KR100656230B1 - 테이블 장치, 성막 장치, 광학 소자, 반도체 소자 및 전자기기 - Google Patents

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Abstract

기판(100)을 흡착 유지하는 테이블 장치(40)로서, 다공체로 이루어지는 기판 흡착면을 갖는 흡착부(43)와, 상기 흡착부의 상기 기판 흡착면 위에 배치되고 또한 지락된 도전막(44)을 구비하고 있다.
기판, 흡착, 테이블, 다공체, 흡착부, 도전막.

Description

테이블 장치, 성막 장치, 광학 소자, 반도체 소자 및 전자 기기{TABLE DEVICE, FILM-FORMING APPARATUS, OPTICAL ELEMENT, SEMICONDUCTOR ELEMENT, AND ELECTRONIC APPARATUS}
도 1은 성막 장치의 구성도.
도 2는 잉크젯식 헤드의 분해 사시도.
도 3은 잉크젯식 헤드의 주요부의 사시도 일부 단면도.
도 4는 잉크젯식 헤드 및 흡착 테이블의 제전 방법을 나타낸 도면.
도 5의 (a) 내지 도 5의 (c)는 발광 재료의 토출 및 성막 공정을 나타낸 도면.
도 6은 전기 광학 장치를 나타낸 도면.
도 7은 전자 기기를 나타낸 도면.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
1 : 성막 장치
20 : 잉크젯식 헤드
30 : 탱크
40 : 테이블 장치
41 : 테이블 구동부(이동 장치)
43 : 흡착 테이블(흡착부)
44 : 도전층
100 : 기판
121, 122, 123 : 발광층
260 : 대전 방지용 커버
261 : 개구부
500 : 전기 광학 장치
600 : 전자 기기
K : 발광 재료(액상 재료)
본 발명은 전자 기기 등의 제조 공정에 이용되고, 가요성을 가진 기판을 흡착, 유지하는 흡착 테이블에 관한 것이다.
액정 디스플레이보다 더 얇은 표시 장치를 만들 수 있는 유기 EL(일렉트로루미네선스)소자가 차세대 기술로서 주목되고 있다. 부드러운 플라스틱 위에 유기 EL 소자를 배열하면, 종이와 같이 얇게 굽힐 수 있는 표시 장치로 하는 것도 가능하다. 그리고 유기 EL(일렉트로루미네선스)표시 장치나 TAB(Tape Automated Bonding)의 제조에서는 테이블 장치 위에 탑재된 기판 등에 대하여, 잉크젯 기술에 의해 발광 재료, 도전 재료 등의 액체방울을 토출하여 발광층이나 회로 패턴을 형 성하는 기술이 이용되고 있다. 이 때 기판 등을 테이블 장치에 유지하기 위하여 테이블 장치를 다공체(多孔體) 등으로 구성하고, 테이블 장치에 형성된 공공(空孔)으로부터 기판을 흡인하여 유지하는 것이 일반적으로 행해지고 있다.
이와 같이 잉크젯 기술을 공업용으로 이용하는 경우에는 유동체를 토출하는 노즐(헤드)과 기판 등의 거리를 가정용 등의 프린터의 경우에 비해서 근접시킬 필요가 있고, 또 테이블 장치를 구성하는 다공체가 비금속인 점에서 테이블 장치 등이 현저하게 대전(帶電)한다고 하는 문제가 있었다. 축적된 정전기가 방전되면 기판에 형성한 전자 회로를 파괴하거나 유동체에 포함되는 가연성의 용매 등에 착화(着火)하거나 하는 위험이 있다. 이러한 문제를 해결하기 위하여 이오나이저(io-nizer)라고 불리는 정전기 제거 장치를 설치하는 기술이나 도전성을 가진 소재를 이용하여 테이블 장치를 구성하여 대전(帶電)을 방지하는 기술이 있다.
