KR100481144B1 - 그레이톤 마스크의 제조 방법, 그레이톤 마스크 생성용 블랭크, 및 패턴 전사 방법 - Google Patents

그레이톤 마스크의 제조 방법, 그레이톤 마스크 생성용 블랭크, 및 패턴 전사 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 소정의 그레이톤 패턴을 적어도 일부에 갖는 그레이톤 마스크에 대해, 소정의 그레이톤 패턴의 치수 정밀도를 만족할 수 있는 그레이톤 마스크의 제조 방법에 관한 것이다. 그레이톤 마스크의 제조 공정에서 기판에 도포되는 레지스트 막 두께의 면내 분포를 ±1% 이하로 억제한다.

Description

그레이톤 마스크의 제조 방법, 그레이톤 마스크 생성용 블랭크, 및 패턴 전사 방법{GRAYTONE MASK PRODUCING METHOD, BLANK FOR PRODUCING GRAYTONE MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD}
본 발명은 차광부와 투광부의 중간 양의 광투과를 얻기 위한 그레이톤부를 갖는 그레이톤 마스크의 제조 방법, 그레이톤 마스크 생성용 블랭크, 및 패턴 전사 방법에 관한 것이다.
최근, 대형 LCD용 마스크의 분야에 있어서, TFT(박막 트랜지스터)의 제조 공정에서 그레이톤 마스크를 이용하여 마스크 장수를 삭감하는 시도가 행해지고 있다(월간 FPD 인텔리전스, 1999년 5월 참조).
도 8a에 나타낸 바와 같이, 이와 같은 그레이톤 마스크는 차광부(1), 투광부(2) 및 그레이톤부(3)를 갖는다. 그레이톤부(3)는 그레이톤 마스크를 사용하는 대형 LCD용 노광기의 해상 한계 이하의 차광 패턴(3a)이 형성되는 영역에 해당되고, 이 영역에 의한 조사량을 저감하기 위해 이 영역을 투과하는 빛을 저감시킴으로써 포토레지스트막 두께를 선택적으로 변경하도록 설계된다. 일반적으로, 차광부(1)와 차광 패턴(3a)는 모두 크롬(Cr) 또는 크롬 화합물과 같은 동일 재료로 이루어지고 동일한 두께를 갖는 막으로 형성된다.
그레이톤 마스크를 이용하는 대형 LCD용 노광기의 해상 한계는 스테퍼 방식의 노광기인 경우에 대략 3㎛, 미러 프로젝션(mirror projection) 방식의 노광기인 경우에 대략 4㎛이다. 그 결과, 예를 들어 도 8a의 그레이톤부에서의 투광부(3b)의 스페이스폭은 3㎛ 미만으로 설정되고, 노광기의 해상 한계 이하의 차광 패턴(3a)의 라인폭은 3㎛ 미만으로 설정된다. 상기 대형 LCD용 노광기로 노광한 경우, 그레이톤부(3)를 통과한 노광광 전체는 노광량이 부족하기 때문에, 그레이톤부(3)를 통하여 노광된 포지티브형 포토 레지스트는 막 두께가 얇게만 될 뿐 기판상에 남게 된다. 이 현상을 그레이톤 효과로 칭한다. 보다 상세하게는, 노광량의 차이에 인해 통상의 차광부(1)에 대응하는 부분과 그레이톤부(3)에 대응하는 부분 사이에서 현상액에 대한 용해도의 차이가 발생되고, 그 결과 예를 들어, 도 8b에 나타낸 바와 같이 통상의 차광부(1)에 대응하는 부분(1')이 대략 1.3㎛ 정도의 두께, 그레이톤부(3)에 대응하는 부분(3')이 대략 0.3㎛ 정도의 두께, 투과부(2)에 대응하는 부분은 레지스트가 없는 부분(2')이 된다. 피가공물인 기판의 제 1 에칭은 레지스트가 없는 부분(2')에서 행해진다. 그리고, 그레이톤부(3)에 대응하는 얇은 부분(3')의 레지스트가 에싱(ashing) 등에 의해 제거되고, 이 부분에서 제 2 에칭이 행해진다. 1장의 마스크로 종래의 마스크 2장분의 공정을 행하여 마스크 장수를 삭감한다.
