これまた、アッセンブリー40Bをも同
様にセンタリングさせる。最後に、テレスコピックなハ
イドロリックシリンダ170を駆動し、アーム120,
122の延長ビーム156と中間ビーム154とを後退
させ、主ビーム153へ納める。アッセンブリー40
A,40Bがトランスファーキャスク130内に完全に
入るまで,そして、延長ビーム156が第3図、第5図
に示すように、主ビーム153に重なり合うまで、アー
ム120,122は、後退させられる。
【0036】トランスファーキャスク130が一つの位
置から他の位置へ移動する間、そしてトランスファーキ
ャスク130がトランスファーキャスクゲートバルブ1
28とモジュールゲートバルブ126とによりモジュー
ル12と結合する間、アッセンブリー40A,40B
は、第3,4,5図に示すように、互いに重なり合う。
ビームピボット132,134は、第2図に示すよう
に、キャスク130の中心にあり、ピボット132は、
ピボット134の直上にある。レール44上にあるとき
は、アッセンブリー40A,40Bは、互いに完全に平
行に整合していなければならないから、ビーム156
は、それぞれのアッセンブリー40A,40Bに対し角
度をもって配置され、第5図に示すように、鋭角をな
す。このように、アッセンブリー40A,40Bが重な
り、ビーム156が平行であると、アッセンブリー40
Aは、アッセンブリー40Bに対し鋭角をなす。
置から他の位置へ移動する間、そしてトランスファーキ
ャスク130がトランスファーキャスクゲートバルブ1
28とモジュールゲートバルブ126とによりモジュー
ル12と結合する間、アッセンブリー40A,40B
は、第3,4,5図に示すように、互いに重なり合う。
ビームピボット132,134は、第2図に示すよう
に、キャスク130の中心にあり、ピボット132は、
ピボット134の直上にある。レール44上にあるとき
は、アッセンブリー40A,40Bは、互いに完全に平
行に整合していなければならないから、ビーム156
は、それぞれのアッセンブリー40A,40Bに対し角
度をもって配置され、第5図に示すように、鋭角をな
す。このように、アッセンブリー40A,40Bが重な
り、ビーム156が平行であると、アッセンブリー40
Aは、アッセンブリー40Bに対し鋭角をなす。
【0037】モジュール12のチャンバ18に新しいエ
クストラクタアッセンブリー40を配設したい場合は、
前記の手順を逆行すればよい。トランスファーキャスク
130がモジュール12に近接しておかれ、キャスクゲ
ートバルブ128とモジュールゲートバルブ126との
間がシールされれば、バルブ126とバルブ128との
間の領域がポンプ75’の作用で排気され、前記両ゲー
トは、開放され、アーム120,122は、重なり合っ
た状態のアッセンブリー40A,40Bとともにチャン
バ18に向け、所定の距離分延びる。つぎに、アーム1
20,122はピボット132,134まわりを水平回
動し、アーム120は、アッセンブリー40A,40B
が互いに近接してレール44の上に位置するまで、下げ
られる。ついで、アーム120,122は、アッセンブ
リー40A,40Bがレール44に着座するまで、共に
下げられる。ついで、Vブロック52を外部から操作
し、レール4上のアッセンブリー40A,40Bを精度
よく整合させる。このVブロック52により、アーム1
20,122の位置決めに要求される精度が高まる。こ
れは、アーム120,122が単にアッセンブリー40
A,40Bをレール44に着座させるだけであるが、V
ブロック52は、キャスク130とアーム120,12
2との位置を精度よく決める作用をなす。このような一
連の操作により、エクストラクタ40の下側のレーザー
光線領域のパスには、一切の障害物が存在せず、連続操
作が可能となる。
クストラクタアッセンブリー40を配設したい場合は、
前記の手順を逆行すればよい。トランスファーキャスク
130がモジュール12に近接しておかれ、キャスクゲ
ートバルブ128とモジュールゲートバルブ126との
間がシールされれば、バルブ126とバルブ128との
間の領域がポンプ75’の作用で排気され、前記両ゲー
トは、開放され、アーム120,122は、重なり合っ
た状態のアッセンブリー40A,40Bとともにチャン
バ18に向け、所定の距離分延びる。つぎに、アーム1
20,122はピボット132,134まわりを水平回
動し、アーム120は、アッセンブリー40A,40B
が互いに近接してレール44の上に位置するまで、下げ
られる。ついで、アーム120,122は、アッセンブ
リー40A,40Bがレール44に着座するまで、共に