그렇지만 정전기 제거 장치에서는 제전(除電) 능력이 충분하지 않은 경우가 있다. 또한 후자의 기술은 반도체 웨이퍼 등의 비교적 경질(硬質)인 기판을 유지하는 것을 목적으로 하기 때문에 테이블 장치에 형성되는 공공의 구멍 직경이 비교적 크고, 그 때문에 얇은 플라스틱이나 필름 형상의 가요성을 갖는 기판, 이른바 플렉시블 기판을 흡착하면 기판에 흡착 흔적이 남기 쉬웠다. 플렉시블 기판에 흡착 흔적이 남으면 발광층 등의 성막(成膜)이나 건조에 큰 영향을 주어 균일한 층을 형성하는 것이 곤란하게 되어 발광 편차가 생기거나 회로 패턴이 단락(短絡)되거나 하는 문제가 있다.
본 발명은 이러한 사정을 감안하여 이루어진 것으로써, 잉크젯 기술을 이용하여 기판에 성막 등을 행할 때에 이용되는 흡착 테이블에 있어서, 대전을 방지함과 동시에 기판으로의 흡인 흔적의 발생을 방지하는 흡착 테이블을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 따른 테이블 장치, 성막 장치, 광학 소자, 반도체 소자 및 전자 기기에서는, 상기 과제를 해결하기 위하여 이하의 수단을 채용했다.
제 1 발명은 기판을 흡착 유지하는 테이블 장치로서, 다공체로 이루어지는 기판 흡착면을 갖는 흡착부와, 상기 흡착부의 상기 기판 흡착면 위에 배치되고 또한 지락(地絡)된 도전막을 구비한 테이블 장치를 제공한다.
이 발명에 의하면 기판이 대전해도 테이블 장치의 표면에 형성된 도전막이 접지되어 있으므로 정전기는 지중(地中)으로 방전되어 기판 위에 형성된 회로 등을 손상시키거나 기판 위에 도포된 가연성 용매에 착화하거나 하는 것이 방지된다.
상기 흡착부는 세라믹스 다공체(多孔體)이어도 좋다. 이 경우 세라믹 다공체는 공공(空孔)율이 높고 미세한 공공을 구비하므로 테이블 장치 위에 탑재된 기판을 균일하게 흡착할 수 있고, 또한 부(不)도전체인 세라믹스라 하더라도 도전체가 피막(皮膜)됨으로써 제전(除電)이 가능해진다.
상기 기판이 가요성을 갖고 흡착 흔적이 남기 쉬운 기판이라 하더라도, 미세한 공공을 구비하는 테이블 장치에 흡착됨으로써 흡착 흔적을 남기지 않고 양호하게 흡착된다.
제 2 발명은 가요성을 갖는 기판에 액상 재료를 토출하여 상기 기판 위에 박 막을 형성하는 성막 장치로서, 상기 제 1 발명에 따른 테이블 장치와, 상기 기판을 향하여 상기 액상 재료를 토출하는 잉크젯식 헤드와, 상기 잉크젯식 헤드를 덮거나 지락(地絡)된 대전 방지용 커버와, 상기 테이블 장치와 상기 잉크젯식 헤드를 상대 이동시키는 이동 장치를 구비한 성막 장치를 제공한다.
이 발명에 의하면 기판에 흡인 흔적을 남기지 않고 또한 기판 위에 액상 재료의 박막을 형성했을 때에 정전기의 축적이 방지되어 있으므로, 기판에 성막된 층이 균일하게 되고 또한 형성된 회로 등이 파괴되지 않기 때문에 고품질의 제품을 제조할 수 있다.
상기 대전 방지용 커버는 잉크젯식 헤드에 있어서의 기판에 대향하는 면을 노출시키는 개구부를 구비하고 있어도 좋다. 이 경우 잉크젯식 헤드와 기판의 거리를 근접해 설치할 수 있으므로 잉크젯식 헤드로부터 토출되는 액상 재료의 착탄 정밀도를 향상시킬 수 있어 고정밀도의 제품을 제조할 수 있다.
