JP2003347050A

JP2003347050A - 液状体製造方法と液状体製造装置及び製膜方法、製膜装置、有機ｅｌ装置の製造方法、電子機器

Info

Publication number: JP2003347050A
Application number: JP2002158020A
Authority: JP
Inventors: Toshimasa Mori; 俊正森
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2002-05-30
Filing date: 2002-05-30
Publication date: 2003-12-05

Abstract

(57)【要約】【課題】高粘度の液状体に対しても純度が低下したり
組成を変えることなく濾過する。【解決手段】液状体を濾過する濾過工程を含む。濾過
工程における所定の濾過温度に液状体を温度調整する温
度調整工程を含む。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液状体製造方法と
液状体製造装置及び製膜方法、製膜装置、有機ＥＬ装置
の製造方法、電子機器に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】カラー液晶表示デバイスにおけるカラー
フィルタやＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示デバ
イスにおける発光層を形成する際には、基板に対してＲ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（赤）の液滴（インク）を所定パ
ターンで吐出して着色層を製膜するものがある。このよ
うに、基板に対してインクを吐出してパターニングする
方式としては、例えばインクジェット方式の製膜装置が
採用されている。

【０００３】通常、この種の製膜装置においては、塵埃
等、不純物の除去、粒子の大きさを限定すること等を目
的として、吐出前のインクに対して予め濾過装置により
濾過処理を施して精製・製造している。

【０００４】一般に、プリンタ等に用いられるインク
は、比較的粘度が低く（一般に３〜５ｍＰ・ｓ）、濾過
処理を施すことにそれほど支障を来さなかったが、近年
では、製膜装置をプリンタのみならず、工業用等に幅広
く応用する動きがあるため、高粘度のインクに対しても
濾過処理を施す必要が生じてきた。従来、濾過装置によ
り高粘度のインクを濾過するためには、濾紙の孔（濾過
孔）を大きくしたり、インクの組成を変えて粘度を下げ
る等の方法が採られていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような従来技術には、以下のような問題が存在する。
濾紙の孔を大きくした場合、不必要な成分も濾過孔を通
過するため、精製したインクの純度が低下するという問
題があった。また、インクの組成を変えた場合、濾過は
可能になるものの、インクに要求される特性（色、吐出
特性）も変わってしまうという問題があった。

【０００６】本発明は、以上のような点を考慮してなさ
れたもので、高粘度の液状体に対しても純度が低下した
り組成を変えることなく濾過できる液状体製造方法と液
状体製造装置及び製膜方法、製膜装置、有機ＥＬ装置の
製造方法、電子機器を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、以下の構成を採用している。本発明の液
状体製造方法は、液状体を濾過する濾過工程を含む液状
体製造方法であって、濾過工程における所定の濾過温度
に液状体を温度調整する温度調整工程を含むことを特徴
とするものである。

【０００８】一般に、液状体は温度が高くなるにつれて
粘度が小さくなる。従って、本発明の液状体製造方法で
は、高粘度の液状体に対しても、濾過に適した濾過温度
に液状体を温度調整することで、粘度が低い状態で濾過
することが可能になる。そのため、濾紙の孔を大きくす
ることで液状体の純度が低下したり、液状体の組成を変
えることで液状体に要求される特性が変わってしまうこ
とを防ぐことができる。

【０００９】また、本発明では、濾過を行う濾過装置の
濾過特性と、温度調整された液状体を濾過する際の圧力
とに基づいて、濾過温度を設定することが望ましい。こ
の場合、濾過装置における濾過孔の大きさ等の濾過特性
や、濾過する際の圧力に応じて最適な粘度で液状体の濾
過を実施することができる。

【００１０】そして、本発明の製膜方法は、濾過精製さ
れた液状体を基板に吐出して製膜する製膜方法であっ
て、液状体を請求項１または２記載の液状体製造方法に
より濾過精製することを特徴とするものである。

【００１１】従って、本発明では、所定の純度及び特性
を有する液状体により基板上に膜を形成することができ
る。

【００１２】一方、本発明の液状体製造装置は、液状体
を濾過する濾過装置を有する液状体製造装置であって、
濾過装置における所定の濾過温度に液状体を温度調整す
る温度調整装置を備えることを特徴としている。