下げられる。ついで、Vブロック52を外部から操作
し、レール4上のアッセンブリー40A,40Bを精度
よく整合させる。このVブロック52により、アーム1
20,122の位置決めに要求される精度が高まる。こ
れは、アーム120,122が単にアッセンブリー40
A,40Bをレール44に着座させるだけであるが、V
ブロック52は、キャスク130とアーム120,12
2との位置を精度よく決める作用をなす。このような一
連の操作により、エクストラクタ40の下側のレーザー
光線領域のパスには、一切の障害物が存在せず、連続操
作が可能となる。
【0038】このような操作を自動化するには、ハイド
ロリックコントローラ135によりシリンダ142,1
44,150,152をコントロールし、さらに、イオ
ン抽出のため、アッセンブリー40A,40Bの電気パ
ワー・エクストラクタープレートにエクズキューション
・ソース137を設ける。
ロリックコントローラ135によりシリンダ142,1
44,150,152をコントロールし、さらに、イオ
ン抽出のため、アッセンブリー40A,40Bの電気パ
ワー・エクストラクタープレートにエクズキューション
・ソース137を設ける。
【0039】ベーポライザーアッセンブリーにおいて
は、エクストラクタアッセンブリーはクリーニングの目
的と、デポジットされたウラニウムを回収するために、
順次交換しなければならない。また、エクストラクタア
ッセンブリーの交換は、個々のモジュールにおいて、プ
ロセス全体を停止せず、また、そのモジュールのヴァキ
ュームのロスなしに行える。このようなエクストラクタ
アッセンブリーの交換の手順は、第10図から第16図
に示されている。エクストラクタアッセンブリー40
は、レール44に着座し、右側のキャスク130からポ
ート124を通り伸びているアーム120,122から
ルーズに吊り支されている。ベーポライザートランスフ
ァーキャスク60は、エクストラクタアッセンブリート
ランスファーキャスク130の直下にあり、移動可能の
アッセンブリー90は、キャスク60と対向している。
他のエクストラクターアッセンブリーキャスク130
は、重なったエクストラクタアッセンブリー40A’,
40B’の空のセットを有し、左側に位置して、モジュ
ール12のチャンバ18内へインサートされる態勢にな
っている。キャスク130の内部は、ヴァキューム状態
で、そのトランスファーキャスクゲート128とモジュ
ールゲートバルブ126の両者は、クローズドの状態に
あり、これによって、ゲートバルブプレート127,1
29を介してのキャスク130の内部は、有効にシール
される。
は、エクストラクタアッセンブリーはクリーニングの目
的と、デポジットされたウラニウムを回収するために、
順次交換しなければならない。また、エクストラクタア
ッセンブリーの交換は、個々のモジュールにおいて、プ
ロセス全体を停止せず、また、そのモジュールのヴァキ
ュームのロスなしに行える。このようなエクストラクタ
アッセンブリーの交換の手順は、第10図から第16図
に示されている。エクストラクタアッセンブリー40
は、レール44に着座し、右側のキャスク130からポ
ート124を通り伸びているアーム120,122から
ルーズに吊り支されている。ベーポライザートランスフ
ァーキャスク60は、エクストラクタアッセンブリート
ランスファーキャスク130の直下にあり、移動可能の
アッセンブリー90は、キャスク60と対向している。
他のエクストラクターアッセンブリーキャスク130
は、重なったエクストラクタアッセンブリー40A’,
40B’の空のセットを有し、左側に位置して、モジュ
ール12のチャンバ18内へインサートされる態勢にな
っている。キャスク130の内部は、ヴァキューム状態
で、そのトランスファーキャスクゲート128とモジュ
ールゲートバルブ126の両者は、クローズドの状態に
あり、これによって、ゲートバルブプレート127,1
29を介してのキャスク130の内部は、有効にシール
される。
【0040】第11図は、モジュール12におけるエク
トラクタアッセンブリーの交換状態を示し、閉止状態に
ある。エクストラクタアッセンブリー40Aは、チャン
バ18内でエクストラクタアッセンブリー40Bの上に
重なり、両者共にキャスク130から伸びているアーム
120,122により支持されている。この時点では左
右のキャスク130のトランスファーキャスクバルブ1
28とモジュールゲートバルブ126は、両者共にオー
プンの状態である。かくして、左右のトランスファーキ
ャスク130の内部は、ヴァキューム状態であって、チ