제 3 발명은 상기 제 2 발명에 따른 성막 장치에 의해 형성된 발광층을 구비한 전기 광학 장치를 제공한다.
이 발명에 의하면 발광층이 균일하게 성막되므로, 고정세밀(高精細密) 화소의 디스플레이 등의 전기 광학 장치를 제조할 수 있다.
제 4 발명은 제 3 발명에 따른 전기 광학 장치를 구비한 전자 기기를 제공한다.
이 발명에 의하면 고정밀 화소의 디스플레이를 표시 수단으로서 구비하므로 표시 수단의 표시가 보기 쉽고 선명한 전기 기기를 제조할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 성막 장치(1)를 나타내는 모식도이다. 성막 장치(1)는 잉크젯 방식을 이용하여 액체방울을 토출하여 막을 형성시키는 것으로, 잉크젯식 헤드(20), 탱크(30), 테이블 장치(40) 및 제어 장치(50)를 구비한다.
또한 본 발명에서 이용되는 기판(100)은 얇은 플라스틱이나 필름 형상의 가요성을 갖는 기판, 이른바 플렉시블 기판이며, 테이블 장치(40) 위에 탑재되고 잉크젯식 헤드(20)로부터 토출된 액체방울 등이 착탄되어 발광층이나 도전층 등이 성막된다.
또한 기판(100)의 재료로서는 폴리 올레핀, 폴리 에스테르, 폴리 아크릴 레이트, 폴리 카보네이트, 폴리 에테르 술폰, 폴리 에테르 케톤 등의 플라스틱 등의 투명 재료가 채용 가능하다.
잉크젯식 헤드(20)(21 ~ 2n: n은 임의의 자연수)는 각각 동일한 구조를 구비하고 잉크젯 방식에 의해 각각 액체방울(D)을 토출 가능하다. 도 2는 잉크젯식 헤드(20)의 일 구성례를 설명하는 분해 사시도이다. 도 2에 나타내는 바와 같이 잉크젯식 헤드(20)는 노즐(211)이 설치된 노즐 플레이트(210) 및 진동판(230)이 설치된 압력실 기판(220)을 케이싱(250)에 장착한 구성을 구비한다. 이 잉크젯식 헤드(20)의 주요부 구조는 도 3의 사시도 일부 단면도에 나타내는 것처럼, 압력실 기판(220)을 노즐 플레이트(210)와 진동판(230)에 끼운 구조를 구비한다. 노즐 플레이트(210)는 압력실 기판(220)과 접합되었을 때에 캐비티(221)에 대응하게 되는 위치에 노즐(211)이 형성된다. 압력실 기판(220)에는 실리콘 단결정 기판 등을 에칭함으로써 각각이 압력실로서 기능 가능하게 캐비티(221)가 복수 설치되어 있다. 캐비티(221) 사이는 측벽(격벽)(222)으로 분리되어 있다. 각 캐비티(221)는 공급구(224)를 통하여 공통 유로인 리졸버(223)에 연결되어 있다. 진동판(230)은 예를 들면 열 산화층 등에 의해 구성된다. 진동판(230)에는 잉크 탱크구(口)(231)가 설치되고, 탱크(30)로부터 임의의 유동체(10)를 공급 가능하게 구성되어 있다. 진동판(230) 위의 캐비티(221)에 상당하는 위치에는 압전체 소자(240)가 형성되어 있다. 압전체 소자(240)는 PZT 소자 등의 압전성 세라믹스 결정을 상부 전극 및 하부 전극(도시 생략)에 끼운 구조를 구비한다. 압전체 소자(240)는 제어 장치(50)로부터 공급되는 토출 신호(Sh)에 대응하여 체적 변화를 발생시킨다.
