KR100525353B1 - 진공반응로내의 가스흐름 모니터 방법 및 진공처리배치 - Google Patents
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Abstract
진공설비로의 가스의 실제흐름을 모니터하는 방법이 개시되는데, 이 설비에 의해 매스 플로어 컨트롤러에서 설정된 원하는 가스흐름에서 오프셋되는 실제의 가스흐름을 유도하는 매스 플로어 컨트롤러의 부정확성이 저가의 하드웨어에 의해 정확하게 모니터되어 현재의 설비가 용이하게 개장된다. 상기 설비와 매스 플로어 컨트롤러 사이에 가스 흐름전도요소가 상호접속된다. 상기 매스 플로어 컨트롤러에서 설정되는 가스의 소정의 흐름에서의 가스 흐름전도요소를 따라 압력강하가 사전설정된다. 실제의 가스흐름은 상기 요소를 따르는 압력강하를 측정하므로써 상기 가스 흐름전도요소를 따라 모니터된다. 그 후 상기의 압력강하는 원하는 가스흐름에 따른 사전설정된 압력강하와 비교되고 조정절차에서 설정되는데 측정된 압력강하는 실제의 가스흐름을 따른다. 진공설비 및 적어도 하나의 가스공급라인이 적어도 하나의 가스 매스 플로어 컨트롤러를 통해서 상기 가압가스고로부터 상기 설비로 공급된다. 적어도 하나의 가스흐름전도요소는 상기 설비와 가스 매스 플로어 컨트롤러사이에 상호접속된다. 압력차측정장치가 상기 흐름전도요소의 업스트림부에 동적으로 접속된 한 입력을 가지며, 그 다운스트림부에 동적으로 접속된제 2입력을 가진다. 상기 압력차측정장치의 출력은 상기 라인을 따르며 상기 설비로 향하는 실제의 매스 플로어를 나타내는 신호를 생성한다.
Description
본 발명은 진공설비내의 가스 흐름의 정확한 제어에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 진공설비로의 가스의 흐름을 모니터하는 방법에 관한 것인데, 이러한 가스의 흐름은 적어도 하나의 조정가능한 매스 플로우 컨트롤러(mass flow controller)에 의해 소정의 가스의 흐름을 설정하므로서 얻어지며, 상기 컨트롤러는 진공 설비와 가스용의 압력탱크 사이에 접속된다.
매스 플로우 컨트롤러는 다소 비안정의 조정장치이다. 이러한 컨트롤러는 정기적으로 조정 벤치(calibration bench)의 조정을 필요로 하며, 다수의 매스 플로우 컨트롤러를 운영하고 있는 여러 회사의 경우, 내부적으로 조정 벤치를 구매해서 이용하는 있는 경향이다.
이러한 매스 플로우 컨트롤러들의 가장 심각한 문제 중 하나는 이 컨트롤러들이 소정값으로 내리기 보다는 점차적으로 상승하는 추세에 있다는 것이다. 드리프트(drift)는 영구적으로 모니터되도록 결정적이어서 오프셋에 대한 아직 수용가능하거나 더 이상 수용불가능한 상태에 있는 한계를 정확하게 설정하는 것이 어렵다. 상기 매스 플로우 컨트롤러의 드리프트에 의해 진공설비내의 임의의 가스흐름 종속 프로세스에 의한 비율이 너무 멀리 드리프팅하기 쉽다. 따라서 진공 반응로에서 처리된 섭스트레이트 또는 워크피스의 비율이 매스 플로우 컨트롤러 드리프팅으로 인해 멀리 드리프트된다.
매스 플로우 컨트콜러 즉 MFC가 왜 드리프트할 수 있는지는 잘 알려지지 않았다. 상기 이유중 하나는 MFC가 매우 좁은 튜빙(tubing)을 이용한다는 것이며, 따라서 아주 작은 그레인조차 먼지에 의한 동요에 민감하다는 점이며, 다른 이유는 MFC가 상기 플로우를 감지하기 위해 열전달을 이용한다는 점이다. 하트 영역(hot area)은 화학 반응 및 국부적 화학 증착을 증가시킬 수 있는데, 특히 반응가스가 흐르는 경우 더욱 그렇다. 이러한 현상이 적어도 열 센싱 브리지의 불균형에 촉진하며, 암모니아나 HCI 등의 부식 및 반응가스의 흐름에 이용되는 MFC가 드리프트하며 실란과 같은 먼지 생성가스와 함께 이용되는 MFC가 드리프트하는 것을 설명한다.
순수 MFC 신뢰성의 결과는 본 산업에 많은 비용의 가중을 준다. 예를 들어 수백의 MFC를 이용하는 반도체 제조설비에 있어서, 이MFC는 체계적인 제어를 위해 체계적으로 교환된다. 그러한 동작은 매 3,4주간 반복된다. 이에 대한 비용이 상당하다. 그러한 빈번한 제어는 MFC 교환 동안 가스 라인의 일부의 순환에 빈번하게 노출되므로 가스 라인 오염과 같은 2차 리스크를 추가적으로 유도한다. 그러나 MFC 교환으로 인한 리스크 및 비용에도 불구하고 설비 책임의 스태프는 상기 비용은 리스크 및 MFC드리프팅 그리고 제조 프로세스의 드리프팅에 부가된 결과보다 덜 심각하다는 것을 결론지었다.
MFC의 드리프트는 쉽게 예견할 수 없으며, 몇 MFC는 수년간 완전하게 안정적으로 유지될 수 있으며, 반면 다른 MFC는 조정후에 그가 설치된 첫날부터 드리프트하기 시작한다. 따라서 재조정을 위한 주파수는 몇몇 MFC의 짧은 수명보다 오히려 최악의 경우를 고려하여 아주 조심스레 정해져야한다. 따라서 설치후 그날 드리프트하기 시작하는 경우는 고려되지 않으며, 그러한 리스크를 감수해야 한다.
도 1에 있어서, 진공설비 특히 진공처리 반응로로의 종래 기술의 가스흐름을 도시하고 있다.
