KR100481137B1 - 1-치환 4-시아노-1,2,3-트리아졸의 제조방법 - Google Patents
1-치환 4-시아노-1,2,3-트리아졸의 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100481137B1 KR100481137B1 KR10-1999-7000041A KR19997000041A KR100481137B1 KR 100481137 B1 KR100481137 B1 KR 100481137B1 KR 19997000041 A KR19997000041 A KR 19997000041A KR 100481137 B1 KR100481137 B1 KR 100481137B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- phenyl
- alkyl
- formula
- alkoxy
- difluorobenzyl
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 4
- -1 1-substituted 4-cyano-1,2,3-triazoles Chemical class 0.000 title claims description 60
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 27
- PVIAOIJYIQHKPL-UHFFFAOYSA-N 1-[(2,6-difluorophenyl)methyl]triazole-4-carbonitrile Chemical compound FC1=CC=CC(F)=C1CN1N=NC(C#N)=C1 PVIAOIJYIQHKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- OYUNTGBISCIYPW-UHFFFAOYSA-N 2-chloroprop-2-enenitrile Chemical compound ClC(=C)C#N OYUNTGBISCIYPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 42
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 17
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 15
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims description 14
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 claims description 6
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 claims description 6
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 5
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 claims description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 5
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 3
- 125000006552 (C3-C8) cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000006508 2,6-difluorobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(F)=C(C(F)=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000004847 2-fluorobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(F)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- 239000000047 product Substances 0.000 description 34
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 30
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- JSZUBPHMRHROHZ-UHFFFAOYSA-N 2-(azidomethyl)-1,3-difluorobenzene Chemical compound FC1=CC=CC(F)=C1CN=[N+]=[N-] JSZUBPHMRHROHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 15
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 14
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 5
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical class CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 5
- SNTWKPAKVQFCCF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydro-1h-triazole Chemical compound N1NC=CN1 SNTWKPAKVQFCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 3
- UVQSQWZYJWNHSU-UHFFFAOYSA-N 2h-triazole-4-carbonitrile Chemical class N#CC1=CNN=N1 UVQSQWZYJWNHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 2
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 2
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 2
- POGQSBRIGCQNEG-UHFFFAOYSA-N rufinamide Chemical compound N1=NC(C(=O)N)=CN1CC1=C(F)C=CC=C1F POGQSBRIGCQNEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008247 solid mixture Substances 0.000 description 2
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMWYZJULIMDDP-UHFFFAOYSA-N 1-[(4-cyanophenyl)methyl]triazole-4-carbonitrile Chemical compound N1=NC(C#N)=CN1CC1=CC=C(C#N)C=C1 UPMWYZJULIMDDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTZMLSUPKREZNQ-UHFFFAOYSA-N 1-benzyltriazole-4-carbonitrile Chemical compound N1=NC(C#N)=CN1CC1=CC=CC=C1 LTZMLSUPKREZNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004973 1-butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000005976 1-phenylethyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- QWENRTYMTSOGBR-UHFFFAOYSA-N 1H-1,2,3-Triazole Chemical class C=1C=NNN=1 QWENRTYMTSOGBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- 125000002941 2-furyl group Chemical group O1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004105 2-pyridyl group Chemical group N1=C([*])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000389 2-pyrrolyl group Chemical group [H]N1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000175 2-thienyl group Chemical group S1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- VRVGCXFSXKUANV-UHFFFAOYSA-N 3,5-difluoro-4-(triazol-1-ylmethyl)benzonitrile Chemical compound FC1=CC(C#N)=CC(F)=C1CN1N=NC=C1 VRVGCXFSXKUANV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 1
- 125000003682 3-furyl group Chemical group O1C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003349 3-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001397 3-pyrrolyl group Chemical group [H]N1C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001541 3-thienyl group Chemical group S1C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- GWVIVHINAVAKKV-UHFFFAOYSA-N 4-(azidomethyl)benzonitrile Chemical compound [N-]=[N+]=NCC1=CC=C(C#N)C=C1 GWVIVHINAVAKKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000339 4-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGYIJVNZSDYBOE-UHFFFAOYSA-N [CH2]C1=CC=NC=C1 Chemical group [CH2]C1=CC=NC=C1 DGYIJVNZSDYBOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001773 anti-convulsant effect Effects 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- UDLLFLQFQMACJB-UHFFFAOYSA-N azidomethylbenzene Chemical compound [N-]=[N+]=NCC1=CC=CC=C1 UDLLFLQFQMACJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000003857 carboxamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004851 cyclopentylmethyl group Chemical group C1(CCCC1)C* 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- ZAPWQNOTZCRXQS-AWEZNQCLSA-N ethyl (2s)-2-(4-cyanotriazol-1-yl)-4-phenylbutanoate Chemical compound C([C@@H](C(=O)OCC)N1N=NC(=C1)C#N)CC1=CC=CC=C1 ZAPWQNOTZCRXQS-AWEZNQCLSA-N 0.000 description 1
- MKSZKMUBGCIPAU-NSHDSACASA-N ethyl (2s)-2-azido-4-phenylbutanoate Chemical compound CCOC(=O)[C@@H](N=[N+]=[N-])CCC1=CC=CC=C1 MKSZKMUBGCIPAU-NSHDSACASA-N 0.000 description 1
- LUOFZRBNQXEGJH-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(4-cyanotriazol-1-yl)acetate Chemical compound CCOC(=O)CN1C=C(C#N)N=N1 LUOFZRBNQXEGJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVJJYOAPXBPQQV-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-azidoacetate Chemical compound CCOC(=O)CN=[N+]=[N-] HVJJYOAPXBPQQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D403/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00
- C07D403/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings
- C07D403/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P21/00—Drugs for disorders of the muscular or neuromuscular system
- A61P21/02—Muscle relaxants, e.g. for tetanus or cramps
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D249/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D249/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
- C07D249/04—1,2,3-Triazoles; Hydrogenated 1,2,3-triazoles
Landscapes
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Physical Education & Sports Medicine (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Orthopedic Medicine & Surgery (AREA)
- Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Pain & Pain Management (AREA)
- Pharmacology & Pharmacy (AREA)
- Neurology (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
R1은 방향족 또는 헤테로방향족 라디칼, 방향족-지방족 또는 헤테로방향족-지방족 라디칼, 헤테로시클릭 라디칼, 시클로지방족 라디칼, 시클로지방족-지방족 라디칼 또는 지방족 라디칼인 화학식 I의 화합물의 제조방법으로서, 이 방법은 R1이 상기와 같이 정의된 화학식(Ia) R1-N3의 화합물을 화학식 Ib의 화합물과 2-상계로 반응시키는 것을 포함한다:
[화학식 I]
[화학식 Ib]
4-시아노-1-(2,6-디플루오로벤질)-1H-1,2,3-트리아졸은 신규 물질이다.
Description
1-치환 1H-1,2,3-트리아졸은 산업상 광범위하게 사용되고 있다. 예를들어, 공고번호 제 114347 A2 호(EP 114347)와 제 199262 A1호(EP 199262)로서 유럽특허출원에서는 항경련작용이 있는 적합한 트리아졸을 기재하고 있다. 이러한 형태의 화합물은 예를들어 아릴알킬 아지드와 알킨 유도체를 반응시키고 이어서 필요하다면, 후속 화학 변환에 의해 제조된다. 실제적인 일예는 예를들어 EP 199262 호 및 EP 114347 호의 실시예로부터 알 수 있다.