또한 상기 잉크젯식 헤드(20)는 압전체 소자(240)에 체적 변화를 발생하게 하여 액체방울(D)을 토출시키는 구성으로 제한하지 않고, 발열체에 의해 유동체(10)에 열을 가해 그 팽창에 의해서 액체방울(D)을 토출시키는 것과 같은 헤드 구성이라도 좋다.
도 1로 되돌아와 탱크(30)(31 ~ 3n)는 각각 유동체(10)(11 ~ 1n)를 저장하고 파이프를 통하여 유동체(10)를 잉크젯식 헤드(20)로 공급한다. 유동체(10)는 발광 재료(액상 재료)(K)를 포함한다. 발광 재료(K)는 예를 들어 유기 재료이며, 저분자의 유기 재료로서 알루미늄 퀴놀린 착체(錯體)(Alq3)가 있고 고분자의 유기 재료로서 폴리 파라 페닐렌 비닐렌(PPV)이 있다. 어느 경우에도 유동체(10)는 잉크젯식 헤드(20)로부터 액체방울(D)로서 토출 가능한 유동성을 나타내도록 용매 등으로 점도(粘度)가 조정되는 경우가 있다.
테이블 장치(40)는 테이블 구동부(이동 장치)(41), 위치 계측부(42), 흡착 테이블(흡착부)(43)로 구성되고, 기판(100)을 흡착 유지함과 동시에 X 방향, Y 방향으로 이동시킨다. 그리고 테이블 장치(40)는 제어 장치(50)로부터의 구동 신호(Sx)에 따라 테이블 구동부(41)에 의해 구동되어 탑재된 기판(100)을 X 방향으로 반송한다. 마찬가지로 구동 신호(Sy)에 따라 기판(100)을 Y 방향으로 반송한다. 또한 위치 계측부(42)는 테이블 장치(40) 위에 탑재한 기판(100)의 위치(X 방향 및 Y 방향)로 대응한 신호를 제어 장치(50)로 보낸다. 그리고 그 신호에 따라 제어 장치(50)가 기판(100)의 위치를 제어한다.
제어 장치(50)는 예를 들면 컴퓨터 장치이며 CPU, 메모리, 인터페이스 회로 등(모두 도시 생략)을 구비한다. 제어 장치(50)는 소정의 프로그램을 실행함으로써 성막 장치(1)에 발광 재료(K)를 포함하는 유동체(10)의 토출을 실시시킨다. 즉 유동체(10)를 토출시키는 경우에는 잉크젯식 헤드(20)로 토출 신호(Sh)를 보내고, 그리고 테이블 장치(40)를 이동시키는 경우에는 테이블 구동부(41)에 구동 신호(Sx 또는 Sy)를 보낸다.
도 4는 잉크젯식 헤드(20) 및 흡착 테이블(43)의 제전 방법을 나타내는 도면이다. 잉크젯식 헤드(20)는 대전 방지용 커버(260)에 의해 덮힌다. 대전 방지용 커버(260)는 도전체, 즉 철, 동, 알루미늄 등의 금속 또는 탄화물 등으로 구성된다. 또한 잉크젯식 헤드(20)는 흡착 테이블(43) 위에 흡착된 기판(100)에서 약 100 ~ 1000 μm 정도의 거리로 이간하도록 설치된다. 잉크젯식 헤드(20)와 기판(100)의 거리를 접근 시켜서, 액체방울(D)의 착탄 정밀도를 향상시키기 위한 것이다. 따라서 잉크젯식 헤드(20)의 하면(下面)(기판(100)에 접근하는)은 대전 방지용 커버(260)로 덮지 않고 개구부(261)를 설치하여 개방하고, 잉크젯식 헤드(20)와 기판(100)을 상기의 간격으로 접근 가능하게 하고 있다. 그리고 대전 방지용 커버(260)에는 어스(earth)선(262)이 접속되어 접지된다.