압력탱크(1)로서 도시된 가스 탱크 장치는 10바 이상의 압력P1으로 가압된 예이다. 다운스트림탱크(1)는 압력조절기(2)가 설치되며, 이에 의해 입력압P1이 출력압P2로 1바를 약간 넘게 감소시킨다. 상기 압력조절기(2) 다운스트림에 매스 플로어 컨트롤러(3;MFC)가 설치되며, 상기 매스 플로어 컨트롤러(3)의 입력과 출력사이의 압력강하가 약 1바가되어 약 0.11바의 출력압P3이 생성된다.
MFC3의 다운스트림에 진공설비(4) 즉 진공 표면 처리반응로가 설치되며, 개략적으로 도시한 바와 같이 쇼어(shower) 형 가스 분배기를 거쳐서 탱크(1)로부터의 가스가 입력된다.
MFC3의 출력에서의 출력압 P3는 그 단면적 및 길이에 따라서 상기 반응로(4)에의 접속라인을 따라 서서히 하강한다. 이러한 입력노즐배치에 의해 상기 진공반응로 내에서 처리 필요압P4과 만나서 다시 약간의 압력강하가 생긴다. 트로틀(5)를 거쳐서 상기 진공반응로(4)은 진공펌프(6)에 접속된다.
따라서 상기 가스탱크(1)에서 저압진공설비(4) 또는 처리 장비로 이어지는 흐름의 경우 도면에 도시한 바와 같이 압력에 있어서 연속적인 강하를 맞게 된다. 이러한 가스는 가스 공급기에 의해 전달된 탱크(1)내의 압축 위치에너지와 진공펌프(6)에 의해 제공된 위치에너지로 인해 자연적으로 펌프(6) 입구 멀리 흐르게 되어 소정의 로우 레벨로 상기 진공설비(4)내의 압력을 유지한다.
MFC는 적어도 30mbar의 압력 P23에 따라 소정의 압력강하가 유지되는 한 상기 제한내에서 정확하게 가스흐름을 유지한다. 도 1에 최소압력강하P23는 P23min으로 도시한다. 상기 MFC업스트림의 압력P2가 거의 1내지 2바의 압력을 가지는 경우, 상기 MFC는 MFC바로후의 출력압P3가 거의 0.95 바를 가지는한 양호한 조절동작을 하게된다. 이 결과 MFC P23min에 걸리는 필요한 압력강하는 거의 1바인 도 1에 따른 실제적인 압력강하 P23보다 상당히 낮게된다. 이는 MFC다운 스트림에 필요한 진공설비저압P4가 있게 됨에 기인하며, 따라서 진공반응로(4)내의 프로세스 압력은 일례로서 0.01 내지 10 mbar 또는 아주 낮은 경우 10-3, 10-4 mbar이하에 있게 된다.
본 발명의 목적은 매스 플로우 컨트롤러에서 설정된 소정의 가스흐름에서 오프셋되는 실제적인 가스흐름을 유도하는 매스 플로우 컨트롤러의 부정확성이 저가의 하드웨어에 의해 정확하게 감지될 수 있어서 현재의 설비도 용이하게 개량될 수 있는 진공설비로의 가스의 실제적 흐름을 모니터할 수 있는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
이러한 목적은 진공설비와 매스 플로어 컨트롤러사이의 가스 흐름전도요소를 상호접속하고, 상기 매스 플로어 컨트롤러에서 설정되는 가스의 소정의 흐름에서 상기 가스 흐름전도요소에 따라 압력강하를 사전결정하고 상기 요소에 따른 압력강하를 측정함으로써 상기 가스 흐름전도요소에 따른 실제적인 가스흐름을 모니터하는 단계에 의해 실현된다. 상기의 압력강하는 소정의 가스흐름에 따르는 사전설정된 압력강하와 비교되고, 조정절차에서 설정되며, 측정된 압력강하는 실제의 가스흐름에 따른다.
본 발명의 다른 목적은 상기 압력탱크(1)내의 압력을 변화하도록 영향을 주지 않으면서 그 기본의 특징하에 본 발명의 방법을 실현하는데 있으며 이는 가스의 소정흐름에서의 사전설정된 압력강하가 상기 매스 플로우 컨트롤러에 걸리는 "잠재된" 종래기술을 발굴하도록 상기 매스 플로우 컨트롤러를 선택함으로써 실현된다. 도시된 바와 같이 MFC에 걸리는 압력강하의 심각한 감소에서도 적절한 조정기능이 유지된다.
본 발명의 또 다른 목적은 가스의 실제적인 흐름과 소정의 가스 흐름간의 임의의 차이를 모니터할 뿐만 아니라 가스흐름에 영향을 주는 가스 공급라인내의 부재를 자동적으로 재조정하여 자동적으로 실제의 가스흐름이 소정의 가스흐름치로 유지되도록 하는데 있다. 이러한 목적은 측정된 압력강하와 사전설정된 압력강하을 비교하고 네거티브 피드백 루프에서 차신호의 함수로서 상기 매스 플로우 컨트롤러를 조정함으로서 실현된다.
상기의 일반적인 목적을 실현하기 위하여, 진공설비, 적어도 하나의 매스 플로우 컨트롤러를 통해서 가압 가스고 배치에서 상기 설비로 이어지는 적어도 하나의 가스 공급라인 및 상기 설비와 매스 플로우 컨트롤러사이에 상호 접속된 적어도 하나의 가스 흐름전도요소를 구비하는 진공장치가 설비된다. 또한 압력차 측정장치가 제공되는데, 그 한 입력이 상기 흐름요소의 상부흐름에 동적으로 접속되며, 그 제 2입력이 상기 흐름요소의 다운스트림부에 동적으로 접속되며 상기 압력차 측정장치의 출력이 라인을 따르며, 상기 설비로 향하는 가스의 실제적인 매스 흐름을 나타내는 신호를 생성한다.