상기 형태의 그레이톤 마스크는 글라스 기판 상에 크롬이나 크롬화합물 등으로 이루어진 차광막을 형성하고, 그 위에 가장 일반적으로는 스핀 코트법에 의해 레지스트막을 형성한 후, 그레이톤 패턴 데이터를 포함하는 패턴 데이터로 레지스트막을 현상하는 패터닝을 수행하여 레지스트 패턴을 형성하고, 이 레지스트 패턴을 마스크로서 차광막을 에칭한 후, 레지스트 패턴을 박리함으로써 제조된다.
상술한 그레이톤 마스크에서는 그레이톤부에서의 광 투과량이 그레이톤 패턴의 패턴 치수에 의해 제어되기 때문에, 그레이톤 패턴의 치수 정밀도가 엄밀하게 요구된다. 즉, 기판 표면에서 그레이톤 패턴의 선폭 치수에 편차가 발생되면, 그레이톤 영역에서의 투과율의 편차가 발생된다. 패턴 치수의 면내(on-plane)의 이와 같은 편차를 방지하는 하나의 방법로서, 그레이톤 패턴을 형성하기 위해 막 두께의 편차가 적은 레지스트막을 이용하는 것이 고려될 수 있다. 그러나, 종래 가장 일반적으로 이용된 스핀 코트법에 의한 레지스트의 도포에서는 회전에 의해 불가피하게 기판 주연부의 레지스트막이 상승된다. 상기 주연부의 상승의 결과 등으로 인해 레지스트막 두께의 면내 편차의 저감에 한계가 있는 문제점이 있었다. 특히, 일면이 330mm 이상의 대형 기판을 이용할 필요가 있는 디스플레이 장치용 그레이톤 마스크를 제조하는 경우, 큰 영역에 걸쳐 균일한 레지스트 마스크를 형성하는 것은 곤란하였다.
본 발명은 레지스트막 두께의 면내 분포를 ±1% 미만으로 억제함으로써, 면내의 패턴 치수 편차를 저감한 그레이톤 마스크를 제조하는 방법, 그레이톤 마스크 생성용 블랭크, 및 패턴 전사 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자는 상기 과제를 해결하기 위해 예의 연구 개발을 행한 결과, 소정의 그레이톤 패턴의 치수 정밀도(면내 분포)를 만족시키기 위해 레지스트막의 적어도 그레이톤부를 형성하는 영역내에서 레지스트막 두께의 면내 분포가 ±1% 미만으로 억제되어야 하는 것을 발견하였다.
레지스트막 두께의 면내 분포를 ±1% 미만으로 억제함으로써, 치수 정밀도의 면내 편차가 20% 정도 개선되고, 따라서 그레이톤부에서의 광 투과율의 편차를 저감한다. 그 결과, 이와 같은 그레이톤 마스크를 이용한 패턴 전사 공정의 수율을 현저히 향상시키고, 그레이톤 마스크를 이용한 패턴 전사 공정의 실용성을 현저히 높일 수 있는 것을 발견하였다.
또한, 하나의 마스크의 레지스트막 두께를 복수점에서 측정하였을 때의 최대 막 두께를 Tmax, 최소 막 두께를 Tmin, 평균 막 두께를 TAverage로 하였을 때, 레지스트막 두께의 면내 분포는 면내 분포(%)=(Tmax - Tmin) / (TAverage ×2) ×100으로 정의된다.
또한, 본 발명에서는 레지스트막 두께의 측정 영역은 그레이톤부를 형성하는 영역이다. 표시 장치 제조용 그레이톤 마스크와 같이 그레이톤부를 포함하는 다수의 픽셀 패턴을 포함하는 그레이톤 마스크의 경우, 측정 영역은 대략 픽셀 영역(픽셀 패턴을 형성하는 영역)이다. 픽셀 영역 이외의 영역에도 그레이톤부를 포함하는 경우, 측정 영역은 아마도 그 영역을 포함하는 영역이다.
본 발명은 이하의 구성을 갖는다.