흡착 테이블(43)은 기판(100)을 흡착 유지하기 위하여 다공질체로 이루어진 소재에 의해 형성된다. 그리고 흡착 테이블(43)은 흡인 펌프(도시 생략)에 연결되고, 흡착 테이블(43)로 형성된 구멍으로부터 공기가 흡인되어 흡착 테이블(43) 위에 탑재된 기판(100)을 흡착 유지한다. 다공질체로 이루어진 소재로서는, 예를 들어 세라믹스 다공체가 있다. 세라믹스 다공질체는 기공율(氣孔率)이 높고, 평균 세공(細孔) 직경이 10 ~ 50 μm 정도의 연속된 공공(空孔)을 갖도록 형성할 수 있다. 제조 방법으로서, 고온 반응을 사용하기 때문에 고융점 세라믹스의 일부가 용융되어 세라믹끼리 융착한 특이한 3차원 그물눈(網目) 구조를 나타낸다. 고온 반응에 의해 매끄러운 벽면을 갖는 세공이 연결되는 결과, 흡인 펌프에 연결함으로써 흡착 테이블(43)로서 이용 가능해진다. 재료로서 사용되는 세라믹스의 대부분은 산화물이며, 그 대부분은 반도체나 절연체이기 때문에 세라믹스 다공체는 절연체가 된다. 또한 세라믹스 다공체는 경량, 단열, 흡음, 물질의 흡착, 분리, 선택적 투과성 따위의 다양한 기능을 갖고, 또한 세라믹스가 갖는 내열성, 내약품성 등의 성질과 더불어 다양한 용도로 적용되고 있고, 또한 세라믹스 다공체로서의 성능은 구멍의 형상, 구멍의 직경, 구멍 직경의 분포 상황 등에 의해 정해지기 때문에, 이들을 제어함으로써 더욱 폭넓은 응용 전개가 가능하다. 게다가 흡착 테이블(43)의 표면(기판(100)이 탑재되는 면)에는 금속 등으로 이루어지는 도전층(44)이 형성된다. 도전층(44)은 진공 증착법, 스퍼터링법, CVD 법 등에 의해 형성된다. 진공 증착법은 고진공하에서 금속을 가열하고, 용융ㆍ증산(蒸散)시켜, 대상물의 표면에서 냉각하여 금속 피막을 형성하는 방법이다. 금속을 가열하는 방법은 전기 저항에 의해서 발생하는 열을 이용하거나 전자 빔을 이용하기도 한다. 증착시키는 재료로서는 은, 동, 알루미늄, 티탄 등의 금속 또는 도전성 고분자 화합물 등이 바람직하다. 그리고 진공 증착법 등에 의해 흡착 테이블(43) 표면에 성막되는 도전층(44)은 수천 옹스트롬이라고 하는 극박막(極薄膜)으로, 흡착 테이블(43)이 갖는 공공을 금속으로 매립해버려 흡인 능력을 저하시키는 일은 거의 없다. 그리고 흡착 테이블(43) 위에 형성된 도전층(44)에는 어스선(45)이 접속되어 접지된다.
이러한 구성을 구비하는 성막 장치(1)는 이하와 같이 작용한다.
기판(100)에는 미리 전극(예를 들면 ITO 등으로 이루어지는 투명 전극)(111)이나 정공 수송층(112)이 형성된다(도 5의 (a) 참조). 또한 전자 수송층(輸送層)을 형성해도 좋다.
먼저 흡착 테이블(43) 위에 기판(100)이 설치되면, 흡인 펌프(도시 생략)가 동작하여 흡착 테이블(43)로 기판(100)이 흡착한다. 그리고 제어 장치(50)는 구동 신호(Sx 또는 Sy)를 출력하여 테이블 장치(40)를 동작시킨다. 테이블 구동부(41)는 이 구동 신호(Sx 또는 Sy)에 대응하여 기판(100)을 잉크젯식 헤드(20)에 대해서 상대 이동시켜서 잉크젯식 헤드(20)를 성막 영역 위로 이동시킨다.