따라서 발명의 기본 아이디어는 압력강하로 인한 가스흐름의 위치에너지 손실, 매스 플로우 컨트롤러의 출구와 상기 설비의 입구간의 가스행로 특히 표면처리 워크피스 또는 섭스트레이트를 이용하는 것이다. 플로우 측정은 프로세스가스 또는 가스 혼합물이 통과되는 패시브 플로우 저항 라인인 플로우 전도요소를 따라 압력강하를 이용한다. 이하에서 알 수 있는 바와 같이, 그러한 흐름 전도요소는 다소 작은 직경을 가지는 다소 긴 튜브, 튜브내의 하나 이상의 흐름 단면적 제한부, 노즐, 튜브내에 도입된 다공성의 부재 또는 병렬로 접속된 두 이상의 다공성의 부재 그리고 병렬접속튜브의 요소로 구성된다.
이하 첨부도면을 참조하여 본 발명의 양호한 실시예의 방법 및 장치를 상세히 설명한다.
도 2는 가장 기본적인 특징의 본 발명을 도시하는 도면으로서 가스 또는 가스혼합물을 포함하는 가스저장 압력탱크(1)는 도 1과 같으며, 따라서 종래의 기술에 따라 압력조절기(2)에 접속된다. 또한 상기 조절기의 다운스트림에는 조절부 즉 조정입력 S 에서 관례적으로 조절가능한 매스 플로우 컨트롤러(mass flow controller; MFC3)가 설치된다.
가스흐름은 진공설비(4)로 리드되며, 특히 진공 워크피스 처리반응로, 저압 CVD 반응로 또는 플라즈마 CVD용 반응로 혹은 동작가스 및/또는 정확하게 사전설정된 흐름에서 반응 가스 입구를 이용하는 임의의 진공처리 반응로에 유도된다. 상기 진공설비(4)는 진공펌프(6)에 의해 진공으로된다.
MFC3의 출력과 진공설비(4)의 입력간에는 가스 흐름전도요소(8)가 상호접속되며, 도 6내지 9도에 도시한 바와 같이 그 양호한 형태가 실현된다. 상기 흐름전도요소(8)는 흐름 저항 전도를 나타내며, 후술하는 도 6내지 9에 도시한 요소 또한 마찬가지이며, 상기 요소(8)을 따르는 가스흐름이 압력강하 P34를 나타낸다.
도 2에 따르면, 압력차 측정장치가 도시되며, 그 한 입력이 선택적으로 흐름전도요소의 업스트림 단부에 선택적으로 접속되며, 그 다른 입력이 상기 요소(8)의 다운스트림 단부에 선택적으로 접속된다. 이러한 압력차 측정장치는 단일 압력차 압력측정센서에 의해 실현되며, 도 2에 도시한 바와 같이 두 개의 압력측정게이지 10u, 및 10d 에 의해 실현되는데 이들 두 장치는 기계적인 전기 변환기로서 전기출력신호 Au, Ad를 각각 출력한다.
이 경우 압력강하 P34의 함수 따라서 요소(8)를 따르는 실제의 가스흐름의 함수로서 출력신호 A12를 생성하는 압력차 형성장치(12)에 전기신호가 유도된다.
도 3에서, 본 발명의 기능실현 및 구조가 분량상의 예로서 예시된다. 도 2와 1에 동일한 참조번호가 이용된다.
도 1과 비교해서 동일한 압력P1, 조절기(2)에 의한 동일한 압력감소 P2로나타나며, MFC3에 걸쳐서 거의 0.7 바의 감소된 압력강하 P23가 설정되며 그럼에도 MFC3의 적절한 조절동작을 유지하기에 충분하다. 본 발명에서 도입된 흐름전도요소(8)의 업스트림 단부와 다운스트립 단부사이에 △P8에 따라 압력강하 P34가 생성되며, 이는 사실상 MFC출력과 진공설비(4)내의 압력P4 사이의 압력차이다. 이는 상기 업스트림 센서10u 및 다운스트림 압력센서 10d가 MFC3와 반응로(4)사이의 라인을 따라 어디에 위치하느냐에 따른다.
따라서 각각의 압력이 도 2 및 3에 P3' 및 P3'로서 도시된다.
명확하게 알 수 있는 바와 같이, MFC3에 걸리는 압력강하는 정확한 조절기능을 위한 최소의 압력강하P34 훨씬 이상이 된다. 상기의 압력강하 P34는 0.05와 1 바 사이에서 양호하게는 0.1바 사이에서 바람직하게 선택된다. 이러한 압력강하는 업스트림 압력게이지10u에 의해 측정되며, 바람직한 모드에서 바로 압력게이지10d에서 측정되며, 이 게이지는 진공설비(4) 즉 진공반응로내에서 압력을 측정한다. 이러한 측정된 압력차는 실제의 압력가스흐름과 직접적으로 상관되며, 따라서 본 발명의 기본 아이디어는 전설비의 동작동안 상기 동작 및 MFC의 정확성을 더블 체크하도록 이러한 압력차측정을 이용한다.
도 6내지 9의 아이(eye)로 상기 흐름전도요소(8)는 실현수단 8a 내지 8d와 다른 형태로 도시된다.
도 6에 따르면, 흐름전도요소(8)는 적어도 하나의 소정 길이의 좁은 튜브를 구비한다.
도 7에 따르면, 흐름전도요소(8)는 MFC3의 출력과 진공설비(4)로의 입력을 상호접속하는 튜브의 흐름단면적에 대한 하나이상의 제한부를 가진다.
도 8에 따르면, 본 발명이 적용된 흐름전도요소는 MFC3와 진공설비를 상호접속하는 튜브내에 도입되는 다공의 블록 또는 다공의 멤브레인으로 구성된다.
요소(8)의 전도는 그 입구에서의 최대의 소정의 가스흐름에 의해 발생된 압력P0에 따라 설계 및 계산되는바, MFC3의 출력과 같게 된다. 재생성을 고려할 때 소정 가스흐름의 최소의 값과 소정 가스흐름의 최대값 그리고 P0와 관련하여 동일가스흐름이 P0에 대해 동일값을 가져야하며, P0의 최대값은 많은 하드웨어의 지원없이 정확하게 측정 가능해야 하며,P0의 최대값은 MFC3의 정확한 조정동작을 위해 P23min을 보장해야 하며, 따라서 P2-0.1바 이하이어야 하며, P2는 전술한 바와 같이 조절기(2)로 형성된 가스라인내의 압력이며 이는 통상 2 바정도이다.