(구성 1) 차광부, 투광부, 및 다수의 화소 패턴에 각각 포함되고 마스크를 사용하는 노광기의 해상 한계 이하의 패턴 치수를 갖는 차광 패턴으로 형성된 영역으로서 이 영역을 투과하는 노광광의 투과량을 저감시키는 그레이톤부를 포함하고, 상기 다수의 화소 패턴을 갖는 디스플레이 장치를 생성하는 방법에 사용되는 그레이톤 마스크의 제조 방법으로서, 일측 상면에 차광막을 갖고 300 mm 이상의 큰 치수를 갖는 투명 기판을 준비하는 단계; 그레이톤부가 형성될 영역에서 레지스트막 두께의 면내 분포가 ±1% 이하로 억제되도록 레지스트막을 상기 차광막상에 형성하는 단계; 상기 레지스트막을 그레이톤 패턴 데이터를 포함하는 패턴 데이터로 패터닝하는 단계; 레지스트 패턴을 형성하도록 상기 레지스트막을 현상하는 단계; 상기 레지스트 패턴을 마스크로서 사용하여 상기 차광막을 에칭하는 단계; 및 상기 레지스트 패턴을 박리시키는 단계를 포함하는 그레이톤 마스크의 제조 방법.
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(구성 2) 구성 1에 있어서, 상기 레지스트막은, 상기 기판이 아래를 향하여 유지된 상태에서 모관 형상 노즐의 선단을 상기 기판상에 주사시킴으로써, 모세관 현상에 의해 상기 모관 형상 노즐을 통하여 상승된 레지스트액에 의해 도포되는 것을 특징으로 하는 그레이톤 마스크의 제조 방법.
(구성 3) 일측 상면에 차광막을 갖고 300 mm 이상의 큰 치수를 갖는 투명 기판을 제공하는 단계, 및 그레이톤부가 형성될 영역에서 레지스트막 두께의 면내 분포가 ±1% 이하로 억제되도록 레지스트막을 상기 차광막상에 형성하는 단계에 의해 생성되며; 차광부, 투광부, 및 다수의 화소 패턴에 각각 포함되고 마스크를 사용하는 노광기의 해상 한계 이하의 패턴 치수를 갖는 차광 패턴으로 형성된 영역으로서 이 영역을 투과하는 노광광의 투과량을 저감시키는 그레이톤부를 포함하고, 상기 다수의 화소 패턴을 갖는 디스플레이 장치를 생성하는 방법에 사용되는 그레이톤 마스크를 생성하는 블랭크.
(구성 4) 구성 3에 있어서, 상기 레지스트막은, 상기 기판이 아래를 향하여 유지된 상태에서 모관 형상 노즐의 선단을 상기 기판상에 주사시킴으로써, 모세관 현상에 의해 상기 모관 형상 노즐을 통하여 상승된 레지스트액에 의해 도포되는 것을 특징으로 하는 그레이톤 마스크를 생성하는 블랭크.(구성 5) 구성 2에 기재된 그레이톤 마스크를 이용한 패턴 전사 방법.(구성 6) 일측 상면에 차광막을 갖고 300 mm 이상의 큰 치수를 갖는 투명 기판 및 그레이톤부가 형성될 영역에서 레지스트막 두께의 면내 분포가 ±1% 이하로 억제되도록 상기 차광막상에 형성된 레지스트막을 포함하고; 차광부, 투광부, 및 다수의 화소 패턴에 각각 포함되고 마스크를 사용하는 노광기의 해상 한계 이하의 패턴 치수를 갖는 차광 패턴으로 형성된 영역으로서 이 영역을 투과하는 노광광의 투과량을 저감시키는 그레이톤부를 포함하고, 상기 다수의 화소 패턴을 갖는 디스플레이 장치를 생성하는 방법에 사용되는 그레이톤 마스크를 생성하는 블랭크.
본 발명에 의하면, 레지스트막 두께의 면내 분포를 ±1% 이하로 억제함으로써, 소정의 그레이톤 패턴을 적어도 일부에 갖는 그레이톤 마스크에 대해, 소정의 그레이톤 패턴의 치수 정밀도(면내 편차)를 만족시킬 수 있다. 따라서, 광 투과율 분포가 적은 소정의 그레이톤 패턴을 적어도 일부에 갖는 그레이톤 마스크를 실현할 수 있다.
레지스트막 두께의 면내 분포를 ±1% 이하로 억제함으로써, 치수 정밀도의 면내 편차가 20% 정도 개선된다. 그레이톤 마스크를 이용하여 레지스트상에 패턴 전사를 행하는 경우, 그레이톤부는 그 영역 전체에서 레지스트막 두께의 편차가 현저히 개선된다. 따라서, 그레이톤 마스크를 이용한 패턴 전사 공정의 수율을 현저히 향상시키고, 그레이톤 마스크를 이용한 패턴 전사 공정의 실용성을 현저히 높이는 것이 가능하다.