취급이 용이하고 경제적이며, 높은 수율로 활성 성분을 얻고 생태학적으로 가능한 한 문제가 거의 없는 약제 활성 성분의 제조방법에 대해 개발하고자 많은 노력을 기울이고 있다.
본 발명은 1-치환 1H-1,2,3-트리아졸-4-카르보니트릴의 신규 제조방법에 관한 것이며, 예를들어 약제 활성 성분의 제조를 위한 신규 중간체 및 그들의 용도에 관한 것이다.
본 발명은 한편으로는 화학식 I의 화합물의 신규 제조방법에 관한 것이며 또 한편으로는 화학식 I의 신규 화합물에 관한 것이다:
[화학식 I]
상기식에서,
R1은 방향족 또는 헤테로방향족 라디칼, 방향족-지방족 또는 헤테로방향족-지방족 라디칼, 헤테로시클릭 라디칼, 시클로지방족 라디칼, 시클로지방족-지방족 라디칼 또는 지방족 라디칼이다.
방향족 라디칼은 예를들어 미치환되거나 일- 또는 다치환, 예를들어 이- 또는 삼치환되는, 모노- 또는 바이시클릭 카르보시클릭 아릴, 예를들어 페닐, 나프틸 또는 비페닐일이다.
헤테로방향족 라디칼은 예를들어 네개 이하의 같거나 서로 다른 헤테로원자, 이를테면 산소, 황 또는 질소, 바람직하게는 1, 2, 3 또는 4 개의 질소원자, 산소 또는 황원자를 함유한, 5- 또는 6-원 및 모노시클릭 라디칼과 같은 모노-, 비- 또는 트리시클릭 헤테로아릴이다.
적합한 5-원 헤테로아릴 라디칼은 예를들어 모노아자-, 디아자-, 트리아자-, 테트라아자-, 모노옥사- 또는 모노티아시클릭 헤테로아릴 라디칼, 이를테면 피롤일, 피라졸일, 이미다졸일, 트리아졸일, 테트라졸일, 푸릴 및 티엔일이며, 반면에 가능한 6-원 라디칼은 특히 피리딜 라디칼이다.
방향족-지방족 라디칼에서, 방향족 부분은 예를들어 방향족 라디칼에 대해 상기에 제시되어 있는 의미를 가지며, 반면에 지방족 라디칼은 예를들어 저급 알킬, 저급 알켄일 또는 저급 알킨일이다. 방향족-지방족 라디칼은 예를들어 페닐-저급 알킬, 페닐-저급 알켄일 또는 페닐-저급 알킨일이며, 또한 나프틸-저급 알킬이다.
헤테로방향족-지방족 라디칼에서, 헤테로방향족 부분은 예를들어 헤테로방향족 라디칼에 대해 상기에 제시되어 있는 의미를 가지며, 반면에 지방족 라디칼은 예를들어 저급 알킬, 저급 알켄일 또는 저급 알킨일이다. 헤테로방향족-지방족 라디칼은 예를들어 피리딜-저급 알킬이다.
헤테로시클릭 라디칼은 예를들어 네개 이하의 같거나 서로 다른 헤테로원자, 이를테면 질소, 산소 또는 황, 바람직하게는 한 개, 두 개 또는 세 개의 질소원자, 황 및 산소원자를 함유하는 5- 또는 6-원 모노시클릭 또는 비- 또는 트리시클릭 라디칼이다. 또한 적합한 헤테로시클릭 라디칼에 한 개 또는 두 개의 벤젠 고리가 융합될 수 있다. 이러한 형태의 헤테로시클릭 라디칼은 예를들어 부분적으로 수소화 2-옥소벤즈아제핀, 이를테면 2,3,4,5-테트라히드로-2-옥소-1H-1-벤즈아제핀이다.
시클로지방족 라디칼은 예를들어, 시클로알킬 또는 추가로 시클로알켄일이며, 여기서 각 경우에 미치환되거나 예를들어 저급 알킬, 카르복실 또는 저급 알콕시카르보닐에 의해 일- 또는 다치환, 예를들어 이치환된다.
시클로지방족-지방족 라디칼은 예를들어, 시클로알킬-저급 알킬 또는 추가로 시클로알켄일-저급 알킬이다.
지방족 라디칼은 예를들어 저급 알킬, 저급 알켄일 또는 추가로 저급 알킨일이며, 여기서 각 경우에 미치환되거나 할로겐에 의해, 유리 또는 에스테르화 또는 아미드화 카르복실, 이를테면 저급 알콕시카르보닐, 카르바모일 또는 일- 또는 이-저급 알킬화 카르바모일에 의해, 또한 에테르화될 수 있는 히드록실에 의해, S(O)m-R0에 의해 또는 차례로 미치환되거나 예를들어 할로겐 또는 히드록실에 의해 치환될 수 있는 탄화수소 라디칼, 이를테면 저급 알킬, 저급 알켄일 또는 저급 알킨일에 의해 일- 또는 다치환, 예를들어 이치환되며; m은 0, 1 또는 2이고 R0는 지방족 라디칼이다. 에테르화 히드록실은 특히 저급 알콕시 또는 저급 알켄일옥시, 추가로 페닐-저급 알콕시 및 페녹시이다.
방향족 및 헤테로방향족 라디칼은 미치환되거나 예를들어 할로겐, 또한 에테르화될 수 있는 히드록실, S(O)m-R0 및 차례로 미치환되거나 예를들어 할로겐 또는 히드록실에 의해 치환될 수 있는 탄화수소 라디칼 중에서 선택된 치환체에 의해 일- 또는 다치환, 예를들어 이- 또는 삼치환될 수 있으며; m은 0, 1 또는 2이며 R0는 지방족 라디칼이다.
서로 다르게 정의되지 않는다면, 상기 및 하기에서 사용된 일반 정의는 다음 의미를 가진다:
"저급"이란 표현은 각 경우에 적합한 기와 화합물이 특히 7 개 이하, 바람직하게는 4 개 이하의 탄소원자를 함유한다는 것을 의미한다.
나프틸은 1- 또는 2-나프틸이다.
비페닐일은 2-, 3- 또는 특히, 4-비페닐일이다.
피롤일은 예를들어 2- 또는 3-피롤일이다. 피라졸일은 3- 또는 4-피라졸일이다. 이미다졸일은 2- 또는 4-이미다졸일이다. 트리아졸일은 예를들어 1H-1,2,4-트리아졸-2-일 또는 1,3,4-트리아졸-2-일이다. 테트라졸일은 예를들어 1,2,3,4-테트라졸-5-일이며, 푸릴은 2- 또는 3-푸릴이며 티엔일은 2- 또는 3-티엔일이며, 반면에 피리딜일은 2-, 3- 및 4-피리딜일 수 있다.
저급 알킬은 특히 C1-C7 알킬, 예를들어 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸이며 추가로 상응하는 펜틸, 헥실 및 헵틸 라디칼을 포함한다. C1-C4 알킬이 바람직하다.
