JP4978666B2 - ブラックマトリックス基板の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は本発明のブラックマトリックス基板の製造方法の一実施形態を説明するための工程図である。
(実施例1)
まず、図2に示されるような形状のブラックマトリックス用フォトマスクAを下記仕様で作製した。
・透明基材2 :厚み5.0mm、外形300×430mm
・透光部14の線幅 :26μm
・透光部14のピッチ :110μm
・遮光部13Bの幅 :1μm
次に、ブラックマトリックス用のネガ型の感光性樹脂組成物(富士フィルムオーリン(株)製CK−S171)をスピンコート法によりガラス基板(コーニング(株)製7059ガラス(厚み0.7mm))上に塗布し乾燥して感光性樹脂層(厚み1.5μm)を形成した。次いで、上記のブラックマトリックス用のフォトマスクAを介して下記の条件で感光性樹脂層に対してプロキシミティ露光を行った。
・光源 :ウシオ電機(株)製USH3502MA
(波長405nm)
・露光量 :300mJ
・マスクの近接距離 :200μm
次いで、感光性樹脂層を現像し、さらに洗浄、乾燥してマトリックス状のブラックマトリックスパターンを形成しブラックマトリックス基板Aを得た。
・透明基材102 :厚み5.0mm、外形330×430mm
・透光部104の線幅 :28μm
・透光部104のピッチ:110μm
次に、上記と同様にしてガラス基板上に形成した感光性樹脂層を上記の従来のブラックマトリックス用のフォトマスクBを介して同様の条件で露光した。
2…透明基板
3…感光性樹脂層
4…ブラックマトリックス
11,21,31…ブラックマトリックス用のフォトマスク
13(13A,13B),23A,23B,33A,33B…遮光部
14,24,34…透光部
14a,24a,34a…透光部の交差箇所
14b,24b,34b…透光部の交差箇所の角部
Claims (2)
- 透明基板上にブラックマトリックス用のネガ型の感光性樹脂組成物を塗布して感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層をブラックマトリックス用のフォトマスクを介してプロキシミティ露光し現像することによりブラックマトリックスパターンを形成するブラックマトリックス基板の製造方法において、
フォトマスクは透光部と遮光部とを所定のパターンで備え、透光部の交差箇所内に位置し、かつ、前記交差箇所の周囲に位置する4個の前記遮光部に連続したI字形状の遮光部を備え、I字形状の該遮光部の幅は0.5〜5.0μmの範囲であり面積は透光部の交差箇所の面積の1〜30%の範囲であるものを使用することを特徴とするブラックマトリックス基板の製造方法。 - 透明基板上にブラックマトリックス用のネガ型の感光性樹脂組成物を塗布して感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層をブラックマトリックス用のフォトマスクを介してプロキシミティ露光し現像することによりブラックマトリックスパターンを形成するブラックマトリックス基板の製造方法において、
フォトマスクは透光部と遮光部とを所定のパターンで備え、透光部の交差箇所を囲むように位置し、かつ、前記交差箇所の周囲に位置する4個の前記遮光部に連続した回廊形状の遮光部を備え、回廊形状の前記遮光部の幅は0.5〜5.0μmの範囲であり面積は透光部の交差箇所の面積の1〜30%の範囲であるものを使用することを特徴とするブラックマトリックス基板の製造方法。
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