또한, 상기 레지스트막 두께의 면내 분포는 ±0.8% 이하로 억제하는 것이 보다 바람직하고, ±0.5% 이하로 억제하는 것이 더 한층 바람직하다.
상기 구성 2에 의하면, 레지스트 코팅기(coater)의 주류인 스핀 코팅기 대신에, 아래를 향하여 유지된 기판에 대해, 모관 형상의 노즐에 의한 모세관 현상을 이용하여 상승한 레지스트액을 노즐 선단을 기판에 주사시킴으로써 도포시키는 방식의 장치를 이용한다. 이것에 의해, 기판의 주연부에 레지스트막의 상승은 형성되지 않는다. 대형 기판에 대해서도 재현성이 양호하고 높은 수율로 기판상의 넓은 영역에서 레지스트막 두께의 면내 분포를 ±1% 미만으로 억제할 수 있다. 따라서, 치수 정밀도(면내 편차)가 작은 그레이톤부를 갖는 그레이톤 마스크를 높은 수율로 제조하는 것이 가능하다.
즉, 본 발명에서 CAP 코터는 모세관 현상 및 표면 장력을 이용한 도포 형식을 채용한다면, 적용 가능하다. CAP 코터의 원리는 모관 형상 간극을 구비한 노즐의 하부를 레지스트에 침지시키는 경우, 레지스트가 모세관 현상에 의해 모관 형상 간극내를 상승하고, 표면 장력에 의해 레지스트가 노즐 선단으로부터 표면 장력에 의해 분출된다. 노즐 선단의 근방에서 기판의 도포면을 아래로 향하여 천천히 이동시킴으로서 레지스트가 도포된다. 이와 같은 장치를 개시한 것으로서는 예를 들어 미합중국 특허 제 5,650,196호 또는 제 5,654,041호에 기재된 장치가 있다.
더욱이, 해상 한계 이하의 미세 패턴을 형성하는 형태의 그레이톤 마스크는 반투과막을 사용하는 형태의 그레이톤 마스크에 비해 저가이기 때문에, 본 발명의 그레이톤 마스크 및 패턴 전사 방법은 LCD(액정 디스플레이 장치) 제조용 대형 그레이톤 마스크(칼라 필터 또는 박막 트랜지스터(TFT) 제조용) 또는 PDP(플라즈마 디스플레이 패널)와 같은 디스플레이 장치 제조용 대형 그레이톤 마스크를 저가로 제조하는 방법을 실용화하는데 반드시 필요하다.
이하, 실시예에 대해 설명한다.
(실시예 1)
정밀 연마된 글라스 기판(크기 390 ×610mm, 두께 6mm)상에 크롬(Cr)막을 1000 옹스트롬의 두께로 성막한다. 이 Cr막상에 CAP 코터(히라노 테크시드사 제품)를 이용하여 레지스트를 도포한다.