저급 알켄일은 특히 C3-C7 알켄일이며 예를들어 2-프로펜일 또는 1-, 2- 또는 3-부텐일이다. C3-C5 알켄일이 바람직하다.
저급 알킨일은 특히 C3-C7 알킨일이며 바람직하게는 프로파르길이다.
페닐 저급 알킬은 특히 페닐-C1-C4 알킬이며 바람직하게는 벤질, 1- 및 2-펜에틸이고, 반면에 페닐-저급 알켄일과 페닐-저급 알킨일은 특히 페닐-C3-C5 알켄일과 -알킨일이며, 특히 3-페닐알릴과 3-페닐프로파르길이다.
나프틸-저급 알킬은 특히 나프틸-C1-C4 알킬이며 예를들어 1- 또는 2-나프틸메틸, -에틸, -n-프로필 또는 -n-부틸이다.
피리딜-저급 알킬은 특히 피리딜-C1-C4 알킬이며 예를들어 2-, 3- 또는 4-피리딜메틸, -에틸, -n-프로필 또는 -n-부틸이다.
시클로알킬은 예를들어 미치환되거나 예를들어 저급 알킬에 의해 치환될 수 있는, C3-C8 시클로알킬이며, 예를들어 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실 및 시클로헵틸이다. 시클로펜틸과 시클로헥실이 바람직하다.
시클로알켄일은 특히 C3-C7 시클로알켄일이며 바람직하게는 시클로펜트-2-엔일, 시클로펜트-3-엔일, 시클로헥스-2-엔일 및 시클로헥스-3-엔일이다.
시클로알킬-저급 알킬은 특히 C3-C8 시클로알킬-C1`-C4 알킬이며 예를들어 시클로펜틸- 또는 시클로헥실메틸 또는 -에틸이며, 반면에 시클로알킬-저급 알켄일은 특히 C3-C8 시클로알킬-C3-C4 알켄일이고 예를들어 시클로펜틸- 또는 시클로헥실프로프-2-엔일 또는 시클로-2-부텐일이다.
저급 알콕시는 특히 C1-C7 알콕시이며 예를들어 메톡시, 에톡시, n-프로필옥시, 이소프로필옥시, n-부틸옥시, 이소부틸옥시, sec-부틸옥시, tert-부틸옥시이며 추가로 상응하는 펜틸옥시, 헥실옥시 및 헵틸옥시 라디칼을 포함한다. C1-C4 알콕시가 바람직하다.
저급 알켄일옥시는 특히 C3-C7 알켄일옥시이며 예를들어 알릴옥시 또는 부트-2-엔일옥시 또는 부트-3-엔일옥시이다. C3-C5 알켄일옥시가 바람직하다.
페닐-저급 알콕시는 특히 페닐-C1-C4 알콕시, 이를테면 벤질옥시, 1- 또는 2-페닐에톡시, 3-페닐프로필옥시 또는 4-페닐부틸옥시이다.
저급 알콕시카르보닐은 특히 C2-C8 알콕시카르보닐이며 예를들어 메톡시-, 에톡시-, 프로필옥시- 또는 피발로일옥시카르보닐이다. C2-C5 알콕시카르보닐이 바람직하다.
할로겐은 특히 불소, 염소 또는 브롬이며, 추가로 요드를 포함한다.
일본 특허출원 J 56 127-363 호에서는 1-치환 1H-1,2,3-트리아졸-4-카르보니트릴에 대한 합성 가능성을 기재하고 있다. 따라서, 이러한 형태의 트리아졸은 다음 두단계 반응식에 따라 제조된다:
이 경우에, 이중에서도 R'은 시아노일 수 있으며 X는 염소 또는 브롬과 같은 할로겐일 수 있다. 그러나, 화학식 (2)의 브롬 유도체와 반응만이 구체화되어 있다. R'이 시아노인 화합물(3)과 (4)로 유도되는 실제적인 반응은 실시예에서 약간 기재되어 있다.
J 56 127-363 호에 기재된 과정은 다음과 같은 단점이 있다: 한편으로는 두개의 분리 단계로 수행되는 공정이며, 이 공정에서 상응하는 디히드로트리아졸(3)의 형성이 매우 시간-소모적이며, 또한 이들 중간체는 제 2 단계에서 추가로 반응시킬 수 있기 전에 우선 분리되어야 한다. 따라서 제일 단계가 다음 단계가 일어날 수 있기 전 4 일 내지 3 주 후에만 완료되는 적합한 반응이 기재되어 있다. 이 과정은 제조 공정에 대해서 너무 다루기 힘들고 복잡하다.
비교하여, 본 발명에 따른 방법은 명백히 우수하다는 것이 입증된다. 따라서 화학식 I의 화합물의 형성은 일 단계로 그리고 일 반응 용기에서 중간체를 분리할 필요없이 수행된다. 또한, 본 발명에 따른 반응을 이용할 때 약 24 시간 후에 이미 높은 수율이 얻어진다.
본 발명에 따른 방법은 다음 반응식을 특징으로 한다:
변수 R1은 상기에 제시된 바와 같이 정의된다.
본 발명은 특히 R1은 페닐, 나프틸, 비페닐일, 피롤일, 피라졸일, 이미다졸일, 트리아졸일, 테트라졸일, 푸릴, 티엔일, 피리딜, 페닐-저급 알킬, 페닐-저급 알켄일, 페닐-저급 알킨일, 나프틸-저급 알킬, 피리딜-저급 알킬, 부분적으로 수소화된 2-옥소벤즈아제핀, 시클로알킬, 시클로알켄일, 시클로알킬-저급 알킬 또는 시클로알켄일-저급 알킬이며, 또한 미치환되거나 각 경우에 할로겐, 카르복실, 저급 알콕시카르보닐, 카르바모일, 모노- 또는 디-저급 알킬화 카르바모일, 히드록실, 저급 알콕시, 저급 알켄일옥시, 페닐-저급 알콕시 및 페녹시 중에서 선택된 치환체에 의해 일- 또는 다치환된 저급 알킬, 저급 알켄일 또는 저급 알킨일이며; 방향족과 헤테로방향족 라디칼은 미치환되거나 할로겐, 저급 알콕시, 저급 알켄일옥시, 페닐-저급 알콕시, 페녹시, S(O)m-R0 중에서 선택된 치환체에 의해 일- 또는 다치환될 수 있으며, m은 0, 1 또는 2이며, R0는 미치환되거나 각 경우에 할로겐, 히드록실, 저급 알콕시, 저급 알켄일옥시, 페닐-저급 알콕시, 페녹시, 카르복실 및 저급 알콕시카르보닐 중에서 선택된 치환체에 의해 일- 또는 다치환되는 저급 알킬, 저급 알켄일 및 저급 알킨일인 화학식 I의 화합물의 제조에 관한 것이다.