ャンバ18の内部と連通している。第11図から第13
図におけるベーパー化が中断されている間、ベーポライ
ザートランスファーキャスク60のチャンバゲートバル
ブ74とトランスファーキャスクバルブ72およびチャ
ンバ18とは、それぞれオープン状態にある。
トラクタアッセンブリーの交換状態を示し、閉止状態に
ある。エクストラクタアッセンブリー40Aは、チャン
バ18内でエクストラクタアッセンブリー40Bの上に
重なり、両者共にキャスク130から伸びているアーム
120,122により支持されている。この時点では左
右のキャスク130のトランスファーキャスクバルブ1
28とモジュールゲートバルブ126は、両者共にオー
プンの状態である。かくして、左右のトランスファーキ
ャスク130の内部は、ヴァキューム状態であって、チ
ャンバ18の内部と連通している。第11図から第13
図におけるベーパー化が中断されている間、ベーポライ
ザートランスファーキャスク60のチャンバゲートバル
ブ74とトランスファーキャスクバルブ72およびチャ
ンバ18とは、それぞれオープン状態にある。
【0041】第12図において、アッセンブリー40
A,40Bは、重ねられた状態で右手のトランスファー
キャスク130ヘ後退される。両キャスク130におけ
るトランスファーキャスクゲートバルブ128とモジュ
ーゲートバルブ126とは、オープン位置に留まる。つ
ぎのステップでは、第13図に示すように、左手のキャ
スク130のアーム120,122が伸び、その結果エ
クストラクタアッセンブリー40A,40Bは、重なり
合った状態でチャンバ18内にある。すべてのモジュー
ルゲートバルブ126とトランスファーキャスクゲート
バルブ128とはオープンの状態に留まるが、重なり合
ったアッセンブリー40A,40Bをもつ右手のキャス
ク130は、モジュール12に連結したままである。
A,40Bは、重ねられた状態で右手のトランスファー
キャスク130ヘ後退される。両キャスク130におけ
るトランスファーキャスクゲートバルブ128とモジュ
ーゲートバルブ126とは、オープン位置に留まる。つ
ぎのステップでは、第13図に示すように、左手のキャ
スク130のアーム120,122が伸び、その結果エ
クストラクタアッセンブリー40A,40Bは、重なり
合った状態でチャンバ18内にある。すべてのモジュー
ルゲートバルブ126とトランスファーキャスクゲート
バルブ128とはオープンの状態に留まるが、重なり合
ったアッセンブリー40A,40Bをもつ右手のキャス
ク130は、モジュール12に連結したままである。
【0042】次のステップでは、第14図に示すよう
に、左手のキャスク130のエクストラクタアッセンブ
リー40A,40Bは、重ならず、互いにレール44上
にあるが、右手のモジュールゲートバルブ126とトラ
ンスファーキャスクゲート128は、閉止されている。
右手のトランスファーキャスク130は、モジュール1
2にある。
に、左手のキャスク130のエクストラクタアッセンブ
リー40A,40Bは、重ならず、互いにレール44上
にあるが、右手のモジュールゲートバルブ126とトラ
ンスファーキャスクゲート128は、閉止されている。
右手のトランスファーキャスク130は、モジュール1
2にある。
【0043】ベーポライザーアッセンブリー30は、モ
ジュール12のフル操作のために準備段階にある。次の
ステップでは、第15図に示すように、右手のトランス
ファーキャスク130がモジュール12から右手のオー
バーヘッドコンヤーシステム220ヘ移動される。つい
でモジュール12は、完全な操作状態に置かれ、このよ
うな状態は、数時間継続する。一方、オーバーヘッドコ
ンベヤシステム220は、処理物を有するエクストラク
タアッセンブリー40と共に右手のトランファーキャス
ク130を分解ステーションヘ移す。その後、空のエク
ストラクタアッセンブリー40を持つ別のトランスファ
ーキャスク130がトラック133に乗せられてモジュ
ール12の右側に案内され、モジュール12と共にヴァ
キュームロックされ(第16図)、左側のキャスク13
0への移行に備える。
ジュール12のフル操作のために準備段階にある。次の
ステップでは、第15図に示すように、右手のトランス
ファーキャスク130がモジュール12から右手のオー
バーヘッドコンヤーシステム220ヘ移動される。つい
でモジュール12は、完全な操作状態に置かれ、このよ
うな状態は、数時間継続する。一方、オーバーヘッドコ
ンベヤシステム220は、処理物を有するエクストラク
タアッセンブリー40と共に右手のトランファーキャス
ク130を分解ステーションヘ移す。その後、空のエク