패시브 흐름제한기로서 상기 흐름전도요소(8)는 플라즈마 증가 또는 증가없이 반응진공표면처리를 위해 이용되는 화학적 가스에 저항성이 있는 물질로 되어야한다. 상기 흐름전도요소를 실현하기 위한 다른 가능성간의 주요한 차별화는 상기 흐름요소의 가스 흐름 레짐(regime)의 특성에 따르게 된다. 이는 분자, 점성,난류 또는 그들의 조합으로 될 수 있다. 설계의 예는 하기와 같다.
다른 키 성분은 압력 게이지10u이다.결국 시스템의 정확성은 압력게이지에 의해 규정된다. 압력 레짐의 경우, 도 2에 도시된 경우 최적의 적합한 압력게이지는 하나의 용량성 타입이된다. 이하에 기술되는 바와 같이 온도제어되는 것을 조건으로, 이러한 용량성 타입압력게이지는 가장 재생가능한 결과를 보여주며, 반응가스 및 가스혼합물 농도에 민감하지 않으며, 1mbar와 1bar사이의 압력범위를 정확하게 커버할 수 있다.
상기 흐름 제한 요소(8)가 50cm의 길이와 2mm의 내경을 가지는 강철튜브로 도 6에 따라 실현되는 경우, 통상의 가스흐름을 위해 얇은 흐름으로 된다. 그러나 다른 가스흐름범위 및 다른 압력값을 가지는 다른 시스템을 적용하도록 다른 길이 및/또는 직경이 고려될 수 있다.
압력과 가스흐름사이의 관계는 도 16에서 예시된다. 따라서 튜브의 압력다운스트림은 프로세스 진공범위에서와 같이 무시될 수 있는 것으로 가정된다. 가스흐름은 1m길이의 튜브 내에서의 업스트림압력과 연관된다. 측정은 파이프의 길이에 반비례한다. 측정은 실온에서 행해지며, 가스에 따라 다르게된다. 음영진 영역은 점성 흐름모멜에서 난류가 발생하기 시작하는 경우를 나타낸다. 통상의 저압 프로세스 시스템내의 동작범위에 있어서, 파이프내의 가스흐름은 얇게 또는 점성으로 된다. 상기 플로우 레짐은 30년간에 걸쳐서 점성이 있으며, 흐름범위는 압력의 자승에 비례하게된다.
팩터1000의 원동력은 소정의 프로세스 시스템에 걸쳐서 아주 안정하다. 이 범위내에 있어서, 흐름과 압력간의 간단하고 신뢰성있는 본 발명의 표현된 물리적인 관계에 의거 흐름을 측정하는 것이 용이하다.
도 17에 50cm,2mm의 내경 튜브내의 니트로겐 흐름의 함수로서 스퀘어된 압력이 도시된다. 또한 니트로겐은 실온에서 흐르게 되며, 사용되는 압력게이지는 표준의 용량성 게이지이다. 이로부터 압력의 2승에 대한 흐름의 관계가 잘 설정되는 것을 알 수 있다. 선형성의 약간의 편이는 아주 큰 흐름을 위해 관찰된다. 본 발명은 측정 툴로서 도 6또는 7에 도시된 바와 같은 흐름 전도요소를 사용하기 때문에, 이 영역에서 떨어지도록 주의가 요망되거나 적어도 상기 요소가 동요되는 경우 난류를 고려해야한다. 따라서 본 발명의 재생성의 경우에 많은 경우가 체크되었는데, 도 6,7 및 9에 따른 흐름 제한 요소(8)를 가지는 실시예의 압력 대 흐름관계는 난류 레짐 내측에서도 높은 재생성이 있다는 것을 발견하였다.
큰 가스흐름이 실현되면, 도 9에 따른 흐름 제한요소(8)의 개념이 바람직하다. 그러므로 난류를 염려하지 않고 큰 가스흐름이 이용된다. 난류의 개시는 레이놀드 넘버(Reynold's number)에 의해 정의된다. 이는 이하의 식과 같이 흐름Φ 및 파이프직경 D에 대한 구속을 가져온다.
Φ/D < a
여기서 a는 상수이다.
가스 흐름을 N 평행선으로 나누면 바람직하게 N 개의 동등의 흐름 전도 요소내의 동일 흐름 스트림이 상기 레이놀드 넘버에 무관하게되며. 복합의 흐름 전도 요소(8)를 따라서 압력강하가 생성된다. 점성 흐름 우세(단일의 긴 파이프에서)에서 분자 흐름 우세(쇼트 캐필라리 튜브의 조밀배열에서)로 흐름 전동 요소(8)를 따르는 흐름 레짐을 변위시키는데 이용될 수 있다. 이러한 제한 경우는 상기 요소(8)가 그레인 사이의 가스용의 소 직경 흐름경로를 가지는 다공의 매체(8c)로 이루어진 경우이다.
도 7의 경우와 유사한 작은 오리피스를 가지는 노즐에 근거한 흐름 전도 요소를 이용하는 것을 고려해야한다. 어떤 경우에 상기 흐름 전도 요소(8)의 가장 중요한 특성은 여러 가지의 흐름 동력 규칙을 따르지 않는다는 것이다. 상기 흐름 전도 요소(8)에 대한 가장 중요한 파라미터는 재생성이다. 따라서 상기 요소(8)의 주요목적은 MFC의 일인 흐름의 절대값을 측정하는 것이아니라 상기 MFC가 상수 및 재생 흐름을 제공하는 지를 검사하는 것이다. 상기 요소(8)의 이러한 중요한 재생성의 특징과 안정성을 이하 논의한다.
논의의 이전에 도 2에 의거한 본 발명의 가장 기본적인 특징을 다시 고려해보고 몇가지의 다른 실시예를 논하자.
도 2에 의거한 표시의 근거가되는 도 4에 따르면, 차분 증폭기인 차 형성 유니트의 출력신호A12는 실제 압력강하값P34에 따르며 이러한 압력강하는 실제의 가스흐름Fact에 근거한다.