그 다음에 형성해야 할 막의 종류에 따라 유동체(10)의 어느 것인가를 특정 하여 그 유동체(10)를 토출시키기 위한 토출 신호(Sh)를 보낸다. 각 유동체(10)는 대응하는 잉크젯식 헤드(20)의 캐비티(221)로 유입하고 있다. 토출 신호(Sh)가 공급된 잉크젯식 헤드(20)에서는 압전체 소자(240)가 그 상부 전극과 하부 전극 사이에 가해진 전압에 대응한 체적 변화를 발생한다. 이 체적 변화는 진동판(230)을 변형 시켜 캐비티(221)의 용적을 변화시킨다. 이 결과 그 캐비티(221)의 노즐(211)로부터 유동체(10)의 액체방울(D)이 기판(100) 상면을 향해 토출된다. 유동체(10)가 토출된 캐비티(221)에는 토출에 의해서 감소된 유동체(10)가 새롭게 탱크(30)로부터 공급된다.
도 5의 (a) 내지 도 5의 (c)는 발광 재료(K)의 토출 및 성막 공정을 나타낸 도면이다.
잉크젯식 헤드(20)가 고속으로 기판(100)에 대해서 상대 이동하면서, 발광 재료(K)를 포함하는 유동체(10)를 기판(100) 상면을 향해 토출시킴으로써 발광 재료(K)를 포함한 액체방울(D)이 착탄된다. 착탄된 액체방울(D)(유동체(10))은 수십 μm 정도의 직경을 갖는다. 그리고 소정량의 유동체(10)를 토출하여 발광층(121 ~ 123)이 형성된다. 예를 들면 잉크젯식 헤드(21)로부터는 적색의 발광 재료(K)가 토출되어 발광층(121)이 형성된다(도 5의 (a) 참조). 이와 같이 잉크젯식 헤드(22)에 의해 녹색의 발광층(122)이 형성하고(도 5의 (b) 참조), 또한 잉크젯식 헤드(23)에 의해 청색의 발광층(123)이 형성된다(도 5의 (c) 참조).
여기서 흡착 테이블(43)로서 이용되는 세라믹스 다공체는 기판(100)에 착탄하는 액체방울(D)의 착탄 직경과 동일한 정도 또는 그 이하의 구멍 직경(공경(孔徑))의 공공을 구비하도록 형성되어 있으므로, 기판(100)으로의 영향이 작고, 흡인 흔적이 발생되는 것이 억제된다. 즉 평균 세공 직경이 작고, 또한 흡착 테이블(43)에 빠짐없이 다수의 공공이 형성되어 있기 때문에 기판(100)을 국부적으로 흡인할 수가 없기 때문이다. 따라서 기판(100)이 흡인 흔적이 발생하기 어렵기 때문에 발광층(121 ~ 123)이 고정밀도로 성막되어 색 편차의 발생이 억제된다.
또한 성막 장치(1)의 동작 시에 잉크젯식 헤드(20)와 기판(100)이 고속으로 상대 이동하여도 잉크젯식 헤드(20)에 설치된 대전 방지용 커버(260) 및 흡착 테이블(43)이 접지되어 있는 점에서 대전이 방지되고, 또 대전 방지용 커버(260)와 흡착 테이블(43)이 동일 전위인 점으로부터 전위차가 생기는 일도 없다. 이 때문에 기판(100) 위에 형성된 회로가 정전기에 의해 파괴되는 것이 방지된다. 그리고 정전기에 의한 가연성 용매 등으로의 착화가 방지된다.
도 6은 상술한 발광 재료(K)의 성막 공정을 거쳐 제조된 전기 광학 장치(500)를 나타내는 도면이다. 전기 광학 장치(500)(예를 들면 유기 EL 장치)는 기판(100), 전극(111), 정공 수송층(l12), 발광층(121 ~ 123) 등을 갖는다. 발광층(121 ~ 123) 위에 전극(131)이 형성되어 있다. 전극(131)은 예를 들어 음극 전극이다. 그리고 전기 광학 장치(500)는 표시 장치로서 이용된다.