ストラクタアッセンブリー40を持つ別のトランスファ
ーキャスク130がトラック133に乗せられてモジュ
ール12の右側に案内され、モジュール12と共にヴァ
キュームロックされ(第16図)、左側のキャスク13
0への移行に備える。
【0044】モジュールがシャットダウン(閉止)され
ている間、何時でも必要に応じ補修または交換のためベ
ーポライザーアッセンブリー30または交換アッセンブ
リー90を右側遠くへ取り除くことができる。この点
は、前記した通りである。
ている間、何時でも必要に応じ補修または交換のためベ
ーポライザーアッセンブリー30または交換アッセンブ
リー90を右側遠くへ取り除くことができる。この点
は、前記した通りである。
【0045】前記実施例は、アイソトープの分離技術
に、この発明を実施した例について説明したが、この発
明は、ヴァキューム状態での処理に適用できる。前記実
施例は、この発明を限定するものではない。
に、この発明を実施した例について説明したが、この発
明は、ヴァキューム状態での処理に適用できる。前記実
施例は、この発明を限定するものではない。
【0046】
【発明の効果】この発明は、前記のように、特定の雰囲
気、例えば、ヴァキューム状態での操作処理が必要なプ
ロセスを実行するに当り、処理チャンバにマテリアルを
供給したり、部品の交換、修理等を行う場合、該プロセ
スの操作を中断したり、特定の雰囲気を損なわずに、そ
のような作業、操作が行えるものである。
気、例えば、ヴァキューム状態での操作処理が必要なプ
ロセスを実行するに当り、処理チャンバにマテリアルを
供給したり、部品の交換、修理等を行う場合、該プロセ
スの操作を中断したり、特定の雰囲気を損なわずに、そ
のような作業、操作が行えるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明における一連のモジュラーチャンバと
関連したエクストラクタアッセンブリーの一部切断平面
図である。
関連したエクストラクタアッセンブリーの一部切断平面
図である。
【図2】この発明におけるレーザー照射軸にそった一つ
のモジュラーユニットの内部説明図である。
のモジュラーユニットの内部説明図である。
【図3】レーザー軸にそったエクストラクタアッセンブ
リーのヴァキュームトランスファーキャスクの一部切断
側面図で、後退位置におけるエクストラクタアッセンブ
リーを点線で示したもの。
リーのヴァキュームトランスファーキャスクの一部切断
側面図で、後退位置におけるエクストラクタアッセンブ
リーを点線で示したもの。
【図4】第3図4−4線にそう内部の断面図である。
【図5】内部を示す第3図のキャスクの平面図である。
【図6】第3図4−4線にそった引き込み状態にある伸
縮自由のアームの断面図である。
縮自由のアームの断面図である。
【図7】アームが部分的に引き込んだ状態における第2
図のベーポライザーアッセンブリーの内部の説明図であ
る。
図のベーポライザーアッセンブリーの内部の説明図であ
る。
【図8】後退過程にあって、回転した状態にある第2図
のベーポライザーの状態を示す説明図である。
のベーポライザーの状態を示す説明図である。
【図9】完全に後退し、回転した状態にある第2図のベ
ーポライザーの状態を示す説明図である。
ーポライザーの状態を示す説明図である。
【図10】操作状況下にある、モジュラーキャスクとチ
ャンバシステムの動作を示す説明図である。
ャンバシステムの動作を示す説明図である。
【図11】重ねたエクストラクタアッセンブリーを引き
込ませた状態を示す部分的にシャットダウンの状態にあ
るモジュラーキャスクとチャンバシステムの説明図であ
る。
込ませた状態を示す部分的にシャットダウンの状態にあ
るモジュラーキャスクとチャンバシステムの説明図であ
る。
【図12】後退位置にあるエクストラクタアッセンブリ
ーを示すモジュラーキャスクとチャンバシステムの説明
図である。
ーを示すモジュラーキャスクとチャンバシステムの説明
図である。
【図13】重ねた状態でユニットへインサートされた新
しいエクストラクタアッセンブリーを示すモジュラーキ
ャスクとチャンバシステムの説明図である。
しいエクストラクタアッセンブリーを示すモジュラーキ
ャスクとチャンバシステムの説明図である。
【図14】新しいエクストラクタアッセンブリーによっ
て操作開始の状態にあるモジュラーキャスクとチャンバ
システムの説明図である。
て操作開始の状態にあるモジュラーキャスクとチャンバ
システムの説明図である。
【図15】つぎの処理のために取り除いた使用したばか
りのエクストタクタアッセンブリーをもつ完全な操作状