【００１３】これにより、本発明では、高粘度の液状体
に対しても、濾過に適した濾過温度に液状体を温度調整
することで、粘度が低い状態で濾過することが可能にな
る。そのため、濾紙の孔を大きくすることで液状体の純
度が低下したり、液状体の組成を変えることで液状体に
要求される特性が変わってしまうことを防ぐことができ
る。

【００１４】また、本発明では、濾過装置の濾過特性
と、温度調整された液状体を濾過する際の圧力とに基づ
いて濾過温度が設定されることが好ましい。この場合、
濾過装置における濾過孔の大きさ等の濾過特性や、濾過
する際の圧力に応じて最適な粘度で液状体の濾過を実施
することができる。

【００１５】そして、本発明の製膜装置は、濾過精製さ
れた液状体を基板に吐出して製膜する製膜装置であっ
て、液状体を濾過精製する装置として、請求項４または
５記載の液状体製造装置が用いられることを特徴として
いる。

【００１６】これにより、本発明では、所定の純度及び
特性を有する液状体により基板上に膜を形成することが
できる。

【００１７】また、本発明の有機ＥＬ装置の製造方法
は、電極間に発光層を有する有機ＥＬ素子が形成されて
なる有機ＥＬ装置の製造方法であって、液状体を濾過
し、所定の濾過温度に前記液状体を温度調整する温度調
整工程と、濾過された液状態を塗布することにより前記
発光層を形成する塗布工程と、を有することを特徴とし
ている。これにより、本発明では、液状体の純度が低下
したり、液状体の組成を変えることで発光層に要求され
る特性が変わってしまうことを防ぐことができる。

【００１８】また、本発明では、濾過を行う濾過装置の
濾過特性と、温度調整された液状体を濾過する際の圧力
とに基づいて、濾過温度を設定することが望ましい。こ
の場合、濾過装置における濾過孔の大きさ等の濾過特性
や、濾過する際の圧力に応じて最適な粘度で液状体の濾
過を実施することができる。

【００１９】そして、本発明の有機ＥＬ装置の製造方法
は、電極間に発光層と機能層を有する有機ＥＬ素子が形
成されてなる有機ＥＬ装置の製造方法であって、液状体
を濾過し、所定の濾過温度に前記液状体を温度調整する
温度調整工程と、濾過された液状態を塗布することによ
り前記機能層を形成する塗布工程と、を有することを特
徴としている。これにより、本発明では、液状体の純度
が低下したり、液状体の組成を変えることで機能層に要
求される特性が変わってしまうことを防ぐことができ
る。

【００２０】また、本発明では、濾過を行う濾過装置の
濾過特性と、温度調整された液状体を濾過する際の圧力
とに基づいて、濾過温度を設定することが望ましい。こ
の場合、濾過装置における濾過孔の大きさ等の濾過特性
や、濾過する際の圧力に応じて最適な粘度で液状体の濾
過を実施することができる。

【００２１】そして、本発明の電子機器は、上記の有機
ＥＬ装置の製造方法により製造された電子機器である。
これにより、本発明では、所定の発光特性を有する電子
機器を得ることができる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の液状体製造方法と
液状体製造装置及び製膜方法、製膜装置、有機ＥＬ装置
の製造方法、電子機器の実施の形態を、図１ないし図５
を参照して説明する。ここでは、本発明の液状体製造装
置を、例えば液状体としてのインクを精製・製造するイ
ンク製造装置とし、また本発明の製膜装置を、例えばイ
ンク製造装置で精製されたインクを用いて、ＥＬ（エレ
クトロルミネッセンス）表示デバイスの発光層を製造す
るためのデバイス製造装置に適用するものとして説明す
る。

【００２３】図１は、デバイス製造装置を構成する製膜
装置（インクジェット装置）１０の概略的な外観斜視図
である。このデバイス製造装置は、ほぼ同様の構造を有
する３基の製膜装置１０を備えており、各製膜装置１０
は、それぞれＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色のイ
ンクを基板に吐出する構成になっている。