도 7은 본 발명의 전자 기기(600)의 실시예를 나타내는 도면이다. 휴대 전화(1000)(전자 기기(600))는 전기 광학 장치(500)로 이루어지는 표시부(1001)를 구비하고 있다. 다른 응용예로서는 손목 시계 형태 전자 기기에 있어서 표시부로서 전기 광학 장치(500)를 구비하는 경우나, 워드프로세서, 컴퓨터 등의 휴대형 정보 처리 장치에 있어서, 표시부로서 전기 광학 장치(500)를 구비하는 경우 등이 있다. 이와 같이 전자 기기(600)는 전기 광학 장치(500)를 표시 수단으로서 구비하고 있으므로 표시 콘트라스트가 높고 품질이 뛰어난 표시를 실현할 수 있다.
또한 상기 전극(양극)의 재료로서는 ITO(Indium Tin Oxide) 외에, 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 마그네슘(Mg), 니켈(Ni), 아연-바나듐(ZnV), 인듐(In), 주석(Sn) 등의 단체(單體)나, 이들 화합물 또는 혼합물이나, 금속 필러가 포함되는 도전성 접착제 등이 이용된다. 전극의 형성은 바람직하게는 스퍼터링, 이온 플레이팅, 진공 증착법에 의해서 행해진다. 또는 스핀 코터, 그라비어 코터, 나이프 코터 등에 의한 인쇄나, 스크린 인쇄, 플렉소(flexo) 인쇄 등을 이용하여 화소 전극을 형성해도 좋다.
그리고 상기 정공 수송층의 형성 방법으로서는, 예를 들면 카르바졸 중합체와 TPD: 트리페닐 화합물을 공증착(共蒸着)하여 10 ~ 1000 nm(바람직하게는 100 ~ 700 nm)의 막 두께로 형성한다. 다른 형성 방법으로서, 예를 들면 잉크젯법에 의해 정공 주입, 수송층 재료를 포함한 조성물 잉크를 기체(基體) 위로 토출한 후에 건조 처리 및 열처리를 하여 형성해도 좋다. 또한 조성물 잉크로서는, 예를 들면 폴리 에틸렌 디옥시티오펜 등의 폴리 티오펜 유도체와, 폴리 에틸렌 술폰산 등의 혼합물을 물 등의 극성 용매에 용해시킨 것을 사용할 수 있다.
또한 상기 전자 수송층으로서는, 예를 들면 금속과 유기 배위자(配位子)로 형성되는 금속 착체 화합물, 바람직하게는 Alq3(트리스(8-퀴놀리노레이트) 알루미늄 착체), Znq2(비스(8-퀴놀리노레이트) 아연 착체(錯體)), Bebq2(비스(8-퀴놀리노레이트) 베릴륨 착체), Zn-BTZ(2-(o-히드록시 페닐) 벤조 티아졸 아연), 페릴렌 유도체 등을 1O ~ 1OOO nm(바람직하게는 100 ~ 700 nm)의 막 두께가 되도록 증착하여 적층한 것이 이용된다.
또한 상기 전극(음극)은 예를 들어 적층 구조로 이루어지고, 하부의 음극층으로서는 전자 수송층 또는 발광층에 효율적으로 전자 주입을 행할 수 있도록 상부의 음극층보다도 일함수가 낮은 금속, 예를 들어 칼슘 등이 이용된다. 그리고 상부 음극층은 하부 음극층을 보호하는 것으로써, 하부 음극층에서도 일함수가 상대적으로 큰 것으로 구성하는 것이 바람직하고, 예컨대 알루미늄 등이 이용된다. 이들 하부 음극층 및 상부 음극층은 예를 들면 증착법, 스퍼터링법, CVD법 등으로 형성하는 것이 바람직하고, 특히 증착법으로 형성하는 것이 발광층의 열, 자외선, 전자선, 플라즈마에 의한 손상을 방지할 수 있는 점에서 바람직하다.