態下にあるモジュラーキャスクとチャンバシステムの動
作説明図である。
りのエクストタクタアッセンブリーをもつ完全な操作状
態下にあるモジュラーキャスクとチャンバシステムの動
作説明図である。
【図16】前記ユニットが操作の段階にある間、挿入の
準備段階にある空の別のエクストラクタアッセンブリー
を示すモジュラーキャスクとチャンバシステムの動作説
明図である。
準備段階にある空の別のエクストラクタアッセンブリー
を示すモジュラーキャスクとチャンバシステムの動作説
明図である。
10 チューブ 12 モジュール 15 チューブの軸 18 モジュールの内部 17 ヴァキュームロック 19 トランスファーキャスク 30 ベーポライザーアッセンブリー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B01D 59/34 B01J 3/00 B01J 3/02
Claims (40)
- 【請求項1】 所定の雰囲気でマテリアル処理手段を支
持するモジュラー処理装置であって、 軸方向に分割された少なくとも一つの内部処理領域を有
する軸方向に長いエンクロージャーであって、前記エン
クロージャーから隔離された状態で所定の雰囲気を有す
る手段を備え、前記少なくとも一つの内部処理領域は、
少なくとも一つのアクセスポートを有するエンクロージ
ャー;それぞれが 内部処理領域に設けられたマテリアル処理手
段と、ポートとを有する複数の移動可能なトランスファ
ーキャスク; 前記キャスクまたは前記エンクロージャーのいずれかに
関連し、前記キャスクを前記エンクロージャーのアクセ
スポートに接続し、かつ、前記所定の雰囲気を含む手
段; 前記キャスクに関連し、前記エンクロージャーの内部処
理領域に対して前記キャスク内部を交互に閉止および開
放するための手段; 前記トランスファーキャスクの内部にあって、前記マテ
リアル処理手段を該キャスク内へ収容し、または、前記
エンクロージャーの内部処理領域へ前記処理手段を延長
させるための収容および延長手段を備えることを特徴と
する装置。 - 【請求項2】 前記収容および延長手段が少なくとも一
つの延長可能なアームである請求項1の装置。 - 【請求項3】 前記マテリアル処理手段の各々が前記ア
ームの少なくとも一つのものの端部に配置されている請
求項2の装置。 - 【請求項4】 前記エンクロージャーの内部で前記処理
手段を受け、関連した処理領域で前記処理手段を所定の
配列にする装着手段を含む請求項3の装置。 - 【請求項5】 前記エンクロージャーの雰囲気がヴァキ
ュームである請求項1の装置。 - 【請求項6】 操作パワーを前記キャスクから前記処理
手段へ与える手段であって、前記トランスファーキャス
クそれぞれと関連している手段を備えている請求項4の
装置。 - 【請求項7】 前記処理手段が前記エンクロージャーの
アクセスポートの軸方向開口よりも軸方向で長い請求項
1の装置。 - 【請求項8】 前記処理手段を回転させて前記エンクロ
ージャーのアクセスポートを通過させるための、前記収
容および延長手段と関連する手段を含む請求項7の装
置。 - 【請求項9】 前記処理手段は、軸方向に分割された少
なくとも二つの処理手段部分を含み、前記延長手段は、
各処理手段部分に対するアームと、前記二つの処理手段
部分を前記ポートを通過させるために重ね合わせた状態
で配置するように前記アームを制御するための手段とを
有している請求項7の装置。 - 【請求項10】 前記閉止および開放するための手段が
前記キャスクのポートと関連するゲートバルブと、前記
エンクロージャーに関連するゲートバルブと、前記ゲー
トバルブ間の領域を減圧するポンプ手段とを有している
請求項1,2,3,4,5,6,7,8または9の装
置。 - 【請求項11】 所定の雰囲気でマテリアル処理装置を
含むポート付きエンクロージャーと選択的に係合し、前
記処理装置の少なくとも一部を、離間した分離可能なユ
ニットから前記エンクロージャーへ与えるモジュラー処
理システムであって、 前記所定の雰囲気を有する密閉可能な内部チャンバを構
成するキャスク; 前記キャスクの一方の側面に配置されたポート; 前記エンクロージャーのポートと関連し、前記エンクロ
ージャーのポートと協同して前記キャスクとエンクロー
ジャーとの間に開口を形成するか、前記キャスク内に前
記雰囲気を封止するバルブ手段; 前記キャスクと関連し、前記キャスク内から前記処理装
置の前記一部を支持して、前記開口を介して前記キャス
ク内と前記エンクロージャー内への選択的封じ込みを行
うための支持手段を備えることを特徴とするシステム。 - 【請求項12】 前記選択的封じ込み手段が延長可能な