본 발명은 특히 R1이 페닐-저급 알킬, 페닐-저급 알켄일, 페닐-저급 알킨일, 나프틸-저급 알킬, 피리딜-저급 알킬, 부분적으로 수소화된 2-옥소벤즈아제핀, 시클로알킬-저급 알킬, 시클로알켄일-저급 알킬이거나 카르복실 또는 저급 알콕시카르보닐에 의해 치환되는 저급 알킬이며; 방향족 및 헤테로방향족 라디칼이 미치환되거나 할로겐, 저급 알킬, 저급 알켄일, 저급 알킨일, 저급 알콕시, 저급 알켄일옥시, 페닐-저급 알콕시, 페녹시 및 S(O)m-R0 중에서 선택된 치환체에 의해 일- 또는 다치환될 수 있으며, R0는 저급 알킬, 저급 알켄일 또는 저급 알킨일이며, m은 0, 1 또는 2인 화학식 I의 화합물 제조에 관한 것이다.
본 발명은 특히 R1이 2,3,4,5-테트라히드로-1H-2-옥소벤즈아제핀-1-일이거나 저급 알콕시카르보닐에 의해 치환되는 저급 알킬인 화학식 I의 화합물 제조에 관한 것이다.
본 발명은 특히 R1이 저급 알킬, 할로겐 및/또는 트리플루오로메틸에 의해 치환된 페닐-C1-C4 알킬인 화학식 I의 화합물 제조에 관한 것이다.
본 발명은 특히 R1이 저급 알킬, 할로겐 및/또는 트리플루오로메틸에 의해 치환된 벤질인 화학식 I의 화합물 제조에 관한 것이다.
본 발명은 특히 R1이 2-플루오로벤질, 2-클로로-6-플루오로벤질 또는 2,6-디플루오로벤질인 화학식 I의 화합물 제조에 관한 것이다.
본 발명은 일차로 4-시아노-1-(2,6-디플루오로벤질)-1H-1,2,3-트리아졸의 제조에 관한 것이다.
본 발명은 실시예에서 언급된 N-치환 4-시아노-1H-1,2,3-트리아졸 화합물의 제조에 관한 것이다.
본 발명에 따른 아지드(Ia)를 2-클로로아크릴로니트릴(Ib)와 반응시켜 화학식 I의 화합물을 제공하는 반응은 2-상계로 처리하는 것을 포함한다. 2-상계는 유기 및 수성 상으로 구성된다. 유기상은 원한다면 유기 용매 또는 희석제의 존재하에 반드시 화학식 Ia와 Ib의 출발물질로 구성된다. 반응에서 형성된 염화수소는 이 상에 잘 용해되지 않는다.
적합한 유기 용매 또는 희석제는 예를들어 비양자성 용매, 예를들어 약염기성 아미드, 이를테면 디메틸포름아미드, 또는 지방족, 아르지방족 및 방향족 탄화수소 또는 에테르, 예를들어 C6-C10 알칸 또는 저급-알킬화 벤젠, 이를테면 크실렌 또는 톨루엔, 또는 디-저급 알킬 에테르, 이를테면 디부틸 에테르, 아니솔, 또는 시클릭 에테르, 이를테면 디옥산이다.
염화수소는 염화수소는 수성 상에 쉽게 용해되나, 출발물질은 잘 용해되지 않아야 한다. 유용하게도 수성 상은 물로 구성된다.
본래, 2-상계는 출발물질 Ia와 Ib로 구성된 유기 상과 물로부터 형성된다.
실시예의 표 2에서 제시된 결과는 한쪽에 출발물질 다른 한쪽에 물로 구성된 2-상계에서 가장 좋은 수율이 얻어진다는 것을 예시하고 있다.
2-클로로아크릴로니트릴은 산성 및 염기성 조건의 두가지 모두의 조건하에 중합될 수 있다. 화학식 Ia의 아지드를 2-클로로아크릴로니트릴과 반응시에 염화수소가 유리되며, 즉 강산성 매질이 얻어지며, 이러한 중합을 뒷받침한다. 이것은 또한 유기 용매를 첨가할 때의 경우이며, 즉 단지 하나의 액체 상이 존재한다. 추가로, 반응은 희석에 의해 느려지며, 유기 용매를 더 사용한다. 이들 단점은 단일상 유기계 대신에 2-상계가 사용되면 방지될 수 있다. 화학식 Ia의 아지드는 2-클로로아크릴로니트릴과 농축된 제일 상을 형성하며, 반면에 일차로 물이 제이 상이다. 반응을 수행하는 동안 염화수소는 연속적으로 수성 상으로 추출되며 따라서 2-클로로아크릴로니트릴의 중합 위험을 감소시킨다. 더구나, 가능한 가장 큰 반응 속도가 2-상계에서 얻어진다.
물의 양은 반응에서 유리된 염화수소가 수성 상에 용해되도록 적어도 비례하여야 한다.
화학식 Ia의 화합물 몰당 2-클로로아크릴로니트릴(1b) 바람직하게는 약 1 내지 약 2 몰, 본래 약 1.5 몰이 사용된다. 실시예의 표 1에 제시된 결과가 보여주듯이, 2-클로로아크릴로니트릴 약 1.5 몰당량이 최적 수율을 위해 충분하다. 따라서 반응시간 약 24 시간으로 4-시아노-2,6-디플루오로벤질-1H-1,2,3-트리아졸의 제조에서 이론치의 90% 이상인 바람직한 수율이 얻어진다.
본 발명에 따른 반응은 예를들어 약 20 ℃ 내지 약 85 ℃, 특히 약 60 ℃ 내지 약 85 ℃, 본래 약 75 ℃ 내지 약 85 ℃의 온도에서 수행된다.
본 발명은 추가로 화학식 I의 신규 화합물에 관한 것이다.
본 발명은 본래 화합물 4-시아노-1-(2,6-디플루오로벤질)-1H-1,2,3-트리아졸에 관한 것이다.
본 발명은 또한 약제 활성 성분, 예를들어 EP 114347 및 EP 199262에 따른 목적 생성물의 제조를 위한 화학식 I 화합물의 용도에 관한 것이다. 특히 공개된 특허출원 두가지 모두의 청구범위에 있는 목적 화합물은 본 발명의 명세서에서 참고에 속한다. 화학식 I의 화합물로부터 출발하는 이러한 형태의 화합물에 대한 대응하는 제조방법은 예를들어 자체 공지된 방식으로 수행된다. 예를들어, 화학식 I의 니트릴은 가수분해에 의해 대응하는 카르복사미드로 전환될 수 있으며 이들은 추가 가수분해에 의해 대응하는 카르복실산으로 전환될 수 있다.
본 발명은 본래 약제 활성 성분의 제조를 위해, 특히 1-(2,6-디플루오로벤질)-1H-1,2,3-트리아졸-4-카르복사미드 또는 약제학적으로 허용되는 그의 염의 제조를 위해, 화합물 4-시아노-1-(2,6-디플루오로벤질)-1H-1,2,3-트리아졸의 용도에 관한 것이다.
다음 실시예는 본 발명을 예시하는 것이나, 어떻든 여기에 한정되는 것으로 의도되지 않는다.