【００２４】製膜装置１０は、ベース１２、第１移動手
段１４、第２移動手段１６、図示しない電子天秤（重量
測定手段）、インクジェットヘッド２０、キャッピング
ユニット２２、クリーニングユニット２４等を有してい
る。ベース１２の上には、第１移動手段１４、電子天
秤、キャッピングユニット２２、クリーニングユニット
２４、第２移動手段１６が設置され、さらにベース１２
の近傍にはインクジェットヘッド２０から吐出するイン
クを製造するインク製造装置（液状体製造装置）１７が
設置されている。

【００２５】第１移動手段１４は、好ましくはベース１
２の上に直接設置されており、しかもこの第１移動手段
１４は、Ｙ軸方向に沿って位置決めされている。これに
対して第２移動手段１６は、支柱１６Ａ、１６Ａを用い
て、ベース１２に対して立てて取り付けられており、し
かも第２移動手段１６は、ベース１２の後部１２Ａにお
いて取り付けられている。第２移動手段１６のＸ軸方向
は、第１移動手段１４のＹ軸方向とは直交する方向であ
る。Ｙ軸はベース１２の前部１２Ｂと後部１２Ａ方向に
沿った軸である。これに対してＸ軸はベース１２の左右
方向に沿った軸であり、各々水平である。

【００２６】第１移動手段１４は、ガイドレール４０、
４０を有しており、第１移動手段１４は、例えば、リニ
アモータを採用することができる。このリニアモータ形
式の第１移動手段１４のスライダー４２は、ガイドレー
ル４０に沿って、Ｙ軸方向に移動して位置決め可能であ
る。

【００２７】スライダー４２は、θ軸用のモータ４４を
備えている。このモータ４４は、例えばダイレクトドラ
イブモータであり、モータ４４のロータはテーブル４６
に固定されている。これにより、モータ４４に通電する
ことでロータとテーブル４６は、θ方向に沿って回転し
てテーブル４６をインデックス（回転割り出し）するこ
とができる。

【００２８】テーブル４６は、基板４８を位置決めし
て、しかも保持するものである。また、テーブル４６
は、吸着保持手段５０を有しており、吸着保持手段５０
が作動することにより、テーブル４６の穴４６Ａを通し
て、基板４８をテーブル４６の上に吸着して保持するこ
とができる。テーブル４６には、インクジェットヘッド
２０がインクを捨打ち或いは試し打ち（予備吐出）する
ための予備吐出エリア５２が設けられている。

【００２９】第２移動手段１６は、支柱１６Ａ，１６Ａ
に固定されたコラム１６Ｂを有しており、このコラム１
６Ｂは、リニアモータ形式の第２移動手段１６を有して
いる。スライダー６０は、ガイドレール６２Ａに沿って
Ｘ軸方向に移動して位置決め可能であり、スライダー６
０は、インク吐出手段としてのインクジェットヘッド２
０を備えている。

【００３０】インクジェットヘッド２０は、揺動位置決
め手段としてのモータ６２，６４，６６，６８を有して
いる。モータ６２を作動すれば、インクジェットヘッド
２０は、Ｚ軸に沿って上下動して位置決め可能である。
このＺ軸はＸ軸とＹ軸に対して各々直交する方向（上下
方向）である。モータ６４を作動すると、インクジェッ
トヘッド２０は、Ｙ軸回りのβ方向に沿って揺動して位
置決め可能である。モータ６６を作動すると、インクジ
ェットヘッド２０は、Ｘ軸回りのγ方向に揺動して位置
決め可能である。モータ６８を作動すると、インクジェ
ットヘッド２０は、Ｚ軸回りのα方向に揺動して位置決
め可能である。

【００３１】このように、図１のインクジェットヘッド
２０は、スライダー６０において、Ｚ軸方向に直線移動
して位置決め可能で、α、β、γに沿って揺動して位置
決め可能であり、インクジェットヘッド２０のインク吐
出面２０Ｐは、テーブル４６側の基板４８に対して正確
に位置あるいは姿勢をコントロールすることができる。
なお、インクジェットヘッド２０のインク吐出面２０Ｐ
には、それぞれがインクを吐出する複数（例えば１２０
個）のノズルが設けられている。

【００３２】インクジェットヘッド２０は、例えば、ピ
エゾ素子（圧電素子）を用いたヘッドであり、複数のノ
ズルに対してそれぞれこのピエゾ素子が設けられてい
る。そして、各ピエゾ素子が印加されて各ノズル毎にイ
ンク室を拡大または縮小することで、ノズルからのイン
ク吐出を制御することができる。