アームである請求項11のシステム。 - 【請求項13】 前記処理装置の一部が前記延長可能な
アームの末端部に固定されている請求項12のシステ
ム。 - 【請求項14】 前記延長可能なアームは、伸縮自在な
構造であり、また前記処理装置の一部を伸縮させて前記
キャスク内で操作を行わせ、また、後退させるハイドロ
リック手段を備えている請求項13のシステム。 - 【請求項15】 前記キャスクから前記装置の一部まで
伸び、冷却媒体と電気パワーとを供給するフレキシブル
な手段を含む請求項14のシステム。 - 【請求項16】 前記装置の一部を回転させて前記開口
を通過させる手段を含む前記キャスクを有する請求項1
1のシステム。 - 【請求項17】 前記装置の一部が電子ビームエバポレ
ータを有する請求項16のシステム。 - 【請求項18】 前記エバポレータが正常では固体であ
るマテリアルを含む坩堝を含む請求項17のシステム。 - 【請求項19】 前記エバポレータと関連するシールド
と、前記シールドを前記エバポレータを越えて傾斜さ
せ、前記キャスクのポートを通過させる手段とを有する
請求項17のシステム。 - 【請求項20】 前記処理装置の一部が前記エンクロー
ジャー内にあるときは互いに近接して横配置された複数
のセクションを含み、前記支持手段が前記セクションを
積み上げて前記開口から移し出したり、または、前記キ
ャスク内へ封じ込めたりする手段を含む請求項11のシ
ステム。 - 【請求項21】 前記支持手段が前記セクションのそれ
ぞれに対して延長可能なアームを有する請求項20のシ
ステム。 - 【請求項22】 前記セクションのそれぞれは、関連し
た延長可能なアームの末端に取り付けられている請求項
21のシステム。 - 【請求項23】 前記延長可能なアームのそれぞれは、
伸縮自在であって、前記アームを液圧で作動し前記セク
ションを前記キャスク内で重ねた状態で操作する、前記
キャスクに関連した手段が設けてある請求項21のシス
テム。 - 【請求項24】 前記セクションのそれぞれを前記キャ
スク内から電気的に励起する手段を含む請求項23のシ
ステム。 - 【請求項25】 前記セクションのそれぞれがイオン抽
出システムを含む請求項20のシステム。 - 【請求項26】 前記エンクロージャーにおける各セク
ションが前記エンクロージャーにおいて所定の配列とな
るようにする装着手段を含む請求項25のシステム。 - 【請求項27】 前記装着手段を調節して前記セクショ
ンの配列を変える手段を含む請求項26のシステム。 - 【請求項28】 前記キャスク内における隣接関係にあ
る前記セクションの横寸法よりも前記キャスクポートの
横寸法が狭い請求項20のシステム。 - 【請求項29】 レーザー同位体分離の手段における、
モジュラー化され、交換可能であるベーポライザーなら
びにエクストラクターを含むモジュラー処理装置であっ
て、 互いに軸方向に隣接されて配置されて互いに相互接続す
る複数のモジュラーユニットから構成され、内部にヴァ
キュームチャンバを有し、それぞれのモジュラーユニッ
トが複数のアクセスポートを有している軸方向に長いエ
ンクロージャー;それぞれが前記モジュラーユニットの前記アクセスポー
トの一つと関連するように適用される 複数のヴァキュー
ムキャスクであって、それぞれがその一方の側面に配置
されたポートを有し、関連するモジュラーユニットのポ
ートと連結して、連結した部分との間にシールされた開
口を形成するヴァキュームキャスク; 前記ヴァキュームキャスクのそれぞれに関連し、前記ヴ
ァキュームキャスクポートと前記アクセスポートの開口
を介して関連のモジュラーユニットに出入する支持手
段; 第1のヴァキュームキャスクと関連し、支持手段に固定
されて関連するキャスクまたはモジュラーユニットのい
ずれかに封じ込まれるベーポライザーアッセンブリーで
あって、操作の段階で、前記関連のモジュラーユニット
内でマテリアルをベーポライズする手段を含むベーポラ
イザーアッセンブリー;そして第2のヴァキュームキャ
スクと関連し、支持手段に固定されて関連するキャスク
またはモジュラーユニットのいずれかに封じ込まれ、さ
らに、操作の段階で関連モジュラーユニット内でベーポ
ライズされたマテリアルを受ける手段を有するエクスト
ラクタアッセンブリーを備えることを特徴とする装置。 - 【請求項30】 前記エクストラクタアッセンブリーを
受ける前記モジュラー内の手段であって、前記エクスト
ラクタアッセンブリーを所定の配列にする手段を含む請
求項29の装置。 - 【請求項31】 前記モジュラーユニット内で前記ベー