상기 신호A12는 다른 차형성유니트(20)의 한 입력에 유도되며, 그 제 2입력은 출력신호A14를 생성하는 조정가능 기준 값유니트(14)에 접속된다. 이러한 출력신호A14는 흐름요소(8)에서의 사전측정된 압력강하P34에 따라 예비설정되는데, 상기 압력강하는 잘 결정된 소정의 가스흐름Fdes에서의 조정단계에서 측정된다. 따라서 A14는 소정의 가스 흐름 Fdes에서 요소(8)를 따르는 압력강하 P34를 나타낸다. 차 형성 유니트(20)의 출력신호 A20로서 나타나는 임의의 차이는 소정의 흐름과 실제의 흐름간의 편이도를 나타낸다. 도 4의 실시예에 있어서, 이러한 차신호는 트레숄드 감지 유니트(22)에 인가되며, 그에 상기 트레숄드를 조정하는 조정 유니트(24)의 출력신호A24가 인가된다. 유니트(24)로서 원하는 흐름과 실제의 흐름간의 수용가능한 편이에 대한 공차 대역이 설정된다. 상기 유니트(24)에 의해 설정된 제한이 도달하면, 알람 광(26)으로 개략적으로 도시한 바와 같이 표시가 생성된다.
이로써 하나 이상의 MFC3가 대체 및 재조정되어야하는 것에 대한 명확한 표시를 실현할 수 있다.
도 5의 실시예에 있어서, MFC3의 자동조정이 실현되며, 상기 도에 따르면, 원하는 흐름과 실제의 흐름F사이의 편이△를 나타내는 차 형성 유니트(20)의 출력이 컨트롤러 유니트(28)를 통해서 MFC의 컨트롤입력S 또는 가스흐름을 조절하는 요소(8)의 업스트림 및/또는 다운스트림의 임의의 제어가능요소의 하나 이상의 컨트롤입력에 공급된다. 네가티브 피드백 제어루프내에서 도 5의 실시예에 의해 MFC의 임의의 부정확성이 개방 루프 게인에 따라 자동적으로 조절된다. 요소(8)에의 압력강하는 네카티브 피드백 제어루프내의실제 값을 측정하여 유니트(14)에서 설정된 소정의 값을 따르게 하도록 조정적으로 제어하는데 이용된다.
도 10에 있어서, 본 발명의 배치에 장착되는 사전설정된 흐름전도요소(8)를 조정하기 위한 장치 및 방법이 개략적으로 도시된다. 조정 매스 플로우 컨트롤러(3c)의 도움으로 가스의 실제의 흐름F를 정확히 나타낼 수 있으며, 사전설정된 흐름 전도요소(8)에 걸리는 압력차가 설비 동작에 있어서 후에 이용되는 조정을 위한 동일 배치의 압력게이지(10uc 및 101c)로 바람직하게 측정된다. 조정 테이블은 모든 소정의 플로우 Fx 및 상기 플로우에 따른 최종의 출력신호 A12'X대해 등록된다. 이 값A12x 는 도 4 및 5에 따른 실시예에서의 기준값 A14를 설정하도록 이용된다.
일어날 수 있는 다른 문제는 온도제어의 문제이다. 도 6 내지 9도에 따라 모든 실현 형태에 있어서 본 발명에 이용되는 흐름 전도 요소(8)에서의 압력강하 변환에 대한 흐름은 온도에 매우 민감하다. 이 결과, 재생가능 결과의 경우에 동작에 있어서 측정과 동일한 온도에서 도 10에 따른 조정을 실행하거나 조정과 동작간의 온도차를 계산하는 것이 중요하다. 도 11에 따르면, 조정 동작동안 지배하는 온도에 있어서 흐름요소(8)의 적합한 온도제어를 제공하는 바람직한 기술이 제공된다. 도 11에 따르면, 흐름 전도 요소(8)는 조정 온도 에 따르는 소정의 온도 로 주어진 열 히트 캐패시티를 가지는 큰 콤파트먼트의 물질내에 내장된다.
도 12에 따르면 상기 흐름전도요소(8)와 열적으로 타이트하게 결합된 적어도 하나의 온도 센서(30)가 제공된다. 그 출력신호A30는 차 형성 유니트(32)에 공급되며, 그 제 2입력은 기준신호A34를 가지는 조정가능 기준신호장치(34)에 의해 공급된다. 상기 장치(34)에서 요소(8)에서의 소정의 온도에 따라 조정된다. 따라서 차형성 유니트(32)의 출력은 원하는 온도와 실제의 온도간의 차 의 함수이며, 요소(8)에 타이트하게 열적으로 결합된 히터 및/또는 쿨러요소(38)에 컨트롤러 유니트(36)를 통해 네커티브 피드백된다. 이 실시예에 있어서 흐름 요소의 동작동안 우세한 온도가 조정온도에 따르는 소정의 값으로 네거티브 피드백제어된다. 도 10에 따른 조정에 있어서, 요소(8)에 대한 동일한 온도제어를 제공해서 도 12에 따른 네가티브 피드백 온도제어 루프를 제공하여 동작에 있어서 후에 설정되는 값을 설정하는 것은 당연하다.
도 13에 섭스트레이트의 표면처리에 대한 반응 용기로서 진공설비가 정확히 온도제어되는 경우 크게 바람직한 다른 온도제어기술이 도시된다. 이로써 반응로(4)내의 프로세스를 제어하도록 이미 제공된 온도제어가 상기 흐름 전도 요소(8)에서의 온도를 제어하도록 동시에 활용된다. 도 13에 따르면, 흐름 전도 요소(8)는 프로세스 반응 용기의 벽(40)에서 또는 그 내부에서 일체화되는데, 상기 용기는 프로세스 제어의 경우에 그 자체로 정확히 온도제어된다.(도시 않음) 이로써 프로세싱에 있어서 상기 프로세스 반응로 및 그 벽(40)이 동작되는 동일한 온도에서 조정이 행해져야한다. 여기서 다운스트림 압력게이지로서 반응로내의 프로세스의 압력을 모니터하는 압력게이지(10d)가 이용된다.