【００３３】電子天秤は、インクジェットヘッド２０の
ノズルから吐出されたインク滴の１滴の重量を測定して
管理するために、例えば、インクジェットヘッド２０の
ノズルから、５０００滴分のインク滴を受ける。電子天
秤は、この５０００滴のインク滴の重量を５０００で割
ることにより、１滴のインク滴の重量を正確に測定する
ことができる。このインク滴の測定量に基づいて、イン
クジェットヘッド２０から吐出するインク滴の量を最適
にコントロールすることができる。

【００３４】クリーニングユニット２４は、インクジェ
ットヘッド２０のノズル等のクリーニングをデバイス製
造工程中や待機時に定期的にあるいは随時に行うことが
できる。キャッピングユニット２２は、インクジェット
ヘッド２０のインク吐出面２０Ｐが乾燥しないようにす
るために、デバイスを製造しない待機時にこのインク吐
出面２０Ｐが外気に触れないようにするものである。

【００３５】既述したように、インク製造装置１７は、
インクジェットヘッド２０から吐出するインクを精製す
るものであって、図２に示すように、窒素ガスを供給す
る図示しないガス供給源、圧力タンク３１、メンブラン
フィルタを有する濾過装置３２（適宜、フィルタ３２と
称する）、圧力タンク３１の外周に装着されてインクを
加熱（温度調整）する加熱器（温度調整装置）３３を主
体として構成されている。ガス供給源と圧力タンク３１
の内部とは配管３４で接続され、圧力タンク３１の内部
と濾過装置３２とは配管３５で接続されている。配管３
５は、圧力タンク３１の内部に設置されたインク容器３
６内でインク（液状体）７に浸漬された状態で一端が配
置されている。なお、濾過装置３２で濾過されたインク
は、配管３７を介してインク貯溜タンク（図示せず）に
送出されるが、直接、インクジェットヘッド２０に送出
する構成としてもよい。

【００３６】図３に、上記製膜装置１０を用いて製造さ
れる有機ＥＬ装置の一例を示す。この図に示す有機ＥＬ
装置１は、基板４８上に発光素子３と、発光素子３を気
密に封止する封止層４とが設けられた構成になってい
る。基板４８の材料としては、ポリオレフィン、ポリエ
ステル、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエ
ーテルサルホン、ポリエーテルケトンなどのプラスチッ
クや、ガラスなどの透明材料が採用可能である。

【００３７】発光素子３は、基板４８上に形成された陽
極５、ホール輸送層６、有機発光層８、電子輸送層９、
陰極１１とから概略構成されている。なお、図示してい
ないものの、陽極５上には、ホール輸送層６と接合する
表面を露出させるように絶縁層が形成されている。

【００３８】陽極５の材料としては、アルミニウム（Ａ
ｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、マグネシウム（Ｍ
ｇ）、ニッケル（Ｎｉ）、亜鉛−バナジウム（Ｚｎ
Ｖ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）などの単体
や、これらの化合物或いは混合物や、金属フィラーが含
まれる導電性接着剤などで構成されるが、ここではＩＴ
Ｏ（Indium Tin Oxide）を用いている。この陽極５の形
成は、好ましくはスパッタリング、イオンプレーティン
グ、真空蒸着法によって行われ形成するが、スピンコー
タ、グラビアコータ、ナイフコータなどによる印刷や、
スクリーン印刷、フレキソ印刷などを用いて形成しても
よい。そして、陽極５の光透過率は、８０％以上に設定
することが好ましい。

【００３９】ホール輸送層６としては、例えば、カルバ
ゾール重合体とＴＰＤ：トリフェニル化合物とを共蒸着
して１０〜１０００ｎｍ（好ましくは、１００〜７００
ｎｍ）の膜厚に形成する。別法として、ホール輸送層６
は、例えばインクジェット法により、正孔注入、輸送層
材料を含む組成物インクを陽極５上に吐出した後に、乾
燥処理及び熱処理を行うことで陽極５上に形成される。
なお、組成物インクとしては、例えばポリエチレンジオ
キシチオフェン等のポリチオフェン誘導体と、ポリスチ
レンスルホン酸等の混合物を、水等の極性溶媒に溶解さ
せたものを用いることができる。