이 장치는 도 7에 나타낸 바와 같은 장치로, 레지스트액으로 채워진 액조의 내부에 침지시킨 모관 형상 간극을 갖는 노즐을 갖는다. 이 노즐이 상승되어, 주표면을 아래쪽을 향한 포토마스크블랭크의 주표면 근방에 위치한다. 모관 형상 간극을 통해 모세관 형상을 이용함으로써, 노즐의 선단으로 상승한 레지스트액을 포토마스크블랭크의 주표면에 접액시키면서 기판을 주행시킨다. 이것에 의해, 레지스트막이 포토마스크블랭크의 주표면에 도포된다.상기 포토마스크블랭크는 일측 상면에 차광막을 갖고 300 mm 이상의 큰 치수를 갖는 투명 기판을 제공하는 단계, 및 그레이톤부가 형성될 영역에서 레지스트막 두께의 면내 분포가 ±1% 이하로 억제되도록 레지스트막을 상기 차광막상에 형성하는 단계에 의해 생성된다.상기 포토마스크블랭크는 차광부, 투광부, 및 다수의 화소 패턴에 각각 포함되고 마스크를 사용하는 노광기의 해상 한계 이하의 패턴 치수를 갖는 차광 패턴으로 형성된 영역으로서 이 영역을 투과하는 노광광의 투과량을 저감시키는 그레이톤부를 포함하고, 상기 다수의 화소 패턴을 갖는 디스플레이 장치를 생성하는 방법에 사용되는 그레이톤 마스크를 생성하는데 사용된다. 상기 레지스트막은, 상기 기판이 아래를 향하여 유지된 상태에서 모관 형상 노즐의 선단을 상기 기판상에 주사시킴으로써, 모세관 현상에 의해 상기 모관 형상 노즐을 통하여 상승된 레지스트액에 의해 도포되는 것이 바람직하다.상기 포토마스크블랭크는 일측 상면에 차광막을 갖고 300 mm 이상의 큰 치수를 갖는 투명 기판 및 그레이톤부가 형성될 영역에서 레지스트막 두께의 면내 분포가 ±1% 이하로 억제되도록 상기 차광막상에 형성된 레지스트막을 포함한다. 상기 포토마스크블랭크는 차광부, 투광부, 및 다수의 화소 패턴에 각각 포함되고 마스크를 사용하는 노광기의 해상 한계 이하의 패턴 치수를 갖는 차광 패턴으로 형성된 영역으로서 이 영역을 투과하는 노광광의 투과량을 저감시키는 그레이톤부를 포함하고, 상기 다수의 화소 패턴을 갖는 디스플레이 장치를 생성하는 방법에 사용되는 그레이톤 마스크를 생성하는데 사용된다.
도 1은 기판상의 픽셀 영역 360 ×580mm의 전체 영역에 걸쳐 균등하게 배치된 5 ×5 = 25 포인트에서 행해진 레지스트막 두께 측정의 결과를 나타낸다. 상기 기판은 일측 상면에 차광막을 갖고 300 mm 이상의 큰 치수를 갖는 투명 기판인 것이 바람직하다. 그레이톤부가 형성될 영역에서 레지스트막 두께의 면내 분포가 ±1% 이하로 억제되도록 레지스트막이 상기 차광막상에 형성되는 것이 바람직하다. 투명 기판에서의 레지스트막 두께의 면내 분포는 ±1% 이하였다.
다음에, 레지스트에 대해 그레이톤 패턴을 포함하는 픽셀 패턴의 렌더링(노광)이 행해진다. 이 레지스트가 현상되고, Cr막의 에칭이 행해진다. 다음에, 레지스트가 박리되어, LCD용(TFT 제조용) 그레이톤 마스크가 제조된다. 그레이톤 마스크는 도 5에 나타낸 패턴을 이용한 것을 주목한다. 도 5는 차광부들(차광 패턴; 1) 사이의 그레이톤 영역(3)에 그레이톤 패턴(30)을 형성한 경우이다.
도 2는 기판상의 픽셀 영역 360 ×580mm에 균등하게 배치된 5 ×5 = 25 포인트에 배열된 패턴(30)의 치수(선폭)를 CD 측정기로 측정한 결과를 나타낸다. 이 결과에서, 최대값(Dmax) - 최소값(Dmin)(=영역)은 설계값 치수(D)의 12% 정도이었다. 패턴 치수 정밀도(CD)의 면내 편차는 영역에서 12% 정도이었다. 또한, 도 5에 나타낸 패턴의 모든 부분이 모든 포인트에서 선명하게 해상되었다.
(비교예 1)
정밀 연마된 글라스 기판(크기 390 ×610mm, 두께 6mm) 상에 Cr막이 1000 옹스트롬의 두께로 성막되었다. 레지스트가 스핀 코터를 이용하여 이 Cr막상에 도포되었다.
도 3은 기판상의 픽셀 영역 360 ×580mm의 전체 영역에 균등하게 배치된 5 ×5 = 25 포인트에서 행해진 레지스트막 두께 측정의 결과를 나타낸다. 레지스트막 두께의 면내 분포는 ±2%이었다. 또한, 도 3에서, 기판 중심부의 막 두께가 얇고, 외주부에 근접함에 따라 서서히 두껍게 되는 경향을 발견하였다. 또한, 회전 도포(회전 작용)에 기인하여 기판의 4개의 모서리 부분의 막 두께가 두껍게 되는, 프린지(fringe)라 불리는 현상이 발견되었다.
