JPH07240375A - ガス供給装置 - Google Patents
ガス供給装置Info
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- JPH07240375A JPH07240375A JP5286794A JP5286794A JPH07240375A JP H07240375 A JPH07240375 A JP H07240375A JP 5286794 A JP5286794 A JP 5286794A JP 5286794 A JP5286794 A JP 5286794A JP H07240375 A JPH07240375 A JP H07240375A
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- gas supply
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 元配管１にガス圧を調節するレギュレータ４
を設け、該レギュレータ４のアウト側に複数の枝配管２
ａ、２ｂ、２ｃを設け、各枝配管２ａ、２ｂ、２ｃにマ
スフローコントローラ５ａ、５ｂ、５ｃを設け、これ等
５ａ、５ｂ、５ｃを通して複数箇所にガス供給するガス
供給装置において、各マスフローコントローラ５ａ、５
ｂ、５ｃのイン側とアウト側の圧力差を安定にして各ガ
ス供給先へのガス供給量の安定化を図る。 【構成】 各枝配管２ａ、２ｂ、２ｃ毎にマスフローコ
ントローラ５ａ、５ｂ、５ｃイン側の圧力を制御する圧
力制御手段６ａ、６ｂ、６ｃを設ける。圧力制御手段６
ａ、６ｂ、６ｃはマスフローコントローラ５ａ、５ｂ、
５ｃのイン側とアウト側の圧力センサ７ａ、７ｂの出力
を比較し、比較結果に応じマスフローコントローラ５
ａ、５ｂ、５ｃイン側の圧力制御用オートレギュレータ
１０ａ、１０ｂ、１０ｃを制御する。
を設け、該レギュレータ４のアウト側に複数の枝配管２
ａ、２ｂ、２ｃを設け、各枝配管２ａ、２ｂ、２ｃにマ
スフローコントローラ５ａ、５ｂ、５ｃを設け、これ等
５ａ、５ｂ、５ｃを通して複数箇所にガス供給するガス
供給装置において、各マスフローコントローラ５ａ、５
ｂ、５ｃのイン側とアウト側の圧力差を安定にして各ガ
ス供給先へのガス供給量の安定化を図る。 【構成】 各枝配管２ａ、２ｂ、２ｃ毎にマスフローコ
ントローラ５ａ、５ｂ、５ｃイン側の圧力を制御する圧
力制御手段６ａ、６ｂ、６ｃを設ける。圧力制御手段６
ａ、６ｂ、６ｃはマスフローコントローラ５ａ、５ｂ、
５ｃのイン側とアウト側の圧力センサ７ａ、７ｂの出力
を比較し、比較結果に応じマスフローコントローラ５
ａ、５ｂ、５ｃイン側の圧力制御用オートレギュレータ
１０ａ、１０ｂ、１０ｃを制御する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガス供給装置、特に元
配管にガス圧を調節するレギュレータを設け、この元配
管のレギュレータのアウト側に複数の枝配管を設け、各
枝配管にマスフローコントローラを設け、各マスフロー
コントローラを通して複数箇所にガスを供給するガス供
給装置に関する。
配管にガス圧を調節するレギュレータを設け、この元配
管のレギュレータのアウト側に複数の枝配管を設け、各
枝配管にマスフローコントローラを設け、各マスフロー
コントローラを通して複数箇所にガスを供給するガス供
給装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】マルチヘッドの成膜装置、特に常圧ＣＶ
Ｄ装置にガス、例えばモノシランＳｉＨ4 等を供給する
ガス供給装置は、従来においては一般に図３に示す構成
を有していた。１は元配管、２ａ、２ｂ、２ｃは元配管
１から分岐した枝配管、３は元配管１に設けられたバル
ブ、４はバルブ３のガスアウト側に設けられたレギュレ
ータで、ガス圧を調整する。具体的には、例えば２０ｋ
ｇ／ｃｍ2 の圧力で供給されたガス、例えばＳｉＨ4 等
に対してその圧力を２ｋｇ／ｃｍ2 に下げる。
Ｄ装置にガス、例えばモノシランＳｉＨ4 等を供給する
ガス供給装置は、従来においては一般に図３に示す構成
を有していた。１は元配管、２ａ、２ｂ、２ｃは元配管
１から分岐した枝配管、３は元配管１に設けられたバル
ブ、４はバルブ３のガスアウト側に設けられたレギュレ
ータで、ガス圧を調整する。具体的には、例えば２０ｋ
ｇ／ｃｍ2 の圧力で供給されたガス、例えばＳｉＨ4 等
に対してその圧力を２ｋｇ／ｃｍ2 に下げる。
【０００３】５ａ、５ｂ、５ｃは各枝配管２ａ、２ｂ、
２ｃに設けられたマスフローコントローラである。この
枝配管２ａ、２ｂ、２ｃのうち最もレギュレータ４に近
い枝配管２ｃの分岐点はレギュレータ４から例えば１０
ｍ程度離れている。この枝配管２ｃと、レギュレータ４
から最も遠い枝配管２ａとの分岐点間の距離は例えば１
ｍ程度である。マスフローコントローラ５ａ、５ｂ、５
ｃはそれぞれ枝配管２ａ、２ｂ、２ｃから各供給先へ分
岐して供給するガスの供給量を制御する。
２ｃに設けられたマスフローコントローラである。この
枝配管２ａ、２ｂ、２ｃのうち最もレギュレータ４に近
い枝配管２ｃの分岐点はレギュレータ４から例えば１０
ｍ程度離れている。この枝配管２ｃと、レギュレータ４
から最も遠い枝配管２ａとの分岐点間の距離は例えば１
ｍ程度である。マスフローコントローラ５ａ、５ｂ、５
ｃはそれぞれ枝配管２ａ、２ｂ、２ｃから各供給先へ分
岐して供給するガスの供給量を制御する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図３に示す
ような従来のガス供給装置によれば、マスフローコント
ローラ５ａ、５ｂ、５ｃの流量が多くなる程枝配管２
ａ、２ｂ、２ｃの分岐点の圧力が２ｃ、２ｂ、２ａの順
で低くなり、その結果、マスフローコントローラ５ｃ、
５ｂ、５ａのイン側とアウト側の圧力差が大きくなり、
マスフローコントローラ５ｃ、５ｂ、５ａによるガス供
給量のコントロールが難しくなり、流量が不安定になる
のである。特に、レギュレータ４から遠い枝配管（例え
ば５ａ）程その傾向が強くなる。また、レギュレータ４
から近い枝配管（例えば５ｃ）のガス供給量が多い程、
あるいはガス供給量の変動が激しい程それよりも遠い枝
配管（例えば５ｂ、５ａ）のガス供給量の安定性が悪く
なる。
ような従来のガス供給装置によれば、マスフローコント
ローラ５ａ、５ｂ、５ｃの流量が多くなる程枝配管２
ａ、２ｂ、２ｃの分岐点の圧力が２ｃ、２ｂ、２ａの順
で低くなり、その結果、マスフローコントローラ５ｃ、
５ｂ、５ａのイン側とアウト側の圧力差が大きくなり、
マスフローコントローラ５ｃ、５ｂ、５ａによるガス供
給量のコントロールが難しくなり、流量が不安定になる
のである。特に、レギュレータ４から遠い枝配管（例え
ば５ａ）程その傾向が強くなる。また、レギュレータ４
から近い枝配管（例えば５ｃ）のガス供給量が多い程、
あるいはガス供給量の変動が激しい程それよりも遠い枝
配管（例えば５ｂ、５ａ）のガス供給量の安定性が悪く
なる。
【０００５】その原因は、一つの元配管１から複数のヘ
ッドへのガスの供給を元配管１から分岐した元配管２
ａ、２ｂ、２ｃを通して行うため枝配管の長さ、内径及
びガス流量によりガス損が変化し、マスフローコントロ
ーラ５ａ、５ｂ、５ｃのイン側とアウト側の圧力差が不
安定になることにあり、このような現象は特にマスフロ
ーコントローラ５ａ、５ｂ、５ｃのアウト側の圧力が高
い場合、あるいは常圧の場合に顕著である。従って、マ
ルチヘッドの成膜装置の各ヘッドへのガス供給量の安定
を図ることが難しく、また、ガス供給開始時のレスポン
スが各ヘッドで異なり、そして、図４に示したようにオ
ーバーシュートが激しいというような問題があった。そ
して、ガス供給量の不安定性は、必然的に膜質、例えば
緻密さの変動、不均一性をもたらすもので、看過できな
い問題となる。
ッドへのガスの供給を元配管１から分岐した元配管２
ａ、２ｂ、２ｃを通して行うため枝配管の長さ、内径及
びガス流量によりガス損が変化し、マスフローコントロ
ーラ５ａ、５ｂ、５ｃのイン側とアウト側の圧力差が不
安定になることにあり、このような現象は特にマスフロ
ーコントローラ５ａ、５ｂ、５ｃのアウト側の圧力が高
い場合、あるいは常圧の場合に顕著である。従って、マ
ルチヘッドの成膜装置の各ヘッドへのガス供給量の安定
を図ることが難しく、また、ガス供給開始時のレスポン
スが各ヘッドで異なり、そして、図４に示したようにオ
ーバーシュートが激しいというような問題があった。そ
して、ガス供給量の不安定性は、必然的に膜質、例えば
緻密さの変動、不均一性をもたらすもので、看過できな
い問題となる。
【０００６】本発明はこのような問題点を解決すべく為
されたものであり、元配管にガス圧を調節するレギュレ
ータを設け、この元配管のレギュレータのアウト側に複
数の枝配管を設け、各枝配管にマスフローコントローラ
を設け、各マスフローコントローラを通して複数箇所に
ガスを供給するガス供給装置において、各枝配管のマス
フローコントローラのイン側とアウト側の圧力差を安定
にして各ガス供給先へのガス供給量の安定化を図ること
を目的とする。
されたものであり、元配管にガス圧を調節するレギュレ
ータを設け、この元配管のレギュレータのアウト側に複
数の枝配管を設け、各枝配管にマスフローコントローラ
を設け、各マスフローコントローラを通して複数箇所に
ガスを供給するガス供給装置において、各枝配管のマス
フローコントローラのイン側とアウト側の圧力差を安定
にして各ガス供給先へのガス供給量の安定化を図ること
を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１のガス供給装置
は、各枝配管毎にマスフローコントローラのイン側の圧
力を制御する圧力制御手段を設けたことを特徴とする。
請求項２のガス供給装置は、請求項１のガス供給装置に
おいて、圧力制御手段が、マスフローコントローラのイ
ン側の圧力センサと、この出力を受けるコントローラ
と、このコントローラにより制御されてマスフローコン
トローラの入力側の圧力を調節するオートレギュレータ
からなることを特徴とする。
は、各枝配管毎にマスフローコントローラのイン側の圧
力を制御する圧力制御手段を設けたことを特徴とする。
請求項２のガス供給装置は、請求項１のガス供給装置に
おいて、圧力制御手段が、マスフローコントローラのイ
ン側の圧力センサと、この出力を受けるコントローラ
と、このコントローラにより制御されてマスフローコン
トローラの入力側の圧力を調節するオートレギュレータ
からなることを特徴とする。
【０００８】請求項３のガス供給装置は、請求項１のガ
ス供給装置において、圧力制御手段が、マスフローコン
トローラのイン側の圧力センサと、アウト側の圧力セン
サと、これら二つの圧力センサの出力を比較するコント
ローラと、その比較結果に応じてマスフローコントロー
ラの入力側の圧力を調節するオートレギュレータからな
ることを特徴とする。
ス供給装置において、圧力制御手段が、マスフローコン
トローラのイン側の圧力センサと、アウト側の圧力セン
サと、これら二つの圧力センサの出力を比較するコント
ローラと、その比較結果に応じてマスフローコントロー
ラの入力側の圧力を調節するオートレギュレータからな
ることを特徴とする。
【０００９】
【作用】請求項１のガス供給装置によれば、各枝配管毎
にマスフローコントローラのイン側の圧力を制御する圧
力制御手段を設けたので、この圧力制御手段によりマス
フローコントローラのイン側の圧力を調節することによ
りマスフローコントローラのイン側とアウト側の圧力差
を一定範囲内に保つことが可能となり、延いては各マス
フローコントローラによる各枝配管のガス供給量の安定
化を図ることができる。
にマスフローコントローラのイン側の圧力を制御する圧
力制御手段を設けたので、この圧力制御手段によりマス
フローコントローラのイン側の圧力を調節することによ
りマスフローコントローラのイン側とアウト側の圧力差
を一定範囲内に保つことが可能となり、延いては各マス
フローコントローラによる各枝配管のガス供給量の安定
化を図ることができる。
【００１０】請求項２のガス供給装置によれば、コント
ローラがマスフローコントローラのイン側の圧力に応じ
てオートレギュレータを制御してこのイン側の圧力を調
節せしめるので、マスフローコントローラのイン側とア
ウト側の圧力差を一定範囲内に保つことが可能となり、
延いては各マスフローコントローラによる各枝配管のガ
ス供給量の制御の安定化を図ることができる。請求項３
のガス供給装置によれば、コントローラがマスフローコ
ントローラのイン側とアウト側との圧力の比較結果に基
づいてオートレギュレータを制御してイン側の圧力を調
節せしめるので、マスフローコントローラのイン側とア
ウト側の圧力差を一定範囲内に保つことができ、延いて
は各マスフローコントローラによる各枝配管のガス供給
量の安定化を図ることができる。
ローラがマスフローコントローラのイン側の圧力に応じ
てオートレギュレータを制御してこのイン側の圧力を調
節せしめるので、マスフローコントローラのイン側とア
ウト側の圧力差を一定範囲内に保つことが可能となり、
延いては各マスフローコントローラによる各枝配管のガ
ス供給量の制御の安定化を図ることができる。請求項３
のガス供給装置によれば、コントローラがマスフローコ
ントローラのイン側とアウト側との圧力の比較結果に基
づいてオートレギュレータを制御してイン側の圧力を調
節せしめるので、マスフローコントローラのイン側とア
ウト側の圧力差を一定範囲内に保つことができ、延いて
は各マスフローコントローラによる各枝配管のガス供給
量の安定化を図ることができる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明ガス供給装置を図示実施例に従
って詳細に説明する。図１は本発明ガス供給装置の一つ
の実施例を示す構成図である。本ガス供給装置は、図３
に示した従来のガス供給装置とは、各枝配管２ａ、２
ｂ、２ｃ毎に圧力制御手段６ａ、６ｂ、６ｃを設けた点
で大きく異なっているが、それ以外の点では共通し、共
通する点については既に説明済みなのでその説明を省略
し、相違する点についてのみ説明する。
って詳細に説明する。図１は本発明ガス供給装置の一つ
の実施例を示す構成図である。本ガス供給装置は、図３
に示した従来のガス供給装置とは、各枝配管２ａ、２
ｂ、２ｃ毎に圧力制御手段６ａ、６ｂ、６ｃを設けた点
で大きく異なっているが、それ以外の点では共通し、共
通する点については既に説明済みなのでその説明を省略
し、相違する点についてのみ説明する。
【００１２】圧力制御手段６ａ、６ｂ、６ｃは互いに全
く同じ構成なので、そのうちの一つ圧力制御手段６ａを
例として取り上げて説明する。圧力制御手段６ａは、マ
スフローコントローラ５ａのイン側に設けた圧力センサ
７ａと、マスフローコントローラ５ａのアウト側に設け
た圧力センサ８ａと、マスフローコントローラ５ａのイ
ン側の圧力を入力信号に応じて自動的に調節するオート
レギュレータ１０ａと、圧力センサ７ａ及び８ａの出力
を受けてその出力の比較結果に応じて制御信号を上記オ
ートレギュレータ１０ａへ送出する（フィードバックす
る）コントローラ９ｃにより構成されている。
く同じ構成なので、そのうちの一つ圧力制御手段６ａを
例として取り上げて説明する。圧力制御手段６ａは、マ
スフローコントローラ５ａのイン側に設けた圧力センサ
７ａと、マスフローコントローラ５ａのアウト側に設け
た圧力センサ８ａと、マスフローコントローラ５ａのイ
ン側の圧力を入力信号に応じて自動的に調節するオート
レギュレータ１０ａと、圧力センサ７ａ及び８ａの出力
を受けてその出力の比較結果に応じて制御信号を上記オ
ートレギュレータ１０ａへ送出する（フィードバックす
る）コントローラ９ｃにより構成されている。
【００１３】次に、圧力制御手段６ａの動作を説明す
る。コントローラ９ａは、マスフローコントローラ５ａ
のイン側圧力センサ７ａからの出力と、アウト側圧力セ
ンサ８ａからの出力とを比較して、その比較結果に応じ
てオートレギュレータ１０ａを下記のように制御する。 （１）｜Ｓｉｎ−Ｓｏｕｔ｜≦Ｓｓｔａならば現状維持 圧力センサ７ａの出力（即ちマスフローコントローラ５
ａのイン側の圧力）Ｓｉｎと圧力センサ８ａの出力（即
ちマスフローコントローラ５ａのアウト側の圧力）Ｓｏ
ｕｔとの差の絶対値が予め設定された差圧、即ち設定差
圧Ｓｓｔａ（これはマスフローコントローラ５ａの動作
差圧以上の値に設定されており、本実施例では０．５ｋ
ｇ／ｃｍ2 である。）よりも小さいか等しいときはコン
トローラ９ａはオートレギュレータ１０ａの状態を変化
させない。即ち、オートレギュレータ１０ａにフィード
バックがかからない。従って、オートレギュレータ１０
ａは現在の状態を維持する。
る。コントローラ９ａは、マスフローコントローラ５ａ
のイン側圧力センサ７ａからの出力と、アウト側圧力セ
ンサ８ａからの出力とを比較して、その比較結果に応じ
てオートレギュレータ１０ａを下記のように制御する。 （１）｜Ｓｉｎ−Ｓｏｕｔ｜≦Ｓｓｔａならば現状維持 圧力センサ７ａの出力（即ちマスフローコントローラ５
ａのイン側の圧力）Ｓｉｎと圧力センサ８ａの出力（即
ちマスフローコントローラ５ａのアウト側の圧力）Ｓｏ
ｕｔとの差の絶対値が予め設定された差圧、即ち設定差
圧Ｓｓｔａ（これはマスフローコントローラ５ａの動作
差圧以上の値に設定されており、本実施例では０．５ｋ
ｇ／ｃｍ2 である。）よりも小さいか等しいときはコン
トローラ９ａはオートレギュレータ１０ａの状態を変化
させない。即ち、オートレギュレータ１０ａにフィード
バックがかからない。従って、オートレギュレータ１０
ａは現在の状態を維持する。
【００１４】（２）Ｓｉｎ−Ｓｏｕｔ＞Ｓｓｔａならば
イン側圧力を下げるマスフローコントローラ５ａのイン
側の圧力、即ちＳｉｎとアウト側の圧力、即ちＳｏｕｔ
との圧力差Ｓｉｎ−Ｓｏｕｔが設定差圧Ｓｓｔａよりも
大きいときには、コントローラ９ａはオートレギュレー
タ１０ａをマスフローコントローラ５ａのイン側の圧力
を下げるように制御（即ち、フィードバック）する。 （３）Ｓｏｕｔ−Ｓｉｎ＞Ｓｓｔａならばイン側圧力を
上げるマスフローコントローラ５ａのイン側の圧力、即
ちＳｉｎとアウト側の圧力、即ちＳｏｕｔとの圧力差Ｓ
ｏｕｔ−Ｓｉｎが設定差圧Ｓｓｔａよりも小さいときに
は、コントローラ９ａはオートレギュレータ１０ａをマ
スフローコントローラ５ａのイン側の圧力を上げるよう
に制御（即ち、フィードバック）する。
イン側圧力を下げるマスフローコントローラ５ａのイン
側の圧力、即ちＳｉｎとアウト側の圧力、即ちＳｏｕｔ
との圧力差Ｓｉｎ−Ｓｏｕｔが設定差圧Ｓｓｔａよりも
大きいときには、コントローラ９ａはオートレギュレー
タ１０ａをマスフローコントローラ５ａのイン側の圧力
を下げるように制御（即ち、フィードバック）する。 （３）Ｓｏｕｔ−Ｓｉｎ＞Ｓｓｔａならばイン側圧力を
上げるマスフローコントローラ５ａのイン側の圧力、即
ちＳｉｎとアウト側の圧力、即ちＳｏｕｔとの圧力差Ｓ
ｏｕｔ−Ｓｉｎが設定差圧Ｓｓｔａよりも小さいときに
は、コントローラ９ａはオートレギュレータ１０ａをマ
スフローコントローラ５ａのイン側の圧力を上げるよう
に制御（即ち、フィードバック）する。
【００１５】このような圧力制御手段６ａを有するの
で、マスフローコントローラ５ａのイン側とアウト側の
圧力差を常に設定差圧（例えば０．５ｋｇ／ｃｍ2 ）以
下に維持することができる。従って、枝配管２ａを通し
てのガス供給量をマスフローコントローラ５ａにより安
定にコントロールした状態を維持することができる。そ
して、他の枝配管２ｂ、２ｃもその圧力制御手段６ａと
同様の圧力制御手段６ｂ、６ｃを有するので、各枝配管
２ｂ、２ｃのガス供給量をマスフローコントローラ５
ａ、５ｂ、５ｃにより安定にコントロールした状態を維
持することができる。
で、マスフローコントローラ５ａのイン側とアウト側の
圧力差を常に設定差圧（例えば０．５ｋｇ／ｃｍ2 ）以
下に維持することができる。従って、枝配管２ａを通し
てのガス供給量をマスフローコントローラ５ａにより安
定にコントロールした状態を維持することができる。そ
して、他の枝配管２ｂ、２ｃもその圧力制御手段６ａと
同様の圧力制御手段６ｂ、６ｃを有するので、各枝配管
２ｂ、２ｃのガス供給量をマスフローコントローラ５
ａ、５ｂ、５ｃにより安定にコントロールした状態を維
持することができる。
【００１６】しかして、マルチヘッドの成膜装置の各ヘ
ッドへのガス供給量の安定を図ることが難しく、また、
ガス供給開始時のレスポンスが各ヘッドで異なり、そし
て、オーバーシュートが激しいというような問題を解決
することができる。図２は圧力制御手段の変形例を示す
構成図である。この圧力制御手段６は、図１のガス供給
装置の各圧力制御手段６ａ、６ｂ、６ｃとは、マスフロ
ーコントローラ５のアウト側には圧力センサを設けず、
コントローラ９がマスフローコントローラ５のイン側の
圧力センサ７の出力のみに応じてオートレギュレータ１
０を制御するようにした点で異なっている。
ッドへのガス供給量の安定を図ることが難しく、また、
ガス供給開始時のレスポンスが各ヘッドで異なり、そし
て、オーバーシュートが激しいというような問題を解決
することができる。図２は圧力制御手段の変形例を示す
構成図である。この圧力制御手段６は、図１のガス供給
装置の各圧力制御手段６ａ、６ｂ、６ｃとは、マスフロ
ーコントローラ５のアウト側には圧力センサを設けず、
コントローラ９がマスフローコントローラ５のイン側の
圧力センサ７の出力のみに応じてオートレギュレータ１
０を制御するようにした点で異なっている。
【００１７】そして、この圧力制御手段６は、マスフロ
ーコントローラ５のイン側の圧力センサ７の出力が予め
設定した基準値（あるいは基準帯域）よりも高いときに
はマスフローコントローラ５のイン側の圧力を下げるよ
うに、逆に低いときにはマスフローコントローラ５のイ
ン側の圧力を上げるようにオートレギュレータ１０を制
御する。図２に示すような圧力制御手段は、マスフロー
コントローラ５のアウト側の圧力の変動が少ない場合に
は好適である。というのは、この場合にはマスフローコ
ントローラ５の前後の圧力差は概ねマスフローコントロ
ーラ５のイン側の圧力を検出するだけで検出することが
できるからである。
ーコントローラ５のイン側の圧力センサ７の出力が予め
設定した基準値（あるいは基準帯域）よりも高いときに
はマスフローコントローラ５のイン側の圧力を下げるよ
うに、逆に低いときにはマスフローコントローラ５のイ
ン側の圧力を上げるようにオートレギュレータ１０を制
御する。図２に示すような圧力制御手段は、マスフロー
コントローラ５のアウト側の圧力の変動が少ない場合に
は好適である。というのは、この場合にはマスフローコ
ントローラ５の前後の圧力差は概ねマスフローコントロ
ーラ５のイン側の圧力を検出するだけで検出することが
できるからである。
【００１８】尚、上記実施例は元配管１から分岐した枝
配管２の数が３個であったが、本発明ガス供給装置は枝
配管２の数が３個以外（例えば２個、あるいは４個以
上）のものに適用できることはいうまでもない。そし
て、本発明ガス供給装置によりガスの供給を受ける装置
には、マルチヘッドの成膜装置、例えばＣＶＤ装置のほ
か、ＲＩＥ装置、拡散炉等種々のものがあり得る。
配管２の数が３個であったが、本発明ガス供給装置は枝
配管２の数が３個以外（例えば２個、あるいは４個以
上）のものに適用できることはいうまでもない。そし
て、本発明ガス供給装置によりガスの供給を受ける装置
には、マルチヘッドの成膜装置、例えばＣＶＤ装置のほ
か、ＲＩＥ装置、拡散炉等種々のものがあり得る。
【００１９】
【発明の効果】請求項１のガス供給装置は、各枝配管毎
にマスフローコントローラのイン側の圧力を制御する圧
力制御手段を設けたことを特徴とするものである。従っ
て、請求項１のガス供給装置によれば、各枝配管毎にマ
スフローコントローラのイン側の圧力を制御する圧力制
御手段を設けたので、この圧力制御手段によりマスフロ
ーコントローラのイン側の圧力を調節することによりマ
スフローコントローラのイン側とアウト側の圧力差を一
定範囲内に保つことが可能となり、延いては各マスフロ
ーコントローラによる各枝配管のガス供給量の安定化を
図ることができる。
にマスフローコントローラのイン側の圧力を制御する圧
力制御手段を設けたことを特徴とするものである。従っ
て、請求項１のガス供給装置によれば、各枝配管毎にマ
スフローコントローラのイン側の圧力を制御する圧力制
御手段を設けたので、この圧力制御手段によりマスフロ
ーコントローラのイン側の圧力を調節することによりマ
スフローコントローラのイン側とアウト側の圧力差を一
定範囲内に保つことが可能となり、延いては各マスフロ
ーコントローラによる各枝配管のガス供給量の安定化を
図ることができる。
【００２０】請求項２のガス供給装置は、圧力制御手段
が、マスフローコントローラのイン側の圧力センサと、
この出力を受けるコントローラと、このコントローラに
より制御されてマスフローコントローラの入力側の圧力
を調節するオートレギュレータからなることを特徴とす
るものである。従って、請求項２のガス供給装置によれ
ば、コントローラがマスフローコントローラのイン側の
圧力に応じてオートレギュレータを制御して調節せしめ
るので、マスフローコントローラの前後の圧力差を一定
範囲内に保つことが可能となり、延いては各マスフロー
コントローラによる各枝配管のガス供給量の安定化を図
ることができる。
が、マスフローコントローラのイン側の圧力センサと、
この出力を受けるコントローラと、このコントローラに
より制御されてマスフローコントローラの入力側の圧力
を調節するオートレギュレータからなることを特徴とす
るものである。従って、請求項２のガス供給装置によれ
ば、コントローラがマスフローコントローラのイン側の
圧力に応じてオートレギュレータを制御して調節せしめ
るので、マスフローコントローラの前後の圧力差を一定
範囲内に保つことが可能となり、延いては各マスフロー
コントローラによる各枝配管のガス供給量の安定化を図
ることができる。
【００２１】請求項３のガス供給装置は、圧力制御手段
が、マスフローコントローラのイン側の圧力センサと、
アウト側の圧力センサと、これら二つの圧力センサを比
較するコントローラと、このコントローラの出力により
制御されてマスフローコントローラの入力側の圧力を調
節するオートレギュレータからなることを特徴とするも
のである。従って、請求項３のガス供給装置によれば、
コントローラがマスフローコントローラのイン側とアウ
ト側との圧力差に基づいてオートレギュレータを制御し
てマスフローコントローラのイン側の圧力を調節せしめ
るので、マスフローコントローラの前後の圧力差を一定
範囲内に保つことが可能となり、延いては各マスフロー
コントローラによる各枝配管のガス供給量の安定化を図
ることができる。
が、マスフローコントローラのイン側の圧力センサと、
アウト側の圧力センサと、これら二つの圧力センサを比
較するコントローラと、このコントローラの出力により
制御されてマスフローコントローラの入力側の圧力を調
節するオートレギュレータからなることを特徴とするも
のである。従って、請求項３のガス供給装置によれば、
コントローラがマスフローコントローラのイン側とアウ
ト側との圧力差に基づいてオートレギュレータを制御し
てマスフローコントローラのイン側の圧力を調節せしめ
るので、マスフローコントローラの前後の圧力差を一定
範囲内に保つことが可能となり、延いては各マスフロー
コントローラによる各枝配管のガス供給量の安定化を図
ることができる。
【図１】本発明ガス供給装置の一つの実施例を示す構成
図である。
図である。
【図２】圧力制御手段の変形例を示す構成図である。
【図３】ガス供給装置の従来例を示す構成図である。
【図４】オーバーシュートの説明図である。
１ 元配管 ２ 枝配管 ４ レギュレータ ５ マスフローコントローラ ６ 圧力制御手段 ７ イン側圧力センサ ８ アウト側圧力センサ ９ コントローラ １０ オートレギュレータ
Claims (3)
- 【請求項１】 元配管にガス圧を調節するレギュレータ
を設け、この元配管のレギュレータのアウト側に複数の
枝配管を設け、各枝配管にマスフローコントローラを設
け、各マスフローコントローラを通して複数箇所にガス
を供給するガス供給装置において、 上記各枝配管毎にマスフローコントローラのイン側の圧
力を制御する圧力制御手段を設けたことを特徴とするガ
ス供給装置 - 【請求項２】 マスフローコントローラのイン側に設け
た圧力センサと、 マスフローコントローラのイン側の圧力を入力制御信号
に応じて自動的に調節するオートレギュレータと、 上記圧力センサの出力を受けてそれが基準よりも高いと
きは圧力を低めるように基準よりも低いときは圧力を高
めるように上記オートレギュレータを制御するコントロ
ーラと、 により圧力制御手段が構成されたことを特徴とする請求
項１記載のガス供給装置 - 【請求項３】 マスフローコントローラのイン側に設け
た圧力センサと、 マスフローコントローラのアウト側に設けた圧力センサ
と、 マスフローコントローラのイン側の圧力を入力制御信号
に応じて自動的に調節するオートレギュレータと、 上記２つの圧力センサの出力を比較し、イン側の圧力セ
ンサの方がアウト側の圧力センサよりも出力が高いとき
は圧力を低めるようにその逆のときは圧力を高めるよう
に上記オートレギュレータを制御するコントローラと、 により圧力制御手段が構成されたことを特徴とする請求
項１記載のガス供給装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5286794A JPH07240375A (ja) | 1994-02-25 | 1994-02-25 | ガス供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5286794A JPH07240375A (ja) | 1994-02-25 | 1994-02-25 | ガス供給装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07240375A true JPH07240375A (ja) | 1995-09-12 |
Family
ID=12926830
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5286794A Pending JPH07240375A (ja) | 1994-02-25 | 1994-02-25 | ガス供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07240375A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1194603A (ja) * | 1997-06-24 | 1999-04-09 | Balzers Ag | 真空設備への実際のガスの流れを監視するための方法および真空処理装置 |
| US6896737B1 (en) * | 2000-08-28 | 2005-05-24 | Micron Technology, Inc. | Gas delivery device for improved deposition of dielectric material |
| JP2014045036A (ja) * | 2012-08-24 | 2014-03-13 | Amaya Corp | 半導体装置の製造方法 |
| US8757197B2 (en) | 2008-06-04 | 2014-06-24 | Fujikin Incorporated | Automatic pressure regulator for flow rate regulator |
| JP2016033997A (ja) * | 2014-07-31 | 2016-03-10 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 気相成長装置および気相成長方法 |
-
1994
- 1994-02-25 JP JP5286794A patent/JPH07240375A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1194603A (ja) * | 1997-06-24 | 1999-04-09 | Balzers Ag | 真空設備への実際のガスの流れを監視するための方法および真空処理装置 |
| US6896737B1 (en) * | 2000-08-28 | 2005-05-24 | Micron Technology, Inc. | Gas delivery device for improved deposition of dielectric material |
| US7271096B2 (en) | 2000-08-28 | 2007-09-18 | Micron Technology, Inc. | Method for improved deposition of dielectric material |
| US8757197B2 (en) | 2008-06-04 | 2014-06-24 | Fujikin Incorporated | Automatic pressure regulator for flow rate regulator |
| JP2014045036A (ja) * | 2012-08-24 | 2014-03-13 | Amaya Corp | 半導体装置の製造方法 |
| JP2016033997A (ja) * | 2014-07-31 | 2016-03-10 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 気相成長装置および気相成長方法 |
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