【００４０】絶縁膜は、例えばＳｉＯ₂をＣＶＤ法によ
り基板全面に堆積させた後、フォトリソグラフィー技術
及びエッチング技術を用いてパターン形成することがで
きる。

【００４１】有機発光層８は、上記ホール輸送層６と同
様に、インクジェット法により、発光層用材料を含む組
成物インクをホール輸送層６上に吐出した後に乾燥処理
及び熱処理を施すことで、ホール輸送層６上に形成され
る。有機発光層８を構成する発光材料としては、フルオ
レン系誘導体や、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカ
ルバゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれら高分
子材料にペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン
系色素、例えば、ルブレン、ペリレン、9,10-ジフェニ
ルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレ
ッド、クマリン6、キナクリドン等をドープして用いる
ことができる。

【００４２】また、電子輸送層９としては、金属と有機
配位子から形成される金属錯体化合物、好ましくは、Ａ
ｌｑ３（トリス(8-キノリノレート)アルミニウム錯
体）、Ｚｎｑ２（ビス(8-キノリノレート)亜鉛錯体）、
Ｂｅｂｑ２（ビス(8-キノリノレート)ベリリウム錯
体）、Ｚｎ−ＢＴＺ（２-（ｏ-ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾチアゾール亜鉛）、ペリレン誘導体などを１０〜１
０００ｎｍ（好ましくは、１００〜７００ｎｍ）の膜厚
になるように蒸着して積層する。

【００４３】陰極１１は、下部（基板側）陰極層と上部
（封止層側）陰極層とが積層された構成を有しており、
下部陰極層としては電子輸送層９へ効率的に電子注入を
行えるように、上部陰極層よりも仕事関数の低い金属、
例えばカルシウム等を用いることができる。また、上部
陰極層は、下部陰極層を保護するもので、下部陰極層よ
りも仕事関数が相対的に大きいもので構成することが好
ましく、例えばアルミニウム等を用いることができる。
これら下部陰極層及び上部陰極層は、例えば蒸着法、ス
パッタ法、ＣＶＤ法等で形成することが好ましく、特に
蒸着法で形成することが有機発光層８の熱、紫外線、電
子線、プラズマによる損傷を防止できる点で好ましい。

【００４４】なお、図示しないが、本実施の形態の有機
ＥＬ装置１はアクティブマトリクス型であり、実際には
複数のデータ線と複数の走査線とが格子状に配置され、
これらデータ線や走査線に区画されたマトリクス状に配
置された各画素毎に、スイッチングトランジスタやドラ
イビングトランジスタ等の駆動用ＴＦＴを介して上記の
発光素子３が接続されている。そして、データ線や走査
線を介して駆動信号が供給されると電極間に電流が流
れ、発光素子３が発光して透明基板４８の外面側に光が
出射され、その画素が点灯する。なお、本発明は、アク
ティブマトリクス型に限られず、パッシブ駆動型の表示
素子にも適用できることはいうまでもない。

【００４５】封止層４は、発光素子３上に、発光素子３
を被覆する絶縁層、ガスバリア層が順次積層して形成さ
れた構成となっている。絶縁層は、有機ポリマー等で形
成されている。具体的には、絶縁層としては、ポリアク
リレート、ポリメタクリレート、またはＰＥＴ、ポリエ
チレン、ポリプロピレンやこれらを組み合わせたものを
用いることができる。ガスバリア層は、無機酸化物、無
機窒化物、無機炭化物等のガスバリア性を有する無機化
合物で形成されている。具体的には、ガスバリア層とし
ては、酸化インジウム（Ｉｎ₂Ｏ₃）、酸化スズ（ＳｎＯ
₂）、上記ＩＴＯ、またはこれらを組み合わせたものを
用いることができる。また、酸化ケイ素（ＳｉＯ₂）、
酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）、酸化チタン（Ｔｉ
Ｏ₂）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、窒化ケイ素（Ｓ
ｉＮ）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、酸窒化ケイ素（ＳｉＯ
Ｎ）、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）やこれら
を組み合わせたものを用いることができる。

