KR100612945B1 - 정전방전 보호회로 - Google Patents
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- 238000007599 discharging Methods 0.000 title claims description 5
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 claims abstract description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 11
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 6
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
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- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
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- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0248—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
- H01L27/0251—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
- H01L27/0266—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using field effect transistors as protective elements
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
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Abstract
Description
Claims (5)
- 입력패드와 내부회로 사이에 형성되어 제 1 접지전원과 연결되어 과전압을 방전시키는 제 1 방전소자;상기 제 1 접지전원과 비교해 기생저항을 가지며 상기 제 1 방전 소자의 기판에 연결되는 제 2 접지전원; 및상기 입력패드와 상기 제 2 접지전원 사이에 형성되어 상기 제 2 접지전원으로 과전압을 방전시키는 제 2 방전소자를 포함하는 정전 방전 보호 회로.
- 과전이 입력되는 입력패드;전압(power)전원;제 1 접지전원;상기 전압전원 및 제 1 접지전원 사이에 형성되어 상기 입력패드로부터 입력되는 과전압을 방전시키는 다수의 방전소자;상기 제 1 접지전원과 비교해 기생저항을 가지며, 적어도 하나의 상기 제 1 방전소자의 기판과 연결되어 문턱전압을 감소시키는 제 2 접지전원; 및상기 입력패드와 상기 제 2 접지전원 사이에 형성되어 과전압을 방전시키는 제 2 방전소자를 포함하는 정전 방전 보호 회로.
- 과전압이 입력되는 입력패드;제 1 전압(power)전원;제 1 접지전원;상기 제 1 전압전원과 상기 제 1 접지전원 사이에 연결되어 상기 과전압을 방전시키는 제 1 NMOS트랜지스터;상기 전압전원과 입력패드 사이에 연결된 제 1 PMOS트랜지스터;상기 입력패드와 제 1 접지전원 사이에 연결되어 상기 과전압을 상기 제 1 접지전원으로 방전시키는 제 2 NMOS트랜지스터;상기 제 1 접지전원과 비교해 기생저항을 가지며 상기 제 2 NMOS트랜지스터의 기판과 연결되는 제 2 접지전원; 및상기 입력패드와 제 2 접지전원 사이에 형성되어 상기 제 2 접지전원으로 과전압을 방전시키는 제 3 NMOS트랜지스터를 포함하는 정전 방전 보호 회로.
- 제 3 항에 있어서,상기 제 1 전압전원과 비교해 기생저항을 가지며 상기 제 1 PMOS트랜지스터 의 기판과 연결되는 제 2 전압전원; 및상기 입력패드 및 상기 제 2 전압전원 사이에 형성된 제 2 PMOS트랜지스터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 정전 방전 보호 회로.
- 제 1 방전경로를 통해 과전압을 방전시키는 다수의 제 1 방전소자; 및제 2 방전경로를 통해 상기 과전압을 방전시키며, 상기 제 2 방전경로 상의 전압을 적어도 하나의 상기 제 1 방전소자의 기판에 전달하여 상기 제 1 방전소자의 문턱전압을 감소시키는 제 2 방전소자를 포함하는 정전 방전 보호 회로.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050027399A KR100612945B1 (ko) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | 정전방전 보호회로 |
US11/319,252 US7154721B2 (en) | 2005-03-31 | 2005-12-27 | Electrostatic discharge input protection circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050027399A KR100612945B1 (ko) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | 정전방전 보호회로 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR100612945B1 true KR100612945B1 (ko) | 2006-08-14 |
Family
ID=37069301
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050027399A KR100612945B1 (ko) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | 정전방전 보호회로 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7154721B2 (ko) |
KR (1) | KR100612945B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101164109B1 (ko) | 2010-09-07 | 2012-07-12 | 단국대학교 산학협력단 | 정전기 방전 보호 소자 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7083520B2 (en) * | 2002-09-11 | 2006-08-01 | Igt | In-room game promotion and demonstration method and system |
CN103165584B (zh) * | 2011-12-19 | 2015-09-16 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 互连线反向电流产生电路 |
US10177135B2 (en) * | 2016-05-18 | 2019-01-08 | Vanguard International Semiconductor Corporation | Integrated circuit and electrostatic discharge protection circuit thereof |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5751507A (en) * | 1995-08-15 | 1998-05-12 | Cypress Semiconductor Corporation | KSD protection apparatus having floating EDS bus and semiconductor structure |
JP3464340B2 (ja) * | 1996-04-19 | 2003-11-10 | 沖電気工業株式会社 | 半導体集積回路装置 |
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KR100505619B1 (ko) * | 1998-09-29 | 2005-09-26 | 삼성전자주식회사 | 반도체소자의정전하방전회로,그구조체및그구조체의제조방법 |
JP3720999B2 (ja) * | 1999-02-18 | 2005-11-30 | 沖電気工業株式会社 | 入力保護回路 |
US6534422B1 (en) * | 1999-06-10 | 2003-03-18 | National Semiconductor Corporation | Integrated ESD protection method and system |
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KR100441116B1 (ko) | 2001-07-21 | 2004-07-19 | 삼성전자주식회사 | 낮은 트리거 전압에서 동작 가능한 반도체-제어 정류기구조의 정전 방전 보호 회로 |
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-
2005
- 2005-03-31 KR KR1020050027399A patent/KR100612945B1/ko active IP Right Grant
- 2005-12-27 US US11/319,252 patent/US7154721B2/en active Active
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101164109B1 (ko) | 2010-09-07 | 2012-07-12 | 단국대학교 산학협력단 | 정전기 방전 보호 소자 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7154721B2 (en) | 2006-12-26 |
US20060220135A1 (en) | 2006-10-05 |
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Date | Code | Title | Description |
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A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130723 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140723 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150721 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170724 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180725 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Annual fee payment |
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