소정의 프로세스 동작에 있어서, 종종 가스 혼합물이 이용된다. 표준의 동작에 있어서, 상기 혼합물이 동일한 비율로 몇가지의 가스로 이루어지는 경우, 도 2,4 및 5에 도시한 바와 같이 압력강하 P34를 측정하므로써 본 발명의 제어가 실현된다. 그럼에도 혼합성분의 각 비율을 적절히 분리적으로 제어하는 즉 혼합비 역시 적절히 제어하는 것이 바람직하다. 이는 도 14에 개략적으로 도시된다. 가스탱크(1a 및 1b)로부터 두 개의 가스 공급시스템에 대해 도 2에 이용된 바와 같은 참조번호가 부여되며, 상기 가스탱크는 하나의 성분 즉 두 성분의 가스 혼합물를 위한 것이다. 상기 가스 흐름Fa 및 Fb는 42로 개략적으로 도시된다.
이 두 흐름 Fa ,Fb는 본 발명에서 모니터되며, 이로써 두 흐름에 대해 단일의 다운스트림 압력 게이지(10dab)가 이용된다. 이 결과 명확히 알수 있는 바와 같이 신호가 평가 유니트(44)에 공급되는 각각의 실제의 가스흐름에 대해 하나의 표시신호 A12a, A12b가 자동적으로 조정되는데, 상기 평가 유니트에 의해 각각의 흐름이 원하는 값 및/또는 두 개의 흐름Fa,Fb사이의소정의 흐름비로 분리적으로 조정된다. 이러한 기술은 최종가스혼합물에 대한 가스성분의 상대적인 기여와 무관하게 이용된다.
소수의 가스성분을 가지는 가스 혼합물이 진공설비(4)에 제어적으로 도입되어 각각의 실제의 가스흐름을 분리적으로 모니터하는 것이 필요치않은 경우 도 4에 도시된 바와 같은 배치를 가지는 다음의 절차를 따르는 것이 제안된다.
소수 가스에 대한 흐름을 개방하고 소정의 소수 가스흐름에 제공된 하나의 매스 플로루 컨트롤러를 설정.
A12를 모니터함으로써 소수가스에 대한 최종의 압력강하P23를 모니터.
상기 A12에 따라 소수가스흐름에 대한 모니터된 압력강하P23과 조정절차동안 구해진 각각의 값과 비교.
모니터된 실제의 값이 도 4의 A14에 따른 소정의 편이값으로부터 너무 많이 차이나는지를 판단하는데, 그렇지 못한 경우 검사.
실제의 측정이 사전설정된 공차외에 다르지 않은 경우 소수의 가스에 대해 반복.
소수의 가스에 대한 흐름제어가 정확한 경우 소수의 가스흐름을 개방해서 매스 플로우 컨트롤러에 의해 원하는 값으로 상기 플로우를 설정.
신호A12에 의해 최종의 압력강하P23을 모니터.
A12에 따른 실제의 값과 조정에 따른 값(A14)간의 공차 편이를 검사. 조정된 값과 실제의 값이 너누 큰 경우는 무시. 그 차이가 O.K로 인식되는 경우 프로세스를 개시.
도 15에 있어서, 평행 반응로 프로세스에 대한 본 발명의 바람직한 통합이 개략적으로 도시되는데,도 2,4,5를 참조하여 기술한 바와 같은 평행 프로세스 반응로 각각에 대한 가스의 흐름을 제어하는 것이 가능함은 명백하다.
도 15에 따르면, n반응로 즉 41내지 44의 평행 시스템이 제공되며, 가스흐름이 도 15에 따른 n개의 동일 흐름전도요소 8n(81내지84)으로된 디바이더에 의해 n 동일의 서브-흐름으로 나누어진다.
nMFC의 세트에 의해 전달되는 흐름의 정상적인 제어의 경우에 평행 시스템의 동작은 도 2,4 또는 5에 따른 단일의 반응로시스템의 경우와 정확히 동일하다. 모든 밸브는 개방되며, 제어전도는 모든 n평행 흐름요소8n에 의한 전도가된다.
평행의 반응로 설비를 동작시키는 다른 방법은 상기 흐름 디바이더의 전도가 모두 평형을 이루는 경우를 제어하는 것이다.이러한 절차에서 다음이 제안된다.
주어진 사전설정된 흐름으로 하나의 MFC를 개방.
하나를 제외하고 모든 밸브를 폐쇄.
압력 게이지10u 및 10d에서 최종의 압력강하를 모니터.
개방된 하나의 MFC를 가지는 모든 밸브2n 에 대해 반복 그리고 사전설정된 흐름 값에서 설정.
동작에 있어서 압력 게이지10u,10d사이의 압력강하를 모니터함으로써 모든 흐름요소(8n)를 통하는 가스흐름의 평형이 측정된 압력강하의 변동으로 나타난다. 또한 측정된 실제압력강하와의 비교를 위해 정확한 조정이 필요시된다.
단일가스 혼합물의 흐름을 자동적으로 제어하도록 넓은 범위의 가능성을 열어두어 단일 및 평행의 처리 진공설비에 대한 흐름비를 추가적으로 모니터할 수 있다.이는 복합의 가스 혼합물을 이용하는 경우 그리고 가스 혼합물성분에 매우 민감한 프로세스의 경우에 특히 유용하다. 반도체 도핑 프로세스 등에 저압 CVD 그리고 실리콘 니트니드 층 생성, 반응성 에칭 및 반응성 스퍼터링의 경우에 PECVD가 가스혼합물로 이용된다. 따라서 본 발명은 가스 흐름 및/또는 가스 혼합물 성분의 정확한 제어를 필요로하는 모든 진공프로세스에 적합하며 특히 상업적 MFC를 급속히 못쓰게하는 또는 먼지를 생성하는 하이 반응성 가스를 이용하는 경우에 적합하다.