<실시예 1> 4-시아노-1-(2,6-디플루오로벤질)-1H-1,2,3-트리아졸
2,6-디플루오로벤질 아지드(34.2 g), 2-클로로아크릴로니트릴(17.73 g) 및 물(125 ml)의 혼합물을 약 80 ℃에서 24 시간 교반한다. 과량의 2-클로로아크릴로니트릴을 외부 온도를 약 130 ℃로 상승시킴으로써 증류한다. 반-고체 혼합물을 약 40 ℃로 냉각시키고 현탁액을 시클로헥산(50 ml)로 처리하고, 약 20 ℃로 하여 약 2 시간 교반한다. 여과에 의해 생성물을 분리하고, 시클로헥산(75 ml)으로 세척한다음 물(50 ml)로 세척한다. 습윤 생성물을 물(100 ml)와 혼합하고, 현탁액을 여과시킨다음 생성물을 물(50 ml)로 세척하고 약 60 ℃에서 진공 건조시킨다. 수율: 38.04 g = 86%.
<실시예 2> 4-시아노-1-(2,6-디플루오로벤질)-1H-1,2,3-트리아졸
2,6-디플루오로벤질 아지드(34.2 g), 2-클로로아크릴로니트릴(17.73 g) 및 물(125 ml)의 혼합물을 약 80 ℃에서 48 시간 교반한다. 과량의 2-클로로아크릴로니트릴을 외부 온도를 약 130 ℃로 상승시킴으로써 증류한다. 반-고체 혼합물을 약 40 ℃로 냉각시키고 현탁액을 시클로헥산(50 ml)로 처리하고, 약 20 ℃로 하여 약 2 시간 교반한다. 여과에 의해 생성물을 분리하고, 시클로헥산(75 ml)으로 세척한다음 물로 세척하고 약 60 ℃에서 진공 건조시킨다. 수율: 40.91 g = 93%.
<실시예 3> 4-시아노-1-(2,6-디플루오로벤질)-1H-1,2,3-트리아졸
2,6-디플루오로벤질 아지드(34.2 g), 2-클로로아크릴로니트릴(26.6 g) 및 물(125 ml)의 혼합물을 약 70 ℃에서 24 시간 교반한다. 과량의 2-클로로아크릴로니트릴을 외부 온도를 약 130 ℃로 상승시킴으로써 증류한다. 혼합물을 약 95 ℃로 냉각시키고 결정핵을 넣어(seeding) 생성물을 결정화한다. 약 40 ℃로 냉각한 후, 현탁액을 시클로헥산(50 ml)로 처리하고, 약 20 ℃로 하고, 여과에 의해 생성물을 분리하고, 시클로헥산(75 ml)으로 세척한다음 물로 세척하고 약 60 ℃에서 진공 건조시킨다. 수율: 36.38 g = 82.6%.
<실시예 4> 4-시아노-1-(2,6-디플루오로벤질)-1H-1,2,3-트리아졸
2,6-디플루오로벤질 아지드(34.2 g), 2-클로로아크릴로니트릴(26.6 g) 및 물(125 ml)의 혼합물을 약 80 ℃에서 24 시간 교반한다. 과량의 2-클로로아크릴로니트릴을 외부 온도를 약 130 ℃로 상승시킴으로써 증류한다. 혼합물을 약 95 ℃로 냉각시키고 결정핵을 넣어 생성물을 결정화한다. 약 40 ℃로 냉각한 후, 현탁액을 시클로헥산(50 ml)로 처리하고, 약 20 ℃로 하여 약 2 시간 교반한다. 여과에 의해 생성물을 분리하고, 시클로헥산(75 ml)으로 세척한다음 물로 세척하고 약 60 ℃에서 진공 건조시킨다. 수율: 43.13 g = 98%.
<실시예 5> 4-시아노-1-(2,6-디플루오로벤질)-1H-1,2,3-트리아졸
2,6-디플루오로벤질 아지드(6.75 g), 2-클로로아크릴로니트릴(7.0 g) 및 물(20 ml)의 혼합물을 약 80 ℃에서 12 시간 교반한다. 과량의 2-클로로아크릴로니트릴을 외부 온도를 약 120 ℃로 상승시킴으로써 증류한다. 혼합물을 약 20 ℃로 냉각시키고 결정화 생성물을 여과에 의해 분리하고 물로 세척한다. 습윤 생성물을 약 60 ℃에서 진공 건조시킨다. 수율: 8.17 g = 93%. 정제를 위해, 생성물(8.17 g)을 톨루엔(40 ml)에 80 ℃에서 용해시키고 표백 토(bleaching earth)(0.24 g)로 처리하고, 혼합물을 가열 여과시킨다. 여과액을 약 20 ml로 농축하고 얻어진 결정 마그마(magma)를 0 ℃에서 1 시간 교반한다. 여과한 후, 톨루엔으로 세척하고 건조시킨다음, 융점 115.5-116.5 ℃인 백색 생성물(7.72 g)을 얻는다.
<실시예 6> 4-시아노-(2,6-디플루오로벤질)-1H-1,2,3-트리아졸
2,6-디플루오로벤질 아지드(34.2 g), 2-클로로아크릴로니트릴(35.46 g) 및 물(125 ml)의 혼합물을 약 80 ℃에서 24 시간 교반한다. 과량의 2-클로로아크릴로니트릴을 외부 온도를 약 130 ℃로 상승시킴으로써 증류한다. 혼합물을 약 40 ℃로 냉각시키고 현탁액을 시클로헥산(50 ml)로 처리하고, 약 20 ℃로 하여 약 2 시간 교반한다. 여과에 의해 생성물을 분리하고, 시클로헥산(75 ml)으로 세척한다음 물(50 ml)로 세척한다. 습윤 생성물을 물(100 ml)와 혼합하고, 현탁액을 여과시킨다음 생성물을 물(50 ml)로 세척하고 약 60 ℃에서 진공 건조시킨다. 수율: 42.87 g = 97%.
| 실시예 | 2-클로로아크릴로니트릴의 몰당량 | 온도 | 반응시간 | 수율 |
| 1 | 1.0 | 80 ℃ | 24 h | 86% |
| 2 | 1.0 | 80 ℃ | 48 h | 93% |
| 3 | 1.5 | 70 ℃ | 24 h | 83% |
| 4 | 1.5 | 80 ℃ | 24 h | 98% |
| 5 | 2.0 | 80 ℃ | 12 h | 93% |
| 6 | 2.0 | 80 ℃ | 24 h | 97% |
<실시예 7> 4-시아노-(2,6-디플루오로벤질)-1H-1,2,3-트리아졸
2,6-디플루오로벤질 아지드(34.2 g), 2-클로로아크릴로니트릴(26.6 g)의 혼합물을 약 80 ℃에서 24 시간 교반한다. n-헵탄(125 ml)을 흐르게 하고, 미반응 2-클로로아크릴로니트릴과 2,6-디플루오로벤질 아지드 및 n-헵탄을 외부 온도를 약 130 ℃로 상승시킴으로써 증류한다(50 ml). 혼합물을 약 20 ℃로 냉각시키고 현탁액을 약 20 ℃에서 1 시간 교반한다. 여과에 의해 생성물을 분리하고, n-헵탄(100 ml)으로 세척한다. 생성물을 약 60 ℃에서 진공 건조시킨다. 수율: 31.55 g = 71.6%(베이지색 분말).