다음에, 레지스트에 대해 실시예 1과 동일한 그레이톤 패턴을 포함하는 픽셀 패턴의 렌더링(노광)이 행해졌다. 이 레지스트를 현상하고, Cr막의 에칭을 행하였다. 상기 레지스트를 박리시킴으로써, LCD용 그레이톤 마스크를 제조하였다.
도 4는 기판상의 픽셀 영역에 균등하게 배치된 5 ×5 = 25 포인트에 배열된 패턴(30)의 치수(선폭)를 CD 측정기로 측정한 결과를 나타낸다. 이 결과에서, 최대값(Dmax) - 최소값(Dmin)(=영역)은 설계값 치수(D)의 15% 정도이었다. 패턴 치수 정밀도(CD)의 면내 편차는 영역에서 15%정도이었다. 또한, 도 5에 나타낸 패턴의 모든 부분이 모든 포인트에서 선명하게 해상되었다.
(실시예 2 및 비교예 2)
도 5에 나타낸 패턴 대신에 도 8에 나타낸 미세 라인 및 스페이스 패턴으로 이루어진 그레이톤 패턴을 기판상의 그레이톤부가 형성되는 영역(310 ×510mm)에 균등하게 배치된 5 ×5 = 25 포인트에 배열된 것 이외는 실시예 1 및 비교예 1과 동일하게 하고, 미세 라인 및 스페이스 패턴의 치수를 CD 측정기로 측정하였다. 그 결과, 실시예 2에서는 비교예 2에 비해 그레이톤부의 전체 영역에서 치수 정밀도의 면내 편차가 20% 정도 개선되었다. 따라서, 그레이톤 마스크를 이용한 패턴 전사 공정의 수율을 현저히 향상함과 동시에, 그레이톤 마스크를 이용한 패턴 전사 공정의 실용성을 현저히 높일 수 있었다.
또한, 본 발명은 상술한 실시예에 한정되지 않는 것에 주의한다.
예를 들면, 레지스트의 종류 및 막 두께 등은 적절히 선택될 수 있다. 또한, 차광막은 Cr로 한정되지 않고, 공지된 차광막 재료를 적절히 선택하여 사용할 수 있다.
또한, 본 발명에서 언급한 소정의 그레이톤 패턴은 도 5에 나타낸 패턴에 한정되지 않는다. 예를 들면, 도 5에 나타낸 패턴 대신에 소정의 그레이톤 패턴(30)을 차광부들(차광 패턴; 1) 사이에 형성하는 경우에도 실시예 1과 동일한 효과가 얻어진다.
이상 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면, 레지스트막 두께의 면내 분포를 ±1% 이하로 억제함으로써, 소정의 그레이톤 패턴의 치수 정밀도를 만족시킬 수 있고, 소정의 그레이톤 패턴을 적어도 일부에 갖는 그레이톤 마스크를 실현할 수 있다.
레지스트막 두께의 면내 분포를 ±1% 이하로 억제함으로써, 치수 정밀도의 면내 편차가 20% 정도 개선된다. 그레이톤 마스크를 이용하여 레지스트상에 패턴 전사를 행한 경우, 그레이톤부에 대해 그 영역 전체에서 레지스트막 두께의 편차가 현저히 개선된다. 따라서, 그레이톤 마스크를 이용한 패턴 전사 공정의 수율을 현저히 향상시키고, 그레이톤 마스크를 이용한 패턴 전사 공정의 실용성을 현저히 높일 수 있다.
또한, 해상 한계 이하의 미세 패턴을 형성하는 형태의 그레이톤 마스크는 반투과막을 사용하는 형태의 그레이톤 마스크에 비해 저가이기 때문에, 본 발명의 그레이톤 마스크 및 패턴 전사 방법은 저가의 LCD 전사 공정 및 제조 방법을 실용화하는데 반드시 필요하다.
도 1은 본 발명의 일실시예에서의 레지스트막 두께 측정 결과를 보여주는 도면.
도 2는 본 발명의 일실시예에서의 그레이톤 패턴 치수 측정 결과를 보여주는 도면.
도 3은 비교예에서의 레지스트막 두께 측정 결과를 보여주는 도면.
도 4는 비교예에서의 그레이톤 패턴 치수 측정 결과를 보여주는 도면.