ポライザーアッセンブリーを回転させる手段を備えてい
る請求項29の装置。 - 【請求項32】 前記支持手段を伸縮させて関連のベー
ポライザーアッセンブリーを回転させた後に関連のヴァ
キュームキャスクに移す手段を備えている請求項31の
装置。 - 【請求項33】 前記エクストラクタアッセンブリーの
それぞれが二つのセグメントを含み、これらセグメント
のそれぞれが前記支持手段の分離されたものに固定され
ている請求項29の装置。 - 【請求項34】 前記二つのセグメントを縦方向に積み
上げて前記アクセスポートを通して引き抜くことができ
るようにする手段を備えている請求項33の装置。 - 【請求項35】 積まれたエクストラクタアッセンブリ
ーそれぞれに関連した前記支持手段を伸縮させて、これ
を関連のアクセスポートを通して関連のキャスクヘ移す
手段を備えた請求項34の装置。 - 【請求項36】 キャスクを関連のモジュラーユニット
へ移動させ、またそこから移動させる手段を含む請求項
29の装置。 - 【請求項37】 前記モジュラーユニットのそれぞれに
関連し、前記エンクロージャーのアクセスポートを介し
てマテリアルを前記ベーポライザーアッセンブリーヘ補
充する取り外し可能なマテリアルフィーダー手段を備え
ている請求項29の装置。 - 【請求項38】 長さ方向に長く形成され、複数の相互
に隣接して接続配置されたモジュラーユニットからな
り、モジュラーユニットのそれぞれが少なくとも一つの
アクセスポートを有するヴァキュームエンクロージャ
ー; 複数のモジュラーセクションからなり、前記セクション
のそれぞれは、前記モジュラーユニットの一つに配設さ
れ、そして前記アクセスポートの長さ方向の寸法よりも
長い長さ方向の寸法を有するヴァキューム処理手段; 複数のトランスファーキャスクであって、前記トランス
ファーキャスタのそれぞれが前記アクセスポートの一つ
と前記モジュラーセクションの一つに関連しているヴァ
キュームトランスファーキャスク;を有する処理システムにおいて、 前記モジュラーセクシ
ョンの一つを関連したアクセスポートから取り除くモジ
ュラー処理方法であって、 前記セクションを前記関連のアクセスポートの方へ所定
の距離だけ後退させるステップ; 前記モジュラーセクションを関連のアクセスポートの面
に垂直な軸回りを所定の角度回転させるステップ;およ
び前記モジュラーユニットを回転させながら関連のアク
セスポートから引き抜き、関連のトランスファーキャス
クヘ移すステップとを備えることを特徴とする方法。 - 【請求項39】 長さ方向に長く形成され、複数の相互
に隣接して接続配置されたモジュラーユニットからな
り、モジュラーユニットのそれぞれが少なくとも一つの
アクセスポートを有するヴァキュームエンクロージャ
ー;長さ方向に区分された 複数のモジュラーセクションから
なり、前記セクションのそれぞれは、前記モジュラーユ
ニットの一つに配設され、そして前記アクセスポートの
長さ方向の寸法よりも長い長さ方向の寸法を有するヴァ
キューム処理手段; 複数のトランスファーキャスクであって、前記トランス
ファーキャスクのそれぞれが前記アクセスポートの一つ
と前記モジュラーセクションの一つに関連しているヴァ
キュームトランスファーキャスク;を有するヴァキューム処理システムにおいて、 前記モジ
ュラーセクションの一つを関連したアクセスポートを通
して引き抜くモジュラー処理方法であって、 一方のセグメントを他方のセグメントに重ねるステッ
プ; 前記重ね合わせたセグメントを関連のアクセスポートに
おいてセンターが合うまで横方向へずらせるステップ;
および前記セグメントを重ね合わせた状態で関連のアク
セスポートを通して関連のトランスファーキャスクへ引
き抜くステップとを備えることを特徴とする方法。 - 【請求項40】 それぞれが互いに隣接されて整列され
て長いヴァキュームチャンバを構成する複数のモジュラ
ーユニットからなる長さ方向に長いエンクロージャーで
あって、これらモジュラーユニットのそれぞれが互いに
対向して設けられた第1および第2のアクセスポート
と、前記第1および第2のアクセスポートの下側に配置
された第3のアクセスポートとを有するエンクロージャ
ー;それぞれがバルブ付きポートを有している 複数のヴァキ
ュームトランスファーキャスクであって、第1のトラン
スファーキャスクが第1のアクセスポートに接続されて
いる複数のヴァキュームトランスファーキャスク;各 モジュラーユニットと関連するエクストラクタアッセ
ンブリーであって、それぞれが前記トランスファーキャ
スクのそれぞれと関連する二つのエクストラクタアッセ