<실시예 8> 4-시아노-(2,6-디플루오로벤질)-1H-1,2,3-트리아졸
2,6-디플루오로벤질 아지드(34.2 g), 2-클로로아크릴로니트릴(26.6 g) 및 n-헵탄(125 ml)의 혼합물을 약 80 ℃에서 24 시간 교반하여, 현탁액을 얻는다. 미반응 2-클로로아크릴로니트릴과 2,6-디플루오로벤질 아지드 및 n-헵탄을 외부 온도를 약 130 ℃로 상승시킴으로써 증류한다(증류액 25 ml). 혼합물을 약 20 ℃로 냉각시키고 현탁액을 약 20 ℃에서 약 2 시간 교반한다. 여과에 의해 생성물을 분리하고, n-헵탄(100 ml)으로 세척하고, 약 60 ℃에서 진공 건조시킨다. 수율: 20.45 g = 46.4%(베이지색 분말).
<실시예 9> 4-시아노-(2,6-디플루오로벤질)-1H-1,2,3-트리아졸
2,6-디플루오로벤질 아지드(34.2 g), 2-클로로아크릴로니트릴(26.6 g) 및 톨루엔(125 ml)의 혼합물을 약 80 ℃에서 24 시간 교반한다. 미반응 2-클로로아크릴로니트릴과 2,6-디플루오로벤질 아지드 및 톨루엔을 외부 온도를 약 130 ℃로 상승시킴으로써 증류한다(증류액 100 ml). 80 ℃로 냉각한 후, n-헵탄(100 ml)을 흐르게 한다. 혼합물을 약 20 ℃로 냉각시키고 현탁액을 약 20 ℃에서 1 시간 교반한다. 여과에 의해 생성물을 분리하고, n-헵탄(100 ml)으로 세척한다. 생성물을 약 60 ℃에서 진공 건조시킨다. 수율: 22.31 g = 50.7%(베이지색 분말).
<실시예 10> 4-시아노-(2,6-디플루오로벤질)-1H-1,2,3-트리아졸
2,6-디플루오로벤질 아지드(34.2 g), 2-클로로아크릴로니트릴(26.6 g) 및 무수 에탄올(125 ml)의 혼합물을 약 77 ℃에서 24 시간 교반한다. 미반응 2-클로로아크릴로니트릴과 2,6-디플루오로벤질 아지드 및 에탄올을 외부 온도를 약 130 ℃로 상승시킴으로써 증류한다(증류액 100 ml). 70 ℃로 냉각한 후, 물(100 ml)을 70-60 ℃에서 적가한다. 혼합물을 살포하고, 약 20 ℃로 냉각하고 현탁액을 약 20 ℃에서 약 1 시간 교반한다. 여과에 의해 생성물을 분리하고, 시클로헥산(100 ml)으로 세척한다음 물(100 ml)로 세척한다. 생성물을 약 60 ℃에서 진공 건조시킨다. 수율: 17.73 g = 40.3%(엷은 베이지색 분말).
<실시예 11> 4-시아노-(2,6-디플루오로벤질)-1H-1,2,3-트리아졸
2,6-디플루오로벤질 아지드(34.2 g), 2-클로로아크릴로니트릴(26.6 g) 및 N,N-디메틸포름아미드(125 ml)의 혼합물을 약 80 ℃에서 24 시간 교반한다. 미반응 2-클로로아크릴로니트릴과 2,6-디플루오로벤질 아지드 및 N,N-디메틸포름아미드를 외부 온도를 약 130 ℃로 상승시키고 약 100 mbar로 점차 배기시킴으로써 증류한다(증류액 100 ml). 100 ℃로 냉각한 후, 물(100 ml)을 흐르게 한다. 갈색 에멀젼을 결정핵으로 넣음으로써 생성물의 결정화를 개시한다. 혼합물을 약 20 ℃로 냉각시키고 현탁액을 약 20 ℃에서 30분간 교반한다. 여과에 의해 생성물을 분리하고, 물(100 ml)로 세척한다. 생성물을 약 60 ℃에서 진공 건조시킨다. 수율: 34.40 g = 78.1%(베이지색 결정).
| 실시예 | 용매 | 2-클로로아크릴로니트릴의 몰당량 | 온도 | 반응시간 | 수율 |
| 4 | 물*) | 1.5 | 80 ℃ | 24 h | 98% |
| 7 | 없음 | 1.5 | 80 ℃ | 24 h | 72% |
| 8 | n-헵탄 | 1.5 | 80 ℃ | 24 h | 46% |
| 9 | 톨루엔 | 1.5 | 80 ℃ | 24 h | 51% |
| 10 | 에탄올 | 1.5 | 77 ℃ | 24 h | 40% |
| 11 | 디메틸포름아미드 | 1.5 | 80 ℃ | 24 h | 78% |
| *) 제일 상 = 출발물질, 제이 상 = 물 | |||||
<실시예 12> 1-벤질-4-시아노-1H-1,2,3-트리아졸
물(5 ml)내 벤질 아지드(1.33 g)과 2-클로로아크릴로니트릴(1.75 g)의 혼합물을 약 80 ℃에서 22 시간 교반한다음, 과량의 2-클로로아크릴로니트릴을 진공 증류한다. 혼합물을 상온으로 냉각시키고 침전된 생성물을 여과에 의해 분리하고 물로 세척한다. 건조한 후, 생성물을 수율 1.66 g(이론치의 90%)로 얻는다. 융점 78-79 ℃(톨루엔/헥산으로부터 재결정화).
<실시예 13> 4-시아노-1-(4-시아노벤질)-1H-1,2,3-트리아졸
물(5 ml)내 4-시아노벤질 아지드(0.8 g)과 2-클로로아크릴로니트릴(0.88 g)의 혼합물을 약 80 ℃에서 20 시간 교반한다. 과량의 2-클로로아크릴로니트릴을 진공 증류하고, 혼합물을 상온으로 냉각시키고 침전된 생성물을 여과에 의해 분리하고 물로 세척한다. 건조한 후, 융점 93.5-94 ℃인 생성물(수율 0.92 g; 이론치의 88%)을 얻는다. (에틸 아세테이트/톨루엔으로부터 재결정화).
<실시예 14> 3-(4-시아노-1H-1,2,3-트리아졸-1-일)-2,3,4,5-테트라히드로-2-옥소-1H-1-벤즈아제핀
물(5 ml)내 3-아지도-2,3,4,5-테트라히드로-2-옥소-1H-1-벤즈아제핀(1.01 g)과 2-클로로아크릴로니트릴(0.95 g)의 혼합물을 약 80 ℃에서 18 시간 교반한다. 과량의 2-클로로아크릴로니트릴을 진공 증류하고, 침전된 생성물을 여과하고, 물로 세척한다음 건조시킨다(수율 1.1 g; 이론치의 87%), 융점 214-216 ℃(에틸 아세테이트/톨루엔에서 재결정화).
<실시예 15> 에틸 (4-시아노-1H-1,2,3-트리아졸-1-일)아세테이트
물(10 ml)내 에틸 2-아지도아세테이트(1.29 g)와 2-클로로아크릴로니트릴 (1.75 g)의 혼합물을 약 80 ℃에서 16 시간 교반한다. 냉각한 후, 생성물을 디클로로메탄으로 추출하고 농축된 추출물을 실리카겔 60 위 칼럼 크로마토그래피(6 g; 용리제: 톨루엔/에틸 아세테이트 = 4:1)에 의해 정제한다. 융점 47-48 ℃인 정제된 생성물(수율 1.21 g; 이론치의 67%)(톨루엔/헥산에서 재결정화)을 용출물을 농축하고 건조시킨 후에 얻는다.