【００４６】本実施の形態では、上記の有機ＥＬ装置の
中、有機発光層８が製膜装置１０により形成されてお
り、続いて、有機発光層８を構成するインクを濾過精製
する手順について説明する。

【００４７】インク７が満たされたインク容器３６が圧
力タンク３１にセットされると、ガス供給源から窒素ガ
スを配管３４を介して圧力タンク３１内に供給して加圧
する。この圧力により、インク容器３６内のインク７は
配管３５を介して濾過装置３２に送出される。

【００４８】ここで、インク７としては、例えば有機蛍
光材料等の発光材料を約１％を、ベンゼン誘導体を少な
くとも１種類含む溶媒に溶かしたものを用い、濾過装置
３２におけるメンブランフィルタとしては、孔径０．５
μｍの親水性ＰＴＦＥメンブランフィルタを用いた。ま
た、窒素ガスは０．２５ＭＰａの圧力で供給される。そ
して、インクが室温と同等の２２℃で、粘度が１２．１
（ｍＰａ・ｓ）の場合、これらの条件下ではほとんどイ
ンク７を濾過することができなかった。

【００４９】そこで、本実施の形態では、濾過装置３２
にインク７を送出する前に、温度調整工程を設け、この
工程で予め加熱器３３により圧力タンク３１及びインク
７を加熱した。この結果、例えば、インク温度を約２５
℃に温度調整することでインクの粘度を１１．１（ｍＰ
ａ・ｓ）に、インク温度を約４０℃に温度調整すること
でインクの粘度を７．５（ｍＰａ・ｓ）に、インク温度
を約５０℃に温度調整することでインクの粘度を６．０
１（ｍＰａ・ｓ）にそれぞれ小さくすることができた。
そして、濾過工程では、図４に示すように、約２５℃の
インク温度では９００秒／１リットル、約４０℃のイン
ク温度では３００秒／１リットル、約５０℃のインク温
度では２６０秒／１リットルでそれぞれインクを濾過精
製することが可能であった。なお、上記のインク粘度
は、山一電気株式会社製ＶＭ１００型振動式粘度計に
より計測したものである。

【００５０】次に、上記インク製造装置１７で濾過精製
され、室温放置することで粘度及びインク特性を元に戻
したインクを用いて基板４８（のホール輸送層６）上に
有機発光層８を製膜する動作について説明する。

【００５１】テーブル４６の前端側から基板４８を第１
移動手段１４のテーブル４６の上に給材すると、この基
板４８はテーブル４６に対して吸着保持されて位置決め
される。そして、モータ４４が作動して、基板４８の端
面がＹ軸方向に並行になるように設定される。

【００５２】続いて、インクジェットヘッド２０がＸ軸
方向に沿って移動して、電子天秤の上部に位置決めされ
る。そして、指定滴数（指定のインク滴の数）の吐出を
行う。これにより、電子天秤は、たとえば５０００滴の
インクの重量を計測して、インク滴１滴当たりの重量を
計算する。そして、インク滴の１滴当たりの重量が予め
定められている適正範囲に入っているかどうかを判断
し、適正範囲外であればピエゾ素子に対する印加電圧の
調整等を行って、インク滴の１滴当たりの重量を適正に
納める。

【００５３】インク滴の１滴当たりの重量が適正な場合
には、基板４８が第１移動手段１４よりＹ軸方向に適宜
に移動して位置決めされるとともに、インクジェットヘ
ッド２０が第２移動手段１６によりＸ軸方向に適宜移動
して位置決めされる。そして、インクジェットヘッド２
０は、予備吐出エリア５２（吸収材５４）に対して全ノ
ズルからインクを予備吐出した後に、基板４８に対して
Ｙ軸方向に所定の行路を相対移動して（実際には、基板
４８がインクジェットヘッド２０に対してＹ方向に移動
する）、基板４８上の所定領域に対して所定のノズルか
ら所定幅でインクを吐出する（吐出工程）。インクジェ
ットヘッド２０と基板４８との一回の相対移動が終了す
ると、インクジェットヘッド２０が基板４８に対してＸ
軸方向に所定量ステップ移動し、その後、基板４８がイ
ンクジェットヘッド２０に対して別の行路を移動する間
にインクを吐出する。そして、この動作を複数回繰り返
すことにより、液滴吐出領域全体にインクを吐出して有
機発光層８を製膜することができる。