도 5는 본 발명에서의 소정의 그레이톤 패턴의 일예를 보여주는 도면.
도 6은 본 발명에서의 소정의 그레이톤 패턴의 또 다른 예를 보여주는 도면.
도 7은 실시예에서 이용된 레지스트 도포 장치의 모식도.
도 8a 및 8b는 그레이톤 마스크를 설명하기 위한 부분 평면도 및 부분 단면도.

Claims (7)

  1. 차광부, 투광부, 및 다수의 화소 패턴에 각각 포함되고 마스크를 사용하는 노광기의 해상 한계 이하의 패턴 치수를 갖는 차광 패턴으로 형성된 영역으로서 이 영역을 투과하는 노광광의 투과량을 저감시키는 그레이톤부를 포함하고, 상기 다수의 화소 패턴을 갖는 디스플레이 장치를 생성하는 방법에 사용되는 그레이톤 마스크의 제조 방법으로서,
    일측 상면에 차광막을 갖고 300 mm 이상의 큰 치수를 갖는 투명 기판을 준비하는 단계;
    그레이톤부가 형성될 영역에서 레지스트막 두께의 면내 분포가 ±1% 이하로 억제되도록 레지스트막을 상기 차광막상에 형성하는 단계;
    상기 레지스트막을 그레이톤 패턴 데이터를 포함하는 패턴 데이터로 패터닝하는 단계;
    레지스트 패턴을 형성하도록 상기 레지스트막을 현상하는 단계;
    상기 레지스트 패턴을 마스크로서 사용하여 상기 차광막을 에칭하는 단계; 및
    상기 레지스트 패턴을 박리시키는 단계를 포함하는 그레이톤 마스크의 제조 방법.
  2. 삭제
  3. 제 1항에 있어서, 상기 레지스트막은, 상기 기판이 아래를 향하여 유지된 상태에서 모관 형상 노즐의 선단을 상기 기판상에 주사시킴으로써, 모세관 현상에 의해 상기 모관 형상 노즐을 통하여 상승된 레지스트액에 의해 도포되는 것을 특징으로 하는 그레이톤 마스크의 제조 방법.
  4. 일측 상면에 차광막을 갖고 300 mm 이상의 큰 치수를 갖는 투명 기판을 제공하는 단계, 및 그레이톤부가 형성될 영역에서 레지스트막 두께의 면내 분포가 ±1% 이하로 억제되도록 레지스트막을 상기 차광막상에 형성하는 단계에 의해 생성되며;
    차광부, 투광부, 및 다수의 화소 패턴에 각각 포함되고 마스크를 사용하는 노광기의 해상 한계 이하의 패턴 치수를 갖는 차광 패턴으로 형성된 영역으로서 이 영역을 투과하는 노광광의 투과량을 저감시키는 그레이톤부를 포함하고, 상기 다수의 화소 패턴을 갖는 디스플레이 장치를 생성하는 방법에 사용되는 그레이톤 마스크를 생성하는 블랭크.
  5. 제 4항에 있어서, 상기 레지스트막은, 상기 기판이 아래를 향하여 유지된 상태에서 모관 형상 노즐의 선단을 상기 기판상에 주사시킴으로써, 모세관 현상에 의해 상기 모관 형상 노즐을 통하여 상승된 레지스트액에 의해 도포되는 것을 특징으로 하는 그레이톤 마스크를 생성하는 블랭크.
  6. 제 3항에 따른 그레이톤 마스크를 이용하는 패턴 전사 방법.
  7. 일측 상면에 차광막을 갖고 300 mm 이상의 큰 치수를 갖는 투명 기판 및 그레이톤부가 형성될 영역에서 레지스트막 두께의 면내 분포가 ±1% 이하로 억제되도록 상기 차광막상에 형성된 레지스트막을 포함하고;
    차광부, 투광부, 및 다수의 화소 패턴에 각각 포함되고 마스크를 사용하는 노광기의 해상 한계 이하의 패턴 치수를 갖는 차광 패턴으로 형성된 영역으로서 이 영역을 투과하는 노광광의 투과량을 저감시키는 그레이톤부를 포함하고, 상기 다수의 화소 패턴을 갖는 디스플레이 장치를 생성하는 방법에 사용되는 그레이톤 마스크를 생성하는 블랭크.
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