도 1은 진공설비로서 진공처리 반응로에 대한 종래기술의 가스 공급장치와 가스공급라인을 따르는 최종의 압력변화를 나타낸 도면,
도 2는 실현의 기본형태로 본 발명에 따라 동작하는 본 발명의 장치를 개략적으로 도시한 도면,
도 3은 본 발명의 방법에 따라 동작하는 본 발명의 장치의 도 1에 따른 표시와 가스 공급라인을 따르는 압력의 최종코스를 나타낸 도면,
도 4는 도 2의 도시의 변형으로 본 발명의 장치 및 방법의 다른 실시예를 나타내는데, 제한 값의 도달이 모니터되며, 매스 플로우 컨트롤러의 명확한 대치의 상황을 도시한 도면,
도 5는 소정의 값에서 실제적인 가스흐름을 자동적으로 제어하는 본 발명의 방법에 따라 동작하는 본 발명의 장치의 보다 양호한 실현의 형태를 도시한 도면,
도 6은 도 2,4 및 5에 따른 가스 흐름전도요소를 실현하는 제 1형태를 도시한 도면,
도 7은 가스 흐름전도요소를 실현하는 제 2형태를 도시한 도면,
도 8은 가스 흐름전도요소를 실현하는 제 3형태를 도시한 도면,
도 9는 가스 흐름전도요소를 실현하는 제 4형태를 도시한 도면,
도 10은 소정의 가스흐름에서 가스 흐름전도요소를 따르는 압력강하를 사전 설정하기 위한 조정장치를 나타낸 도면,
도 11은 가스 흐름전도요소를 온도 제어하는 하나의 가능성을 개략적으로 도시한 도면,
도 12는 온도제어를 실현하는 제 2 및 양호한 형태를 도시한 도면,
도 13은 온도 제어식 진공반응로에서 가스 흐름전도요소의 온도제어의 양호한 형태를 도시한 도면,
도14는 진공설비에 본 발명의 제어된 가스혼합물 공급방법에 따라 동작하는 장치를 도시한 도면,
도 15는 둘 이상의 병렬 동작식 진공설비 특히 진공처리 반응로를 가동하기 위한 본 발명의 방법에 따라 동작하는 장치의 개략도,
도 16은 가스 흐름전도요소의 예로서 다른 튜브에 따른 압력강하특성을 도시하는 도면, 및
도 17은 유속의 함수로서 튜브에 따른 압력강하를 도시한 도면이다.
＜도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명＞
1: 가스 탱크 2: 압력 조절기
3: 매스 플로우 컨트롤러 4:진공 설비
6:진공 펌프 8: 가스 흐름 전도 요소
10u, 10d: 압력측정게이지 12: 압력차 형성 유니트
Claims (44)
- 진공설비로의 실제의 가스의 흐름을 모니터하되, 진공설비와 가스 저장용의 압력탱크 사이에 상호 접속된 적어도 하나의 조정 가능한 매스 플로우 컨트롤러에 의해 원하는 가스흐름을 설정함으로써 생기는 실제의 가스 흐름을 모니터하기 위한 방법에 있어서,상기 진공설비와 상기 매스 플로우 컨트롤러 사이에 가스 흐름 전도 요소를 상호 접속시키는 단계;상기 매스 플로우 컨트롤러에 의해 설정되는 가스의 소정의 흐름에서 상기 가스 흐름전도요소를 따라 압력강하를 사전설정하는 단계;상기 가스 흐름 전도요소를 따라 압력강하를 측정함으로써 상기 실제의 가스흐름을 모니터하는 단계; 및상기 측정된 압력강하와 상기 사전설정된 압력강하를 비교하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 사전설정된 압력강하가 상기 소정의 가스흐름에서 0.1바(bar) 이상이 되도록 상기 흐름전도요소를 설정하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 2항에 있어서, 상기 사전설정된 압력강하는 상기 원하는 가스흐름에서 최대 1 바가 되는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 비교단계로부터 압력차 신호를 생성하고 이 압력차 신호와 사전설정된 임계치를 비교하여 상기 압력차 신호가 상기 임계치에 이르자마자 그 표시신호를 생성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 비교단계로부터 압력차 신호를 생성해서 상기 압력차 신호의 함수로서 상기 압력탱크와 상기 매스플로우 컨트롤러사이의 매스 플로우 제어요소를 조정해서 상기 원하는 가스흐름에 대해 상기 가스흐름을 네거티브 피드백 제어하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 1항에 있어서, 적어도 하나의 튜브, 가스흐름라인의 흐름 단면적 수축부, 상기 가스흐름 전도요소로서 가스흐름라인 내에 다공성 부재를 제공하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 흐름전도요소를 따라 상기 가스의 사전설정된 조정 매스 플로우를 흐르게하여 상기 전도요소에서 압력강하를 사전설정하여 상기 요소의 일단부에서의 압력과 상기 흐름 전도요소의 다른 단부에서의 압력사이의 최종의 압력차를 측정하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 흐름 전도요소 업스트림의 제 1압력과 상기 전도요소 다운스트림의 제 2압력을 측정하고 상기 측정된 제 1압력과 제 2압력사이의 신호차를 형성함으로써 상기 압력강하를 측정하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 1항에 있어서, 제 1온도에서의 압력강하를 사전설정하고, 제 2온도에서의 압력강하를 측정하여 적어도 사실상 동일하게 되는 제 1온도와 제 2온도를 설정하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 흐름전도요소의 온도를 제어하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 흐름전도요소의 온도를 네거티브 피드백 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 1항에 있어서, 온도제어되는 상기 설비의 영역에 상기 흐름전도요소를 열적으로 타이트하게 결합하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 12항에 있어서, 상기 온도제어된 진공반응로의 벽에 또는 그 내부에 상기 흐름전도요소를 일체화하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 1항에 있어서, 적어도 하나의 용량성 타입 압력게이지에 의해 상기 각각의 압력강하를 결정 또는 모니터하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 하나의 흐름전도요소를 형성하는 두 개 이상의 평행 흐름전도요소를 제공하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 설비는 두 개 이상의 평행동작 서브 설비로 형성되며, 상기 서브 설비 각각은 이에 흐르는 가스흐름과 관련하여 개별적으로 모니터되며, 상기 서브 설비중 하나의 그룹은 이로의 가스흐름과 관련하여 공통으로 모니터되는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 1항에 있어서, 원하는 가스흐름의 범위에 대해 상기 흐름전도요소를 선택해서 비 난류(non-turbulent)흐름을 생성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 17항에 있어서, 난류의 발생을 방지하도록 다수의 평행흐름전도요소로서 상기 흐름전도요소를 선택하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 