<실시예 16> 에틸 2-(4-시아노-1H-1,2,3-트리아졸-1-일)-4-페닐-(2S)-부티레이트
물(25 ml)내 에틸 2-아지도-4-페닐-(2S)-부티레이트(2.33 g)와 2-클로로아크릴로니트릴(1.75 g)의 혼합물을 약 80 ℃에서 23 시간 교반한다. 냉각한 후, 생성물을 톨루엔으로 추출하고 칼럼 크로마토그래피(실리카 겔 60 30 g; 용리제 톨루엔)에 의해 정제한다. 정제된 생성물을 황색 오일(수율 1.84 g; 이론치의 65%)로서 얻고 1H-NMR 스펙트럼(CDCl3) δ 치: 1.29(*H; t; J=7Hz); 2.40-2.67(4H, m); 4.20(2H, q, J=7Hz); 5.39(1H, m); 7.10(2H, dxd, J1=6.6Hz, J2≤1.5Hz); 7.24(1H, txt, J1=6.6Hz, J2≤1.5Hz); 7.31(2H, m); 8.21(1H, s)로 특성화된다.
<실시예 17> 1-(2,6-디플루오로벤질)-1H-1,2,3-트리아졸-4-카르복사미드
2,6-디플루오로벤질아지드(9.22 g), 2-클로로아크릴니트릴(6.68 g) 및 물의 혼합물을 약 82 ℃에서 약 24 시간 교반한다. 외부 온도를 약 113 ℃ 이상으로 상승시킴으로써 2-클로로아크릴니트릴을 증류한다. 혼합물을 약 40 ℃로 냉각시키고 톨루엔(10 ml)을 첨가한다. 약 80 ℃에서 약 40 분이내에 수산화나트륨(5.5 ml-30%)을 첨가하고 아미드를 결정화한다. 외부 온도를 112 ℃로 상승시킴으로써, 톨루엔을 증류시킨다. 현탁액을 20 ℃로 냉각시키고 생성물을 여과에 의해 분리하고, 물(200 ml)로 세척한다음 약 60 ℃에서 진공 건조시킨다.
Claims (10)
- 화학식 Ⅰa의 화합물을 화학식 Ⅰb의 화합물과(ⅰ) 화학식 Ⅰa와 Ⅰb의 출발물질로 구성된 유기 상, 및(ii) 20 내지 85 ℃ 범위의 온도에서, 반응 중 방출되는 염화수소는 쉽게 용해되나 출발물질은 잘 용해되지 않는 수성 상으로 구성된 2-상계(two-phase system)에서 반응시키는 것을 포함하는, 화학식 Ⅰ의 화합물을 제조하는 방법:
R1-N3 상기 식에서,R1은 페닐, 나프틸, 비페닐일, 피롤일, 피라졸일, 이미다졸일, 트리아졸일, 테트라졸일, 푸릴, 티엔일, 피리딜, 페닐-C1-7알킬, 페닐-C2-7알켄일, 페닐-C2-7알킨일, 나프틸-C1-7알킬, 피리딜-C1-7알킬, 부분적으로 수소화된 2-옥소벤즈아제핀, C3-8시클로알킬, C3-8시클로알켄일, C3-8시클로알킬-C1-7알킬 또는 C3-8시클로알켄일-C1-7알킬이며, 또한 미치환되거나 각 경우에 할로겐, 카르복실, C1-7알콕시카르보닐, 카르바모일, 모노- 또는 디-C1-7알킬화 카르바모일, 히드록실, C1-7알콕시, C2-7알켄일옥시, 페닐-C1-7알콕시 및 페녹시 중에서 선택된 치환체에 의해 일- 또는 다치환된 C1-7알킬, C2-7알켄일 또는 C2-7알킨일이며; 방향족과 헤테로방향족 라디칼은 미치환되거나 할로겐, C1-7알콕시, C2-7알켄일옥시, 페닐-C1-7알콕시, 페녹시, S(O)m-R0 중에서 선택된 치환체에 의해 일- 또는 다치환될 수 있으며, m은 0, 1 또는 2이며, R0는 미치환되거나 각 경우에 할로겐, 히드록실, C1-7알콕시, C2-7알켄일옥시, 페닐-C1-7알콕시, 페녹시, 카르복실 및 C1-7알콕시카르보닐 중에서 선택된 치환체에 의해 일- 또는 다치환되는 C1-7알킬, C2-7알켄일 및 C2-7알킨일이다. - 제 1 항에 있어서, 유기 상이 유기 용매 또는 희석제의 존재하에, 화학식 Ⅰa와 Ⅰb의 출발물질로 구성되는 방법.
- 제 1 항에 있어서, 2-상계가 (ⅰ) 출발물질과 (ⅱ) 물로 구성된 제조방법.
- 제 1 내지 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 반응에서 화학식 Ⅰa의 화합물의 몰당 2-클로로아크릴로니트릴(Ⅰb) 1 내지 2 몰이 사용되는 제조방법.
- 제 1 내지 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 반응을 75 ℃ 내지 85 ℃의 온도에서 수행하는 제조방법.
- 삭제
- 제 1 내지 3 항 중 어느 한 항에 있어서, R1이 2-플루오로벤질, 2-클로로-6-플루오로벤질 또는 2,6-디플루오로벤질인 화학식 Ⅰ의 화합물을 제조하는 제조방법.
- 제 1 내지 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 4-시아노-1-(2,6-디플루오로벤질)-1H-1,2,3-트리아졸을 제조하는 제조방법.
- 4-시아노-1-(2,6-디플루오로벤질)-1H-1,2,3-트리아졸.