【００５４】以上のように、本実施の形態では、温度調
整工程でインクの温度を濾過に適した温度に温度調整す
るので、高粘度のインクを用いる場合でもフィルタの孔
径を大きくしたり、インク組成を変えることなく濾過装
置３２でインクを濾過精製することができる。従って、
精製したインクの純度が低下したり、インク特性が変質
したりせずに、製膜処理用のインクを製造することが可
能になり、所定の厚さ、色（発光特性）を有する膜を形
成することができる。また、本実施の形態では、フィル
タの孔径や窒素ガスの圧力等に応じてインクの濾過温度
を設定することで、最適な粘度での濾過を実施すること
が可能になる。

【００５５】次に、上記実施の形態の有機ＥＬ装置１を
備えた電子機器の例について説明する。図５（ａ）は、
携帯電話の一例を示した斜視図である。図５（ａ）にお
いて、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００
１は上記の有機ＥＬ装置１を用いた表示部を示してい
る。

【００５６】図５（ｂ）は、腕時計型電子機器の一例を
示した斜視図である。図５（ｂ）において、符号１１０
０は時計本体を示し、符号１１０１は上記の有機ＥＬ装
置１を用いた表示部を示している。

【００５７】図５（ｃ）は、ワープロ、パソコンなどの
携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図５
（ｃ）において、符号１２００は情報処理装置、符号１
２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報
処理装置本体、符号１２０６は上記の有機ＥＬ装置１を
用いた表示部を示している。

【００５８】図５（ａ）〜（ｃ）に示す電子機器は、上
記実施形態の製膜装置１０で製造された有機ＥＬ装置１
を備えているので、所定の発光特性を発揮する有機ＥＬ
表示部を備えた電子機器を実現することができる。

【００５９】なお、本発明の技術範囲は、上記実施の形
態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しな
い範囲において種々の変更を加えることが可能である。

【００６０】例えば、上記実施の形態では、濾過装置と
してメンブランフィルタを用いる構成として説明した
が、これに限定されるものではなく、中空糸膜を用いる
等、液状体の組成、粘度や窒素ガスの圧力等に応じて適
宜変更可能である。また、液状体を濾過する際の圧力を
窒素ガスの供給圧で設定する構成としたが、窒素ガスに
限られず、液状体に対して不活性であれば他の気体を用
いてもよい。また、上記実施の形態では、温度調整装置
としての加熱器を３３を圧力タンク３１にのみ装着する
構成としたが、配管３５に装着したり、濾過装置３２内
にも装着してもよい。

【００６１】また、上記実施の形態では、加熱器３３を
用いて圧力タンク３１内でインク７を温度調整する手順
としたが、これに限定されるものではなく、例えば圧力
タンク３１の外部で別の加熱装置（ヒータ、ウォーター
バス等）を用いて所定温度まで上昇させておき、この温
度調整したインクを圧力タンク３１内の容器３６に移し
換えた後に、圧力タンク３１内を加圧して濾過装置３２
に送出する手順としてもよい。この手順では、容器３６
の容積（容量）を超える多量のインクであっても短時間
で効率的に温度調整することが可能であり、また外部加
熱方式の方が装置を安価にすることもできる。このよう
に、圧力タンクの外部でインクを温度調整（加熱）する
場合も本発明に含まれる。

【００６２】本発明の製膜装置は、例えば有機ＥＬ装置
の製造に限定されるものではなく、正孔注入輸送層（機
能層）にも適用でき、さらには液晶表示デバイス用のカ
ラーフィルターの製造に応用が可能である。さらに、本
装置の製膜技術に金属材料や絶縁材料を供すれば、金属
配線や絶縁膜等のダイレクトな微細パターニングが可能
となり、新規な高機能デバイスの作製にも応用できる。
すなわち、本発明で用いられる液状体には、金属等の微
粒子を含有する液状体も含まれる。また、本発明におけ
る製膜装置は、対象物上に特定のパターンを形成する用
途に限らず、例えば半導体装置の製造工程におけるレジ
スト膜の形成など、対象物全体を覆う用途にも適用可能
である。さらに、図示した製膜装置のインクジェットヘ
ッド２０は、Ｒ（赤）．Ｇ（緑）．Ｂ（青）の内の１つ
の種類のインクを吐出することができるようになってい
るが、この内の２種類あるいは３種類のインクを同時に
吐出することももちろんできる。また、製膜装置１０の
第１移動手段１４と第２移動手段１６はリニアモータを
用いているがこれに限らず他の種類のモータやアクチュ
エータを用いることもできる。