18항에 있어서, 상기 흐름전도요소와 공칭적으로 동일한 평행 흐름전도요소를 선택하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 설비는 하나 이상의 워크피스에 대한 하나 이상의 진공처리 반응로인 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 설비는 플라즈마 화학적 증착 반응로 및 저압 화학적 증착 반응로 중 하나인 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 1항에 있어서, 먼지 증착에 의한 큰 단면적이 크게 감소되는 것을 방지할 정도로 큰 상기 흐름전도요소의 최소흐름 단면적을 선택하여 상기 흐름전도요소를 늘임으로써 상기 큰 단면적을 보상하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 1항에 있어서, 가스혼합물 성분 중 적어도 일부에 대해 상기 방법을 실행해서 상기 설비 업스트림의 가스와 상기 흐름전도요소 업스트림을 혼합하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 가스는 가스혼합물이며, 상기 가스혼혼합물을 형성하는 적어도 일부의 성분에 대해 상기 가스흐름 전도요소를 따르는 압력강하를 사전설정하고 , 상기 가스 혼합물에 대해 상기 가스 흐름 전도요소를 따르는 압력강하를 사전설정해서 상기 설비를 가동시키기 전에 상기 적어도 일부의 성분에 의한 압력강하를 모니터해서 상기 설비의 가동 중 상기 가스 혼합물에 기인한 압력강하를 모니터하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 압력탱크 다운스트림의 압력조절기와 상기 설비사이의 전체 압력강하의 실질적인 부분인 가스의 원하는 매스 플로우에서의 압력강하를 유도하도록 상기 적어도 하나의 흐름전도요소를 선택하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
- 진공설비, 하나 이상의 조정가능한 가스 매스 플로우 컨트롤러를 통해서 압력탱크로부터 상기 설비로 이어지는 하나 이상의 가스공급라인,상기 설비 및 상기 가스 매스플로우 컨트롤러 사이에 상호 접속된 하나 이상의 가스흐름 전도 요소, 및 한 입력이 상기 흐름 전도 요소의 업스트림부에 접속되며, 다른 입력이 그 다운 스트림부에 동적으로 접속되는 압력차 측정장치를 구비하며 상기 압력차 측정장치의 출력이 상기 설비를 향하는 상기 가스의 실제의 매스 플로우를 나타내는 신호를 생성하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 제 26항에 있어서, 상기 압력차측정장치의 출력은 트레숄드 장치에 동적으로 접속되는 것을 특징으로 하는 진공처리장치
- 제 26항에 있어서, 상기 압력차 측정장치의 출력은 압력차 형성장치에 트레숄드 장치의 한 입력에 동적으로 접속되며, 상기 압력차 형성장치의 제 2입력은 조정가능 기준신호장치에 동적으로 접속되는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 제 28항에 있어서, 상기 압력차 형성장치의 출력은 압력차 형성장치의 출력신호의 함수로서 네거티브 피드백 루프내의 실제의 매스 플로우를 조정하기 위해 제어가능한 매스 플로우 제어요소의 제어입력에 동적으로 접속되는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 제 26항에 있어서, 상기 흐름전도요소는 적어도 하나의 튜브, 적어도 하나의 수축부를 가지는 플로우 라인, 노즐, 가스 플로우 라인 내의 다공성 부재로 구성되는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 제 26항에 있어서, 상기 압력차 측정장치는 상기 흐름전도요소의 업스트림 흐름단부에서의 압력측정게이지 및 상기 흐름전도요소의 다운스트림에서의 압력측정게이지를 구비하며, 상기 압력차 측정장치의 출력신호는 상기 게이지의 적어도 두 개의 전기출력신호의 차를 형성함으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 제 31항에 있어서, 상기 다운스트림 압력게이지는 상기 설비에 구비되는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 제 26항에 있어서, 상기 흐름전도요소용의 온도제어장치를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 제 33항에 있어서, 상기 온도제어장치는 네거티브 피드백 온도 제어루프를 구비하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 제 26항에 있어서, 상기 하나 이상의 흐름전도요소는 상기 설비의 온도제어 영역에 타이트하게 열적으로 결합되는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 제 35항에 있어서, 상기 흐름전도요소는 반응로 용기의 벽 내부에 일체화되거나 그에 장착되는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 제 26항에 있어서, 상기 흐름전도요소는 튜브, 하나 이상의 수축부를 가지는 튜브, 노즐, 및 다공의 부재로 된 그룹에서 선택된 두 개 이상의 평행 흐름전도요소를 구비하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 제 37항에 있어서, 상기 평행 흐름전도요소는 하나의 조정가능한 매스 플로우 컨트롤러 및 상기 설비사이에 접속되는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 제 26항에 있어서, 상기 흐름전도요소는 상기 설비의 동작동안 비 난류 흐름을 생성하도록 선택되는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 제 26항에 있어서, 상기 설비는 진공처리반응로 인 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 제 26항에 있어서, 상기 설비는 PECVD 또는 LPCVD 반응로인 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 제 26항에 있어서, 상기 압력탱크는 가스혼합물을 포함하며, 가스혼합물의 일부의 성분이 조정가능한 매스 플로우 컨트롤러 및 상기 설비를 향하는 상기 흐름전도요소중 하나를 통해 유도되는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 제 26항에 있어서, 각각의 설비는 각각의 조정가능한 매스 플로우 컨트롤러 및 흐름전도요소를 통해서 하나의 공통 압력탱크로부터 공급되는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
- 제 1항에 있어서, 제 1온도에서의 압력강하를 사전설정하고, 제 2온도에서의 압력강하를 측정하여 상기 제 1온도와 제 2온도에서 행해지는 차에 따라 두 개의 압력강하 중 하나를 조정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스흐름 모니터방법.
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