- 삭제
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH174796 | 1996-07-11 | ||
| CH1747/96 | 1996-07-11 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20000023595A KR20000023595A (ko) | 2000-04-25 |
| KR100481137B1 true KR100481137B1 (ko) | 2005-04-08 |
Family
ID=4217633
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR10-1999-7000041A KR100481137B1 (ko) | 1996-07-11 | 1997-07-10 | 1-치환 4-시아노-1,2,3-트리아졸의 제조방법 |
Country Status (24)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6156907A (ko) |
| EP (1) | EP0918758B1 (ko) |
| JP (1) | JP3537147B2 (ko) |
| KR (1) | KR100481137B1 (ko) |
| CN (1) | CN1083436C (ko) |
| AT (1) | ATE216990T1 (ko) |
| AU (1) | AU719148B2 (ko) |
| BR (1) | BR9710252B1 (ko) |
| CA (1) | CA2260065C (ko) |
| CZ (1) | CZ294775B6 (ko) |
| DE (1) | DE69712342T2 (ko) |
| DK (1) | DK0918758T3 (ko) |
| ES (1) | ES2176758T3 (ko) |
| HU (1) | HU226425B1 (ko) |
| IL (1) | IL127665A (ko) |
| NO (1) | NO326347B1 (ko) |
| NZ (1) | NZ333505A (ko) |
| PL (1) | PL189232B1 (ko) |
| PT (1) | PT918758E (ko) |
| RU (1) | RU2177942C2 (ko) |
| SI (1) | SI0918758T1 (ko) |
| SK (1) | SK283990B6 (ko) |
| TR (1) | TR199900017T2 (ko) |
| WO (1) | WO1998002423A1 (ko) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW526195B (en) * | 1997-06-10 | 2003-04-01 | Novartis Ag | Crystal modifications of 1-(2,6-difluorobenzyl)-1H-1,2,3-triazole-4-carboxamide and their use |
| CN100335467C (zh) * | 2004-06-04 | 2007-09-05 | 中国科学院上海有机化学研究所 | 一锅法区域选择性合成5－碘代－1，4－二取代－1，2，3－三氮唑化合物 |
| CA2736703A1 (en) | 2008-10-13 | 2010-04-22 | Cipla Limited | Process for the preparation of rufinamide |
| EP2378879A4 (en) * | 2008-12-16 | 2012-06-06 | Merck Sharp & Dohme | TRIAZONE DERIVATIVES FOR THE TREATMENT OF MORBUS ALZHEIMER |
| CN101768124B (zh) * | 2008-12-30 | 2012-01-04 | 北京本草天源药物研究院 | 一种药物晶体及其制备方法和用途 |
| PL2640711T3 (pl) * | 2010-08-25 | 2016-06-30 | Davuluri Ramamohan Rao | Ulepszony sposób otrzymywania rufinamidu |
| WO2012032540A1 (en) | 2010-09-06 | 2012-03-15 | Indoco Remedies Limited | Process for preparation of fluorinated triazole compound |
| CN102219752B (zh) * | 2011-04-21 | 2013-04-10 | 华润赛科药业有限责任公司 | 一种1-(2,6-二氟苄基)-1h-1,2,3-三唑-4-甲酰胺的晶型d |
| WO2014072992A1 (en) | 2012-11-12 | 2014-05-15 | Aarti Industries Limited | A process for preparing triazole compounds |
| RU2591206C1 (ru) * | 2015-04-14 | 2016-07-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева (РХТУ им. Д.И. Менделеева)" | Замещенные 1-(1-трет-бутил-1н-имидазол-4-ил)-1н-1,2,3-триазолы, способ их получения и фунгицидная композиция на их основе |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0199262A2 (de) * | 1985-04-18 | 1986-10-29 | Ciba-Geigy Ag | Fluorierte Benzyltriazolverbindungen |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS596305B2 (ja) * | 1980-03-11 | 1984-02-10 | 工業技術院長 | １，２，３−トリアゾ−ル誘導体の製造方法 |
| US4789680A (en) * | 1982-12-23 | 1988-12-06 | Ciba-Geigy Corporation | Aralkyltriazole compounds |
-
1997
- 1997-07-10 DE DE69712342T patent/DE69712342T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-07-10 SI SI9730358T patent/SI0918758T1/xx unknown
- 1997-07-10 PT PT97932803T patent/PT918758E/pt unknown
- 1997-07-10 KR KR10-1999-7000041A patent/KR100481137B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1997-07-10 HU HU9902842A patent/HU226425B1/hu unknown
- 1997-07-10 WO PCT/EP1997/003671 patent/WO1998002423A1/en active IP Right Grant
- 1997-07-10 CZ CZ199942A patent/CZ294775B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1997-07-10 NZ NZ333505A patent/NZ333505A/en not_active IP Right Cessation
- 1997-07-10 BR BRPI9710252-0A patent/BR9710252B1/pt not_active IP Right Cessation
- 1997-07-10 AT AT97932803T patent/ATE216990T1/de active
- 1997-07-10 CA CA002260065A patent/CA2260065C/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-07-10 IL IL12766597A patent/IL127665A/en not_active IP Right Cessation
- 1997-07-10 TR TR1999/00017T patent/TR199900017T2/xx unknown
- 1997-07-10 PL PL97330914A patent/PL189232B1/pl unknown
- 1997-07-10 ES ES97932803T patent/ES2176758T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-07-10 AU AU36220/97A patent/AU719148B2/en not_active Expired
- 1997-07-10 JP JP50559598A patent/JP3537147B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1997-07-10 CN CN97196266A patent/CN1083436C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1997-07-10 RU RU99102673/04A patent/RU2177942C2/ru active
- 1997-07-10 SK SK26-99A patent/SK283990B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1997-07-10 EP EP97932803A patent/EP0918758B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-07-10 DK DK97932803T patent/DK0918758T3/da active
- 1997-07-10 US US09/214,698 patent/US6156907A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-01-07 NO NO19990056A patent/NO326347B1/no not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-10-18 US US09/691,484 patent/US6277999B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0199262A2 (de) * | 1985-04-18 | 1986-10-29 | Ciba-Geigy Ag | Fluorierte Benzyltriazolverbindungen |
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| HUT77357A (hu) | AIDS-ellenes imidazolszármazékok és ilyen vegyületeket tartalmazó gyógyászati készítmények | |
| KR100481137B1 (ko) | 1-치환 4-시아노-1,2,3-트리아졸의 제조방법 | |
| WO1992012144A1 (fr) | Compose cyclique condense de benzoxa, son procede de production, et composition pharmaceutique le contenant | |
| EP0994863B1 (en) | Crystal modification of 1-(2,6-difluorobenzyl)-1h-1,2,3-triazole-4-carboxamide and its use as antiepileptic | |
| HU196989B (en) | Process for producing quinoline derivatives and pharmaceuticals comprising same | |
| JP3415865B2 (ja) | 光学活性アゾール化合物およびその用途 | |
| KR100429754B1 (ko) | 이미다졸 화합물 및 아데노신 데아미나아제 억제제로서의그의 용도 | |
| EP1720829B1 (fr) | Derives d' heteroaryl-alkylcarbamates, leur preparation et leur application comme inhibiteurs de l'enzyme faah | |
| EP0548680A1 (en) | Beta-oxo-beta-benzenepropanethioamide derivatives | |
| US4968683A (en) | 6-oxo-pyridazine derivatives, a process for their preparation and medicaments containing these compounds | |
| JPS59130881A (ja) | 置換４−イミダゾリル−ピラゾ−ル類 | |
| HU191388B (en) | Process for preparing new derivatives of aralkyl-triazoles and pharmaceutical compositions containing such compounds | |
| US7473700B2 (en) | 1,2,4-triazole derivatives, processes for the preparation thereof, and pharmaceutical compositions containing the same | |
| EP1565456B1 (en) | 1,2,4-triazole derivative, method for preparing the same, and pharmaceutical composition containing the same | |
| Woisel et al. | New Synthesis of 1H-[1, 2, 4] Triazolo [3, 4-a] isoindoles by Intramolecular Condensation of 1-Substituted-1, 2, 4-triazol-4-ium Methylides | |
| JPH0649687B2 (ja) | 新規イミダゾロンカルボニル−アリ−ルイミダゾ−ル、その製造法及び該化合物を含有する、強心作用を生じるための医薬組成物 | |
| EP1515960A1 (en) | 2-thioxothiazole derivative, method for preparing the same, and pharmaceutical composition containing the same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130305 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140228 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150226 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160218 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170302 Year of fee payment: 13 |
|
| EXPY | Expiration of term |