【００６３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明では、高粘
度の液状体を用いる場合でもフィルタの孔径を大きくし
たり、組成を変えることなく濾過精製することができ、
純度が低下したり特性が変質したりせずに、製膜処理用
の液状体を製造することが可能になる。また、本発明で
は、最適な粘度での濾過を実施することが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態を示す図であって、イ
ンク製造装置を備えた製膜装置の概略的な外観斜視図で
ある。

【図２】同インク製造装置の概略構成図である。

【図３】有機ＥＬ装置の概略構成図である。

【図４】インクの温度と粘度との関係を示す図であ
る。

【図５】有機ＥＬ表示装置を備えた電子機器の一例
を示す図であり、（ａ）は携帯電話、（ｂ）は腕時計型
電子機器、（ｃ）は携帯型情報処理装置のそれぞれ斜視
図である。

【符号の説明】

７インク（液状体）１０製膜装置（インクジェット装置）１７インク製造装置（液状体製造装置）３２濾過装置３３加熱器（温度調整装置）４８基板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】液状体を濾過する濾過工程を含む液状
体製造方法であって、前記濾過工程における所定の濾過温度に前記液状体を温
度調整する温度調整工程を含むことを特徴とする液状体
製造方法。
【請求項２】請求項１記載の液状体製造方法におい
て、前記濾過を行う濾過装置の濾過特性と、前記温度調整さ
れた前記液状体を濾過する際の圧力とに基づいて、前記
濾過温度を設定することを特徴とする液状体製造方法。
【請求項３】濾過精製された液状体を基板に吐出し
て製膜する製膜方法であって、前記液状体を請求項１または２記載の液状体製造方法に
より濾過精製することを特徴とする製膜方法。
【請求項４】液状体を濾過する濾過装置を有する液
状体製造装置であって、前記濾過装置における所定の濾過温度に前記液状体を温
度調整する温度調整装置を備えることを特徴とする液状
体製造装置。
【請求項５】請求項４記載の液状体製造装置におい
て、前記濾過装置の濾過特性と、前記温度調整された前記液
状体を濾過する際の圧力とに基づいて、前記濾過温度が
設定されることを特徴とする液状体製造装置。
【請求項６】濾過精製された液状体を基板に吐出し
て製膜する製膜装置であって、前記液状体を濾過精製する装置として、請求項４または
５記載の液状体製造装置が用いられることを特徴とする
製膜装置。
【請求項７】電極間に発光層を有する有機ＥＬ素子
が形成されてなる有機ＥＬ装置の製造方法であって、液状体を濾過し、所定の濾過温度に前記液状体を温度調
整する温度調整工程と、濾過された液状態を塗布することにより前記発光層を形
成する塗布工程と、を有することを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項８】請求項７記載の有機ＥＬ装置の製造方
法において、前記濾過を行う濾過装置の濾過特性と、前記温度調整さ
れた前記液状体を濾過する際の圧力とに基づいて、前記
濾過温度を設定することを特徴とする有機ＥＬ装置の製
造方法。
【請求項９】電極間に発光層と機能層を有する有機
ＥＬ素子が形成されてなる有機ＥＬ装置の製造方法であ
って、液状体を濾過し、所定の濾過温度に前記液状体を温度調
整する温度調整工程と、濾過された液状態を塗布することにより前記機能層を形
成する塗布工程と、を有することを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項１０】請求項９記載の有機ＥＬ装置の製造
方法において、前記濾過を行う濾過装置の濾過特性と、前記温度調整さ
れた前記液状体を濾過する際の圧力とに基づいて、前記
濾過温度を設定することを特徴とする有機ＥＬ装置の製
造方法。
【請求項１１】請求項７乃至１０のいずれかに記載
の有機ＥＬ装置の製造方法により製造された電子機器。