이상 첨부 도면을 참조하면서 본 발명에 따른 매우 적합한 실시예에 대해서 설명했지만 본 발명은 이러한 예에 제한되지 않는 것은 말할 필요도 없다. 상술한 예에 있어서 나타낸 각 구성 부재의 제형상이나 조합 등은 일례로서 본 발명의 주지로부터 일탈하지 않는 범위에 있어서 설계 요구 등에 근거하여 각종 변경 가능하다.
상기 실시예에서는 성막 장치로부터 토출되는 유동체는 발광 재료 등으로 제한되지 않고 도전성 재료, 반도전성 재료, 절연 재료, 유전성 재료, 반도체 재료 등이라도 좋다. 또한 접착제, 친화성재, 비친화성재, 안료 등이어도 좋다. 또한 발광 재료에 접착제, 친화성재, 비친화성재, 안료 등을 함유시켜도 좋다.
테이블 장치를 X 방향 및 Y 방향으로 이동시키는 구성에 대해서 설명했지만, 이것에 제한되지 않고, 잉크젯식 헤드를 이동시켜도 좋고, 또 잉크젯식 헤드와 테이블 장치가 모두 이동하는 구성이어도 좋다.
상기 실시예에서는 본 발명에 따른 성막 방법을 이용하여 광학 소자(유기 EL소자)를 제조하는 방법에 대해서 설명했지만, 본 발명은 이것으로 제한되는 것이 아니고, 예를 들면 본 발명에 따른 성막 장치를 이용하여 액정, PDP, LCD의 표시 장치, 또는 IC, LSI 등의 반도체 소자를 양호하게 제조하는 것도 가능하다.
또한 공업용의 용도에 제한되지 않고, 가정용 프린터 등에 이용하는 것도 가능하다.
이상 본 발명에 따르면, 전자 기기 등의 제조 공정에 이용되고, 가요성을 가진 기판을 흡착·유지하는 흡착 테이블이 제공된다.

Claims (7)

  1. 기판(100)을 흡착 유지하는 테이블 장치(40)로서,
    다공체로 이루어지는 기판 흡착면을 갖는 흡착부(43)와,
    상기 흡착부(43)의 상기 기판 흡착면 위에 배치되고 또한 지락(地絡)된 도전막(44)을 구비하고,
    상기 기판(100)은 가요성을 갖는 기판이며,
    상기 도전막(44)은 상기 기판(100)과 직접 접촉하고 있는 테이블 장치.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 흡착부(43)는 세라믹스 다공체인 테이블 장치.
  4. 가요성을 갖는 기판(100)에 액상 재료(K)를 토출하여 상기 기판(100) 위에 박막을 형성하는 성막 장치(1)로서,
    제 1 항에 기재된 테이블 장치(40)와,
    상기 기판을 향해 상기 액상 재료를 토출하는 잉크젯식 헤드(20)와,
    상기 잉크젯식 헤드(20)를 덮고 또한 지락된 대전 방지용 커버(260)와,
    상기 테이블 장치(40)와 상기 잉크젯식 헤드(20)를 상대 이동시키는 이동 장치(41)를 구비하고 있는 성막 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 대전 방지용 커버(260)는 상기 잉크젯식 헤드(20)에서의 상기 기판(100)에 대향하는 면을 노출시키는 개구부(261)를 구비하고 있는 성막 장치.
  6. 제 4 항에 기재된 성막 장치(1)에 의해 형성된 발광층(121 ~ 123)을 구비한 전기 광학 장치(500).
  7. 제 6 항에 기재된 전기 광학 장치(500)를 구비한 전자 기기(600).
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