ンブリーセクションを有するエクストラクタアッセンブ
リー; 前記エクストラクタアッセンブリーを関連のトランスフ
ァーキャスクから機械的且つ操作可能に支持するリトラ
クタブルな支持手段; 前記第1および第2のアクセスポートに対し前記各トラ
ンスファーキャスクを出入させる手段; 前記モジュラーユニット内にあって、前記エクストラク
タアッセンブリーセクションを受け、支持し、且つ整合
させる整合手段; 前記第1、第2および第3のアクセスポートのそれぞれ
に関連し、前記ヴァキュームキャスクのポートに接続す
るために適用されるバルブ手段; 前記モジュラーユニットのそれぞれに関連するベーポラ
イザーアッセンブリーであって、それぞれが前記トラン
ファーキャスクの異なる一つに関連し、またトランスフ
ァーキャスクのポートを介して前記第3のアクセスポー
トに隣接して配置され、且つ接続されているベーポライ
ザーアッセンブリー;および前記ベーポライザーアッセ
ンブリーを関連のトランスファーキャスクから機械的且
つ操作可能に支持するリトラクタブルな支持手段;を有するレーザー同位体分離システムにおいて、 前記エ
クストラクタアッセンブリーをシステムの操作を中断す
ることなく交換するモジュラー処理方法であって、 空の重なり合ったエクストラクタアッセンブリーセクシ
ョンを含む第2のトランスファーキャスクを前記第2の
アクセスポートに接続するステップ; 前記エクストラクタアッセンブリーセクションを前記整
合手段から引き上げるステップ; 前記第1のトランスファーキャスクの前記セクションの
一つを前記エクストラクタアッセンブリーの前記セクシ
ョンの他方の上に持ち上げるステップ; 前記第1のトランスファーキャスクのエクストラクタア
ッセンブリーの前記セグメントを互いに重ね合わすステ
ップ; 前記第1のトランスファーキャスクのエクストラクタア
ッセンブリーの前記支持手段を第1のトランスファーキ
ャスクヘ後退させ、エクストラクタアッセンブリーを重
ねた状態でトランスファーキャスクヘ引き込むステッ
プ; エクストラクタアッセンブリーを重ねた状態で前記第2
のトランスファーキャスクから前記モジュラーユニット
ヘ延長させるステップ; 前記第2のトランスファーキャスクのエクストラクタア
ッセンブリーのセクションの重ねた状態を解除するステ
ップ; 前記第2のトランスファーキャスクのエクストラクタア
ッセンブリーの前記重ねた状態が解除されたセクション
を互いに近接した状態で前記整合手段へ降下させるステ
ップ; 前記ベーポライザーアッセンブリーの操作を開始するス
テップ; 前記第1のトランスファーキャスクを前記モジュラーユ
ニットの前記第1のアクセスポートから離脱させるステ
ップ; 前記第1のトランスファーキャスクを前記モジュラーユ
ニットから分解ステーションヘ移送するステップ;およ
び第3のトランファーキャスクを前記第1のアクセスポ
ートヘ結合するステップとを備えることを特徴とする方
法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/450816 | 1989-12-14 | ||
US07/450,816 US5085410A (en) | 1989-12-14 | 1989-12-14 | Modular processing system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06142459A JPH06142459A (ja) | 1994-05-24 |
JP3190691B2 true JP3190691B2 (ja) | 2001-07-23 |
Family
ID=23789602
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP41093690A Expired - Fee Related JP3190691B2 (ja) | 1989-12-14 | 1990-12-14 | モジュラー処理システム、装置および方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5085410A (ja) |
JP (1) | JP3190691B2 (ja) |
FR (1) | FR2656543B1 (ja) |
GB (1) | GB2239346B (ja) |
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JPH0354319B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |