JPH04349195A - 真空装置 - Google Patents
真空装置Info
- Publication number
- JPH04349195A JPH04349195A JP12056791A JP12056791A JPH04349195A JP H04349195 A JPH04349195 A JP H04349195A JP 12056791 A JP12056791 A JP 12056791A JP 12056791 A JP12056791 A JP 12056791A JP H04349195 A JPH04349195 A JP H04349195A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pressure
- vacuum
- variable orifice
- opening degree
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims abstract 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、真空装置に関し、特に
真空容器内に導入されるガスの圧力を制御しながら真空
排気する真空装置に関する。
真空容器内に導入されるガスの圧力を制御しながら真空
排気する真空装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図３は従来の一例を示す真空装置のブロ
ック図である。従来、この種の真空装置は、例えば、図
３に示すように、真空容器３と配管を介して接続される
真空ポンプ９と、配管途中に設けられ排気系のコンダク
タンスを変化させる可変オリフィス１０と、真空容器３
の圧力を測定する圧力系と、この圧力系４の圧力値と規
定圧力と比較することによって可変オリフィス１０の開
度を調節する制御部５と、真空容器３にガスを導入する
バルブ２及びガス流量を一定にする流量調節器１とを有
していた。
ック図である。従来、この種の真空装置は、例えば、図
３に示すように、真空容器３と配管を介して接続される
真空ポンプ９と、配管途中に設けられ排気系のコンダク
タンスを変化させる可変オリフィス１０と、真空容器３
の圧力を測定する圧力系と、この圧力系４の圧力値と規
定圧力と比較することによって可変オリフィス１０の開
度を調節する制御部５と、真空容器３にガスを導入する
バルブ２及びガス流量を一定にする流量調節器１とを有
していた。
【０００３】この真空装置の動作は、まず、真空ポンプ
９により真空容器３を所定の真空度にする。次に、バル
ブ２を開き、流量調節器１で流量が調節されたガスが真
空容器３に導入される。次に、圧力計４で真空容器３の
ガス圧を測定し、制御部５により規定の圧力と比較しな
がら可変オリフィス１０の開度を制御して真空容器３の
圧力を一定にする。
９により真空容器３を所定の真空度にする。次に、バル
ブ２を開き、流量調節器１で流量が調節されたガスが真
空容器３に導入される。次に、圧力計４で真空容器３の
ガス圧を測定し、制御部５により規定の圧力と比較しな
がら可変オリフィス１０の開度を制御して真空容器３の
圧力を一定にする。
【０００４】図４は図３の真空容器の圧力とオリフィス
の開度の関係を示すグラフでもある。また、上述したよ
うに、この真空装置は、図４に示すように、真空容器３
の圧力は、可変オリフィス１０の開度の大きさとは双曲
線に示す如く感じられる。すなわち、圧力が高いところ
では、オリフィス開度が小さくても、真空ポンプの排気
能力は高く、圧力が減じるとともに真空ポンプの排気能
力は減じていき、Ｐ１に達すると排気能力はほぼ零にな
る。
の開度の関係を示すグラフでもある。また、上述したよ
うに、この真空装置は、図４に示すように、真空容器３
の圧力は、可変オリフィス１０の開度の大きさとは双曲
線に示す如く感じられる。すなわち、圧力が高いところ
では、オリフィス開度が小さくても、真空ポンプの排気
能力は高く、圧力が減じるとともに真空ポンプの排気能
力は減じていき、Ｐ１に達すると排気能力はほぼ零にな
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この従来の真空装置で
は、導入される一定流量のガスを排気する際に、１つの
可変オリフィスにより排気系のコンダクタンスを変化さ
せ、真空容器の圧力を制御しているので、ある一定のガ
ス流量に対するオリフィス開度と真空容器の圧力との関
係は、図４のＰ１以下の圧力では可変オリフィスの開度
変化に対する圧力の変化量が小さ過ぎ、オリフィス開度
を大きく、高速度で可変させなくてはならない。逆にＰ
２以上の圧力では、開度変化に対する圧力変化量が大き
過ぎ、圧力の安定性が悪くなる。このため精度よく圧力
を制御できるのは、Ｐ１からＰ２までの狭まい圧力領域
に限られるとい問題があった。
は、導入される一定流量のガスを排気する際に、１つの
可変オリフィスにより排気系のコンダクタンスを変化さ
せ、真空容器の圧力を制御しているので、ある一定のガ
ス流量に対するオリフィス開度と真空容器の圧力との関
係は、図４のＰ１以下の圧力では可変オリフィスの開度
変化に対する圧力の変化量が小さ過ぎ、オリフィス開度
を大きく、高速度で可変させなくてはならない。逆にＰ
２以上の圧力では、開度変化に対する圧力変化量が大き
過ぎ、圧力の安定性が悪くなる。このため精度よく圧力
を制御できるのは、Ｐ１からＰ２までの狭まい圧力領域
に限られるとい問題があった。
【０００６】また、この対策としてＰ２以上の圧力領域
での開度に対する圧力変化を小さくするために、真空ポ
ンプ側に可変リーク弁を設け、真空ポンプの排気能力を
落して圧力変化を小さくする方法が考えられるが、この
方法であると、真空容器のガス濃度が薄まり、後の反応
動作を不十分にするという問題もある。
での開度に対する圧力変化を小さくするために、真空ポ
ンプ側に可変リーク弁を設け、真空ポンプの排気能力を
落して圧力変化を小さくする方法が考えられるが、この
方法であると、真空容器のガス濃度が薄まり、後の反応
動作を不十分にするという問題もある。
【０００７】本発明の目的は、かかる問題を解消すべき
、所要のガス濃度に維持しつつ真空容器のガス圧力の圧
力領域の広くすることの出来る真空装置を提供すること
である。
、所要のガス濃度に維持しつつ真空容器のガス圧力の圧
力領域の広くすることの出来る真空装置を提供すること
である。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の真空装置は、真
空排気された真空容器にガスを導入し、真空ポンプでガ
ス圧を調節する制御する真空装置において、前記真空容
器と前記真空ポンプとの間にある排気用配管途中に少な
くとも二つの調節される開度の異なるコンダクタンス可
変オリフィスを備えている。
空排気された真空容器にガスを導入し、真空ポンプでガ
ス圧を調節する制御する真空装置において、前記真空容
器と前記真空ポンプとの間にある排気用配管途中に少な
くとも二つの調節される開度の異なるコンダクタンス可
変オリフィスを備えている。
【０００９】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明する
。
。
【００１０】図１は本発明の一実施例を示す真空装置の
ブロック図である。この真空装置は、図１に示すように
、真空容器３と真空ポンプ９との配管途中に圧力粗調用
可変オリフィス７及び圧力微調用可変オリフィス８と設
け、コンダクタンスを変える機構を２段としたことであ
る。そして、これら可変オリフィスの開度を圧力計４の
圧力と比較して制御する制御部５及び６を設けてある。 それ以外は従来例と同様である。
ブロック図である。この真空装置は、図１に示すように
、真空容器３と真空ポンプ９との配管途中に圧力粗調用
可変オリフィス７及び圧力微調用可変オリフィス８と設
け、コンダクタンスを変える機構を２段としたことであ
る。そして、これら可変オリフィスの開度を圧力計４の
圧力と比較して制御する制御部５及び６を設けてある。 それ以外は従来例と同様である。
【００１１】また、圧力粗調用可変オリフィス７は所定
の開度まで絞り切ることが出来、さらに圧力微調用可変
オリフィス８は前記所定の開度よりさらに小さく絞り切
ることが出来る構造になっている。
の開度まで絞り切ることが出来、さらに圧力微調用可変
オリフィス８は前記所定の開度よりさらに小さく絞り切
ることが出来る構造になっている。
【００１２】図２は図１の真空装置の動作を説明するた
めの真空容器の圧力と各オリフィスの開度の関係を示す
グラフである。次に、この真空装置の動作を説明する。 まず、従来と同じように、真空ポンプ９で真空容器３を
真空排気した後、流量調節器１より調節された流量で、
バルブ２を介して真空容器３にガスが導入される。次に
、圧力粗調用可変オリフィス７を所定の開度まで絞り切
り、圧力微調用可変オリフィス８のみで調整すると、図
２に示すように、Ｐ３とＰ４の範囲でガス圧の調整が出
来る。次に、圧力粗調用可変オリフィス７を開度を最大
にし、Ｐ１とＰ２の範囲でガス圧の調整が出来る。
めの真空容器の圧力と各オリフィスの開度の関係を示す
グラフである。次に、この真空装置の動作を説明する。 まず、従来と同じように、真空ポンプ９で真空容器３を
真空排気した後、流量調節器１より調節された流量で、
バルブ２を介して真空容器３にガスが導入される。次に
、圧力粗調用可変オリフィス７を所定の開度まで絞り切
り、圧力微調用可変オリフィス８のみで調整すると、図
２に示すように、Ｐ３とＰ４の範囲でガス圧の調整が出
来る。次に、圧力粗調用可変オリフィス７を開度を最大
にし、Ｐ１とＰ２の範囲でガス圧の調整が出来る。
【００１３】このように圧力粗調用可変オリフィス７と
圧力微調用可変オリフィス８とを組合せてその開度を調
整してやれば、Ｐ１〜Ｐ４までの広い範囲で、ガス濃度
を所望の値に維持し、ガス圧を一定に保つことが出来る
。なお、上記実施例では、圧力粗調整用可変オリフィス
７と、圧力微調整用可変オリフィス８とを直列に接続し
ているが、これを並列に接続しても同様な効果が得られ
る。
圧力微調用可変オリフィス８とを組合せてその開度を調
整してやれば、Ｐ１〜Ｐ４までの広い範囲で、ガス濃度
を所望の値に維持し、ガス圧を一定に保つことが出来る
。なお、上記実施例では、圧力粗調整用可変オリフィス
７と、圧力微調整用可変オリフィス８とを直列に接続し
ているが、これを並列に接続しても同様な効果が得られ
る。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、排気用配
管の途中に所定の開度まで絞り切れる第１の可変オリフ
ィスと、前記所定の開度より小さい開度に絞り切れる第
２のコンダクタンス可変オリフィスを設け、これらコン
ダクタンス可変オリフィスを組合せて調整することによ
って、真空容器内のガス濃度を所望の値に維持しつつ非
常に広い範囲で任意の圧力を精度よく制御できる真空装
置が得られるという効果がある。
管の途中に所定の開度まで絞り切れる第１の可変オリフ
ィスと、前記所定の開度より小さい開度に絞り切れる第
２のコンダクタンス可変オリフィスを設け、これらコン
ダクタンス可変オリフィスを組合せて調整することによ
って、真空容器内のガス濃度を所望の値に維持しつつ非
常に広い範囲で任意の圧力を精度よく制御できる真空装
置が得られるという効果がある。
【図１】本発明の一実施例を示す真空装置のブロック図
である。
である。
【図２】図１の真空装置の動作を説明するための、真空
容器の圧力と各オリフィスの開度との関係を示すグラフ
である。
容器の圧力と各オリフィスの開度との関係を示すグラフ
である。
【図３】従来の一例を示す真空装置のブロック図である
。
。
【図４】図３の真空容器の圧力とオリフィスの開度の関
係を示すグラフである。
係を示すグラフである。
１ 流量調節器
２ バルブ
３ 真空容器
４ 圧力計
５，６ 制御部
７ 圧力粗調用可変オリフィス
８ 圧力微調用可変オリフィス
９ 真空ポンプ
１０ 可変オリフィス
Claims (2)
- 【請求項１】 真空排気された真空容器にガスを導入
し、真空ポンプでガス圧を調節する制御する真空装置に
おいて、前記真空容器と前記真空ポンプとの間にある排
気用配管途中に少なくとも二つの調節される開度の異な
るコンダクタンス可変オリフィスを備えることを特徴と
する真空装置。 - 【請求項２】 一つの前記コンダクタンス可変オリフ
ィスの最小開度が他の前記コンダクタンス可変オリフィ
スの最小開度と等しいかもしくはより大きいことを特徴
とする請求項１記載の真空装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12056791A JPH04349195A (ja) | 1991-05-27 | 1991-05-27 | 真空装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12056791A JPH04349195A (ja) | 1991-05-27 | 1991-05-27 | 真空装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04349195A true JPH04349195A (ja) | 1992-12-03 |
Family
ID=14789505
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12056791A Pending JPH04349195A (ja) | 1991-05-27 | 1991-05-27 | 真空装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04349195A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6478923B1 (en) | 1999-08-20 | 2002-11-12 | Nec Corporation | Vacuum operation apparatus |
| CN104266820A (zh) * | 2014-09-19 | 2015-01-07 | 兰州空间技术物理研究所 | 一种压力衰减法测量小孔流导的方法 |
-
1991
- 1991-05-27 JP JP12056791A patent/JPH04349195A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6478923B1 (en) | 1999-08-20 | 2002-11-12 | Nec Corporation | Vacuum operation apparatus |
| CN104266820A (zh) * | 2014-09-19 | 2015-01-07 | 兰州空间技术物理研究所 | 一种压力衰减法测量小孔流导的方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19981020 |